线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1008
时间地点 t3 q0|S  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 (Js'(tBhiU  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 hfGA7P"  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 VlVd"jW  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 dB`YvKr#  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
&zF1&J58z  
特邀专家介绍 .TURS  
@])qw_  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 *HwTq[y  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 q lL6wzq,  
课程概要 l\yFx  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 #isBE}sT{  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 .jh uC#x{/  
课程大纲 bYEq`kjzc  
1. Essential Macleod软件介绍 m(Cn'@i`"0  
1.1 介绍软件 dOFxzk,g&R  
1.2 创建一个简单的设计 A}b<Lg  
1.3 绘图和制表来表示性能 V$wf;v0d(  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 }Jgz#d  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ipEsR/O  
1.6 特定设计的公式技术 D'>yu"  
1.7 交互式绘图 1e;^Mz B"  
2. 光学薄膜理论基础 Zjt3U;Y  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 j"E_nV:Qc  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 j0k"iv  
3. 材料管理 e/WR\B'1  
3.1 材料模型 "YGs<)S  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 *N$#cz  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 N"b>]Ab] ;  
3.4 基板光学常数的提取 w*ig[{ I  
4. 光学薄膜设计优化方法 'Z-jj2t}  
4.1 参考波长与g h]<Ld9  
4.2 四分之一规则 p3*}!ez4  
4.3 导纳与导纳图 !9i,V{$c`"  
4.4 斜入射光学导纳 c8gdY`  
4.5 光学薄膜设计的进展 3_IuK 6K2  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ] w FFGy  
4.6.1 优化目标设置 ;h3uMUCml  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)  7[55  
4.6.3 膜层锁定和链接 lhx6+w  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 xv9Z~JwH  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 p~28?lYv  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 "j9,3yJT  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ocy fU=}X  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 kzGD *  
5.5 如何在Function中编写脚本 Nl7"|()e  
6. 光学薄膜系统案例 >U9*  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 pHY~_^B4&  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 O'" &9  
6.3 Stack应用范例说明 'u$$scGt  
7. 薄膜性能分析 '1=t{Rw  
7.1 电场分布 :t]YPt  
7.2 公差与灵敏度分析 j ij:}.d6  
7.3 反演工程 ]]+wDhxH  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 K!k,]90Ko  
8. 真空技术 r9@W8](\  
8.1 常用真空泵介绍 }7vX4{Yn  
8.2 真空密封和检漏 9xC,i )  
9. 薄膜制备技术 Ud:v3"1  
9.1 常见薄膜制备技术 APuG8 <R,  
10. 薄膜制备工艺 jGd{*4{3+  
10.1 薄膜制备工艺因素 Rw*l#cr=.  
10.2 薄膜均匀性修正技术 4_`+&  
10.3 光学薄膜监控技术 ycRy! 0l  
11. 激光薄膜 _I~W!8&w>  
11.1 薄膜的损伤问题 ]E88zWDY`  
11.2 激光薄膜的制备流程 [z`U 9J  
11.3 激光薄膜的制备技术 U=p,drF,A  
12. 光学薄膜特性测量 ./)A6O*#  
12.1 薄膜光谱测量 ]~)FMWQz-  
12.2 薄膜光学常数测量 zO2Z\E'% .  
12.3 薄膜应力测量 r<Ll>R  
12.4 薄膜损伤测量 zMKW@  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 JMpjiB,A}  
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有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
Z6X?M&-Lz  
内容简介 DTt/nmKAqJ  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Ta%{Wa\U9z  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 myFj w@  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Ezm ~SY  
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讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
b-@VR  
目录 .3A66 O~zT  
Preface 1 Ej ip%m  
内容简介 2 0eQyzn*98  
目录 i ykxjT@[  
1  引言 1 a{QHv0goG  
2  光学薄膜基础 2 %?y ?rt  
2.1  一般规则 2 ]&qujH^Dd*  
2.2  正交入射规则 3  ]k_@F6 A  
2.3  斜入射规则 6 P8Fq %k  
2.4  精确计算 7 t*< .^+Vd  
2.5  相干性 8 M SoLx' <  
2.6 参考文献 10 t%n1TY,  
3  Essential Macleod的快速预览 10 s$:F^sxb  
