线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:718
时间地点 p9 ,[kb  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 -R]~kGa6m<  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 MS#*3Md&y  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 1twpOZ>  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 -eh .Tk  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
S},Cz  
特邀专家介绍 g)$KN,gGuO  
U*yOe*>  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 BGj!/E  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 y5aPs z  
课程概要 <+ [N*  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 R6Md_t\  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 rX5"p!z  
课程大纲 P=<lY},  
1. Essential Macleod软件介绍 P/WGB~NH  
1.1 介绍软件 S~fP$L5  
1.2 创建一个简单的设计 |1A0YjOD  
1.3 绘图和制表来表示性能 !Z\Gv1  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 0n2H7}Uq  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) R(&3})VOa  
1.6 特定设计的公式技术 1Vz^?t:  
1.7 交互式绘图 V{q*hQd_3  
2. 光学薄膜理论基础 mP6}$ D  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 sk 8DW  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 WW6-oQs_#*  
3. 材料管理 c*zeO@AAn  
3.1 材料模型 ND.(N'/O  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 /\mYXi \  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 8O{V#aop  
3.4 基板光学常数的提取 ~Yl.(R  
4. 光学薄膜设计优化方法 *}#HBZe(9  
4.1 参考波长与g $?z} yx$  
4.2 四分之一规则 3!sZA?q  
4.3 导纳与导纳图 *$R9'Yo}F  
4.4 斜入射光学导纳 hPG@iX|V  
4.5 光学薄膜设计的进展 o(?9vU  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 [) >Yp-n  
4.6.1 优化目标设置 ?,v& o>*  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Ho*B<#&(A|  
4.6.3 膜层锁定和链接 WwWOic2  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 =a=:+q g  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 <<gW`KF   
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 K+M\E[1W  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 II _CT=  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟  gsi2  
5.5 如何在Function中编写脚本 *5s*-^'#!  
6. 光学薄膜系统案例 E'mT%@M OM  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 "x;FE<I  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 bk=;=K  
6.3 Stack应用范例说明 SQU@JKi; g  
7. 薄膜性能分析 1uKIO{d @  
7.1 电场分布 5$> buYF  
7.2 公差与灵敏度分析 Dt7z<1-)l  
7.3 反演工程 FcZ)^RQ4G  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 bYem0hzOe  
8. 真空技术 NW;_4g4qE  
8.1 常用真空泵介绍 u^]Gc p  
8.2 真空密封和检漏 bW/T}FN D  
9. 薄膜制备技术 r7}KV| M  
9.1 常见薄膜制备技术 9+<A7PM1T  
10. 薄膜制备工艺 Df2$2VU  
10.1 薄膜制备工艺因素 W;!V_-:  
10.2 薄膜均匀性修正技术 @~7au9.V=X  
10.3 光学薄膜监控技术 sD?Ynpt  
11. 激光薄膜 %1GKN|7  
11.1 薄膜的损伤问题 uuh._H}-  
11.2 激光薄膜的制备流程 n|Y}M]u,  
11.3 激光薄膜的制备技术 C-,#t5eir  
12. 光学薄膜特性测量 KX!/n`2u  
12.1 薄膜光谱测量 n[i:$! ,  
12.2 薄膜光学常数测量 7iv g3*  
12.3 薄膜应力测量 w&es N$2  
12.4 薄膜损伤测量 x+%> 2qgj"  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 KC9VQeSc  
Dh#5-Kf%  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
x+'Ea.^  
内容简介 fh1-]$z`~  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 gwB0/$!4"  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 &ns??:\+T  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 N;}X$b5Y @  
>OjK0jiPf  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
V}2[chbl  
目录 N 5{w  
Preface 1 G'wW-|  
内容简介 2 I'n}6D.M  
目录 i 6Qz=g t%I=  
1  引言 1 *h5L1Eq  
2  光学薄膜基础 2 XS&;8 PO  
2.1  一般规则 2 EUgKJ=jw  
2.2  正交入射规则 3 $ 6r> Tc](  
2.3  斜入射规则 6 YReI|{O$c  
2.4  精确计算 7 ) R5[a O  
2.5  相干性 8 UIIsgNca  
2.6 参考文献 10 L KZ<\% X  
3  Essential Macleod的快速预览 10 kxAT  
4  Essential Macleod的特点 32 wF6a*b@v  
4.1  容量和局限性 33 .p'McCV=  
4.2  程序在哪里? 33 S&cN+r  
4.3  数据文件 35 ] ONmWo77o  
4.4  设计规则 35 [{`&a#Q  
4.5  材料数据库和资料库 37 O_ $zK  
4.5.1材料损失 38 w'xPKO$bzR  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 4/S3hH  
4.5.2 材料库 41 DI-CC[  
4.5.3导出材料数据 43 p>T  
4.6  常用单位 43 g*4^HbVxt  
4.7  插值和外推法 46 2Mw`  
4.8  材料数据的平滑 50 RR/?"d?&  
4.9 更多光学常数模型 54 ose)\rM'  
4.10  文档的一般编辑规则 55 {Ov{O,c 5  
4.11 撤销和重做 56 PCc{0Rp\vk  
4.12  设计文档 57 !{g>g%2!  
