线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:819
时间地点 'qL:7  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 Vs[A  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 WpPm|h  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 #\|Ac*>  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Z~g6C0  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
<G};`}$a  
特邀专家介绍 TY."?` [FK  
''bh{ .x  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 }Y}f7 3-|  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 v r=va5  
课程概要 0}'xoYv f  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ;PS V3Zh  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 iS p +~  
课程大纲 9J3@8h p  
1. Essential Macleod软件介绍 M id v  
1.1 介绍软件  ?z hw0  
1.2 创建一个简单的设计 Xkqq$A4  
1.3 绘图和制表来表示性能 C+0MzfLgf  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 l}bAwJ?  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) sf([8YUd  
1.6 特定设计的公式技术 &z;bX-"E  
1.7 交互式绘图 2 c 2lK  
2. 光学薄膜理论基础 *1H8 &  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 IP LKOT~  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 WE{fu{x  
3. 材料管理 - w{`/  
3.1 材料模型 0N|l1Sn  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 b<\2j5  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 i/C`]1R/  
3.4 基板光学常数的提取 Wbq0K6X  
4. 光学薄膜设计优化方法 z4qc)- {L  
4.1 参考波长与g z#[PTqD-_  
4.2 四分之一规则 @A5'vf|2;.  
4.3 导纳与导纳图 (-no`j  
4.4 斜入射光学导纳 NihUCj"  
4.5 光学薄膜设计的进展 kF;N}O2?{  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ]c9\[Kdq}H  
4.6.1 优化目标设置 yTxrbE  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) C`@gsF"<7  
4.6.3 膜层锁定和链接 %`_Rl>@K=  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ,qT^e8E+  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Sl;[9l2  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 P=[_W;->}  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 h-f`as"d  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 tEN8S]X  
5.5 如何在Function中编写脚本 [.(,v n?6  
6. 光学薄膜系统案例 `j1b5&N;7  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 y}F;~H~P  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 k-Z :z?M  
6.3 Stack应用范例说明 4St-Q]Y _  
7. 薄膜性能分析 Ki\\yK  
7.1 电场分布 l(y,lK=YP1  
7.2 公差与灵敏度分析 V0<g$,W=  
7.3 反演工程 8\X-]Gh\^  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 `0_,>Z  
8. 真空技术 8345 H  
8.1 常用真空泵介绍 +n%d,Pz  
8.2 真空密封和检漏 'ti~TG  
9. 薄膜制备技术 |iA8aHFU  
9.1 常见薄膜制备技术 &7 K=  
10. 薄膜制备工艺 ri`;   
10.1 薄膜制备工艺因素 dC<2%y  
10.2 薄膜均匀性修正技术 oj(st{,  
10.3 光学薄膜监控技术 GGs7]mhA  
11. 激光薄膜 yW)r`xpY  
11.1 薄膜的损伤问题 -N'wKT5  
11.2 激光薄膜的制备流程 l;SXR <EU  
11.3 激光薄膜的制备技术 I/*^s  
12. 光学薄膜特性测量 _P` ^B  
12.1 薄膜光谱测量 {pc  (b  
12.2 薄膜光学常数测量 G J{XlH  
12.3 薄膜应力测量 `Frr?.3&-  
12.4 薄膜损伤测量 9SBTeJ$RZ  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 Q!!u=}GYK  
0j!xv(1  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
*3KSOcQ  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[}=a6Q>)  
内容简介 ' Tk4P{  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 %g~&$oZmq  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 R/xT.EQ(N  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ' GUCXx  
>V>`}TIH  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
>WA'/Sl<A<  
目录 m5o$Dus+?'  