4  Essential Macleod的特点 32 ioIUIp+B~u  
4.1  容量和局限性 33 ^LE`Y>&m  
4.2  程序在哪里? 33 ?7'uo$  
4.3  数据文件 35 { o=4(RC  
4.4  设计规则 35 Z+=WgEu1  
4.5  材料数据库和资料库 37 OO] ~\j  
4.5.1材料损失 38 ^* ^te+N  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ]ZelB,7q  
4.5.2 材料库 41 dOqn0Z  
4.5.3导出材料数据 43 x1]^].#Eo  
4.6  常用单位 43 !%_Z>a  
4.7  插值和外推法 46 H ZIJKk(  
4.8  材料数据的平滑 50 z"u4t.KpL  
4.9 更多光学常数模型 54 =K=FzV'_~  
4.10  文档的一般编辑规则 55 mrX3/e  
4.11 撤销和重做 56 GNA:|x  
4.12  设计文档 57 d Ayof=  
4.10.1  公式 58 5u MP31  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 0R >M_|  
4.10.3  沉积密度 59 3aQWzEnh  
4.10.4 平行和楔形介质 60 =da_zy  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 B@Ez,u5  
4.10.4  性能 61 j08}5Eo  
4.10.5  保存设计和性能 64 iJk`{P_  
4.10.6  默认设计 64 &7!&]kA+  
4.11  图表 64 p)N=  
4.11.1  合并曲线图 67 q%w\UAqA  
4.11.2  自适应绘制 68 3<1Uq3Pa  
4.11.3  动态绘图 68 PGsXB"k<8  
4.11.4  3D绘图 69 !krbGpTVH  
4.12  导入和导出 73 `=RJ8u  
4.12.1  剪贴板 73 7JD jJQy  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ~EG`[cv  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 I#zrz3WU  
4.13  背景 77 fD  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 x1W<r)A )r  
4.15  生成Rugate 84 :D8V*F6P  
4.16  参考文献 91 [h+MA>%!  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 k)UF.=$d  
5.1  Jobs 92 B\wH`5/KW  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 hW$B;  
5.3  输入材料 94 ` /#f8R1g  
5.4  设计数据文件夹 95 tI|?k(D  
5.5  默认设计 95 &*B=5W;6^u  
6  细化和合成 97 INOw0E[  
6.1  优化介绍 97 X(U CN0#  
6.2  细化 (Refinement) 98 oJ\UF S  
6.3  合成 (Synthesis) 100 d>*?C!xE  
6.4  目标和评价函数 101 0'wB':v  
6.4.1  目标输入 102 -Mx"ox  
6.4.2  目标 103 MU4/arXy  
6.4.3  特殊的评价函数 104 OW- [#r  
6.5  层锁定和连接 104 X}Bo[YoY$  
6.6  细化技术 104 :3M2zV cf  
6.6.1  单纯形 105 Fd*)1FQKT  
6.6.1.1 单纯形参数 106 U8KB @E  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 NK2Kw{c"iI  
6.6.2.1 Optimac参数 108 m_\w)  
6.6.3  模拟退火算法 109 EYtf>D  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 >!MOgLO3  
6.6.4  共轭梯度 111 T$5u+4>"  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 (= } cc  
6.6.5  拟牛顿法 112 I *YO  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 _]a8lr+_-  
6.6.6  针合成 113 aN?{MA\  
6.6.6.1 针合成参数 114 ^I=c]D]);  
6.6.7 差分进化 114 #;sUAR?]  
6.6.8非局部细化 115 N=^{FZ  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Z{s&myd  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 DvCs 5  
6.7.1  细化 116 k #y4pF_  
6.7.2  合成 117 ="<5+G  
6.8  参考文献 117 Dj}n!M`2I  
7  导纳图及其他工具 118 R]O!F)_/'  
7.1  简介 118 /. GHR  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Q?-HU,RBO  
7.2.1  四分之一波长规则 119 M9'Qs m  
7.2.2  导纳图 120 ~N2){0 j4  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 qq" &Bc>  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 LW<DhMV  
7.5  斜入射导纳图 141 S*-n%D0q5  
7.6  对称周期 141 WJbdsPs  
7.7  参考文献 142 64;F g/t  
8  典型的镀膜实例 143 V#["Z}  
8.1  单层抗反射薄膜 145 @RGVcfCG)  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 4A6D>ChB'E  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 gpW3zDJ  
8.4  W-膜层 148 =r=[e}&9  
8.5  V-膜层 149 $zS0]@Dj  
8.6  V-膜层高折射基底 150 7?a@i; E<  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 yQ5&S]Xk$$  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 lPF(&pP  
8.9  四层抗反射薄膜 153 _9!*laR!2  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 7hwl[knyB  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 7OY<*ny  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 >Pne@w!*  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 q$FwO"dC  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 SFCKD/8  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 5ws|4V  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 u&/[sq x  
