摘要
X.b8qbnq[ nQc,^A)I 光栅结构广泛应用于各种
光学应用场景,如
光谱仪、近眼显示
系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。
Cx TAd[az \]>YLyG
L;3%8F\-. fl-J:`zyyZ 任务说明
JX&U?Z 9L>?N:%5
O=jLZ2os #
55>? 简要介绍衍射效率与偏振理论
BA h'H&;V 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
YYQvt 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率:
+(*HDa|
>+{WiZ` 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。
IAO5li3 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
W9?*
~!
Xl4}S"a 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为

。
Lap?L/NS &l+Qn'N 光栅结构
参数 U<'N=#A
J 研究了一种矩形光栅结构。
UyRy>:n 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。
c5^HGIe1 根据上述参数选择以下光栅参数:
[QnN1k 光栅周期:250 nm
'C5id7O& 填充因子:0.5
JvO1tA]ij 光栅高度:200 nm
`0Udg,KOs 材料n_1:熔融石英(来自目录)
V#Wy`
ce 材料n_2:二氧化钛(来自目录)
v6 5C
j2ec %RD\Sb4YV
e* [wF})) %r|sb=(yT 偏振态分析
Q+Bl1xl 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。
$9YQ aN% 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。
9Jwd *gevV 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。
3H,x4L5j wa[L[mw
7n5gXiI" cM%?Ot,mK" 模拟光栅的偏振态
9 :2Bt <q `Wx|
4
FxlH;'+Q 8c) eaDu 瑞利系数现在提供了偏振态的信息:
]$g07 7o 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,

。这说明衍射光是完全偏振的。
nVs@DH 对于𝜑=22°,

。此时,67%的光是TM偏振的。
?-j/X6(\( 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。
tl_3 %$s DzR,ou Passilly等人更深入的光栅案例。
@1oX Passilly等人的工作研究并
优化了亚
波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。
s",Ea* 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。
atZe`0 6) i-S<(
f9#zV2ke] & R_?6*n 光栅结构参数
Jh.~]\u 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
{z>!Fw 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。
!SK`!/7c? 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。
&MH8~LSb 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。
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B :%Vq2` xuUEJ
a& 光栅#1——参数
k<1i.rh 假设侧壁倾斜为线性。
i@9
qp?eb 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
YXp\C"~g 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。
-1dD~S$ 光栅周期:250 nm
e[iv"|+
光栅高度:660 nm
K3mP 6Z#2 填充因子:0.75(底部)
5ih>x3S1/ 侧壁角度:±6°
K#k/t"r n_1:1.46
f:M^q ; n_2:2.08
mP*$wE9b,: 8(Az/@=n
:Fhk$?/r ^1 ){
@( 光栅#1——结果
YH58p&up 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
_jX,1+M 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
WdOxwsq" wa,`BAKJ+F
Tbm
~@k(C [CEV&B 光栅#2——参数
.QP`Qn6 (P 假设光栅为矩形。
=+_nVO* 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
/}1|'?P 矩形光栅足以表示这种光栅结构。
-o~zb-E 光栅周期:250 nm
c!HGiqp 光栅高度:490 nm
2:|vJ<Q 填充因子:0.5
$W|JQ h n_1:1.46
koT3~FK n_2:2.08
g#i~^4-1 \SmsS^z(]
9X*Z\- xp1/@Pw? 光栅#2——结果
GDCp@%xW 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。
>h8m8J 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
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