4.10.1  公式 58 W ,]Ua]  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Rp_}_hL0  
4.10.3  沉积密度 59 4~nf~  
4.10.4 平行和楔形介质 60 Tz\v.&? $  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 :V)=/mR  
4.10.4  性能 61 mv/ Nz?  
4.10.5  保存设计和性能 64 'auYmX  
4.10.6  默认设计 64 K[9P{0hA  
4.11  图表 64 x;STt3M~  
4.11.1  合并曲线图 67 K)n058PO  
4.11.2  自适应绘制 68 dg(sRTi{  
4.11.3  动态绘图 68 JRtDjZ4>  
4.11.4  3D绘图 69 f{(D+7e}  
4.12  导入和导出 73 69odE+-X.  
4.12.1  剪贴板 73 7< ?Aou  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Te^_gdf  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 >ca`0gu  
4.13  背景 77  [cfXcl  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =%[vHQ\%  
4.15  生成Rugate 84 $JK,9G[Vu  
4.16  参考文献 91 P}!pmg6V  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 G*zhy!P  
5.1  Jobs 92 UH5A;SrTqR  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 rPifiLl A>  
5.3  输入材料 94 ]qk`Yi  
5.4  设计数据文件夹 95 JY D\VaW  
5.5  默认设计 95 Orlf5 {P  
6  细化和合成 97 m='_ O+ $  
6.1  优化介绍 97 Vg"vC  
6.2  细化 (Refinement) 98 iVM% ]\  
6.3  合成 (Synthesis) 100 {'?PGk%v  
6.4  目标和评价函数 101 W#x~x|(c  
6.4.1  目标输入 102 `n`HwDo;i  
6.4.2  目标 103 ]9 9; 7  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ORIXcj]  
6.5  层锁定和连接 104 ]^QO ^{Sz  
6.6  细化技术 104 M^/ZpKeT"  
6.6.1  单纯形 105  ~>3#c#[  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Bthp_cSmLs  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 kNrd=s,-]D  
6.6.2.1 Optimac参数 108 `;s#/`c|/  
6.6.3  模拟退火算法 109  S^5Qhv  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 +OO my  
6.6.4  共轭梯度 111 R\u5!M$::  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {-)I2GJav  
6.6.5  拟牛顿法 112 srS5-fs  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 +3R/g@n  
6.6.6  针合成 113 [ofZ1hB4  
6.6.6.1 针合成参数 114 yV) 9KGV+:  
6.6.7 差分进化 114 {>X2\.Rl  
6.6.8非局部细化 115 :l {%H^;1  
6.6.8.1非局部细化参数 115 t"&qaG{  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 9_%??@^>  
6.7.1  细化 116 8;(3fSNC  
6.7.2  合成 117 #\3X;{  
6.8  参考文献 117 6lQP+! EF  
7  导纳图及其他工具 118 9%?a\#C  
7.1  简介 118 DC'L-]#<  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 e1R<+`]  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Okd7ua-f  
7.2.2  导纳图 120 IG8I<+<o  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 f(c#1AJE53  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 .fNLhyd  
7.5  斜入射导纳图 141 CYhSCT!-?  
7.6  对称周期 141 >\s+A2P  
7.7  参考文献 142 *HQ>tvUh  
8  典型的镀膜实例 143 D+4$l+\u  
8.1  单层抗反射薄膜 145 vyruUYFWe  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 7hKfxw-X@  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #8B4*gAM  
8.4  W-膜层 148 `t]8 [P5  
8.5  V-膜层 149 p3cb_  
8.6  V-膜层高折射基底 150 poS=8mN8;  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 3s,a%GOk  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 j =PM]  
8.9  四层抗反射薄膜 153 .oe\wJS6  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 <s (o?U  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ,+'VQa"]  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 -N1X=4/fg  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 h"ATRr^  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 )JA^FQ5N  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 T $o;PJc  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Xcci)",!  
