摘要
])9|j t%fcp 光栅结构广泛应用于各种
光学应用场景,如
光谱仪、近眼显示
系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。
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^Z>Nbzr{ ~7$jW[i 任务说明
U3^3nL-M9 8#ZF<BY
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m9!? 简要介绍衍射效率与偏振理论
^//`Dz 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
O$(#gB'B 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率:
|ERf3
Yl`)%6'5| 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。
0x2[*pJ|IW 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
@=6*]:p2.
yt{?+|tXU 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为

。
{'UK>S L#`Vr$ 光栅结构
参数 3{{Ew}kZm 研究了一种矩形光栅结构。
2I>`{#fV 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。
c2Yrg@) [ 根据上述参数选择以下光栅参数:
W}P9I&3 光栅周期:250 nm
jAxrU 填充因子:0.5
X<<FS%:+ 光栅高度:200 nm
zrL +:/t 材料n_1:熔融石英(来自目录)
eE5j6`5i 材料n_2:二氧化钛(来自目录)
gXvE^fE ly::?
D}OhmOu3 >9Z7l63+} 偏振态分析
.c]@xoC 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。
fn,
YH 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。
.OZ\s%h; 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。
i'3)5 ;$g?W"
6$&%z Eh Zq{TY)PI] 模拟光栅的偏振态
}q=tg9 4O7
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ay,"MJ2 OjurfVw 瑞利系数现在提供了偏振态的信息:
T-y5U}, 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,

。这说明衍射光是完全偏振的。
8<=]4- X@ 对于𝜑=22°,

。此时,67%的光是TM偏振的。
=\IUBH+C 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。
2.
f8uq fS]Z`U" Passilly等人更深入的光栅案例。
NL-V",gI-~ Passilly等人的工作研究并
优化了亚
波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。
JOo+RA5d 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。
xm0(U0
> 'iX y?l
q"u,r6ED v,jB(B^|Z 光栅结构参数
)W>9{*4m 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
F./P,hhN9 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。
3/Dis)
v8 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。
;umbld0 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。
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W?yGV{#V(= rih@(;)1 光栅#1——参数
kd OIL2T 假设侧壁倾斜为线性。
^+}~"nvD 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
4U*CfdZZ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。
U
nS|"" 光栅周期:250 nm
J~}i}|YC> 光栅高度:660 nm
dMK\ y4#i 填充因子:0.75(底部)
)CD-cz6n 侧壁角度:±6°
#ds@!u+& n_1:1.46
1"No~/_ n_2:2.08
Lj1>X2.gD j/uzsu+
s1J(-O i2!0bY 光栅#1——结果
2XrYm"6w 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
{2LG$x-N% 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
A5~OHmeK Ebp=du
o`.5NUn yJ?=HH? 光栅#2——参数
cHon' tS 假设光栅为矩形。
(H-kWT 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
O)INM 矩形光栅足以表示这种光栅结构。
ztC>*SX 光栅周期:250 nm
0}q*s! 光栅高度:490 nm
WQv`%%G2> 填充因子:0.5
toel!+ n_1:1.46
~8Ez K_c n_2:2.08
P9M. J^< Ph17(APt,Q
vAzSpiv- ^4=%~Yx 光栅#2——结果
iZ 9ed]mf 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。
lI;ACF^ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
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