线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:596
时间地点 q{9 \hEeb  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 :5&D 6  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 J/e]  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 hH5~T5?\  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 o+=wQ$"tP  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 q,)V0Ffe[|  
xkRMg2X.>9  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 rz_W]/G-P  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 wX}p6yyN  
课程概要 k^;n$r"i5  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 8Y`g$2SZ^8  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 V:y6NfL7i'  
课程大纲 ow9a^|@a  
1. Essential Macleod软件介绍 G-)e(u   
1.1 介绍软件 _-({MX[3k<  
1.2 创建一个简单的设计 >R]M:Wx  
1.3 绘图和制表来表示性能  cX C[O  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 #fa,}aj  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 7oF3^K'S  
1.6 特定设计的公式技术 7P3pjgh  
1.7 交互式绘图 l,h`YIy  
2. 光学薄膜理论基础 '(B -{}l  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 !gW`xVGv  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 n-8/CBEH(  
3. 材料管理 RD[P|4eY  
3.1 材料模型 RBf#5VjOG!  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 }p6]az3  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Jyg1z,B <  
3.4 基板光学常数的提取 VB*c1i  
4. 光学薄膜设计优化方法 )  M0(vog  
4.1 参考波长与g W;I{4ed6  
4.2 四分之一规则 xP'0a  
4.3 导纳与导纳图 E<+ G5j  
4.4 斜入射光学导纳 8%B_nVc  
4.5 光学薄膜设计的进展 )-!)D  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 d lfjx  
4.6.1 优化目标设置 c6vJ;iz  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 8d5#vm  
4.6.3 膜层锁定和链接 {rMf/RAE  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 zGU MH7 M  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 rd0Fd+t/  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 PI%l  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 kbb!2`F!%  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 *O'|NQhNx>  
5.5 如何在Function中编写脚本 C <:g"F:k  
6. 光学薄膜系统案例 >xo<i8<Miv  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Cydo~/  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ]dGH i \  
6.3 Stack应用范例说明 [?7QmZK  
7. 薄膜性能分析 |MGT8C&^!  
7.1 电场分布 ]2f-oz*hU  
7.2 公差与灵敏度分析 3v_j*wy  
7.3 反演工程 c\o_U9=n  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 (LTu=1  
8. 真空技术 m]U  
8.1 常用真空泵介绍 LAk .f  
8.2 真空密封和检漏 I= :yfW  
9. 薄膜制备技术 XlF,_  
9.1 常见薄膜制备技术 S\N l|U[  
10. 薄膜制备工艺 jGo%Aase  
10.1 薄膜制备工艺因素 xL_QTj  
10.2 薄膜均匀性修正技术 kIS )*_  
10.3 光学薄膜监控技术 iWjNK"W  
11. 激光薄膜 5(CInl  
11.1 薄膜的损伤问题 Ag0w8F  
11.2 激光薄膜的制备流程 #\X)|p2  
11.3 激光薄膜的制备技术 Jm CHwyUK?  
12. 光学薄膜特性测量 i695P}J2  
12.1 薄膜光谱测量 A nl1+  
12.2 薄膜光学常数测量 [/hoNCH!  
12.3 薄膜应力测量 .?NfV%vv  
12.4 薄膜损伤测量 b&`~%f-  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析  )XonFI  
6 DQOar>d  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
4 `l$0m@>  
内容简介 y g(Na  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 g0biw?  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 y]{b4e  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 a7_Q8iMe  
90+Vw`Gz=  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
prS%lg>  
目录 66>X$nx(z  
Preface 1 n5 ~Dxk  
内容简介 2 /xgC`]-  
目录 i t9<BQg  
1  引言 1 $9\8?gS  
2  光学薄膜基础 2 qh>An;:u  
2.1  一般规则 2 5w>TCx  
2.2  正交入射规则 3 oVk!C a  
2.3  斜入射规则 6 lW-G]V  
2.4  精确计算 7 /z^v% l  
2.5  相干性 8 ^[[@P(e>  
2.6 参考文献 10 lv] U)p  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ZJbaioc\  
4  Essential Macleod的特点 32 5D/Td#T04  
4.1  容量和局限性 33 4V[(RXc/  
4.2  程序在哪里? 33 w;$elXP|  
4.3  数据文件 35 g,YF$:e  
4.4  设计规则 35 `Qb!W45  
4.5  材料数据库和资料库 37 vRaxB  
4.5.1材料损失 38 ozS'n]8*  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 FiRe b3zR  
