线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1090
时间地点 hCT%1R}rKr  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 R~ w(]  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 MmWJYF=  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 h0.Fstf]  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 `6mHt6"h  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
\ @N>38M  
特邀专家介绍 ? 3}UO:B  
rpEFyHorJ  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 P1) 80<t  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 DhZtiqL#_  
课程概要 N0vd>b  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 @L<[38  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 {sm={q  
课程大纲 M+hc,;6  
1. Essential Macleod软件介绍 oLr"8R\d>t  
1.1 介绍软件 YRp\#pVnZ  
1.2 创建一个简单的设计 M@'V4oUz  
1.3 绘图和制表来表示性能 (uG4W|?p  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 xD\Km>|i  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) o~-X7)]  
1.6 特定设计的公式技术 TLSy+x_gX  
1.7 交互式绘图 ;2@sn+@  
2. 光学薄膜理论基础 @i{JqHU"  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 btOTDqG`a  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 @eT sS%f2  
3. 材料管理 "{x~j \<  
3.1 材料模型 <go~WpA|r  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 T![K i  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 99ha /t  
3.4 基板光学常数的提取 7lVIN&.=  
4. 光学薄膜设计优化方法 y{<#pS.  
4.1 参考波长与g 'o7PIhD"  
4.2 四分之一规则 tJwF h6  
4.3 导纳与导纳图 <Y orQ>  
4.4 斜入射光学导纳 KV5lpN PC  
4.5 光学薄膜设计的进展 huF L [  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Q"Ec7C5eM  
4.6.1 优化目标设置 D+SpSO7yg  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 5./ (fgx>  
4.6.3 膜层锁定和链接 ?UfZVyHv+  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 &16bZw  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 hL`zV  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 R$fna[Xw@/  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 `5 6QX'?  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 6#KI? 6  
5.5 如何在Function中编写脚本 fjWh}w8  
6. 光学薄膜系统案例 OpL 6Y+<  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 + kF[Oh#  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Wl#^Eu\g1W  
6.3 Stack应用范例说明 Z>,X$ Y6<  
7. 薄膜性能分析 *.*:(7`  
7.1 电场分布 -Y[-t;  
7.2 公差与灵敏度分析 4 P;O8KA5y  
7.3 反演工程 $1?X%8V  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 <=inogf  
8. 真空技术 o(``7A@7a  
8.1 常用真空泵介绍 g \-3c=X  
8.2 真空密封和检漏 V^{!d}  
9. 薄膜制备技术 {6n \532@  
9.1 常见薄膜制备技术 `e9uSF:9C  
10. 薄膜制备工艺 |f:d72{Qr  
10.1 薄膜制备工艺因素 - X_w&  
10.2 薄膜均匀性修正技术 j?,*fp8  
10.3 光学薄膜监控技术 'sF563kE  
11. 激光薄膜 yo.SPd="Vx  
11.1 薄膜的损伤问题 {^f0RGJg9  
11.2 激光薄膜的制备流程 =| !~0O  
11.3 激光薄膜的制备技术 O<h#|g1  
12. 光学薄膜特性测量 Qf|}%}% fp  
12.1 薄膜光谱测量 +lT]s#Fif  
12.2 薄膜光学常数测量 ^d9raYE`'  
12.3 薄膜应力测量 S <_pGz$V  
12.4 薄膜损伤测量 1Q J$yr  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ~yi&wbTjM  
3rY /6{  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
 >Y'yM4e*  
内容简介 ]'h)7  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 4) 3pa*  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 | q16%6q  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 V 3]p3  
3=l-jGJk  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
'c[LTpn4=  
目录 j_yFH#^W:  
Preface 1 `Y\/US70{c  
内容简介 2 />[6uvy#Q  
目录 i % 9/)  
1  引言 1 02^(z6K'&?  