8.17  1/4波长堆栈 162 \?uaHX`1  
8.18  陷波滤波器 163 m8'B7|s  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 37GJ}%Qs  
8.20  褶皱 165 8Q&.S)hrN  
8.21  消偏振分光器1 169 zK`fX  
8.22  消偏振分光器2 171 Gh}k9-L  
8.23  消偏振立体分光器 172 0!X;C!v;  
8.24  消偏振截止滤光片 173 pwo5Ij,~q  
8.25  立体偏振分束器1 174 zy\p,  
8.26  立方偏振分束器2 177 ;d$PQi  
8.27  相位延迟器 178 9l) .L L  
8.28  红外截止器 179 *#+e_)d  
8.29  21层长波带通滤波器 180 \pI)tnu6'U  
8.30  49层长波带通滤波器 181 > w:+nG/r  
8.31  55层短波带通滤波器 182 v,t;!u,40  
8.32  47 红外截止器 183 %\6ns  
8.33  宽带通滤波器 184 _=W ^#z  
8.34  诱导透射滤波器 186 #?%akQ+w  
8.35  诱导透射滤波器2 188 [DrG;k?  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 "q@OM f  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 lU]/nKyd  
8.35  增益平坦滤波器 193 *>Sb4:  
8.38  啁啾反射镜 1 196 p ;E zmz  
8.39  啁啾反射镜2 198 +~, qb1aZ  
8.40  啁啾反射镜3 199 *?jU$&Qpj*  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Wy^43g38'p  
8.42  增加铝反射率膜 201 S~jl%]  
8.43  参考文献 202 #hL<9j  
9  多层膜 204 ,Q|[Yr  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204  E~oQ%X~  
9.2  内部透过率 204 0{ M=^96  
9.3 内部透射率数据 205 ?"MJ'u  
9.4  实例 206  +C3IP  
9.5  实例2 210 7oY}=281  
9.6  圆锥和带宽计算 212 2q}M1-^  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Cb}hE ro  
10  光学薄膜的颜色 216 dm3cQ<0  
10.1  导言 216 ECHl 9; +  
10.2  色彩 216 TAz #e  
10.3  主波长和纯度 220 i8R.Wl$l  
10.4  色相和纯度 221 'VA\dpa{J  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 GE4d=;5  
10.6 色差 226 2yqm$i9C  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 o6f^DG3*  
10.8  颜色渲染指数 234 \+OP!`  
10.9  色差计算 235 d"zbY\`  
10.10  参考文献 236 N<wy"N{iS  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 $47cKit|k:  
11.1  短脉冲 238 x17cMfCH%  
11.2  群速度 239 `>:ozN#)\  
11.3  群速度色散 241 BNU]NcA#*,  
11.4  啁啾(chirped) 245 B"N8NVn  
11.5  光学薄膜—相变 245 \ZdV|23  
11.6  群延迟和延迟色散 246 6itp Mck  
11.7  色度色散 246 `jY*0{  
11.8  色散补偿 249 M$O}roOa  
11.9  空间光线偏移 256 _%WJ7~>  
11.10  参考文献 258 4>]^1J7Wz  
12  公差与误差 260 ;)ff Gg>  
12.1  蒙特卡罗模型 260 'A91i  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 p"^^9'`=  
12.2.1  误差工具 267 0ZQ|W%tS  
12.2.2  灵敏度工具 271 + >o/Ob  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 nA8]/r1k  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 }>:v  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 >T3HkOT  
12.3  参考文献 276 +gb2>fei&  
13  Runsheet 与Simulator 277 #BK\cIr  
13.1  原理介绍 277 3\eb:-B:@  
13.2  截止滤光片设计 277 @+A`n21,O  
14  光学常数提取 289 z,XM|-"#<K  
14.1  介绍 289 9TGjcZ1S'  
14.2  电介质薄膜 289 %XGwQB$zk8  
14.3  n 和k 的提取工具 295 =L~,HS(l,  
14.4  基底的参数提取 302 *au&ODa  
14.5  金属的参数提取 306 }vBk ,ED  
14.6  不正确的模型 306 Zab5"JR  
14.7  参考文献 311 \~ O6S`,  
15  反演工程 313 cWIX!tc8  
15.1  随机性和系统性 313 pE >~F  
15.2  常见的系统性问题 314 -05zcIVo  
15.3  单层膜 314 $?p^ m`t_  
15.4  多层膜 314 YIs(Q  
15.5  含义 319 rC~hjViG.  
15.6  反演工程实例 319 rlu{C4l  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Qz&I~7aoyV  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 A S;ra,x  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ji {V#  
16.1  光学性质的热致偏移 329 bG nBV7b  
16.2  应力工具 335 u>: sXm  
16.3  均匀性误差 339 \2i4]V  
16.3.1  圆锥工具 339 m;o \.s  
16.3.2  波前问题 341 *g&[?y`UC  
16.4  参考文献 343 MO)N0{.b  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 Er} xB~<t  
17.1  引言 345 cT^,[ 3i:c  
17.2  操作数 345 CD1}.h  
18  如何在Function中编写脚本 351 (_-<3)q4  
18.1  简介 351 w C]yE\P1  
18.2  什么是脚本? 351 >L#&L ?#  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 En 3Q%  
18.4  基础 352 e $QX?y .  
