线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:896
时间地点 3/A[LL|  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 V'HlAQr  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 >,] eL  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 yZj}EBa  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 4y]:Gq z~  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
g|GvJ)VX  
特邀专家介绍 w]o:c(x@  
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易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 J^s<x#C  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 6KIjq[T^  
课程概要 U&Sbm~Qi  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 gJcXdv=]2  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 V<~_OF  
课程大纲 \V"P maP\  
1. Essential Macleod软件介绍 yVmtsQ-}a  
1.1 介绍软件 Mu_mm/U_  
1.2 创建一个简单的设计 V:0uy>  
1.3 绘图和制表来表示性能 H/^TXqQ8  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 rr07\;  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) .qb_/#Bas  
1.6 特定设计的公式技术 <QkN}+B=  
1.7 交互式绘图 },n,P&M\`  
2. 光学薄膜理论基础 ?|Q5]rhs  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 RB% fA%d  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 Q[ 9rA  
3. 材料管理 V\rIN}7  
3.1 材料模型  f>wW}-  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 7fN&Q~.  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 )]>i >  
3.4 基板光学常数的提取 "j.oR}s9?#  
4. 光学薄膜设计优化方法 A&}nRP9  
4.1 参考波长与g njwR~aL`|  
4.2 四分之一规则 oQ-|\?{;A  
4.3 导纳与导纳图 #8Id:56  
4.4 斜入射光学导纳 o7 @4=m}  
4.5 光学薄膜设计的进展 3"^)bGe  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 q~g&hR}K  
4.6.1 优化目标设置 ik1L  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Gwrx) Mq  
4.6.3 膜层锁定和链接 Mc$v~|i6  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ?{.b9`  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Wf`Oye Rz  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 $5Y^fwIK  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ,# jOf{L*  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 r"u(!~R  
5.5 如何在Function中编写脚本 c&Su d, &  
6. 光学薄膜系统案例 1n"+~N^\  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 iM\ Z J6  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 21/a3Mlx#  
6.3 Stack应用范例说明 O275AxaN  
7. 薄膜性能分析 (;Q <@PZg  
7.1 电场分布 m)[wZP*e  
7.2 公差与灵敏度分析 -B3w RAEt  
7.3 反演工程 jK C qH$  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 Ei p~ ~2  
8. 真空技术 Xv5Ev@T  
8.1 常用真空泵介绍 /4-eoTxy  
8.2 真空密封和检漏 Vg [5bJ5  
9. 薄膜制备技术 U5ud?z()OA  
9.1 常见薄膜制备技术 <T_Nlar^^  
10. 薄膜制备工艺 ;k41+O:f@  
10.1 薄膜制备工艺因素 >'1Q"$;  
10.2 薄膜均匀性修正技术 v!'@NW_  
10.3 光学薄膜监控技术 OB  i!fLa  
11. 激光薄膜 CD<u@l,1  
11.1 薄膜的损伤问题 ?e_}X3{  
11.2 激光薄膜的制备流程 J0WXH/:  
11.3 激光薄膜的制备技术 8H`l"  
12. 光学薄膜特性测量 F=T.*-oS3  
12.1 薄膜光谱测量 NMY!-Kv 5  
12.2 薄膜光学常数测量 sK9h=J;F/  
12.3 薄膜应力测量 "$"mWF-  
12.4 薄膜损伤测量 O7CYpn4<7  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 vLT12v:)`  
l'{goyf  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
NCM{OAjS5U  
内容简介 x2&! PpM  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 WT {Cjn  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 fu "z%h]   
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 @k #y-/~?  