2  光学薄膜基础 2 NydW9r:T  
2.1  一般规则 2 I=%sDn  
2.2  正交入射规则 3 (bt]GAxb1  
2.3  斜入射规则 6 *Z`eNz}  
2.4  精确计算 7 tMZ(s  
2.5  相干性 8 =(X'c.%i  
2.6 参考文献 10 L[G\+   
3  Essential Macleod的快速预览 10 W79A4l<  
4  Essential Macleod的特点 32 &8AS=v  
4.1  容量和局限性 33 b2=Q~=Wc  
4.2  程序在哪里? 33 '<=MhNh\  
4.3  数据文件 35 \ui^ d  
4.4  设计规则 35 /eRtj:9M  
4.5  材料数据库和资料库 37 .XKvk(9  
4.5.1材料损失 38 $ XsQ e  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 2Ml2Ue-9  
4.5.2 材料库 41 OEE{JVeI  
4.5.3导出材料数据 43 8}oDRN!J  
4.6  常用单位 43 -mHhB(Td'  
4.7  插值和外推法 46 ,N7l/6  
4.8  材料数据的平滑 50 a61eH )a  
4.9 更多光学常数模型 54 :5K ~/=6x  
4.10  文档的一般编辑规则 55 N^yO- xk  
4.11 撤销和重做 56 UVCMB_T  
4.12  设计文档 57 A%*DQ1N  
4.10.1  公式 58 UeQ9G  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <oaBh)=7  
4.10.3  沉积密度 59 5652'p  
4.10.4 平行和楔形介质 60 inv{dg/2  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 +Q!xEfpO;  
4.10.4  性能 61 y[WYH5 &DJ  
4.10.5  保存设计和性能 64 aho<w+l@  
4.10.6  默认设计 64 FV6he [,  
4.11  图表 64 cevV<Wy+  
4.11.1  合并曲线图 67 ]AC!R{H  
4.11.2  自适应绘制 68 ua|Z`qUyq  
4.11.3  动态绘图 68 VtzmY  
4.11.4  3D绘图 69 30(m-D$K>9  
4.12  导入和导出 73 1xdESorX(  
4.12.1  剪贴板 73 ~R?dDL  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 E"1 ;i  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 YaVc9du7  
4.13  背景 77 d!QD vO  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Kpp *^  
4.15  生成Rugate 84 aBVEk2 p  
4.16  参考文献 91 C|d!'"p  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 tD~PvUJ  
5.1  Jobs 92 svq9@!go  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 K]pKe" M  
5.3  输入材料 94 $|cp;~ 1  
5.4  设计数据文件夹 95 R3{*v =ov  
5.5  默认设计 95 9{UP)17  
6  细化和合成 97 ;vv!qBl|@  
6.1  优化介绍 97 ]k`Fl,"  
6.2  细化 (Refinement) 98 6KCCbg/  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Fy _<Ui  
6.4  目标和评价函数 101 i9@;,4f  
6.4.1  目标输入 102 22Y!u00D  
6.4.2  目标 103 gKs/T'PW  
6.4.3  特殊的评价函数 104 3dxnh,]&@  
6.5  层锁定和连接 104 %is,t<G  
6.6  细化技术 104 yS uLt@X  
6.6.1  单纯形 105 fs3 -rXoB  
6.6.1.1 单纯形参数 106 jgo<#AJ/E  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 -M1~iOb  
6.6.2.1 Optimac参数 108 nT@6g|!  
6.6.3  模拟退火算法 109 KXx@ {cv  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 N+C)/EN$  
6.6.4  共轭梯度 111 wKi}@|0[@  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 C{`^9J-  
6.6.5  拟牛顿法 112 "doU.U&u  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Pi"~/MGP$  
6.6.6  针合成 113 T[4[/n> i  
6.6.6.1 针合成参数 114 1O]5/Eu  
6.6.7 差分进化 114 fNAo$O4cm  
6.6.8非局部细化 115 ]w_  
6.6.8.1非局部细化参数 115 i!.I;@  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 G>[ NZE  
6.7.1  细化 116 XAQ\OX#  
6.7.2  合成 117 X@ bn??  
