uG!:Z6%p 内容简介
x H-X|N Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
j^flwk 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
:ygWNK[6D 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
bu>qsU3 C|MQ
$~5:w $9 +YNgW>
rLU'*} 目录
6i.gyD Preface 1
bB!#:j>(v 内容简介 2
G8nrdN-9 目录 i
IOL L1ar 1 引言 1
"w Af.=F 2 光学薄膜基础 2
j9d!yW 2.1 一般规则 2
> _ <'D 2.2 正交入射规则 3
#2RiLht 2.3 斜入射规则 6
<Mx0\b! 2.4 精确计算 7
=<c#owe:m 2.5 相干性 8
W+Xz$j/u 2.6 参考文献 10
qFco3 3 Essential Macleod的快速预览 10
fH\X 4 Essential Macleod的特点 32
5c5oSy+ 4.1 容量和局限性 33
oc7$H>ET1 4.2 程序在哪里? 33
K_~h*Yc 4.3 数据文件 35
%@Oma 4.4 设计规则 35
\P;rES' 4.5 材料数据库和
资料库 37
('O}&F1 4.5.1材料损失 38
Yw'NX5#)g 4.5.1材料数据库和导入材料 39
K<4Kk3 4.5.2 材料库 41
0V$k7H$Z 4.5.3导出材料数据 43
?WUF!Jk 4.6 常用单位 43
!z 53OT! 4.7 插值和外推法 46
Tlq-m2] 4.8 材料数据的平滑 50
lx |5?P 4.9 更多光学常数模型 54
r@U3sO#N 4.10 文档的一般编辑规则 55
J@_ctGv 4.11 撤销和重做 56
.pPm~2]z 4.12 设计文档 57
=-KMb`xT 4.10.1 公式 58
fpWg R4__ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
!}f1`/ 4.10.3 沉积密度 59
~j>D=! 4.10.4 平行和楔形介质 60
{sVY`}p| 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
p5\]5bb 4.10.4 性能 61
t23'x0l 4.10.5 保存设计和性能 64
z'7[T ie 4.10.6 默认设计 64
K4Sk+
v 4.11 图表 64
:~F :/5 4.11.1 合并曲线图 67
(#D*Pl 4.11.2 自适应绘制 68
vxFTen{-F 4.11.3 动态绘图 68
6E~g# (8 4.11.4 3D绘图 69
G7GZDi 4.12 导入和导出 73
)+P]Vf\jH 4.12.1 剪贴板 73
JL=U,Mr6 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
^EELaG 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
'3 33Ctxy 4.13 背景 77
=<}<Ny 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
Fmyj*)J[Z 4.15 生成Rugate 84
A#8q2n270* 4.16 参考文献 91
"_|oW n 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
2P#=a?~[ 5.1 Jobs 92
/E;y,o75 5.2 创建一个新Job(工作) 93
#[{3} %b 5.3 输入材料 94
wh6yPVVF/ 5.4 设计数据文件夹 95
(*p ,T 5.5 默认设计 95
{-3L IO 6 细化和合成 97
'e)^m}:?D 6.1 优化介绍 97
rxnFrx 6.2 细化 (Refinement) 98
Ub1hHA*) 6.3 合成 (Synthesis) 100
:bu>],d-8' 6.4 目标和评价函数 101
{\H/y c|@ 6.4.1 目标输入 102
IW=cym7 6.4.2 目标 103
qfY5Ww$8 6.4.3 特殊的评价函数 104
d^03"t0O] 6.5 层锁定和连接 104
}jH7iyjD 6.6 细化技术 104
e^p
+1-B 6.6.1 单纯形 105
dZ#&YG)?e 6.6.1.1 单纯形
参数 106
C+[%7vF1 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
r={c,i 6.6.2.1 Optimac参数 108
;~fT,7qBah 6.6.3 模拟退火算法 109
1 `^Rdi0 6.6.3.1
模拟退火参数 109
ca i<,3H 6.6.4 共轭梯度 111
<+MyZM(z> 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
dzLQI}89+k 6.6.5 拟牛顿法 112
m>USD?i 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
o#) {1<0vg 6.6.6 针合成 113
A?_ =K 6.6.6.1 针合成参数 114
S/|,u`g- 6.6.7 差分进化 114
NBl+_/2'w 6.6.8非局部细化 115
Q!-
0xlx 6.6.8.1非局部细化参数 115
v+p{|X- 6.7 我应该使用哪种技术? 116
|4$M]M f0 6.7.1 细化 116
.2d9?p3Y 6.7.2 合成 117
vEf4HZ&w 6.8 参考文献 117
+$4(zPs@ 7 导纳图及其他工具 118
'z76Sa 7.1 简介 118
x{D yTtX< 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
B9p?8.[ 7.2.1 四分之一
波长规则 119
*I}`dC[ 7.2.2 导纳图 120
w=b)({`M 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
5T sU Qc 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
]7-&V-Ct* 7.5 斜入射导纳图 141
u]}s)SmDk 7.6 对称周期 141
oFOnjK"|F 7.7 参考文献 142
mF` B# 8 典型的镀膜实例 143
(c0A.L)
8.1 单层抗反射薄膜 145
W3`>8v1?o 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
21k5I #U 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
fXrXV~'8 8.4 W-膜层 148
6'\6OsH 8.5 V-膜层 149
+`3!I 8.6 V-膜层高折射基底 150
Gt9&)/# 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
Gy=B&bo