]<_!@J6k  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
 p|8Fl  
目录 ]:#$6D"  
Preface 1 ?'#;Y"RT  
内容简介 2 +bd{W]={  
目录 i 5F+ f'~  
1  引言 1 .&Gtw _  
2  光学薄膜基础 2 ~t3?er& R  
2.1  一般规则 2 [^=8k2  
2.2  正交入射规则 3 gV44PI6h  
2.3  斜入射规则 6 ]{U*+K%,J  
2.4  精确计算 7 n *0F  
2.5  相干性 8 ;3}b&Z[N]  
2.6 参考文献 10 4sE=WPKF#  
3  Essential Macleod的快速预览 10 B;7s]R  
4  Essential Macleod的特点 32 43Uy<%yb>}  
4.1  容量和局限性 33 Q)X\VQcgj  
4.2  程序在哪里? 33 %|* y/m  
4.3  数据文件 35 XUNgt(OGR'  
4.4  设计规则 35 8A]q!To  
4.5  材料数据库和资料库 37 vgZPDf|  
4.5.1材料损失 38 `l0icfy  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 J; Xz'0  
4.5.2 材料库 41 g^^m a}i  
4.5.3导出材料数据 43 ct/THq  
4.6  常用单位 43 Ip\g ^ia  
4.7  插值和外推法 46 4IE#dwZW  
4.8  材料数据的平滑 50 tl^;iE!-  
4.9 更多光学常数模型 54 9JeGjkG,  
4.10  文档的一般编辑规则 55 RXvcy<  
4.11 撤销和重做 56 62'0)Cy^  
4.12  设计文档 57 Ec/+9H6g  
4.10.1  公式 58 .%h_W\M<l  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ^o<Nz8  
4.10.3  沉积密度 59 dM.Ow!j  
4.10.4 平行和楔形介质 60 r~a}B.pj  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Z{)|w=  
4.10.4  性能 61 fb=vO U  
4.10.5  保存设计和性能 64 >(Ddw N9l  
4.10.6  默认设计 64 1@@]h!>k:  
4.11  图表 64 $}o,7xAn  
4.11.1  合并曲线图 67 Dp'af4+%$  
4.11.2  自适应绘制 68 Y(mwJud|  
4.11.3  动态绘图 68 Y{{,62D  
4.11.4  3D绘图 69 &G,v*5N8$K  
4.12  导入和导出 73 t?&ajh  
4.12.1  剪贴板 73 ;yoq/  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 3CL:VwoW  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 1fG@r%4  
4.13  背景 77 9uo\&,,  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 :{imRa-  
4.15  生成Rugate 84 >CA1Ub&ls  
4.16  参考文献 91 $S=OmdgR  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 (VR nv  
5.1  Jobs 92 v3]M;Y\  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 E_*T0&P.P  
5.3  输入材料 94 1O{67Pf  
5.4  设计数据文件夹 95 6n4S$a  
5.5  默认设计 95 [)KfRk?};2  
6  细化和合成 97 '7%9Sqx  
6.1  优化介绍 97 'a9.JS[pj  
6.2  细化 (Refinement) 98 zy5bDL -  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ba.OjK@  
6.4  目标和评价函数 101 o W [-?  
6.4.1  目标输入 102 N* QI>kzU  
6.4.2  目标 103 ;0WlvKF  
6.4.3  特殊的评价函数 104 J#^M   
6.5  层锁定和连接 104 B W1O1zIh\  
6.6  细化技术 104 #-8/|_*  
6.6.1  单纯形 105 HKf3eC  
6.6.1.1 单纯形参数 106 AS398L  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 .- o,_eg1f  
6.6.2.1 Optimac参数 108 q\G@Nn^  
6.6.3  模拟退火算法 109 F U%b"gP^  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 fe,CY5B{  
6.6.4  共轭梯度 111 JaTW/~ TU  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 DtX{0p<T3  
6.6.5  拟牛顿法 112 ~Y$1OA8  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 |hAGgo/03  
6.6.6  针合成 113 Y"U&3e,  
6.6.6.1 针合成参数 114 n+w>Qz'  
6.6.7 差分进化 114 r,\(Y@I  
6.6.8非局部细化 115 AUd}) UR  
6.6.8.1非局部细化参数 115 o! N@W  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 MsiSC  
6.7.1  细化 116 Z7/lFS'~N  
6.7.2  合成 117 CK%W +";  
6.8  参考文献 117 :I8t}Wg  
7  导纳图及其他工具 118 owB)+  
7.1  简介 118 NiF*h~ q  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 uW|y8 BP $  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Obm\h*$  
7.2.2  导纳图 120 `W=JX2I  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 R8]bi|e)  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 qx NV~aK  
7.5  斜入射导纳图 141 6I<`N  
7.6  对称周期 141 RdjUw#\33b  
7.7  参考文献 142 UKdzJEhG  
8  典型的镀膜实例 143 V"z0]DP5~  
8.1  单层抗反射薄膜 145 yCVBG  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 B:SRHd{*Wu  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #:X :~T  
8.4  W-膜层 148 :8FH{sqR  
8.5  V-膜层 149 nDfDpP&  
8.6  V-膜层高折射基底 150 "@_f>3z  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ]](hwj  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 J=Z"sU=  
8.9  四层抗反射薄膜 153 3FfS+q*3S  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 L!RLw4  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Z(cgI5Pu  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ! `o =2b=N  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ~PHG5?X  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 H}/1/5 L  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Z~ (QV0}  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 8^~]Ym:  
8.17  1/4波长堆栈 162 >2r/d  
8.18  陷波滤波器 163 P^z)]K#sw  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 )Lq FZ~B  
8.20  褶皱 165 C.|MA(7  
8.21  消偏振分光器1 169 bk 2vce&  
8.22  消偏振分光器2 171 YR>xh2< 9  
8.23  消偏振立体分光器 172 Y\\&~g42R2  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ftbu:RtK^^  
8.25  立体偏振分束器1 174 QGa"HG5NF  
8.26  立方偏振分束器2 177 \4 DH&gZ[  
8.27  相位延迟器 178 00ho*p!E'  
8.28  红外截止器 179 W#$rC<Jh]  
8.29  21层长波带通滤波器 180 gw-l]@;1  
8.30  49层长波带通滤波器 181  .*+ &>m7  
8.31  55层短波带通滤波器 182 &F)lvtt|  
8.32  47 红外截止器 183 GauIe0qV  
8.33  宽带通滤波器 184 6K6ihR!d  
8.34  诱导透射滤波器 186 b^1!_1c  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ?V+=uTCq  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 :7maN^  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 5E]I  
8.35  增益平坦滤波器 193 M~v{\!S  
8.38  啁啾反射镜 1 196 <?!#QA  
8.39  啁啾反射镜2 198 y~w$>7U.  
