摘要
n`8BE9h^ !nQ_< 光栅结构广泛应用于各种
光学应用场景,如
光谱仪、近眼显示
系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。
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vMu6u .e RZoSP(6 任务说明
J~Uq'1? /'' |bIPa
-+?ZJ^A #Z#rOh 简要介绍衍射效率与偏振理论
mE=%+:o. 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
R&KFF'% 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率:
6hp>w{+
d0``: 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。
td JA? 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
', ~
o 9\J
vJk 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为

。
fm]mqO 3V=wW{;x 光栅结构
参数 l7 Pn5c 研究了一种矩形光栅结构。
{P')$f) 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。
$$F iCMI 根据上述参数选择以下光栅参数:
cZC%W!pT 光栅周期:250 nm
]Y111<Ja 填充因子:0.5
O/Cwm;&t 光栅高度:200 nm
g]&7c:/ 材料n_1:熔融石英(来自目录)
f$1&)1W[ 材料n_2:二氧化钛(来自目录)
^x2zMB\t hhWIwR
%4' <0 >vQ8~*xd 偏振态分析
u+EZ"p;o 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。
_Ns/#Xe/ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。
USd7gOq( 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。
\.ukZqB3
0 *).u:>D4
pLj[b4p9 R&.mNji* 模拟光栅的偏振态
CCDU5l$$ R*0]*\C z
~'1gX`o: @*e5(@R 瑞利系数现在提供了偏振态的信息:
C(CwsdlP 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,

。这说明衍射光是完全偏振的。
rj}O2~W~4 对于𝜑=22°,

。此时,67%的光是TM偏振的。
^+p7\D/E( 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。
)OHGg -.xiq0 Passilly等人更深入的光栅案例。
qXqGhHoe; Passilly等人的工作研究并
优化了亚
波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。
G+7#!y Y 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。
~aPe?{yIUa QL]e<2oPJ
;gGq\c ?7=c` 光栅结构参数
7f] qCZ<0V 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
OEw#;l4 C 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。
] M`%@ps 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。
8+i=u"< 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。
w)N~u%
'VgEf:BS _mWVZ1P 光栅#1——参数
Ie4\d2tQ; 假设侧壁倾斜为线性。
W{m_yEOf 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
XEegUTs 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。
mUj_V#v 光栅周期:250 nm
60TM!\ 光栅高度:660 nm
R1$s1@3I| 填充因子:0.75(底部)
s
Poh\n 侧壁角度:±6°
@AtJO>w n_1:1.46
qCkC 2Fy( n_2:2.08
}7*|s+F(f z~"Q_gme
@r&*Qsf| av&~A+b.r 光栅#1——结果
[*C%u_h 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
5Q;Q 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
c=,HLHpFO( *8r^!(Kj
x(n|zp (" %nRgHN> 光栅#2——参数
cO$xT;kK 假设光栅为矩形。
dbJ3E)rF 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
A+|bJ>q 矩形光栅足以表示这种光栅结构。
nll=Vd[ 光栅周期:250 nm
cJerYRjsL 光栅高度:490 nm
Q6T"8K/ 填充因子:0.5
$Qz<:?D n_1:1.46
:.9Y n_2:2.08
E.%V0} V0NLwl
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C$p012D1 ~&?57Sw*m 光栅#2——结果
E{0e5. { 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。
D]o=I1O? 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
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