6.8  参考文献 117 _d\u!giy  
7  导纳图及其他工具 118 43{_Y]  
7.1  简介 118 4Wi8 $  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 n?ZL"!$  
7.2.1  四分之一波长规则 119 kyRh k\X  
7.2.2  导纳图 120 5D]30  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124  d-ag  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 C>Omng1>^  
7.5  斜入射导纳图 141 R8=I)I-8  
7.6  对称周期 141 SLQ\Y%F  
7.7  参考文献 142 Q{.{#G  
8  典型的镀膜实例 143 {8!ZKlB  
8.1  单层抗反射薄膜 145 f!M[awj%  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 pBg|n=^  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 WA]%,6  
8.4  W-膜层 148 J8GXI:y  
8.5  V-膜层 149 RV0>-@/x  
8.6  V-膜层高折射基底 150 nJtEUVMt  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 QD.zU/F~>  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 C@TN5?Z  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ,YP1$gj  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ba(arGZ+{  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 .%x"t>]  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 l)tTg+:  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 fV.A=*1l#  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 O8K@&V p  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 L,Ao.?j  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 u( V  
8.17  1/4波长堆栈 162 B\=SAi  
8.18  陷波滤波器 163 H Z;ZjC*  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Z&+NmOY4  
8.20  褶皱 165 ~")h E%Kl}  
8.21  消偏振分光器1 169 sBP}n.#$  
8.22  消偏振分光器2 171 |eH wp  
8.23  消偏振立体分光器 172 ]dPVtk  
8.24  消偏振截止滤光片 173 !Y ;H(.A/  
8.25  立体偏振分束器1 174 2-vJv+-  
8.26  立方偏振分束器2 177 '}U_D:o.b  
8.27  相位延迟器 178 Q!4i_)rM  
8.28  红外截止器 179 wF|0n t  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ioB|*D<U2  
8.30  49层长波带通滤波器 181 T"L0Iy!k;  
8.31  55层短波带通滤波器 182 !cq=)xR  
8.32  47 红外截止器 183 vKcl6bVT  
8.33  宽带通滤波器 184 .ocx(_3G  
8.34  诱导透射滤波器 186 t$U3|r  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ;]2 x  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 vOos*&  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 (NGu9uJs  
8.35  增益平坦滤波器 193 i0k+l  
8.38  啁啾反射镜 1 196  Jt##rVN  
8.39  啁啾反射镜2 198 rPRrx-A  
8.40  啁啾反射镜3 199 $7Jfb<y  
8.41  带保护层的铝膜层 200 |HrM_h<X  
8.42  增加铝反射率膜 201 K^"w]ii=  
8.43  参考文献 202 cU7rq j_  
9  多层膜 204 Hze-Ob8  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 lp,\]]  
9.2  内部透过率 204 Cw 1 9y  
9.3 内部透射率数据 205 `d75@0:  
9.4  实例 206 q>^hoW2$C  
9.5  实例2 210 E|pk.  
9.6  圆锥和带宽计算 212 \n[ 392  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 T#\p%w9d  
10  光学薄膜的颜色 216 oS~}TR:}  
10.1  导言 216 ao)Ck3]  
10.2  色彩 216 'Pf_5q  
10.3  主波长和纯度 220 g(m xhD!k  
10.4  色相和纯度 221  ;KZrl`  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 'dkXYtKCB  
10.6 色差 226 q.-y)C) ;  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 A:kkCG!~Nf  
10.8  颜色渲染指数 234 XR|"dbZW.0  
10.9  色差计算 235 }ppVR$7]0  
10.10  参考文献 236 I^WIa"u_  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 UQ5BH%EPb  
11.1  短脉冲 238 %PzQ\c  
11.2  群速度 239 k]Zo-xh4  
11.3  群速度色散 241 8O;Vl  
11.4  啁啾(chirped) 245 zu52 p4  
11.5  光学薄膜—相变 245 >[a FOA  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Q4X7Iu:  
11.7  色度色散 246 hF2/ y.:P  
11.8  色散补偿 249 Am=wEu[b  
11.9  空间光线偏移 256 x Y| yI>  
11.10  参考文献 258 <D;MT96SG  
12  公差与误差 260 [!G)$<  
12.1  蒙特卡罗模型 260 x"vwWJNQ  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 'V&2Xvl%  
12.2.1  误差工具 267 $'^&\U~?  
12.2.2  灵敏度工具 271 O7v]p  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 -&imjy<  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 opdu=i=E  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 _().t5<  
12.3  参考文献 276 Yb}w;F8(  
13  Runsheet 与Simulator 277 S."7+g7Ar  
13.1  原理介绍 277 On4w/L9L5  
13.2  截止滤光片设计 277 N<(HPE};  
14  光学常数提取 289 kBbl+1{H  
14.1  介绍 289 z!:'V]  
14.2  电介质薄膜 289 6^sHgYR  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ymtd>P"  
14.4  基底的参数提取 302 gv9=quG  
14.5  金属的参数提取 306 1i u =Y  
14.6  不正确的模型 306 \OcMiuw  
14.7  参考文献 311 Z v4<b  
15  反演工程 313 ;-Ss# &  
15.1  随机性和系统性 313 l)Zs-V!M^\  
15.2  常见的系统性问题 314 ]M3# 3Ha"  
15.3  单层膜 314 >!}`%pk(  
15.4  多层膜 314 #XI"@pD  
15.5  含义 319 h~w4, T  
15.6  反演工程实例 319 M/{g(|{  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 M-Y0xWs  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 x5OC;OQc  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 B;!f<"a8  
16.1  光学性质的热致偏移 329 L,~MicgV  
16.2  应力工具 335 y? "@v.  