8.40  啁啾反射镜3 199 }6\p7n  
8.41  带保护层的铝膜层 200 o Vs&r?\Z  
8.42  增加铝反射率膜 201 |1EM )zh6  
8.43  参考文献 202 cK""Xz&m  
9  多层膜 204 6w' ^,V  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 u+N[Cgh  
9.2  内部透过率 204 s;L7 _.hH@  
9.3 内部透射率数据 205 SI\zW[IL  
9.4  实例 206 +'l@t bP  
9.5  实例2 210 R lv|DED$  
9.6  圆锥和带宽计算 212 )%0#XC^/X5  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 p AD@oPC  
10  光学薄膜的颜色 216 <7qM;) g  
10.1  导言 216 eD(#zfP/+  
10.2  色彩 216 :`d& |BB  
10.3  主波长和纯度 220 m$3&r2vgi  
10.4  色相和纯度 221 "&An9H'  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 *v6'I-#  
10.6 色差 226 L(iWFy1& T  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 o(}vR<tD\  
10.8  颜色渲染指数 234 ^z_~e@U  
10.9  色差计算 235 z7}@8F  
10.10  参考文献 236 {min9  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 h_J 'dJS  
11.1  短脉冲 238 6g)21Mh#  
11.2  群速度 239 1L3L!@  
11.3  群速度色散 241 S%'t )tt,  
11.4  啁啾(chirped) 245 y'{0|Xj  
11.5  光学薄膜—相变 245 w zF"^CJ  
11.6  群延迟和延迟色散 246 $'>h7].  
11.7  色度色散 246 _lj&}>l  
11.8  色散补偿 249 /DBldL7yi  
11.9  空间光线偏移 256 )w++cC4/5  
11.10  参考文献 258 BTu_$5F  
12  公差与误差 260 3fWL}]{<a  
12.1  蒙特卡罗模型 260 VaRP+J}UA.  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 nJ-U*yz  
12.2.1  误差工具 267 KnuQ 5\y  
12.2.2  灵敏度工具 271 h^$ c  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 bR}{xHe  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Pe_FW8e#J  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Ki:.^  
12.3  参考文献 276 NYcF]K}[  
13  Runsheet 与Simulator 277 I,xV&j+<  
13.1  原理介绍 277 >'X[*:Cx  
13.2  截止滤光片设计 277 >?Ps5n]b  
14  光学常数提取 289 $pg1Av7l  
14.1  介绍 289 hO@VYO   
14.2  电介质薄膜 289 <..|:0Q&~  
14.3  n 和k 的提取工具 295 (G 3S+T 9  
14.4  基底的参数提取 302 Hs~u&c  
14.5  金属的参数提取 306 #n8jn#  
14.6  不正确的模型 306 3bW(VvgcL4  
14.7  参考文献 311 W;Ei>~E  
15  反演工程 313 9G@ J#vsqr  
15.1  随机性和系统性 313 .j)f'<;%  
15.2  常见的系统性问题 314 wJQ"|  
15.3  单层膜 314 V]$Tbxg  
15.4  多层膜 314 qOk=:1`3  
15.5  含义 319 7pY7iR_  
15.6  反演工程实例 319 4/tp-dBip  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 +/E yX =  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 KLn.vA.  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 xiW;Y{kZ  
16.1  光学性质的热致偏移 329 a!US:^}lu  
16.2  应力工具 335 'sCj|=y2Qc  
16.3  均匀性误差 339 TE.O@:7Z  
16.3.1  圆锥工具 339 (wRJ"Nwu  
16.3.2  波前问题 341 CF:s@Z+  
16.4  参考文献 343 tM$w0Cj  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 FX#fh 2  
17.1  引言 345 9 ZD4Gv   
17.2  操作数 345 /=bg(?nX  
18  如何在Function中编写脚本 351 C<.Ny,U  
18.1  简介 351 yfd$T}WW6  
18.2  什么是脚本? 351 <+oTYPgD9  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Dr!g$,9  
18.4  基础 352 D^5bzZk N  
18.4.1  Classes(类别) 352 m%bw$hr  
18.4.2  对象 352 Iw<: k  
18.4.3  信息(Messages) 352 uzx?U3.\  
18.4.4  属性 352 0Lo)Ni^"  
18.4.5  方法 353 oe8sixZ[  
18.4.6  变量声明 353 {|kEGq~aE  
18.5  创建对象 354 *)jhhw=34  
18.5.1  创建对象函数 355 -W:te7  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 f/Lyc=- ]  
18.5.3 丢弃对象 356 7jZ=+2  
18.5.4  总结 356 / ao|v  
18.6  脚本中的表格 357 $bd&$@sA  
18.6.1  方法1 357 DhAQ|SdCf  
18.6.2  方法2 357 tC,R^${#  
18.7 2D Plots in Scripts 358 &ZRriqsQg  
18.8 3D Plots in Scripts 359 b5MCOW1+  
18.9  注释 360 x dT1jI  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ;ss,x  
18.11  一个更高级的脚本 362 :|\{mo1NB  
18.12  <esc>键 364 XRMYR97  
18.13 包含文件 365 XPhC*r  
