线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1035
时间地点 / }tMb  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 \i}:Vb(^  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 0>aAI3E  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 mv0JD(  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 'u)zQAaw.  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
n}T;q1  
特邀专家介绍 j)vfI>  
SFaG`T=  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 iW\Q>~0#_  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 0IP5 &[-P  
课程概要 dh; L!  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 g6wL\g{29  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 L6jD4ec8  
课程大纲 I8%2tLVY  
1. Essential Macleod软件介绍 fz hCV  
1.1 介绍软件 ]a ,H!0i  
1.2 创建一个简单的设计 "j<l=l!  
1.3 绘图和制表来表示性能 $v#\bqY  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ": G\  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) )j^~=Sio.  
1.6 特定设计的公式技术 ar#Xe;T!  
1.7 交互式绘图 SD=kpf;  
2. 光学薄膜理论基础 ! ,*4d $  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 F79!B  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 i!U,qV1  
3. 材料管理 #*"5F*  
3.1 材料模型 lls-Nir%  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ;hcOD4or  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 : K#z~#n  
3.4 基板光学常数的提取 @ 7WWoy  
4. 光学薄膜设计优化方法 UmC_C[/n?  
4.1 参考波长与g 6y4&nTq[  
4.2 四分之一规则 L+rMBa  
4.3 导纳与导纳图 ~Ip-@c}'j  
4.4 斜入射光学导纳 7[)IP:I>  
4.5 光学薄膜设计的进展 Oapv`Z\i~  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 nJ]oApb/-  
4.6.1 优化目标设置 /%P|<[< [  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) {imz1g;  
4.6.3 膜层锁定和链接 aSy^( WN8  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 qVpV ZH!  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 UUuB Rtau  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 |v[0(  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 2y t)"DnFk  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 :|P[u+v  
5.5 如何在Function中编写脚本 .>.B  
6. 光学薄膜系统案例 *nj={Ss&  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 >&mNC \PA  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Y<"BhE  
6.3 Stack应用范例说明 RF,[1O-\O  
7. 薄膜性能分析 e{*-_j "I  
7.1 电场分布 AxbQN.E  
7.2 公差与灵敏度分析 E5H0Yo.Wi  
7.3 反演工程 n&4 4Acs[  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ^V1iOf:  
8. 真空技术 i 1{Lx)  
8.1 常用真空泵介绍 &:3uK`  
8.2 真空密封和检漏 )e1&[0  
9. 薄膜制备技术 ]V 4Fm{]  
9.1 常见薄膜制备技术 XlPi)3m4/S  
10. 薄膜制备工艺 >3v j<v}m  
10.1 薄膜制备工艺因素 iFypKpHg~  
10.2 薄膜均匀性修正技术 3kc.U  
10.3 光学薄膜监控技术 d5hYOhO[  
11. 激光薄膜 \m\E*c ):  
11.1 薄膜的损伤问题 m7|}PH" 7  
11.2 激光薄膜的制备流程 N3Yf3rK  
11.3 激光薄膜的制备技术 g$(<wWsU  
12. 光学薄膜特性测量 *j9hjq0j  
12.1 薄膜光谱测量 )C@O7m*.4  
12.2 薄膜光学常数测量 \9Z1'W  
12.3 薄膜应力测量 V5ySOgzw,  
12.4 薄膜损伤测量 19r4J(pV  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 5\?\ |*WT  
u@"nVHgMJ  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
;g:!WXd  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
^~iFG+g5  
内容简介 X*Qtbm,  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 0pC}+ +  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 4IT`8n~  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 i xf~3Y8  
_~{Nco7T  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
%YH+=b:uW  
目录 MPtn$@  
Preface 1 ['*{f(AI  
内容简介 2 vjzpU(Sq#  
目录 i G~ldU: ?  
1  引言 1 0# )I :5  
2  光学薄膜基础 2 S~ff<A>f  
2.1  一般规则 2 +i@r-OL   
2.2  正交入射规则 3 ? bq S{KF  
2.3  斜入射规则 6 &{x%"Aq/  
2.4  精确计算 7 m,u5S=3A{!  
2.5  相干性 8 5Dhpcgq<<  
2.6 参考文献 10 /F(wb_!  