8.17  1/4波长堆栈 162 vF'Y; M  
8.18  陷波滤波器 163 249DAjn+  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 d+IN-lR(  
8.20  褶皱 165 u 236a\:  
8.21  消偏振分光器1 169 #UqE %g`J  
8.22  消偏振分光器2 171 i dY Xv)R  
8.23  消偏振立体分光器 172 m=D9V-P  
8.24  消偏振截止滤光片 173 8} |!p>  
8.25  立体偏振分束器1 174 D4U<Rn6N_5  
8.26  立方偏振分束器2 177 E-HK=D&W/  
8.27  相位延迟器 178 <-=g)3_  
8.28  红外截止器 179 d@+u&xrd  
8.29  21层长波带通滤波器 180 @8|i@S@4  
8.30  49层长波带通滤波器 181 g"X!&$ &  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Q6%Pp_$k  
8.32  47 红外截止器 183 _5v]69C#  
8.33  宽带通滤波器 184 vH>s2\V"  
8.34  诱导透射滤波器 186 r<_qU3Eaj  
8.35  诱导透射滤波器2 188 lQ?_1H~4=  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 O+ J0X*&x  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 W-4R;!42  
8.35  增益平坦滤波器 193 li%A?_/m<&  
8.38  啁啾反射镜 1 196 v=?/c-J*  
8.39  啁啾反射镜2 198 (6X{ &  
8.40  啁啾反射镜3 199 ryt`yO  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Md>9Daa~  
8.42  增加铝反射率膜 201 Kq}-)  
8.43  参考文献 202 3U[:N &Jb  
9  多层膜 204 ~Da-|FKa>  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 GBGna3  
9.2  内部透过率 204 HXQ } B$V  
9.3 内部透射率数据 205 wo\O 0?d3{  
9.4  实例 206 \NQ[w7  
9.5  实例2 210 z KNac[:  
9.6  圆锥和带宽计算 212 O\}w&BE:h  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 E&> 2=$~  
10  光学薄膜的颜色 216 dRXrI  
10.1  导言 216 :hDv^D?3  
10.2  色彩 216 $qM&iI-l0  
10.3  主波长和纯度 220 $!\Z_ :  
10.4  色相和纯度 221 U ]O>DM^'  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 6'jgjWEe3&  
10.6 色差 226 4'H)h'#C  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 F2dwT  
10.8  颜色渲染指数 234 t7,**$ST  
10.9  色差计算 235 fY 10a_@x  
10.10  参考文献 236 cs)R8vuB)z  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 G PL^!_  
11.1  短脉冲 238 z]1g;j  
11.2  群速度 239 cC TTjx{  
11.3  群速度色散 241 FQ]5W |e  
11.4  啁啾(chirped) 245 <P-AlHYV-  
11.5  光学薄膜—相变 245 fTd":F  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ])vqXjN6"  
11.7  色度色散 246 Kj#h9e  
11.8  色散补偿 249 Eg$Er*)h8  
11.9  空间光线偏移 256 /D;cm  
11.10  参考文献 258 Q VWVZ >l  
12  公差与误差 260 0MN)Z(Sa  
12.1  蒙特卡罗模型 260 >* ]B4Q  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 j.KV :zJU  
12.2.1  误差工具 267 \d QRQL{LL  
12.2.2  灵敏度工具 271 lk4$c1ao2@  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 BqDOo(%1)  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 +"PME1  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 *N%)+-   
12.3  参考文献 276 1c:/c|shQ_  
13  Runsheet 与Simulator 277 fILD~  
13.1  原理介绍 277 %TzdpQp"  
13.2  截止滤光片设计 277 "_ON0._(/  
14  光学常数提取 289 ._`?ZJ  
14.1  介绍 289 &8hW~G>(m  
14.2  电介质薄膜 289 +(oExp(!  