4.5.2 材料库 41 a m5;B`}q  
4.5.3导出材料数据 43 @+~URIG)  
4.6  常用单位 43 H{E(=S  
4.7  插值和外推法 46 ^0_>  
4.8  材料数据的平滑 50 !4^Lv{1QZ  
4.9 更多光学常数模型 54 =1>G * ,  
4.10  文档的一般编辑规则 55 s +S6'g--  
4.11 撤销和重做 56 M3KK^YRN  
4.12  设计文档 57 x^[0UA]S9  
4.10.1  公式 58 zuMz6#aCC8  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 5![ILa_  
4.10.3  沉积密度 59 ]c_lNHssmq  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ec^{ez@`  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 z4J\BB  
4.10.4  性能 61 e 0$m<5  
4.10.5  保存设计和性能 64 =?Co<972Z  
4.10.6  默认设计 64 K ..Pn 17t  
4.11  图表 64 [Ti ' X#  
4.11.1  合并曲线图 67 dXn$XGF%R  
4.11.2  自适应绘制 68 v^/<2/E"?4  
4.11.3  动态绘图 68 K7x;/O  
4.11.4  3D绘图 69 NV{= tAR  
4.12  导入和导出 73 R ^@`]dX$  
4.12.1  剪贴板 73 XH0Vs.w  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 FLsJ<C~/~  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 'YN:cr,V  
4.13  背景 77 KIuj;|!q  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 k<fR)o  
4.15  生成Rugate 84 hms Aim9i  
4.16  参考文献 91 PCDvEbpG  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 !: vQg+S  
5.1  Jobs 92 \l[AD-CZPh  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 g~|x^d^;|  
5.3  输入材料 94 Kzt:rhiB  
5.4  设计数据文件夹 95 @!x7jPr  
5.5  默认设计 95 =RWY0|f  
6  细化和合成 97 e7Gb7c~  
6.1  优化介绍 97 3M^`6W[;  
6.2  细化 (Refinement) 98 RAEN  &M  
6.3  合成 (Synthesis) 100 | Cfo(]>G  
6.4  目标和评价函数 101  ^LSD_R^N  
6.4.1  目标输入 102 \Ff]}4  
6.4.2  目标 103 (Ze\<Y#cv  
6.4.3  特殊的评价函数 104 &8%^o9sH  
6.5  层锁定和连接 104 a(JtGjTf&  
6.6  细化技术 104 ~d3BVKP5  
6.6.1  单纯形 105 2mx }bj8  
6.6.1.1 单纯形参数 106 E/% F0\B  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 )OlYz!#?  
6.6.2.1 Optimac参数 108 YSZ[~?+  
6.6.3  模拟退火算法 109 S]&i<V1qX  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 &$qIJvMiK  
6.6.4  共轭梯度 111 nu|?F\o!  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 _ -ec(w~/  
6.6.5  拟牛顿法 112 gs@^u#O  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 f|!@H><  
6.6.6  针合成 113 Np~qtR  
6.6.6.1 针合成参数 114 FFN.9[Ly  
6.6.7 差分进化 114 l29AC}^  
6.6.8非局部细化 115 4uVyf^f\]f  
6.6.8.1非局部细化参数 115 aO<H!hK  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 t!ZFpMv]n  
6.7.1  细化 116 G0r(xP?  
6.7.2  合成 117 a  ?wg~|g  
6.8  参考文献 117 2NL|_W/  
7  导纳图及其他工具 118 !<-+}X+o8$  
7.1  简介 118 127@ TN"  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 7w0=i Z>K  
7.2.1  四分之一波长规则 119 4 >D5t)254  
7.2.2  导纳图 120 2[Qzx%Vp  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 z8};(I>)  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 38JU-aq  
7.5  斜入射导纳图 141 l4^8$@;s  
7.6  对称周期 141 52 DSKL  
7.7  参考文献 142 8wS9%+  
8  典型的镀膜实例 143 F|WH=s3  
8.1  单层抗反射薄膜 145 :~,akX$  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 61TL]S8  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 y2C/DyuAY|  
8.4  W-膜层 148 RQn3y-N]  
8.5  V-膜层 149 4MgG]  
8.6  V-膜层高折射基底 150 k#@)gL  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151  hP 1;$  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 69C ss'  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Ly/5"&HD  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 +d6Jrd*  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 .aIFm5N3?  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Q[Tbdc%1EG  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 piiO5fK|  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 *\wf(o>Q  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 O{G $]FtF  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 U09@pne8  
8.17  1/4波长堆栈 162 `udZ =S"/L  
8.18  陷波滤波器 163 R2[ }  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 tbi(e49S  
8.20  褶皱 165 'seuO!5  
8.21  消偏振分光器1 169 [WunA,IuR  