3  Essential Macleod的快速预览 10 #TXN\YNP  
4  Essential Macleod的特点 32 "RkbT O  
4.1  容量和局限性 33 <#[_S$54  
4.2  程序在哪里? 33 n0nvp@?7bJ  
4.3  数据文件 35 C0eqC u)Q  
4.4  设计规则 35 FLqF!N\G  
4.5  材料数据库和资料库 37 |9 Gng`)  
4.5.1材料损失 38 ^"U-\cx  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Ny\c>$z  
4.5.2 材料库 41 7eM:YqT/#  
4.5.3导出材料数据 43 lJ'. 1Z&  
4.6  常用单位 43 (Ov{gj^  
4.7  插值和外推法 46 L,m'/}$  
4.8  材料数据的平滑 50 +5zLQ>]z  
4.9 更多光学常数模型 54 ;x|E}XD  
4.10  文档的一般编辑规则 55 RW?F{Jy{  
4.11 撤销和重做 56 WeqE 9@V  
4.12  设计文档 57 |qn`z-  
4.10.1  公式 58 3k#?E]'  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 *tWZ.I<<  
4.10.3  沉积密度 59 ^tw\F7  
4.10.4 平行和楔形介质 60 udEJo~u  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 /uh?F  
4.10.4  性能 61 L7gZ4Hu=`  
4.10.5  保存设计和性能 64 !zu YO3:  
4.10.6  默认设计 64 015 ;'V#we  
4.11  图表 64 gJ; *?Uq(  
4.11.1  合并曲线图 67 {pV\]E\]  
4.11.2  自适应绘制 68 e(5 :XHe  
4.11.3  动态绘图 68 ?)Psf/  
4.11.4  3D绘图 69 3 N5un`K7  
4.12  导入和导出 73 c]eDTbXd  
4.12.1  剪贴板 73 >nqDUGnEo>  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 8|Q=9mmWOh  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 n!Ic.T3PA  
4.13  背景 77 yFD3:;}  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 B8f BX!u/  
4.15  生成Rugate 84 d(=*@epjR  
4.16  参考文献 91 s>RtCw3,  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ],?rFK{O  
5.1  Jobs 92 3@t&5UjwQ  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ?4[IIX-  
5.3  输入材料 94 b3h3$kIYN  
5.4  设计数据文件夹 95 $$,/F  
5.5  默认设计 95 v$P<:M M  
6  细化和合成 97 hS( )OY  
6.1  优化介绍 97 E1=WH-iA0  
6.2  细化 (Refinement) 98 kF1Tg KSd  
6.3  合成 (Synthesis) 100 }o'WR'LX  
6.4  目标和评价函数 101 o'Uaz*-po  
6.4.1  目标输入 102 >Q`\|m}x)Q  
6.4.2  目标 103 dN8@ 0AMSf  
6.4.3  特殊的评价函数 104 aX)k (*|  
6.5  层锁定和连接 104 $ykujyngS4  
6.6  细化技术 104 V5.=08L  
6.6.1  单纯形 105 R#n!1~ (  
6.6.1.1 单纯形参数 106 r?:zKj8/u  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 (=T%eJ61  
6.6.2.1 Optimac参数 108 =SY`Xkj[  
6.6.3  模拟退火算法 109 Wubvvm8U  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 }.L\O]~{  
6.6.4  共轭梯度 111 "%mu~&Ga  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 }#b[@3/T  
6.6.5  拟牛顿法 112 gsSUmf1  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 aw3 oG?3I  
6.6.6  针合成 113 =vpXYj  
6.6.6.1 针合成参数 114 N084k}io  
6.6.7 差分进化 114 daX$=n  
6.6.8非局部细化 115 (]Pr[xB  
6.6.8.1非局部细化参数 115 t&oNC6  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 Z{MR#.I  
6.7.1  细化 116 Z [aKic  
6.7.2  合成 117 IwTAM9n  
6.8  参考文献 117 w[/_o,R  
7  导纳图及其他工具 118 \qo}}I>e  
7.1  简介 118 kT=KxS{  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 #77p>zhY  
7.2.1  四分之一波长规则 119 :/.SrkN(A7  
7.2.2  导纳图 120 qgk-[zW#  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 k;fy8  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 )R- e^Cb  
7.5  斜入射导纳图 141 {SQ#n@Q&$  
7.6  对称周期 141 Yp;6.\Z8[  
7.7  参考文献 142 S, *  
8  典型的镀膜实例 143 H2cY},  
8.1  单层抗反射薄膜 145 2qN|<S&  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 o)M=; !  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 3jJd)C R  
8.4  W-膜层 148 KkCA*GS  
8.5  V-膜层 149 FUD M]:XQ  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ,WA[HwY-  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 4)DI0b"  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 v5/2-<6x  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Cb1fTl%  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ]E:P-xTwaI  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 9iwSE(},  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 1B5 ]1&M  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 HTa]T'  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 hb,G'IU  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 e*Y>+*2y  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 G|LJOq7QB  
8.17  1/4波长堆栈 162 T+q3]&  
8.18  陷波滤波器 163 (c'kZ9&  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 j@98UZ{g\  
8.20  褶皱 165 oA;> z  
8.21  消偏振分光器1 169 aOOkC&%  
8.22  消偏振分光器2 171 m0 a<~  
8.23  消偏振立体分光器 172 b14WIgjsl  
8.24  消偏振截止滤光片 173 >}p'E9J?r  
8.25  立体偏振分束器1 174 k/`WfSM\.  
