线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1025
时间地点 )CXJRo`j0  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 wEzLfZ Oz/  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 +|( eP_  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 oChcEx%  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 hlkf|H  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
it>FG9hVo  
特邀专家介绍 G*wn[o(^j  
sOLo[5y'  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 n2Ycq&O  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ]b<k%  
课程概要 -F|(Y1OE  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 v=SC*  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 I%*o7"  
课程大纲 lcIX l&  
1. Essential Macleod软件介绍 Fz)z&WT  
1.1 介绍软件 4U>  
1.2 创建一个简单的设计 D@d/O  
1.3 绘图和制表来表示性能 a50{gb#  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 bEy j8=P;  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) |$9k z31  
1.6 特定设计的公式技术 XF{}St~(  
1.7 交互式绘图 |'=R`@w~0  
2. 光学薄膜理论基础 kfA%%A  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 6]Ppa ~Xwq  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 vD}y%}  
3. 材料管理 5oWR}qqFK  
3.1 材料模型  nKkI  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 <tgJ-rnL  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 P7"g/j""  
3.4 基板光学常数的提取 > -Jd@7-  
4. 光学薄膜设计优化方法 yHk/8  
4.1 参考波长与g pt|u?T_+  
4.2 四分之一规则 c<-_Vh.:5  
4.3 导纳与导纳图 OYNs1yB  
4.4 斜入射光学导纳 UG48g}  
4.5 光学薄膜设计的进展 A'6>"=ziP  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ^^)D!I"cA,  
4.6.1 优化目标设置 }r*t V)  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) `2d,=.X  
4.6.3 膜层锁定和链接 0 Co_,"  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ~n|*-rca  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 eA#J7=eC  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 d^WVWk K  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 qeSxE`E"  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 m/%sBw\rx  
5.5 如何在Function中编写脚本 O^4:4tRpt  
6. 光学薄膜系统案例 f(7 /  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 )iluu1,o  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 p?=rQte([  
6.3 Stack应用范例说明 _~=X/I R  
7. 薄膜性能分析 S#_i<u$$  
7.1 电场分布 !2tZ@ p|  
7.2 公差与灵敏度分析 &D>e>]E|P  
7.3 反演工程 |AuN5|obI  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 E,u@,= j  
8. 真空技术 avykg(  
8.1 常用真空泵介绍  ]6W#P7  
8.2 真空密封和检漏 yo") G!BN  
9. 薄膜制备技术 QpAK]  
9.1 常见薄膜制备技术 4U~[ 8U}g  
10. 薄膜制备工艺 mn?< Zz  
10.1 薄膜制备工艺因素 J/M1#sE  
10.2 薄膜均匀性修正技术 a@lvn/b2  
10.3 光学薄膜监控技术 S;a{wYF6v  
11. 激光薄膜 9eH(FB  
11.1 薄膜的损伤问题 $^y6>@~  
11.2 激光薄膜的制备流程 e ,k,L  
11.3 激光薄膜的制备技术 ,57g_z]V  
12. 光学薄膜特性测量 QOcB ]G  
12.1 薄膜光谱测量 y 7|x<Z  
12.2 薄膜光学常数测量 ?o"wyF A*  
12.3 薄膜应力测量 ~z^VMr  
12.4 薄膜损伤测量 /H^=`[Mr  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 wz$1^ml  
%=S~[&8C  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 |k{?\(h;  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 8AOJ'~$  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 S`5^H~  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 $A9!} `V  
12~zS  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
T8JM4F  
目录 KFkKr>S :  
Preface 1 5<<e_n.2q  
内容简介 2 ~*ZB2  
目录 i KtA0 8?B  
1  引言 1 ]tanvJG}'  
2  光学薄膜基础 2 s{2BG9s  
2.1  一般规则 2 5tX|@Z: z  
2.2  正交入射规则 3 /RT3 r  
2.3  斜入射规则 6 6I.N:)=  
2.4  精确计算 7 KxqT5`P&  
2.5  相干性 8 $C##S@  
2.6 参考文献 10 /iQ}DbtRb  
3  Essential Macleod的快速预览 10 xiX~*Zs  
4  Essential Macleod的特点 32 tV9BVsN  
4.1  容量和局限性 33 t^)q[g  
4.2  程序在哪里? 33 xV:.)Dq9  
4.3  数据文件 35 9qc1^Fs~  
4.4  设计规则 35 .[? E1we  
4.5  材料数据库和资料库 37 o) `zb?  
4.5.1材料损失 38 WOZf4X`[  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 cYF R.~p  
4.5.2 材料库 41 l[.*X  
4.5.3导出材料数据 43 ;<1O86!  