14.3  n 和k 的提取工具 295 @EUvx  
14.4  基底的参数提取 302 &[ $t%:`  
14.5  金属的参数提取 306 |6~ Kin  
14.6  不正确的模型 306 .wkW<F7  
14.7  参考文献 311 ^fti<Lw5  
15  反演工程 313 %`]fZr A]#  
15.1  随机性和系统性 313 h]k1vp)Q y  
15.2  常见的系统性问题 314 +e&Q<q!,q  
15.3  单层膜 314 6#kK  
15.4  多层膜 314 __ G=xf  
15.5  含义 319 ] {=qdgJ  
15.6  反演工程实例 319 #6nuiSF  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 TGI`}#  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 sb</-']a  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 0#/Pc`z C  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ;i&t|5y~  
16.2  应力工具 335 q=+wQ[a<  
16.3  均匀性误差 339 *m`F-J6U  
16.3.1  圆锥工具 339 HvW6=d(#  
16.3.2  波前问题 341 >C}KSyV;  
16.4  参考文献 343 P(i E"KH;  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 c~ Q 5A  
17.1  引言 345 BU=Ta$#BZ  
17.2  操作数 345 -m Sf`1l0  
18  如何在Function中编写脚本 351 6KKQ)DNu_  
18.1  简介 351 +}NQ |y V  
18.2  什么是脚本? 351 DK(8Ml:k  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 BV]$= e'  
18.4  基础 352 42wZy|oqp  
18.4.1  Classes(类别) 352 y_{v&AGmgm  
18.4.2  对象 352 n;~6'f xe  
18.4.3  信息(Messages) 352 tdn|mX#  
18.4.4  属性 352 TU?$yNE  
18.4.5  方法 353 qj,^"rp1:  
18.4.6  变量声明 353 poXT)2^)  
18.5  创建对象 354 ivPX_#QI  
18.5.1  创建对象函数 355 }1P v6L(o)  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 2yA+zJ 46B  
18.5.3 丢弃对象 356 =p#:v  
18.5.4  总结 356 ybpU?n  
18.6  脚本中的表格 357 HkyN$1s  
18.6.1  方法1 357 _"- ,ia[D  
18.6.2  方法2 357 {0Ej *%  
18.7 2D Plots in Scripts 358 %QX"oRMn0  
18.8 3D Plots in Scripts 359 opqf)C  
18.9  注释 360 S?# 'Y*h  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ou [Wz{  
18.11  一个更高级的脚本 362 =}[m_rp&  
18.12  <esc>键 364 LgA> ,.  
18.13 包含文件 365 dlc'=M  
18.14  脚本被优化调用 366 K=!?gd!Vw  
18.15  脚本中的对话框 368 QykHB k  
18.15.1  介绍 368 sW!MVv  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 A|BN >?.t  
18.15.3  输入框函数 370 ?f=7F %  
18.15.4  自定义对话框 371 ~JohcU}d  
18.15.5  对话框编辑器 371 _)^`+{N<  
18.15.6  控制对话框 377 kI/%|L%6D  
18.15.7  更高级的对话框 380 Sigu p#.p  
18.16 Types语句 384 )Tad]Hd"W  
18.17 打开文件 385 HG[gJ7  
18.18 Bags 387 RJLhR_t7n  
18.13  进一步研究 388 :w:ql/?X  
19  vStack 389 "nC=.5/$  
19.1  vStack基本原理 389 H]>7IhJ  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 +!<{80w  
19.3  五棱镜 393 gO m%?sg  
19.4 光束距离 396 z. xRJ  
19.5 误差 399 mJS-x-@  
19.6  二向分色棱镜 399 +(vL ~  
19.7  偏振泄漏 404 |p":s3K"Hy  
19.8  波前误差—相位 405 <& =3g/Y  
19.9  其它计算参数 405 cb9@ 0^-  
20  报表生成器 406 Bt"*a=t;  
20.1  入门 406 .;NoKO7)  
20.2  指令(Instructions) 406 X*rB`M7,  
20.3  页面布局指令 406 x DX_s:A  
20.4  常见的参数图和三维图 407 L&qY709  
20.5  表格中的常见参数 408 o)Nm5g  
20.6  迭代指令 408 $ 7uxReFZR  
20.7  报表模版 408 9XW[NY#)#  
20.8  开始设计一个报表模版 409 Ui;PmwQc&  
21  一个新的project 413 K]dX5vJw'  
21.1  创建一个新Job 414 ,4kipJ!,yK  
21.2  默认设计 415 kl9<l*  
21.3  薄膜设计 416 rYk   
21.4  误差的灵敏度计算 420 q'<K$4_,%  
21.5  显色指数计算 422 +ZeK,Y+Xy  
21.6  电场分布 424 {m 5R=22^  
后记 426 b ;t b&o  
?1lx8+  
M@O<b-  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 BZ@v8y _TA  
]e]hA@4  
《Essential Macleod中文手册》
4L[-[{2  
7\JA8mm  
目  录 X>VxE/  
`jH0FJQ  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 )lB*] n`Z]  
第1章 介绍 ..........................................................1 wvg>SfV,e  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 s h^&3}  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ut;KphvSH  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 dG'5: ,n/  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 Qv:J#uVw?O  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 y{1|@?ii  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 0Kenyn4?  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 5}_DyoV  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 WJ(E3bb  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 NpF}~$2  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 Q5qQ%cu  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 _K|513I  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 >l|dLyiae  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 0i65.4sK  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 U2VnACCUZs  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 |&a[@(N:zf  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 _gi?GQj  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ZVmgQ7m  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 (_O_zu8_  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 LuIs4&[EW  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 IOi6' 1l  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 } ~#^FFe  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 haMt2S2_B:  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Qr l>A*  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 eA(c{  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 gAgP("  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 "Hw%@  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 d6hso  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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