8.26  立方偏振分束器2 177 +YNN$i  
8.27  相位延迟器 178 (v2.8zrJ  
8.28  红外截止器 179 pAY[XN  
8.29  21层长波带通滤波器 180 UD+r{s/%  
8.30  49层长波带通滤波器 181 $.g)%#h:  
8.31  55层短波带通滤波器 182 M#5*gWfq9  
8.32  47 红外截止器 183 SBbPO5^](  
8.33  宽带通滤波器 184 =a]B#uUn  
8.34  诱导透射滤波器 186 Cbq|<p# #o  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ;Q}pmBkqB  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 KsG>,# Q  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 E979qKl  
8.35  增益平坦滤波器 193 8YLS/dN0 w  
8.38  啁啾反射镜 1 196 8K;wX%_,  
8.39  啁啾反射镜2 198 &UV=<Az {  
8.40  啁啾反射镜3 199 Nm;V9*5  
8.41  带保护层的铝膜层 200 l(fStpP  
8.42  增加铝反射率膜 201 Qt VZ)777  
8.43  参考文献 202 W4ygJL7 6  
9  多层膜 204 ;'fn{j6C  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 % njcWVP;  
9.2  内部透过率 204 F VVpyB|  
9.3 内部透射率数据 205 '-?t^@  
9.4  实例 206 ]ICBNJ  
9.5  实例2 210 Kd%>:E*  
9.6  圆锥和带宽计算 212 &58TX[#  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 giNyD4uO  
10  光学薄膜的颜色 216 &l| :1  
10.1  导言 216 !J%m7 A  
10.2  色彩 216 bpv?$j-j  
10.3  主波长和纯度 220 z!0 }Kj  
10.4  色相和纯度 221 sO;]l"{<  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 \.AI;^)X@]  
10.6 色差 226 V!3.MQM  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 RO9oO7S  
10.8  颜色渲染指数 234 MV,;l94?%=  
10.9  色差计算 235 eCI0o5U  
10.10  参考文献 236 (d@ =   
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 KJ]ejb$  
11.1  短脉冲 238 45DR%cz  
11.2  群速度 239 UZ qQ|3  
11.3  群速度色散 241 l*0`{R  
11.4  啁啾(chirped) 245 J@4,@+X  
11.5  光学薄膜—相变 245 HXg4 T  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ,VTX7vaH  
11.7  色度色散 246 ROfr  
11.8  色散补偿 249 #]_S)_Z-  
11.9  空间光线偏移 256 aDreN*n  
11.10  参考文献 258 pSml+A:  
12  公差与误差 260 Ac@ zTK6>  
12.1  蒙特卡罗模型 260 |vLlEN/S  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 `;OEdeAM  
12.2.1  误差工具 267 RE?j)$y?`  
12.2.2  灵敏度工具 271 i)[8dv  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 -1P*4H2a  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 5uJ{#Zd  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 q&y9(ZvI  
12.3  参考文献 276 *wY { ~zh  
13  Runsheet 与Simulator 277 g12mSbf=9  
13.1  原理介绍 277 *?Pbk+}%  
13.2  截止滤光片设计 277 |n_es)A  
14  光学常数提取 289 "VfV;)]|w  
14.1  介绍 289 J91O$szA  
14.2  电介质薄膜 289 /j`v N  
14.3  n 和k 的提取工具 295 }s7ibm'  
14.4  基底的参数提取 302 zs_^m1t1s  
14.5  金属的参数提取 306 ~LKX2Q:S  
14.6  不正确的模型 306 CaV>\E)  
14.7  参考文献 311 w&E*{{otJ  
15  反演工程 313 s,2gd'  
15.1  随机性和系统性 313 B,]:<1l~  
15.2  常见的系统性问题 314 lW8!_h"G`n  
15.3  单层膜 314 e[ 8AdE  
15.4  多层膜 314 #P''+$5,  
15.5  含义 319 \XUG-\$p  
15.6  反演工程实例 319 (fYrb# ]!y  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Q:+cLl&;hB  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 IRxFcLk  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 M\f1]L|8d  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ?[ts<Ltp  
16.2  应力工具 335 s7~[7  
16.3  均匀性误差 339 Q5N;MpJ-  
16.3.1  圆锥工具 339 f/VrenZ_  
16.3.2  波前问题 341 5 1\N+  
16.4  参考文献 343 npW1Z3n  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 BW61WH?  