4.6  常用单位 43 >r2m1}6g"  
4.7  插值和外推法 46 36s[hg  
4.8  材料数据的平滑 50 .taJCE  
4.9 更多光学常数模型 54 ?g&6l0 n`  
4.10  文档的一般编辑规则 55 z1aApS  
4.11 撤销和重做 56 zU:zzT}|TZ  
4.12  设计文档 57 3Wrl_V  
4.10.1  公式 58 HWxk>F0  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 "Q`{+|'=E  
4.10.3  沉积密度 59 iNZ'qMH22  
4.10.4 平行和楔形介质 60 @#c(4}^ <w  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ,--/oP  
4.10.4  性能 61 UR ck#5  
4.10.5  保存设计和性能 64 g2l|NI#c^  
4.10.6  默认设计 64 E j@M\  
4.11  图表 64 w6y?D<  
4.11.1  合并曲线图 67 `<zaxO  
4.11.2  自适应绘制 68 #m1e_[   
4.11.3  动态绘图 68 BA' ($D>  
4.11.4  3D绘图 69 b#FN3AsR  
4.12  导入和导出 73 wh l)^D  
4.12.1  剪贴板 73 #\"8sY,j  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 L`cc2.F  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 1b+ B  
4.13  背景 77 x2ln$dSy7  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 +j_Vs+0  
4.15  生成Rugate 84 M. 1R]x( |  
4.16  参考文献 91 KOv ar0  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Zk$AAjC&  
5.1  Jobs 92 XA5gosq  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 e<dFvMO  
5.3  输入材料 94 }r3, fH  
5.4  设计数据文件夹 95 O?p.kf{b  
5.5  默认设计 95 Ne,7[k  
6  细化和合成 97 l]Jk  }.  
6.1  优化介绍 97 2f]:n  
6.2  细化 (Refinement) 98 N6=cqUM wt  
6.3  合成 (Synthesis) 100 %}j.6'`{  
6.4  目标和评价函数 101 5F+5J)h  
6.4.1  目标输入 102 r.** z j  
6.4.2  目标 103 BoG/Hd.S  
6.4.3  特殊的评价函数 104 + 1\1Z@\M  
6.5  层锁定和连接 104 n=MdbY/k(  
6.6  细化技术 104 /xJ,nwp7  
6.6.1  单纯形 105 1eZ">,F6<  
6.6.1.1 单纯形参数 106 k{Vc5F  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 z11;r]VI  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Kg=TPNf"$  
6.6.3  模拟退火算法 109 hi"[R@UG  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 m=Y9sB  
6.6.4  共轭梯度 111 Q4{%)}2$  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 St-:+=V_  
6.6.5  拟牛顿法 112 E)3B)(@&P  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 p%+ 0^]v1  
6.6.6  针合成 113 .21%~"dxJ  
6.6.6.1 针合成参数 114 ag]b]K  
6.6.7 差分进化 114 "B*a| 'n!  
6.6.8非局部细化 115 kV!0cLH!hH  
6.6.8.1非局部细化参数 115 F\Q)l+c  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 xcnHj1r-o'  
6.7.1  细化 116 !I-+wc{ss  
6.7.2  合成 117 f)H6 n l7r  
6.8  参考文献 117 w5gN8ZF3  
7  导纳图及其他工具 118 gZuk(  
7.1  简介 118 &eQzfx=|km  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 x9xb4ZW  
7.2.1  四分之一波长规则 119 bI TOA  
7.2.2  导纳图 120 {/uBZ(   
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 n{d}]V@  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 d#Sc4xuf  
7.5  斜入射导纳图 141 q@F"fjWBr  
7.6  对称周期 141 [6K2V:6:  
7.7  参考文献 142 |Yh-`~~A"  
8  典型的镀膜实例 143 hhlQ!WV2  
8.1  单层抗反射薄膜 145 q -M&f@Il  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 OOQf a#~k  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 {S%)GvrT  
8.4  W-膜层 148 0&=2+=[c  
8.5  V-膜层 149 \=Af AO@  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Dx$74~2e  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 wYSvI  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 EJjTf:  
8.9  四层抗反射薄膜 153 hE\,4c1  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 TP{lt6wws(  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 OMd{rH  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 N[^%|  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 I{<6GIU+  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 /O|!Sg{  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 9-o{[  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 p|,K2^?Y  
8.17  1/4波长堆栈 162 *h1Zqb  
8.18  陷波滤波器 163 Ictc '#y  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 $Rv}L'L  
