Qm4cuV-0{ 内容简介
-v=tM6 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
5"w% 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
iOiXo6YE 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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CFeAKjG 目录
%3T:W\h Preface 1
8xHjdQr 内容简介 2
i~tps 目录 i
`3.bux~ 1 引言 1
=<U'Jtu6' 2 光学薄膜基础 2
\>+BvF 2.1 一般规则 2
`!.c_%m2 2.2 正交入射规则 3
\ $
:)Ka 2.3 斜入射规则 6
t}gK)"g 2.4 精确计算 7
4}Hf"L[ l 2.5 相干性 8
EI@ep~ 2.6 参考文献 10
^@]yiED{g 3 Essential Macleod的快速预览 10
hcQv!!Q"k$ 4 Essential Macleod的特点 32
SpZmwa #\ 4.1 容量和局限性 33
o+?Ko=vYw 4.2 程序在哪里? 33
,62BZyT,T, 4.3 数据文件 35
?{>5IjL)en 4.4 设计规则 35
Q]-r'pYr 4.5 材料数据库和
资料库 37
`(8RK 4.5.1材料损失 38
6H:EBj54? 4.5.1材料数据库和导入材料 39
/!-ypIY
4.5.2 材料库 41
o
Hrx$>W] 4.5.3导出材料数据 43
osTin*T. 4.6 常用单位 43
E9j(%kQ2 4.7 插值和外推法 46
Xa[lX8$zL 4.8 材料数据的平滑 50
q,(hs]\@ 4.9 更多光学常数模型 54
!}HT&N8[r 4.10 文档的一般编辑规则 55
}j,G)\g# 4.11 撤销和重做 56
,tuZ_"?M 4.12 设计文档 57
'Y5=A!*@tf 4.10.1 公式 58
_x?S0R1 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
dZ\T@9+j+ 4.10.3 沉积密度 59
IFWP&20 4.10.4 平行和楔形介质 60
34~[dY 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
.T}S[`Yx5 4.10.4 性能 61
JDB Ni+t 4.10.5 保存设计和性能 64
K|.!)L 4.10.6 默认设计 64
\fL:Ie 4.11 图表 64
5<?/M<i 4.11.1 合并曲线图 67
IF|%.%I$!U 4.11.2 自适应绘制 68
m`/!7wQs 4.11.3 动态绘图 68
!_h<w ?) 4.11.4 3D绘图 69
Q3x.qz 4.12 导入和导出 73
SZD@<3 Nb 4.12.1 剪贴板 73
U
KdCG.E9^ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
JC4Z^/\. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
E)F"!56lV 4.13 背景 77
Q |^c5 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
N9cUlrDO 4.15 生成Rugate 84
u1(8a%ZC 4.16 参考文献 91
D~ %h3HM 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
Y ptP_R:2p 5.1 Jobs 92
F%
K}&3 5.2 创建一个新Job(工作) 93
xr-v"- 5.3 输入材料 94
uJ/&!q<3 5.4 设计数据文件夹 95
)rv<" 5.5 默认设计 95
M \3Zj(E/ 6 细化和合成 97
Le}-F{~`^ 6.1 优化介绍 97
%ck/ Z 6.2 细化 (Refinement) 98
Toc="F`SW 6.3 合成 (Synthesis) 100
l%$co07cX 6.4 目标和评价函数 101
:KJZo,\ 6.4.1 目标输入 102
}4"T#
[n# 6.4.2 目标 103
C@s;0-qL 6.4.3 特殊的评价函数 104
Hf$LWPL)lM 6.5 层锁定和连接 104
$9O%,U@ 6.6 细化技术 104
+W9#^ 6.6.1 单纯形 105
X7&
^"|: 6.6.1.1 单纯形
参数 106
{ Sn
J 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
q3R?8Mb 6.6.2.1 Optimac参数 108
.=4k'99, 6.6.3 模拟退火算法 109
k/V:QdD Sb 6.6.3.1
模拟退火参数 109
]Q0+1'yuK 6.6.4 共轭梯度 111
w
B[H& 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
bO?Us 6.6.5 拟牛顿法 112
(.B+U'6 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
|\
4cQ 6.6.6 针合成 113
9dD;Z$x&Xk 6.6.6.1 针合成参数 114
~b.e9FhdA 6.6.7 差分进化 114
| WMq&-$D 6.6.8非局部细化 115
F^|4nBd*ub 6.6.8.1非局部细化参数 115
au 5qbP 6.7 我应该使用哪种技术? 116
6@o *"4~Q 6.7.1 细化 116
G8_|w6 6.7.2 合成 117
9 ~$'? 6.8 参考文献 117
F%>`?NG+c 7 导纳图及其他工具 118
p-o!K\o-1 7.1 简介 118
knJoVo] 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
Rck k 7.2.1 四分之一
波长规则 119
eC41PQ3=1' 7.2.2 导纳图 120
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H(o=39s 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
rfS kQT 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
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