2l5KJlfj>k 内容简介
0J~Qq]g Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
I?Q+9Rmm`J 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
^zEE6i 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
Q)af|GW$ !G_jGc=v zdSh:
XN,,cU 目录
CVXytS?@x Preface 1
KjB/.4lLq 内容简介 2
4e9q`~sO 目录 i
%]p6Kn/> 1 引言 1
`B8tmW# 2 光学薄膜基础 2
;3C:%!CdA] 2.1 一般规则 2
N~ANjn/wL 2.2 正交入射规则 3
V,%L~dI 2.3 斜入射规则 6
f=J<*h 2.4 精确计算 7
(
#&|Dp^' 2.5 相干性 8
ngi<v6 i 2.6 参考文献 10
}%{MPqg 3 Essential Macleod的快速预览 10
>u J/TQU 4 Essential Macleod的特点 32
+ E"[ 4.1 容量和局限性 33
;HOPABWz) 4.2 程序在哪里? 33
H^1gy=kdj 4.3 数据文件 35
-Cid3~mX3 4.4 设计规则 35
Kud'pZ{P 4.5 材料数据库和
资料库 37
2k#t
.- 4.5.1材料损失 38
*Dr5O 9Y 4.5.1材料数据库和导入材料 39
"Mmf6hu 4.5.2 材料库 41
cjULX+h 4.5.3导出材料数据 43
d`Q7"}uZ 4.6 常用单位 43
|dadH7 4.7 插值和外推法 46
L4f7s7rJ 4.8 材料数据的平滑 50
TOI4?D] 4.9 更多光学常数模型 54
AW5iV3 4.10 文档的一般编辑规则 55
0_eQlatb 4.11 撤销和重做 56
b4,jN~ci 4.12 设计文档 57
K'6[J"dB 4.10.1 公式 58
G%TL/Z40 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
GO5 ~!g 4.10.3 沉积密度 59
m(sXk}e;1 4.10.4 平行和楔形介质 60
<M[U#Q~?~e 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
nv5u%B^ 4.10.4 性能 61
#WE]`zd 4.10.5 保存设计和性能 64
;)!"Ty| 4.10.6 默认设计 64
\Mi#{0f+q 4.11 图表 64
& 7QH^ 4.11.1 合并曲线图 67
k3@HI| 4.11.2 自适应绘制 68
0o&}mKe 4.11.3 动态绘图 68
i+M*J#' 4.11.4 3D绘图 69
dGgP_S 4.12 导入和导出 73
zXc}W*ymj 4.12.1 剪贴板 73
Qs+ k)e, 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
|k-XBp 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
#w3ru6*W 4.13 背景 77
6*1$8G`$8, 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
\k&1*b?h 4.15 生成Rugate 84
)wf\F6jN 4.16 参考文献 91
:7;[`bm(G 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
Pl~P- n 5.1 Jobs 92
,J9}.}Hd 5.2 创建一个新Job(工作) 93
-4L!k'uR 5.3 输入材料 94
=L0fZf 5.4 设计数据文件夹 95
, &' Y 5.5 默认设计 95
Go+[uY^ 6 细化和合成 97
"zV']A>4H 6.1 优化介绍 97
V;9 }7mw 6.2 细化 (Refinement) 98
)}X5u%woV 6.3 合成 (Synthesis) 100
'm1. X-$V 6.4 目标和评价函数 101
|PM m?2^ R 6.4.1 目标输入 102
rH}fLu8,;Q 6.4.2 目标 103
P%o44|[][ 6.4.3 特殊的评价函数 104
A1JzW)B 6.5 层锁定和连接 104
v}il(w;O 6.6 细化技术 104
t;Wotfc[#0 6.6.1 单纯形 105
-0~IY 6.6.1.1 单纯形
参数 106
;A^K_w' 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
:Z2tig nL 6.6.2.1 Optimac参数 108
kHU"AD}. 6.6.3 模拟退火算法 109
M4<+%EV} 6.6.3.1
模拟退火参数 109
}bfn_ G 6.6.4 共轭梯度 111
ch,| 1}bi 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
r<FQX3 6.6.5 拟牛顿法 112
F2oJ]th.3 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
F RH&B5w 6.6.6 针合成 113
SgSk!lj 6.6.6.1 针合成参数 114
$Qq_qTJu?G 6.6.7 差分进化 114
>rRf9wO1l 6.6.8非局部细化 115
r>3^kL5UI 6.6.8.1非局部细化参数 115
d/B* 6.7 我应该使用哪种技术? 116
9.Ap~Ay. 6.7.1 细化 116
DPPS?~Pq 6.7.2 合成 117
%aLCH\e 6.8 参考文献 117
<:cpz* G4 7 导纳图及其他工具 118
;nf&c;D 7.1 简介 118
/VtlG+dLl 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
i]M"Cu* 7.2.1 四分之一
波长规则 119
-lp"#^ ; 7.2.2 导纳图 120
5^|"_Q#: 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
U?6yke 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
g3a/;wl 7.5 斜入射导纳图 141
!"(u_dFw 7.6 对称周期 141
DNho%Xk 7.7 参考文献 142
F^sw0 .b 8 典型的镀膜实例 143
'(9YB9 i 8.1 单层抗反射薄膜 145
.wri5 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
-h9#G{2W[ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
+wts 7,3 8.4 W-膜层 148
e-!?[Ujv*% 8.5 V-膜层 149
<[8@5 ?&& 8.6 V-膜层高折射基底 150
pDhY%w# 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
yam}x*O\xn 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
$F1_^A[ 8.9 四层抗反射薄膜 153
: ~'Z(-a 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
#`58F . 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
Z3n~&! 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
7%op zdS# 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
4f
jC 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
q4k`)?k9 8.15十五层宽带抗反射膜 159
w7ZG oh( 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
zkG>u,B} 8.17 1/4波长堆栈 162
O99mic 8.18 陷波滤波器 163
7AeP Gr 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
|Pf(J;'[ 8.20 褶皱 165
NE[y|/ 8.21 消偏振分光器1 169
\AJS,QD 8.22 消偏振分光器2 171
|=,83,a 8.23 消偏振立体分光器 172
n\*JaY 8.24 消偏振截止滤光片 173
(7 ijt 8.25 立体偏振分束器1 174
Xvq^1Y? 8.26 立方偏振分束器2 177
l<n5gfJ 8.27 相位延迟器 178
\AHY[WKx 8.28 红外截止器 179
Za9$Hh/X 8.29 21层长波带通滤波器 180
W1<