8.22  消偏振分光器2 171 6HR*)*>z_  
8.23  消偏振立体分光器 172 TGPHjSZ1  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Hkj| e6  
8.25  立体偏振分束器1 174 :&D$Q 4  
8.26  立方偏振分束器2 177 }pPt- k  
8.27  相位延迟器 178 !]WC~#|{B  
8.28  红外截止器 179 > qIZ  
8.29  21层长波带通滤波器 180 t+SLU6j,  
8.30  49层长波带通滤波器 181 c\eT`.ENk  
8.31  55层短波带通滤波器 182 3_k3U  
8.32  47 红外截止器 183 X<$8'/p r  
8.33  宽带通滤波器 184 ]G2%VKkr  
8.34  诱导透射滤波器 186  PYYO-Twg  
8.35  诱导透射滤波器2 188 I*i$!$Bx2  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 kPZ1OSX  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 WN?meZ/N/  
8.35  增益平坦滤波器 193  SjO Iln  
8.38  啁啾反射镜 1 196 / k8;k56  
8.39  啁啾反射镜2 198 /T2f~1R  
8.40  啁啾反射镜3 199 ( G6N@>V(`  
8.41  带保护层的铝膜层 200 =Hs~fHa)  
8.42  增加铝反射率膜 201 }tZA7),L  
8.43  参考文献 202 oE4hGt5x{  
9  多层膜 204 _A/ ]m4  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ,s1n! @9  
9.2  内部透过率 204 V/-~L]G  
9.3 内部透射率数据 205 zuZlP  
9.4  实例 206 KBFAV&  
9.5  实例2 210 S\UM0G}v  
9.6  圆锥和带宽计算 212 KGX?\#-  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 {n%U2LVL  
10  光学薄膜的颜色 216 9qQFIw~S  
10.1  导言 216 s2ys>2k  
10.2  色彩 216 FR@ dBcJUU  
10.3  主波长和纯度 220 y0' "  
10.4  色相和纯度 221 jQ31u  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Mhw\i&*U  
10.6 色差 226 [}_ar  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 j{'@g[HW  
10.8  颜色渲染指数 234 M O/-?@w  
10.9  色差计算 235 %rRpUrnm  
10.10  参考文献 236 Fk,3th  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ptuW}"F  
11.1  短脉冲 238 @*O(dw  
11.2  群速度 239 %tzz3Y  
11.3  群速度色散 241 c$'UfW  
11.4  啁啾(chirped) 245 yx}Z:t  
11.5  光学薄膜—相变 245 Ic/<jFZXM  
11.6  群延迟和延迟色散 246 6dmTv9e  
11.7  色度色散 246 3^us;aOr  
11.8  色散补偿 249 zj;y`ENj  
11.9  空间光线偏移 256 &[KFCn  
11.10  参考文献 258 Ve8`5  
12  公差与误差 260 i9)y|  
12.1  蒙特卡罗模型 260 6C/D&+4  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 LVLh&9  
12.2.1  误差工具 267 J:mOg95<  
12.2.2  灵敏度工具 271 rd 1&?X  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 tZXtt=M w  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 %3VwCuE  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 u-k?ef  
12.3  参考文献 276 xI~\15PhG  
13  Runsheet 与Simulator 277 }wkBa]  
13.1  原理介绍 277 7F'61}qL  
13.2  截止滤光片设计 277 R/O_*XY  
14  光学常数提取 289 73.o{V  
14.1  介绍 289 r%'2a+}D  
14.2  电介质薄膜 289 Gz@%UIv  
14.3  n 和k 的提取工具 295 nhCB ])u8l  
14.4  基底的参数提取 302 I"JT3[*s  
14.5  金属的参数提取 306 28BiuxVW  
14.6  不正确的模型 306 km<~H w>Z  
14.7  参考文献 311 C.(ZXU7  
15  反演工程 313 9Jk(ID'c  
15.1  随机性和系统性 313 [bT@Y:X@`  
15.2  常见的系统性问题 314 ?I/,r2ODLh  
15.3  单层膜 314 3^su%z_%  
15.4  多层膜 314 6y5arP*6e  
15.5  含义 319 #lLL5ji  
15.6  反演工程实例 319 ,.}PZL  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 IW BVfN->}  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 >LU*F|F]B  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 _Wb-&6{  
16.1  光学性质的热致偏移 329 " ^eq5?L  
16.2  应力工具 335 w6 "LHy[  
16.3  均匀性误差 339 _1R`xbV  
16.3.1  圆锥工具 339 aQ~x$T|  
16.3.2  波前问题 341 b]g.>$[nX  
16.4  参考文献 343 v}Aw!Dv/  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 Zz3#Kt5t3  
17.1  引言 345 t=e0z^2i+  
17.2  操作数 345 dna f>G3  
18  如何在Function中编写脚本 351 7T2W% JT-,  
18.1  简介 351 gCm?nb)  
18.2  什么是脚本? 351  +NXj/  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 y=j[v},4  
18.4  基础 352 9vj:=,TNu  
18.4.1  Classes(类别) 352 *r% mqAx(  
18.4.2  对象 352 _fyw  
18.4.3  信息(Messages) 352 Z?Q2ed*j  
18.4.4  属性 352 u('OHPqq  
18.4.5  方法 353 OVh/t# On  
18.4.6  变量声明 353 B]qh22Yib  
18.5  创建对象 354 7kwG_0QO  
18.5.1  创建对象函数 355 =4%C?(\  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 a "1$z`ln  
18.5.3 丢弃对象 356 oF6MV&q/  
18.5.4  总结 356 V[bc-m  
18.6  脚本中的表格 357 q}1$OsM  
18.6.1  方法1 357 bT*4Qd4W  
