;=1]h&S 内容简介
?V%x94B Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
]Qe;+p9vU 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
Lz2 AWqR 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
0f/=C9L nC^?6il
Ia$&SS)K
)Ac+5bs 目录
$A)i}M;uK Preface 1
|U%S<X 内容简介 2
nY"9"R\.= 目录 i
fD#|C~:= 1 引言 1
&mDKpYrB 2 光学薄膜基础 2
AxLnF(eG 2.1 一般规则 2
gbM#jhQ 2.2 正交入射规则 3
u&1n~t` 2.3 斜入射规则 6
&}31q` 2.4 精确计算 7
*;. l/ 2.5 相干性 8
Ath^UKO" 2.6 参考文献 10
1tU}}l 3 Essential Macleod的快速预览 10
'h_PJ% 4 Essential Macleod的特点 32
VYI%U'9Q 4.1 容量和局限性 33
T (] 4.2 程序在哪里? 33
C72?vAc,F 4.3 数据文件 35
w35r\x + 4.4 设计规则 35
Y15KaoK? 4.5 材料数据库和
资料库 37
ao>bnRXR 4.5.1材料损失 38
/Za'L#=R 4.5.1材料数据库和导入材料 39
n}PK0 4.5.2 材料库 41
)vO;=%GQ 4.5.3导出材料数据 43
~` v7 4.6 常用单位 43
.g_BKeU 4.7 插值和外推法 46
z|[#6X6tT 4.8 材料数据的平滑 50
fRC(Yyx 4.9 更多光学常数模型 54
EU.vw0}u8 4.10 文档的一般编辑规则 55
IO~d.Ra 4.11 撤销和重做 56
zd AqGQfc 4.12 设计文档 57
#=UEx
4.10.1 公式 58
p"f=[awp 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
"I?sz)pxG 4.10.3 沉积密度 59
WH2?_U-8h 4.10.4 平行和楔形介质 60
!/, 6+2Ru 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
@gc lks/M 4.10.4 性能 61
_S5\5[^ 4.10.5 保存设计和性能 64
a(&!{Y1bt 4.10.6 默认设计 64
(qT_4b~ 4.11 图表 64
|9ro&KA 4.11.1 合并曲线图 67
b}4k-hZL 4.11.2 自适应绘制 68
evryk,x 4.11.3 动态绘图 68
~(kIr?^ 4.11.4 3D绘图 69
NKB,D$!~& 4.12 导入和导出 73
!4d6wp" 4.12.1 剪贴板 73
p%
ESp& 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
4&;.>{:; 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
:L<$O7 4.13 背景 77
@sv==|h 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
hM\<1D
CKG 4.15 生成Rugate 84
c'?4*O 4.16 参考文献 91
4Z>hP]7
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
&WAO.*:y 5.1 Jobs 92
-]"=b\Q 5.2 创建一个新Job(工作) 93
50%
|9D0?Y 5.3 输入材料 94
TtEc~m 5.4 设计数据文件夹 95
YgiwtZ5FY 5.5 默认设计 95
rBLkowDP* 6 细化和合成 97
=ZM #_uW 6.1 优化介绍 97
^G%Bj`% 6.2 细化 (Refinement) 98
bUbM } 6.3 合成 (Synthesis) 100
o8\@R 6.4 目标和评价函数 101
6+"P$Ed#i 6.4.1 目标输入 102
ZK<kn8JJ
6.4.2 目标 103
!PUbaF-.6 6.4.3 特殊的评价函数 104
i>6SY83B} 6.5 层锁定和连接 104
(yQ]n91 Q, 6.6 细化技术 104
.E:[\H" 6.6.1 单纯形 105
-C.x;@!k 6.6.1.1 单纯形
参数 106
Okm&b g 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
\7z&iGe! 6.6.2.1 Optimac参数 108
\ &1)k/ 6.6.3 模拟退火算法 109
P
lJl#-BO 6.6.3.1
模拟退火参数 109
[ C d"@!yA 6.6.4 共轭梯度 111
oZ95 )'L, 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
|eL&hwqzG 6.6.5 拟牛顿法 112
K1#Y{k5D} 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
Cd)e_& 6.6.6 针合成 113
JPL8fX-w 6.6.6.1 针合成参数 114
@>f]0,"( 6.6.7 差分进化 114
']^e,9=Q 6.6.8非局部细化 115
Ry*NRP; 6.6.8.1非局部细化参数 115
x][vd^iW 6.7 我应该使用哪种技术? 116
HH+R47%* 6.7.1 细化 116
2%\Nq:;T 6.7.2 合成 117
ZxkX\gl91 6.8 参考文献 117
j-|YE?AA 7 导纳图及其他工具 118
'Ht$LqG 7.1 简介 118
_.0c~\VA 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
"Q9S<O8) 7.2.1 四分之一
波长规则 119
v<bq1QG 7.2.2 导纳图 120
*0M#{HQ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
fVv#| 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
q]q(zUtU 7.5 斜入射导纳图 141
hH:7 7.6 对称周期 141
P;0tI; 7.7 参考文献 142
2pFOC;tl 8 典型的镀膜实例 143
~LGkc
t 8.1 单层抗反射薄膜 145
hKjvD.6]% 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
_`Ey),c _ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
eU_|.2 8.4 W-膜层 148
Zy@35;r 8.5 V-膜层 149
06*R)siC 8.6 V-膜层高折射基底 150
quk~z};R>\ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
]YkF^Pf!v 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
.E!7}O6 8.9 四层抗反射薄膜 153
84tuN 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
w=\Lw+X 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
|o~<Ti6] 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
x^_Wfkch] 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
Mh'QD)28c 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
xjOy3_Js 8.15十五层宽带抗反射膜 159
yAtM|:qq 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
@eMDRbgq;[ 8.17 1/4波长堆栈 162
,S;?3? a 8.18 陷波滤波器 163
K1uN(T.Ju 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
5:9Ay ? 8.20 褶皱 165
?@Z~i]gE[V 8.21 消偏振分光器1 169
nS[0g^} 8.22 消偏振分光器2 171
*2crhI*@> 8.23 消偏振立体分光器 172
q]:+0~cz 8.24 消偏振截止滤光片 173
#/sKb2eQ 8.25 立体偏振分束器1 174
/tA$'tZ 8.26 立方偏振分束器2 177
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