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上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布 据天眼查显示，上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”。申请日期是2022年5月19日，公布日期是2023年11月28日。  天眼查专利页面截图 该专利摘要显示，本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括：第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。 其中，所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称，所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称，所述投影物镜光学系统是对称结构，且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度，以此可以在提高成像质量的基础上，增大曝光系统的视场尺寸，提升产率。  投影物镜光学系统结构图 分享到：
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最新评论
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swy312 2023-11-29 11:45期待突破
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wcl1983cn 2023-11-29 12:29没具体公开可以实现多少nm的制程工艺啊
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liu.wade 2023-11-29 12:47上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布
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personking 2023-11-29 13:04[资讯]上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布 [复制链接]
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cufgr 2023-11-29 13:20以此可以在提高成像质量的基础上，增大曝光系统的视场尺寸，提升产率。
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谭健 2023-11-29 13:26路过学习下
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striving 2023-11-29 16:54上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布
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莫名其妙331 2023-11-29 17:25发明专利吗？
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sac 2023-11-29 17:36投影物镜
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sgsmta 2023-11-29 17:56投影物镜光学系统及光刻机