8.20  褶皱 165 WLiY:X(+|  
8.21  消偏振分光器1 169 8R`@edj>  
8.22  消偏振分光器2 171 Z{+h~?63  
8.23  消偏振立体分光器 172 t!c8 c^HR  
8.24  消偏振截止滤光片 173 JmrQDO_(  
8.25  立体偏振分束器1 174 8xj4N%PA  
8.26  立方偏振分束器2 177 }U7>_b2  
8.27  相位延迟器 178 S+ymdZ)xZ`  
8.28  红外截止器 179 -))>7skc  
8.29  21层长波带通滤波器 180 IE$x2==)  
8.30  49层长波带通滤波器 181 EAF<PMb  
8.31  55层短波带通滤波器 182 TSdjX]Kf  
8.32  47 红外截止器 183 BS;rit:  
8.33  宽带通滤波器 184 ~53E)ilB  
8.34  诱导透射滤波器 186 WEqHL,Uh]  
8.35  诱导透射滤波器2 188 #I%< 1c%XA  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 l"}W $3]u$  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 b;]'Bo0K  
8.35  增益平坦滤波器 193 CWE jX-  
8.38  啁啾反射镜 1 196 yZHQql%J O  
8.39  啁啾反射镜2 198 H|0B*i@81  
8.40  啁啾反射镜3 199 *D~@xypy  
8.41  带保护层的铝膜层 200 /AJ ^wY  
8.42  增加铝反射率膜 201 t"2WJ-1k}  
8.43  参考文献 202 @_Aqk{3  
9  多层膜 204 ^%M!!wlUH  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 h?.6e9Y4  
9.2  内部透过率 204 Z{chAg\  
9.3 内部透射率数据 205 00U8<~u  
9.4  实例 206 qz E/n   
9.5  实例2 210 `>?\MWyu  
9.6  圆锥和带宽计算 212 J4j?rLR3p  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 p!' "hx  
10  光学薄膜的颜色 216 WaWT 5|A  
10.1  导言 216 ]WN{8   
10.2  色彩 216 u):z1b3*?  
10.3  主波长和纯度 220  1k2Ck  
10.4  色相和纯度 221 j!mI9*hP  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 20^F -,z  
10.6 色差 226 BRQ9kK20  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 aC]~   
10.8  颜色渲染指数 234 IL3,dad'^  
10.9  色差计算 235 >gFF>L>  
10.10  参考文献 236 &BG^:4b  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 :J(a;/~ip  
11.1  短脉冲 238 (oq(-Wv  
11.2  群速度 239 Xe=@I*  
11.3  群速度色散 241 m%ET!+  
11.4  啁啾(chirped) 245 >+u5%5-wr  
11.5  光学薄膜—相变 245 Bf1GHn Xv  
11.6  群延迟和延迟色散 246 v6s8 p  
11.7  色度色散 246 ?j8CkqX!  
11.8  色散补偿 249 Se"\PxBR  
11.9  空间光线偏移 256 /nb(F h|{T  
11.10  参考文献 258 .Yha(5(  
12  公差与误差 260 |YZ`CN<  
12.1  蒙特卡罗模型 260 x18ei@c  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 T]Tz<w W(  
12.2.1  误差工具 267 :U ?P~HI  
12.2.2  灵敏度工具 271 wH|\;M{0V1  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 "^_p>C)T  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 K W04  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 xd(AUl4qY  
12.3  参考文献 276 v bb mmv  
13  Runsheet 与Simulator 277 !!2~lG<]  
13.1  原理介绍 277 bn<&Xe  
13.2  截止滤光片设计 277 CFul_qZ/e  
14  光学常数提取 289 (d#?\  
14.1  介绍 289 `E!t,*(*E  
14.2  电介质薄膜 289 )/ s 9ty  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Vy}:Q[  
14.4  基底的参数提取 302 g'pE z  
14.5  金属的参数提取 306  `Yoafa  
14.6  不正确的模型 306 ,e.y4 vnU  
14.7  参考文献 311 Oq+C<}eg  
15  反演工程 313 |8+<qgQ  
15.1  随机性和系统性 313 'QCvN b6  
15.2  常见的系统性问题 314 yc%AkhX*  
15.3  单层膜 314 Kwh3SU=L}  
15.4  多层膜 314 /DbwqBx  
15.5  含义 319 >kC@7h5)  
15.6  反演工程实例 319 -.^Mt.)  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 R#1m_6I  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 .WyI.Y1  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 t$\]6RU  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ]~ec] Y  
16.2  应力工具 335 z W+wtYV4  
16.3  均匀性误差 339 Cc!n`%qc  
16.3.1  圆锥工具 339 vf5[x!4  
16.3.2  波前问题 341 NKGo E/  
16.4  参考文献 343 &]#D`u  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 mT!~;] RrF  
17.1  引言 345 _;'}P2&Q  
17.2  操作数 345 1ed#nB %  
18  如何在Function中编写脚本 351 _9L2JN$R6  
18.1  简介 351 vja^ O  
18.2  什么是脚本? 351 x!I7vs~~zW  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 rycscE4,  
18.4  基础 352 .Z/"L@  
18.4.1  Classes(类别) 352 dr9I+c7u  
18.4.2  对象 352 UKX'A)$  
18.4.3  信息(Messages) 352 Gc@ENE f  
18.4.4  属性 352 Bljh'Qp>C  
18.4.5  方法 353 vKaX,)P;?  