Preface 1 >"+ ho  
内容简介 2 Hr7?#ZX;e  
目录 i lNsdbyV'  
1  引言 1 ifNyVE Hy  
2  光学薄膜基础 2 T/.UMw  
2.1  一般规则 2 =A*a9c2  
2.2  正交入射规则 3 gt9(5p  
2.3  斜入射规则 6 &lgzNC9g%  
2.4  精确计算 7 A>8~deZ9  
2.5  相干性 8 BCuoFw)  
2.6 参考文献 10 ULhXyItL  
3  Essential Macleod的快速预览 10 WD_{bd)  
4  Essential Macleod的特点 32 (< >Lfn  
4.1  容量和局限性 33 k 1a?yH)=  
4.2  程序在哪里? 33 h;#046-7  
4.3  数据文件 35 A0Q`Aqs  
4.4  设计规则 35 fk9q3  
4.5  材料数据库和资料库 37 /1p5KVTKv  
4.5.1材料损失 38 `-e9#diQe  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 _#1EbvO*l  
4.5.2 材料库 41 OFBEJacy  
4.5.3导出材料数据 43 !RPE-S  
4.6  常用单位 43 m[%':^vSr  
4.7  插值和外推法 46 7n o6  
4.8  材料数据的平滑 50 &Z3%UOY  
4.9 更多光学常数模型 54 4x<H=CJC  
4.10  文档的一般编辑规则 55 q{_f"  
4.11 撤销和重做 56 =''WA:,=h  
4.12  设计文档 57 T`MM<+^G  
4.10.1  公式 58 F3K<-JK+  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #jzF6j%G  
4.10.3  沉积密度 59 Q@W!6]*\  
4.10.4 平行和楔形介质 60 g\?v 5  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 }30Sb &"  
4.10.4  性能 61 T*gG <8  
4.10.5  保存设计和性能 64 o>nw~_ H\  
4.10.6  默认设计 64 h-|IZ}F7  
4.11  图表 64 .jg@UAK  
4.11.1  合并曲线图 67 xY/F)JOeG  
4.11.2  自适应绘制 68 mr/?w0(C  
4.11.3  动态绘图 68 QVJpX;u  
4.11.4  3D绘图 69 NMfHrYHbh  
4.12  导入和导出 73 6K )K%a,9  
4.12.1  剪贴板 73 #t;]s<  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 OjAdY\ ]1  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 d=meh4Y  
4.13  背景 77 \NMqlxp2  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 x`FTy&g  
4.15  生成Rugate 84 +Adk1N8  
4.16  参考文献 91 !h4A7KBYG  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 N Uv Vhy]{  
5.1  Jobs 92 |O6/p7+.  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 S[2?,C<2=  
5.3  输入材料 94 qjhk#\y  
5.4  设计数据文件夹 95 FNuE-_  
5.5  默认设计 95 gKl9Nkd!R  
6  细化和合成 97 b9#(I~}  
6.1  优化介绍 97 ZgG~xl\My  
6.2  细化 (Refinement) 98 VBix8|  
6.3  合成 (Synthesis) 100 W7'<Jom|?  
6.4  目标和评价函数 101 m< )`@6a/  
6.4.1  目标输入 102 z/+{QBen8  
6.4.2  目标 103 [U",yN]d  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Bm,Vu 1]t  
6.5  层锁定和连接 104 .D ^~!A  
6.6  细化技术 104 J _dgP[  
6.6.1  单纯形 105 q?Csm\Y  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Pzq^x]  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 qEXN} Pq<  
6.6.2.1 Optimac参数 108 akt7rnt?i  
6.6.3  模拟退火算法 109 WA,D=)GP  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 A.("jb@I  
6.6.4  共轭梯度 111 lct  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /hu>MZ(\  
6.6.5  拟牛顿法 112 HV)aVkr/&  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 +B1&bOb  
6.6.6  针合成 113 tuIZYp8tIN  
6.6.6.1 针合成参数 114 =k.%#h{  
6.6.7 差分进化 114 ]vB\yQE  
6.6.8非局部细化 115 Li} 5aK  
6.6.8.1非局部细化参数 115 jk&xzJH.  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 vm[*+&\2  
6.7.1  细化 116 Cs[ d:T  
6.7.2  合成 117 1s@QsZ3  
6.8  参考文献 117 @L~erg>8=  
7  导纳图及其他工具 118 3: WEODV2  
7.1  简介 118 ("t'XKP&N  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 #:0-t!<0C  
7.2.1  四分之一波长规则 119 3m!tb)  
7.2.2  导纳图 120 jzJTV4&zjs  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 -W1p=od  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 dt:$:,"   
7.5  斜入射导纳图 141 5]LWWjT  
7.6  对称周期 141 WYTqQqQk  
7.7  参考文献 142 x1#>"z7  
8  典型的镀膜实例 143 rkR5>S( 2M  
8.1  单层抗反射薄膜 145 C 5gdvJN  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 O 1z0dHa  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 96<oX:#  
8.4  W-膜层 148 Ve|:k5z  
8.5  V-膜层 149 xmcZN3 ){+  
8.6  V-膜层高折射基底 150 D)ri_w!Q  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ltgtD k  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 b{ xlW }S  
8.9  四层抗反射薄膜 153 y`buY+5l  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 >":xnX#  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 |EX=Rj*  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Zf@B< m  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 =oSd M2  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 C$6FI `J  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 T9Q3I  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 aqI"4v]~b  
8.17  1/4波长堆栈 162 T8z?_ *k  
8.18  陷波滤波器 163 w'(/dr  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 /9G72AD!  
