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上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布 据天眼查显示，上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”。申请日期是2022年5月19日，公布日期是2023年11月28日。  天眼查专利页面截图 该专利摘要显示，本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括：第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。 其中，所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称，所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称，所述投影物镜光学系统是对称结构，且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度，以此可以在提高成像质量的基础上，增大曝光系统的视场尺寸，提升产率。  投影物镜光学系统结构图 分享到：
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最新评论
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likaihit 2023-11-29 00:13实物在哪里
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redplum 2023-11-29 00:14这个很有意义
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tassy 2023-11-29 00:59関注微电子投影物镜光学系统及光刻机
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phisfor 2023-11-29 07:02上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布
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星空38 2023-11-29 07:50上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”
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wangjin001x 2023-11-29 08:03上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布
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liulin666 2023-11-29 08:17上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布
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雨后无文 2023-11-29 08:20有意义
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牛开心 2023-11-29 08:37上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布
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wmh1985 2023-11-29 08:39本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括：第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。 其中，所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称，所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称，所述投影物镜光学系统是对称结构，且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度，以此可以在提高成像质量的基础上，增大曝光系统的视场尺寸，提升产率。