18.4.6  变量声明 353 "}PmAr e  
18.5  创建对象 354 z#,?*v  
18.5.1  创建对象函数 355 o &Nr5S  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 jRgv 8n  
18.5.3 丢弃对象 356 1 #EmZ{*  
18.5.4  总结 356 , / 4}CM  
18.6  脚本中的表格 357 'BUdySng  
18.6.1  方法1 357 -Ep-v4}  
18.6.2  方法2 357 -O(.J'=8  
18.7 2D Plots in Scripts 358 !3HMGzt  
18.8 3D Plots in Scripts 359 (5Cm+Sy  
18.9  注释 360 Yt|{l  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 j4G,Z4  
18.11  一个更高级的脚本 362 >aa-ix &  
18.12  <esc>键 364 Q^mJ_~  
18.13 包含文件 365 [0J0<JnK  
18.14  脚本被优化调用 366 E"u>&uPH  
18.15  脚本中的对话框 368 F~* 5`o  
18.15.1  介绍 368 [=LQ,e$r7  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 A1YIPrav(  
18.15.3  输入框函数 370 Dj<Vn%d*  
18.15.4  自定义对话框 371 t3bN P K^  
18.15.5  对话框编辑器 371 )ZiJl5l@  
18.15.6  控制对话框 377  p&ZD1qa  
18.15.7  更高级的对话框 380 6J&L5E  
18.16 Types语句 384 a nIdCOh  
18.17 打开文件 385 C:P,q6  
18.18 Bags 387 1lMU('r%  
18.13  进一步研究 388 4; &(  
19  vStack 389 bNc=}^  
19.1  vStack基本原理 389 vk[Km[(U'  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 F'`L~!F  
19.3  五棱镜 393 ZEApE+m  
19.4 光束距离 396 s6KZV@1  
19.5 误差 399 N %0F[sY6  
19.6  二向分色棱镜 399 E@[`y:P  
19.7  偏振泄漏 404 x:?1fvVR  
19.8  波前误差—相位 405 ,T1 t`  
19.9  其它计算参数 405 O<o_MZN  
20  报表生成器 406 wcV~z:&^5  
20.1  入门 406 1[B?nk  
20.2  指令(Instructions) 406 *K0CUir|  
20.3  页面布局指令 406 WH'[~O  
20.4  常见的参数图和三维图 407 fv`%w  
20.5  表格中的常见参数 408 c()F%e:n  
20.6  迭代指令 408 8|i&Gbw+  
20.7  报表模版 408 =\_MJ?A$  
20.8  开始设计一个报表模版 409 TQnMPELh"  
21  一个新的project 413 "CLd_H*)c  
21.1  创建一个新Job 414 +gT?{;3[i  
21.2  默认设计 415 9Y-s],2V  
21.3  薄膜设计 416 5GpR N  
21.4  误差的灵敏度计算 420 (^057  
21.5  显色指数计算 422 b]*9![_  
21.6  电场分布 424 T_I"Tsv  
后记 426 _>&zhw2  
2&5"m;<  
K4l,YR;r  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 :Fm+X[n  
Q=w\)qJ  
《Essential Macleod中文手册》
KZ<zsHX8H  
J6::(0HM  
目  录 wRUpQ~=B2  
M[Ls:\1a  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 9Y*6AaKE6  
第1章 介绍 ..........................................................1 tQUp1i{j\  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 w{Dk,9>w)  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Z mYp!B_~  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 [l'~>  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 cV)C:!W2  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 VN;Sz,1Z  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 .cle^P  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 #9p{Y}2#  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 xB 4A"|  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 HiVF<tN  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 n_?<q{GW  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 %'t~+_  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 b ~v  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 875V{fvPBU  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 3Jk;+<  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 _X;5ORH"  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 GD.mB[f*  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 DhkzVp_  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 tQ] R@i  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 ~vaV=})  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 \+S~N:@><k  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 k,b(MAiQ0  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 m.S@ e8kS  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 B||^ sRMX  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 (q3(bH~T)  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 j'CRm5O  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 4$ejJaE  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 m5f/vb4l  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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