18.14  脚本被优化调用 366 m;S!E-W  
18.15  脚本中的对话框 368 h}k/okG  
18.15.1  介绍 368 o-))R| ~z  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 )O }x&@Q  
18.15.3  输入框函数 370 '`RCN k5l  
18.15.4  自定义对话框 371 X23TS`  
18.15.5  对话框编辑器 371 A>PM'$"sT  
18.15.6  控制对话框 377 [$V_qFv{  
18.15.7  更高级的对话框 380 #mj+|/0  
18.16 Types语句 384 CEUR-LK0  
18.17 打开文件 385 _W!g'HP-D  
18.18 Bags 387 ="u(o(j"  
18.13  进一步研究 388 a@ lK+t  
19  vStack 389 ,wq.C6;&  
19.1  vStack基本原理 389 1{,WY(,c  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ,:#prT[P"  
19.3  五棱镜 393 9(iJ=ao (  
19.4 光束距离 396 R1S Ev$  
19.5 误差 399 ?>,aq>2O$  
19.6  二向分色棱镜 399 KctD=6  
19.7  偏振泄漏 404 3QF!fll^  
19.8  波前误差—相位 405 H7{ 6t(0j  
19.9  其它计算参数 405 /,;9hx  
20  报表生成器 406 x3vz4m[  
20.1  入门 406 CSD8?k]2  
20.2  指令(Instructions) 406 R~tv?hP  
20.3  页面布局指令 406 $zdJ\UX  
20.4  常见的参数图和三维图 407 gy>2=d  
20.5  表格中的常见参数 408 G U!XD!!&  
20.6  迭代指令 408 8n'C@#{WV  
20.7  报表模版 408 "+rX* ~  
20.8  开始设计一个报表模版 409 YY.;J3C  
21  一个新的project 413 <}UqtD F 0  
21.1  创建一个新Job 414 O<+C$J|  
21.2  默认设计 415 VRxBi!d  
21.3  薄膜设计 416 C ]#R7G  
21.4  误差的灵敏度计算 420 W9u (  
21.5  显色指数计算 422 ckTnb  
21.6  电场分布 424 beq)Frn^  
后记 426 doe[f_\  
O|OPdD  
N),Zb^~nw  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 r` 3)sc  
?5->F/f&  
《Essential Macleod中文手册》
\Q3m?)X=Gd  
>#V8l@IH  
目  录 7tyn?t0n  
Gd'^vqo<  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 (K2 p3M^  
第1章 介绍 ..........................................................1 sd=i!r)ya  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 X/.|S57  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 mMa7Eyaf  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ?$o8=h  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 lxxK6;r~>  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 -nU_eDy  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 $ D45X<  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 #}A!Bk  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106  D}_\oE/n  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 `HHbQXB  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 b?Vu9!  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 u{\`*dNx  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 1&m08dZm5  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 U2K>\/-~  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 xxedezNko  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 L=VuEF  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 9t)t-t#P;  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 $y`|zK|G-  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 ~fS#)X3 D  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 t=U[ ;?  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 2/h Mx-  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 3nG(z>  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 O[8Lp?  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ~JBQjb]  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 %u!#f<"[  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 iedoL0#  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Ot/Y?=j~  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 uT=sDWD :  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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