18.6.2  方法2 357 x> q3w# B  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Q.] )yqX6  
18.8 3D Plots in Scripts 359 N^ET qg  
18.9  注释 360 }mGD`5[`  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 RtW5U8  
18.11  一个更高级的脚本 362 uE|[7,D7;u  
18.12  <esc>键 364 s+w<!`-  
18.13 包含文件 365 h9-Ky@X`  
18.14  脚本被优化调用 366 G_<[sMC8  
18.15  脚本中的对话框 368 J-f0  
18.15.1  介绍 368 R`?^%1^N  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 1c4%g-]7  
18.15.3  输入框函数 370 j`GbI0,bT  
18.15.4  自定义对话框 371 bYgYP|@  
18.15.5  对话框编辑器 371 ;' W5|.ZN  
18.15.6  控制对话框 377 7fE V/j  
18.15.7  更高级的对话框 380 9]w0zUOL6  
18.16 Types语句 384 E 9:hK  
18.17 打开文件 385 2r0!h98  
18.18 Bags 387 Rp|&1nS  
18.13  进一步研究 388 Zs{R O  
19  vStack 389 yk)j;i4@  
19.1  vStack基本原理 389 B<&_lG0sS  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 >y~_Hh(TSL  
19.3  五棱镜 393 eEh0T %9K  
19.4 光束距离 396 !U!E_D.O  
19.5 误差 399 S3w?Zk3hO  
19.6  二向分色棱镜 399 htRZ}e  
19.7  偏振泄漏 404 KEN-G  
19.8  波前误差—相位 405 @[RY8~  
19.9  其它计算参数 405 'nS3o.}  
20  报表生成器 406 )l}wjKfgO  
20.1  入门 406 .Topg.7W  
20.2  指令(Instructions) 406 ]e`_.>U  
20.3  页面布局指令 406 Rx"Qwi,\U  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ]."c4S_)|  
20.5  表格中的常见参数 408 L _y|l5  
20.6  迭代指令 408 b . j^US^  
20.7  报表模版 408 TjK5UML  
20.8  开始设计一个报表模版 409 SkA'+(  
21  一个新的project 413 $?-o  
21.1  创建一个新Job 414 }_22 wjm~  
21.2  默认设计 415 $:N "*  
21.3  薄膜设计 416 }x1IFTa!  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ]+dl=SmF  
21.5  显色指数计算 422 _q_[<{#  
21.6  电场分布 424 +|<&#b0Xd  
后记 426 F s\P/YX  
P/9J!.Cm  
6<$|;w-OV  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 * SMPHWH[c  
RbM~E~$  
《Essential Macleod中文手册》
jGhg~-m  
f4T0Y["QA  
目  录 WG luY>C;  
hb8XBBKR  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 =hOa 0X=  
第1章 介绍 ..........................................................1 WN/#9]` P  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 \X.=3lc&  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 KAcri<^G  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 E}vO*ZZEw  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 N>Y50  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 %,cFX[D/)  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 Pq>[q?>?  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 +%\j$Pv  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 VFSn!o:C  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 2\\3<  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 >#U <#  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 *b{lL5  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 tB=D&L3  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 mh7sY;SvM  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 W.D3$  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 -b0'Q  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 )$h9Y   
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 arQ %  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 ,1;8DfVZV  
第20章 运行表单 .................................................................... 251  M .`  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 sVdK^|j  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 H!.D2J   
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 A=C3e4.C  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ?b7g9 G4  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 <ii1nz  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 0s9z @>2  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 tm1UH 4  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 5 t`ap  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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