摘要
dr c-5{M X</Sl>[8 光栅结构广泛应用于各种
光学应用场景,如
光谱仪、近眼显示
系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。
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{@F'BB\ 1DcX$b 任务说明
heL`"Y2'y> @_?2iN?4Z
qajZ~oB{ c BZ,"kp- 简要介绍衍射效率与偏振理论
BGxwPJd 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
T~k @Z 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率:
,
^K.J29
}X?#"JFX? 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。
y*ZA{ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
ox%j_P9@:
g e(,>xB 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为

。
yQMwt|C4 ;N?(R\*8 光栅结构
参数 &l3(+4Sh 研究了一种矩形光栅结构。
w7.,ch 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。
T- _)) 根据上述参数选择以下光栅参数:
_dRB=bl"O 光栅周期:250 nm
^8_yJ=~V 填充因子:0.5
2|=hF9
光栅高度:200 nm
jLM([t 材料n_1:熔融石英(来自目录)
=\|,hg)c 材料n_2:二氧化钛(来自目录)
u*):
D~A m$=}nI(H
-fk;Qq3O ge1. HG 偏振态分析
) WbWp4 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。
bXvO+I< 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。
NXFi* 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。
;cvMNU$fN 8-NycG&)
*U,JQ IH dA2d?.] 模拟光栅的偏振态
nAWb9Yk JPAjOcmU/
|(Mxbprz SMD*9&, 瑞利系数现在提供了偏振态的信息:
:`zO%h 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,

。这说明衍射光是完全偏振的。
Y|Q(JX 对于𝜑=22°,

。此时,67%的光是TM偏振的。
P O 5Wi 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。
vRe X7 !5(DU~S*@S Passilly等人更深入的光栅案例。
hdCd:6 Passilly等人的工作研究并
优化了亚
波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。
8 5X}CCQ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。
w(&EZDe
R%RxF=@
84.L1|k )f|`mM4DW! 光栅结构参数
6" * <0 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
PVp>L*|BZ; 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。
;W|NG3_y 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。
cJaA*sg 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。
pT->qQ3;
EN\cwa#FU (&Rk#i U
2 光栅#1——参数
tngB;9c+w 假设侧壁倾斜为线性。
~q}L13^k 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
qWheoyAB 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。
sFz0:SqhE 光栅周期:250 nm
cVW7I 光栅高度:660 nm
e
O\72? K 填充因子:0.75(底部)
NOQ^HEi 侧壁角度:±6°
B6
(\1 n_1:1.46
9GH5 n_2:2.08
s{Qae=$Q [oVM9Q
yy8-t2V 7Dbm
s(:( 光栅#1——结果
rZ `1G 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
Q}@t' 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
&]o-ZZX O|,9EOrP
G-T^1? &M}X$k I 光栅#2——参数
+Pb:<WT}% 假设光栅为矩形。
,~naKd.ZY 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
_x<NGIz 矩形光栅足以表示这种光栅结构。
!92e$GJ} ; 光栅周期:250 nm
PiKP. 光栅高度:490 nm
8l5>t 填充因子:0.5
Pj
<U|\-? n_1:1.46
uKP4ur@1 n_2:2.08
uL/wV~g 71R,R,
q k^FyZ< ]qT&6:;-] 光栅#2——结果
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|I=P 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。
.@,t}:lD 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
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