Ot^<:\<`G 内容简介
%Ob#GA+ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
uTX0lu; 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
|?kZfr&9q 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
tH}$j '&|]tu:q "F$0NYb]I
-UhSy>m 目录
No'^]r Preface 1
aCwb[7N 内容简介 2
b6LwKUl 目录 i
P+hp'YK1 1 引言 1
;'|Mt)\ 2 光学薄膜基础 2
bR0 z$~ 2.1 一般规则 2
/.Fvl;!J; 2.2 正交入射规则 3
K<3$>/| 2.3 斜入射规则 6
x c[BQ|P= 2.4 精确计算 7
Xyf7sHQ 2.5 相干性 8
W,g0n=2V 2.6 参考文献 10
W{{{c2 . 3 Essential Macleod的快速预览 10
FTA[O.tiG 4 Essential Macleod的特点 32
s--\<v 4.1 容量和局限性 33
Gp PlO] 4.2 程序在哪里? 33
`4&a"`&$ 4.3 数据文件 35
5W(S~} 4.4 设计规则 35
WN_i-A1G/h 4.5 材料数据库和
资料库 37
_i-(`5 4.5.1材料损失 38
E>|xv#:~DV 4.5.1材料数据库和导入材料 39
UP*\p79oO 4.5.2 材料库 41
(16U]s 4.5.3导出材料数据 43
\N?,6;%xB 4.6 常用单位 43
.2si[:_(p 4.7 插值和外推法 46
C8J3^?7E 4.8 材料数据的平滑 50
W8/8V, 4.9 更多光学常数模型 54
cl4Vi% 4.10 文档的一般编辑规则 55
)(Z)yz 4.11 撤销和重做 56
ZRjqjx 4.12 设计文档 57
B!#F!Wk" 4.10.1 公式 58
W$l%= / 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
Y?^1=9?6 4.10.3 沉积密度 59
ZgXn8O[a 4.10.4 平行和楔形介质 60
il)LkZ@ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
JLZ[sWP=' 4.10.4 性能 61
RyxEZ7dC<y 4.10.5 保存设计和性能 64
0(
s
io\ 4.10.6 默认设计 64
?]d[K>bv 4.11 图表 64
XHN`f#(w 4.11.1 合并曲线图 67
!.[N(%" 4.11.2 自适应绘制 68
:EXH8n&| 4.11.3 动态绘图 68
-9.Rmv#og{ 4.11.4 3D绘图 69
<K#]1xCA 4.12 导入和导出 73
@aA1=9-L 4.12.1 剪贴板 73
SiM1Go}# 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
[CfA\-gx<f 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
CUS^j 4.13 背景 77
<Bmqox0 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
}iK_7g`yKa 4.15 生成Rugate 84
,sM>{NK9R 4.16 参考文献 91
vfh0aW-O 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
+h*.%P}o 5.1 Jobs 92
P@u&~RN9f+ 5.2 创建一个新Job(工作) 93
LB)sk$) 5.3 输入材料 94
pO~VI$7 5.4 设计数据文件夹 95
)ZU=`!4 5.5 默认设计 95
xSQ0] vE 6 细化和合成 97
f
+# 6.1 优化介绍 97
hKT ]M[Pv 6.2 细化 (Refinement) 98
Mohy;#8Wk 6.3 合成 (Synthesis) 100
m-~eCFc 6.4 目标和评价函数 101
()E:gqQ
6.4.1 目标输入 102
7jb{E+DrG 6.4.2 目标 103
h%hE$2 6.4.3 特殊的评价函数 104
;T|y^D 6.5 层锁定和连接 104
V!'N:je 6.6 细化技术 104
4HG@moYn@ 6.6.1 单纯形 105
)A`Zgg'L7D 6.6.1.1 单纯形
参数 106
:\0q\2e[< 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
CKAs3", 6.6.2.1 Optimac参数 108
-*?Y4}mK 6.6.3 模拟退火算法 109
%Jrdr`< 6.6.3.1
模拟退火参数 109
K|H&x"t 6.6.4 共轭梯度 111
$ljgFmR_ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
3b_tK^|' 6.6.5 拟牛顿法 112
DIk\=[{2q 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
-zeodv7 6.6.6 针合成 113
Z66b>.<8 6.6.6.1 针合成参数 114
:Rs% (Z 6.6.7 差分进化 114
xLE+"6;W 6.6.8非局部细化 115
V/0?0VKG 6.6.8.1非局部细化参数 115
0I.9m[<Fc 6.7 我应该使用哪种技术? 116
ZOFhX$I 6.7.1 细化 116
,RkL|'1l 6.7.2 合成 117
b}G4eXkuj 6.8 参考文献 117
ez2 gy" 7 导纳图及其他工具 118
,_66U;T 7.1 简介 118
:'OCQ.[{s 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
BO5gwvyI 7.2.1 四分之一
波长规则 119
I5"ew=x# 7.2.2 导纳图 120
c|N!ZYJI 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
iA~b[20& 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
Dm@wTt8N( 7.5 斜入射导纳图 141
* &j)"hX 7.6 对称周期 141
~&/|J)} 7.7 参考文献 142
3:$hC8 8 典型的镀膜实例 143
mx#H+:}&r 8.1 单层抗反射薄膜 145
,w.`(?I/ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
gTK5z.] 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
;Yrg4/Ipa 8.4 W-膜层 148
n2bL- 8.5 V-膜层 149
q8:Z.<%8 8.6 V-膜层高折射基底 150
:E|HP#iwu 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
PmtBu`OkV 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
vqLC?{i+ 8.9 四层抗反射薄膜 153
o7feH 6Sh 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
#vy:aq<bjE 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
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