8.20  褶皱 165 !Yb !Au[  
8.21  消偏振分光器1 169 f; |fS~  
8.22  消偏振分光器2 171 {:uv}4Z  
8.23  消偏振立体分光器 172 5\bGCf  
8.24  消偏振截止滤光片 173 `9K5 ;]  
8.25  立体偏振分束器1 174 NUltuM  
8.26  立方偏振分束器2 177 v>} +->f  
8.27  相位延迟器 178 Blzvn19'h  
8.28  红外截止器 179 '^_u5Y]  
8.29  21层长波带通滤波器 180 NgGMsE\C}  
8.30  49层长波带通滤波器 181 !="q"X /*  
8.31  55层短波带通滤波器 182 -Y/i h(I^  
8.32  47 红外截止器 183 F,p0OL.  
8.33  宽带通滤波器 184 6I@j$edZ  
8.34  诱导透射滤波器 186 P{n#^4  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ? x #K:a?  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 dz9U.:C  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 TsaQR2J@  
8.35  增益平坦滤波器 193 M/Yr0"%Q<.  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Xh;.T=/E|  
8.39  啁啾反射镜2 198 zg<-%r'$  
8.40  啁啾反射镜3 199 Yao}Xo9}  
8.41  带保护层的铝膜层 200 wL?Up>fr  
8.42  增加铝反射率膜 201 ja_8n["z  
8.43  参考文献 202 ^b+>r  
9  多层膜 204 )FQ"l{P  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 H/O.h@E4X  
9.2  内部透过率 204 {g%N(2  
9.3 内部透射率数据 205 mgjJNzclL  
9.4  实例 206 `sYFQ+D#O  
9.5  实例2 210 sh$-}1 ;  
9.6  圆锥和带宽计算 212 `3rwqcxA  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 w'H'o!*/  
10  光学薄膜的颜色 216 SO0\d0?u  
10.1  导言 216 luf5-XT  
10.2  色彩 216 46A sD  
10.3  主波长和纯度 220 R#d~a;j  
10.4  色相和纯度 221 C:J;'[,S  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 +H2Jhgi  
10.6 色差 226 ~ 1h#  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 [b3!H{b#  
10.8  颜色渲染指数 234 Wm}c-GD  
10.9  色差计算 235 Q4"\k. ?  
10.10  参考文献 236 crM5&L9zF  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 1(?4*v@B  
11.1  短脉冲 238 2^WJ1: A  
11.2  群速度 239 k5S;G"i J  
11.3  群速度色散 241 8 c8`"i  
11.4  啁啾(chirped) 245 YO7U}6wBt  
11.5  光学薄膜—相变 245 jfxNV2[  
11.6  群延迟和延迟色散 246 &F&`y  
11.7  色度色散 246 p`Pa;=L  
11.8  色散补偿 249 >j5\J_( ;D  
11.9  空间光线偏移 256 R{#< NE  
11.10  参考文献 258 7s|'NTp  
12  公差与误差 260 )5Khl"6!z  
12.1  蒙特卡罗模型 260 \3 SY2g8+  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 >H;i#!9,  
12.2.1  误差工具 267 XQ]K,# i  
12.2.2  灵敏度工具 271  ?.?)5 &4  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 p&<Ssc  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 cfLLFPhv)  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 S>yiD`v  
12.3  参考文献 276 Xsq@E#@S  
13  Runsheet 与Simulator 277 ob.<j  
13.1  原理介绍 277 ?Z#N9Z~\  
13.2  截止滤光片设计 277 Y [`+7w  
14  光学常数提取 289 /Y7^!3uM  
14.1  介绍 289 /s\ m V  
14.2  电介质薄膜 289 +K 4XMf  
14.3  n 和k 的提取工具 295 uAO!fE}CJ  
14.4  基底的参数提取 302 YJJ1N/Z1  
14.5  金属的参数提取 306 |`T(:ZKXZ2  
14.6  不正确的模型 306 hhTtxC<:  
14.7  参考文献 311 yE$PLM  
15  反演工程 313 :;k?/KU7  
15.1  随机性和系统性 313 B]rdgjz*  
15.2  常见的系统性问题 314 }%< ?]  
