长鑫存储“光罩图形的修正方法及系统、光罩及其制备方法"专利公布

据国家知识产权局公告，长鑫存储技术有限公司申请一项名为“光罩图形的修正方法及系统、光罩及其制备方法”，公开号CN117250823A，申请日期为2022年6月。 VYR<x QA  
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专利摘要显示，本公开涉及一种光罩图形的修正方法，包括：获取光罩图形模板中所有光罩图形的光罩数据，光罩图形模板中包括若干个初始正图形和初始反图形；根据光罩数据，识别出需要进行光学校正的初始反图形；对需要进行光学校正的初始反图形进行光学校正，获得校正后的反图形；在校正后的反图形中形成亚分辨率辅助图形，并对校正后的反图形的边缘进行平整化处理。上述光罩图形的修正方法，在对初始反图形进行光学校正后，增加了对其边缘的平整化处理，解决了反图形在光学校正后与邻近图形之间形成狭缝的问题，并且，通过在反图形中形成亚分辨率辅助图形，可以增大光刻工艺窗口，提高成像对比度。