18.4.1  Classes(类别) 352 7QL>f5Q  
18.4.2  对象 352 W|~Lmdzj  
18.4.3  信息(Messages) 352 +g ovnx  
18.4.4  属性 352 Q)yhpwrX  
18.4.5  方法 353 +jzpB*@  
18.4.6  变量声明 353 (qHI>3tpY  
18.5  创建对象 354 pgT{#[=>  
18.5.1  创建对象函数 355 JE,R[` &  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 (i>VJr  
18.5.3 丢弃对象 356 c ;`  
18.5.4  总结 356 Oa\!5Pw1  
18.6  脚本中的表格 357 nab:y(]$/  
18.6.1  方法1 357 4%2QF F @  
18.6.2  方法2 357 qJB9z0a<Ov  
18.7 2D Plots in Scripts 358 <9eQ  
18.8 3D Plots in Scripts 359 3nf+ imAF  
18.9  注释 360 G\tTwX4  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ZN5\lon|Y  
18.11  一个更高级的脚本 362 *\m 53mb  
18.12  <esc>键 364 vjaIFyj  
18.13 包含文件 365 i%>]$*  
18.14  脚本被优化调用 366 orf21N+[  
18.15  脚本中的对话框 368 & PrV+Lv  
18.15.1  介绍 368 K$(&Qx}  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 <=n$oMO  
18.15.3  输入框函数 370 Wcn3\v6_  
18.15.4  自定义对话框 371 z^I"{eT8  
18.15.5  对话框编辑器 371 hFuS>Hx  
18.15.6  控制对话框 377 Sj(uc#  
18.15.7  更高级的对话框 380 uF9p:FvN8  
18.16 Types语句 384 qrO] t\  
18.17 打开文件 385 c3&F\3  
18.18 Bags 387 '(Uyju=  
18.13  进一步研究 388 d|]F^DDuI  
19  vStack 389 r Y|'<$wvg  
19.1  vStack基本原理 389 ?mS798=f  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 A{\7HV5  
19.3  五棱镜 393 cEi{+rfZd|  
19.4 光束距离 396 `R0>;TdT  
19.5 误差 399 fGb(=l  
19.6  二向分色棱镜 399 %Nd|VAe  
19.7  偏振泄漏 404 _ZIaEJjH/  
19.8  波前误差—相位 405 )y'`C@ijI  
19.9  其它计算参数 405 k=H{gt  
20  报表生成器 406 p=\DZU~1  
20.1  入门 406 -w=rNlj  
20.2  指令(Instructions) 406 |uV1S^ !A  
20.3  页面布局指令 406 uNl<= 1  
20.4  常见的参数图和三维图 407 8^&)A b  
20.5  表格中的常见参数 408 f!e8xDfA  
20.6  迭代指令 408 p 9XHYf72  
20.7  报表模版 408 -r]s #$  
20.8  开始设计一个报表模版 409 << LmO-92  
21  一个新的project 413 3X*;.'#Z  
21.1  创建一个新Job 414 D; H</5#Q  
21.2  默认设计 415 [nn/a?Z4S  
21.3  薄膜设计 416 AvRZf-Geg  
21.4  误差的灵敏度计算 420 :aLShxKA  
21.5  显色指数计算 422 9fMg?  
21.6  电场分布 424 y.JAtsxD  
后记 426 VXZdRsV8T  
511^f`P<  
rI o`n2  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 a+)Yk8%KY  
3 l->$R]  
《Essential Macleod中文手册》
q`E6hm  
?*K;+@EH  
目  录 2W|4  
ii2X7Q  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 9 }|Bs=q  
第1章 介绍 ..........................................................1 /#20`;~F)  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 MA.1t  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 9~ajEs  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 +VDwDJ)lG  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 d"Y9go"Z  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 -WE pBt7*  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 E0\ '  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ss T o?WL|  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 [ hm/B`t*e  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 y7wy9+>l  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 y1c Aw   
第12章 优化和综合 ..................................................................120 wWY6DQQB  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 {a `kPfP  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 _D1bR7  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 g?A4C`l6iy  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 o B_c6]K  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 "'94E,W  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 mV@.JFXKP  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 -5>K pgXo\  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 JMuUj_^}7  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 FlOKTY   
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 jbpnCUzi  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 =+T{!+|6P  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 U&C\5N]  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ]n${j/x  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 8*=N\'m],  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 rVzj LkN^  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 gmLGK1  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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