15.3  单层膜 314 boo361L  
15.4  多层膜 314 e HphM;C  
15.5  含义 319 D#g -mqar:  
15.6  反演工程实例 319 6>vR5pn  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 U%q)T61  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 8?yIixhw  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 7H6Ts8^S  
16.1  光学性质的热致偏移 329 \]ib%,:YU  
16.2  应力工具 335 4>gfLK\R:  
16.3  均匀性误差 339 mxv ?PP  
16.3.1  圆锥工具 339 (Z),gxt  
16.3.2  波前问题 341 Oyl~j #h  
16.4  参考文献 343 DzZF*ylQ5P  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 RHF"$6EAFG  
17.1  引言 345 _jQ:9,; A  
17.2  操作数 345 q7B5#kb  
18  如何在Function中编写脚本 351 MP%#)O6  
18.1  简介 351 BIx*t9wA  
18.2  什么是脚本? 351 F @PPhzZ  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 NQdwj>_a  
18.4  基础 352 */aY $aWv  
18.4.1  Classes(类别) 352 %BI8m|6  
18.4.2  对象 352 <y6`8J7:  
18.4.3  信息(Messages) 352 bxXpw&  
18.4.4  属性 352 Hg#t SE  
18.4.5  方法 353 T^A(v(^D  
18.4.6  变量声明 353 s9?mX@>h  
18.5  创建对象 354 LO`0^r  
18.5.1  创建对象函数 355 =E-x0sr?  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 d^v#x[1msZ  
18.5.3 丢弃对象 356 +25}X{r$_  
18.5.4  总结 356 x ytrd.  
18.6  脚本中的表格 357 v{" nyW6#  
18.6.1  方法1 357 aBA oSn  
18.6.2  方法2 357 j+jC J<  
18.7 2D Plots in Scripts 358 mv9D{_,pD  
18.8 3D Plots in Scripts 359 }z]d]  
18.9  注释 360 mF6-f#t>H+  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 /X}1%p  
18.11  一个更高级的脚本 362 ql?w6qFs]  
18.12  <esc>键 364 <a R  
18.13 包含文件 365 ;}B=g/C  
18.14  脚本被优化调用 366 q!z?Tn#!jd  
18.15  脚本中的对话框 368 @-q,%)?0}=  
18.15.1  介绍 368 ,:S#gN{U  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ` m 5\  
18.15.3  输入框函数 370 ?eJ'$  
18.15.4  自定义对话框 371 2[lP,;!  
18.15.5  对话框编辑器 371 B:zx 9  
18.15.6  控制对话框 377 v`h>5#_[  
18.15.7  更高级的对话框 380 X@~/.H5  
18.16 Types语句 384 6#=Iv X4  
18.17 打开文件 385 Q& [!+s:2J  
18.18 Bags 387 >N^<Q4%2  
18.13  进一步研究 388 IOHWb&N6  
19  vStack 389 z%}"=  
19.1  vStack基本原理 389 7gX32r$%V  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 M6-uTmN:d  
19.3  五棱镜 393 ]}`t~#Irz  
19.4 光束距离 396 D0J{pAJ  
19.5 误差 399 B)q}]Qn  
19.6  二向分色棱镜 399 9SC1A-nF  
19.7  偏振泄漏 404 ruaZ(R[  
19.8  波前误差—相位 405 :(q4y-o6  
19.9  其它计算参数 405 wBt7S!>G  
20  报表生成器 406 N XB8u6  
20.1  入门 406 A1zRzg4I  
20.2  指令(Instructions) 406 TOiLv.Dor  
20.3  页面布局指令 406 yzEyOz@Q  
20.4  常见的参数图和三维图 407 \3vQXt\dM$  
20.5  表格中的常见参数 408 fRNj *bIV  
20.6  迭代指令 408 imOIO[<;  
20.7  报表模版 408 0A} X hX  
20.8  开始设计一个报表模版 409 2I:P}!  
21  一个新的project 413 091m$~r*  
21.1  创建一个新Job 414 w5Fk#zJv  
21.2  默认设计 415 \O*ZW7?TJ  
21.3  薄膜设计 416 <MEm+8e/s6  
21.4  误差的灵敏度计算 420 smCACQ$ (  
21.5  显色指数计算 422 yz [pF  
21.6  电场分布 424 _JC*4  
后记 426 .#y#u={{l  
x& _Y( bHA  
WrP+n  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 xWLZlUHEu  
Pll%O@K  
《Essential Macleod中文手册》
bfeTf66c  
9@1n:X  
目  录 G)0 4'|W  
-3(*4)h7  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 j*>]HNo&  
第1章 介绍 ..........................................................1 g_4%M0&AX  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 K^x{rn.Zf  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 +;+G+Tn  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 &._"rhz  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 /yU#UZ4;  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 9#[,{2pJr  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 5 CnNp?.t^  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 S^R dj ]  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 h]@'M1D%  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Z6B$\Q5Od  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 e&ti(Q=  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 sssw(F  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 XK~HfA?  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 rFcz 0  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 (tO4UI5!  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 G{?`4=K  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 3]S_w[Q4  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 [Zdrm:=]L  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 @oY+b!L  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 86LE )z  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ="G2I\  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 -[!t=qi  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 $,Q] GIC  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 jNbVp{%/S}  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ^vm6JWwN0B  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 S9DXd]6q_  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 b1^wK"#  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 .{eMN[ n@  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1