17.1  引言 345 3?"JFfYU,'  
17.2  操作数 345 )^ky @V  
18  如何在Function中编写脚本 351 mu!hD^fw  
18.1  简介 351 [9O,C-Mk  
18.2  什么是脚本? 351 I9 R\)3"  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 p^s k?E  
18.4  基础 352 rLfhm Ds%u  
18.4.1  Classes(类别) 352 Yom,{;Bv  
18.4.2  对象 352 Fk 5;  
18.4.3  信息(Messages) 352 DsY$  
18.4.4  属性 352 %ys-y?r  
18.4.5  方法 353 #{t?[JUn  
18.4.6  变量声明 353 7JedS  
18.5  创建对象 354 G}lP'9/  
18.5.1  创建对象函数 355 8w[nY.#T  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355  VS:UVe  
18.5.3 丢弃对象 356 \*_@`1m  
18.5.4  总结 356 #0+`dI_5/  
18.6  脚本中的表格 357 l/JE}Eg(  
18.6.1  方法1 357 fnUR]5\tc  
18.6.2  方法2 357 rX*ATN  
18.7 2D Plots in Scripts 358 J01Y%W  
18.8 3D Plots in Scripts 359 G|p3NhLgO=  
18.9  注释 360 3gn) q>Xj$  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 y,*>+xk,  
18.11  一个更高级的脚本 362 Eoj 2l&\  
18.12  <esc>键 364 L-LN+6r (#  
18.13 包含文件 365 B~0L'8WzW  
18.14  脚本被优化调用 366 iE|qU_2Y  
18.15  脚本中的对话框 368 v%e-vl  
18.15.1  介绍 368 kJJUu  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 tkG0xRH  
18.15.3  输入框函数 370 B~_='0Gm[  
18.15.4  自定义对话框 371 ::xH C4tw  
18.15.5  对话框编辑器 371 2ja@NT  
18.15.6  控制对话框 377 $hkMJ),T~  
18.15.7  更高级的对话框 380 .3B3Z&vr  
18.16 Types语句 384 ^Fl6-|^~  
18.17 打开文件 385 myVV5#{  
18.18 Bags 387 9\/T #EP  
18.13  进一步研究 388 WJ{hta  
19  vStack 389 l @hXQ/  
19.1  vStack基本原理 389 s{-`y`JP  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 l#FW#`f  
19.3  五棱镜 393 7I6bZ;}d  
19.4 光束距离 396 [Z5Lgg&  
19.5 误差 399 +G!N@O  
19.6  二向分色棱镜 399 GnE%C2L -  
19.7  偏振泄漏 404 ERW>G {+  
19.8  波前误差—相位 405 z|Hc=AU8y  
19.9  其它计算参数 405 0`KB|=>  
20  报表生成器 406 cm8-L[>E  
20.1  入门 406 &AMW?vO  
20.2  指令(Instructions) 406 5dV Sir  
20.3  页面布局指令 406 <bwsK,C  
20.4  常见的参数图和三维图 407 8QeM6;^/5  
20.5  表格中的常见参数 408 D<rO:Er?*a  
20.6  迭代指令 408 >b |TaQ  
20.7  报表模版 408 Fr}e-a  
20.8  开始设计一个报表模版 409 XIu3n9g^#  
21  一个新的project 413  '8NKrI  
21.1  创建一个新Job 414 mGjxc}  
21.2  默认设计 415 qzVmsxBNP  
21.3  薄膜设计 416 CjzfU*G  
21.4  误差的灵敏度计算 420 oh '\,zpL  
21.5  显色指数计算 422 \(a9rZ9  
21.6  电场分布 424 web =AQ5I4  
后记 426 M-!eL<  
];waK 2'2  
JM#jg-z,~  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 `  L(AvSR  
! af35WF  
《Essential Macleod中文手册》
f:k3j}&  
7@MGs2  
目  录 <qzHMy Ai  
!8"516!d|p  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 s D] W/  
第1章 介绍 ..........................................................1 *f~X wy"  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 H!Y`?Rc  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 rO% |PRP  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 rl^_RI  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ?-,v0#  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 P-L<D!25  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 bA-=au?o5  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 b;&J2:`  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 =:U63  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 h:[PO6GdX  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 D-.XSIEMu  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 b|T}mn  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 A6'G%of  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ?op6_a-wm  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 G3P3  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ZpPm>|w  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 Sd.i1w &  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 m :ROq  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 M:W9h+z  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 tvptaw A.  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 o<e AZ  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 vN%zk(?T  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 vJ$#m_aa  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 [3s,U4a  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 1Y410-.3w{  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 YJ]]6 K+  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 @b2{'#9]}  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 8#S|j BV  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1