16.3  均匀性误差 339 [Uli>/%JB  
16.3.1  圆锥工具 339 H?uukmZl  
16.3.2  波前问题 341 ANMYX18M  
16.4  参考文献 343 2zK"*7b?  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 jJ~Y]dQi  
17.1  引言 345 3sFeP &  
17.2  操作数 345 wVqd$nsY"  
18  如何在Function中编写脚本 351 ,)h)5o(?  
18.1  简介 351 }>&KUl  
18.2  什么是脚本? 351 JDv-O&]  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 cXN _*%  
18.4  基础 352 W&(f&{A  
18.4.1  Classes(类别) 352 qzK("d  
18.4.2  对象 352 |y"jZT6R}t  
18.4.3  信息(Messages) 352 EA|k5W*b  
18.4.4  属性 352 K)S;:MLG=  
18.4.5  方法 353 ? } (=  
18.4.6  变量声明 353 TJaeQqob  
18.5  创建对象 354 5j{Np,K  
18.5.1  创建对象函数 355 j$x)pB3]  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 g{>^`JtP  
18.5.3 丢弃对象 356 zX kx7d8  
18.5.4  总结 356 =MLf[   
18.6  脚本中的表格 357 h1+ hds+  
18.6.1  方法1 357 ~O;y?]U  
18.6.2  方法2 357 "&lN\&:  
18.7 2D Plots in Scripts 358 LK}-lZ` i  
18.8 3D Plots in Scripts 359 alm- r-Kb3  
18.9  注释 360 W#XG;  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 gUVn;_  
18.11  一个更高级的脚本 362 M3pjXc<O  
18.12  <esc>键 364 ^bUxLa[.  
18.13 包含文件 365 '{ f=hE_/  
18.14  脚本被优化调用 366 Y ?'tUV  
18.15  脚本中的对话框 368 w#(RW7":F  
18.15.1  介绍 368 a3@w|KLt  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 aMK~1]Cx  
18.15.3  输入框函数 370 l#bAl/c`  
18.15.4  自定义对话框 371 IfV  3fJ7  
18.15.5  对话框编辑器 371 b |7ja_  
18.15.6  控制对话框 377 [pgZbOIN37  
18.15.7  更高级的对话框 380 <7n]Ai@Y  
18.16 Types语句 384 8)xt(~qF  
18.17 打开文件 385 otr>3a*'  
18.18 Bags 387 &mE?y%  
18.13  进一步研究 388 .Q>!B?)  
19  vStack 389 ]Kde t"+  
19.1  vStack基本原理 389 Vq ^]s $'  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 :reTJQwr  
19.3  五棱镜 393 lBA+zZ  
19.4 光束距离 396 wJG$c-(\0  
19.5 误差 399 *P2[qhP2  
19.6  二向分色棱镜 399 x &=9P e(  
19.7  偏振泄漏 404 4MW ]EQ-  
19.8  波前误差—相位 405 Zk? =  
19.9  其它计算参数 405 hI|)u4q  
20  报表生成器 406 o6}n8U}bk  
20.1  入门 406 uDuF#3 +"  
20.2  指令(Instructions) 406 .g% Y@r)=5  
20.3  页面布局指令 406 #^rU x.  
20.4  常见的参数图和三维图 407 jo98 jA<  
20.5  表格中的常见参数 408 oq;'eM1,.  
20.6  迭代指令 408 3HiFISA*  
20.7  报表模版 408 Q M 1F?F  
20.8  开始设计一个报表模版 409 4]&<?"LSK  
21  一个新的project 413 q'S =Eav8  
21.1  创建一个新Job 414 GAEO$e:  
21.2  默认设计 415 H+Z SPHs  
21.3  薄膜设计 416 >q7 %UK]&  
21.4  误差的灵敏度计算 420 3Wx,oq;4-  
21.5  显色指数计算 422 3qM Nl>>  
21.6  电场分布 424 H{fM%*w  
后记 426 7#2j>G{?]v  
UG[e//m  
or?%-)  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 smU4jh9S  
p25Fn`}H  
《Essential Macleod中文手册》
TbhH&kG)1  
c^.l 2Q!  
目  录 ;")A{tX2  
g+[kde;(^  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 py<_HyJ  
第1章 介绍 ..........................................................1 5lmO:G1  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 raB+,Oi$G  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 3$p#;a:=n  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Yx)o:#2  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 NHaMo*xQ  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 KCR N}`^  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 M##';x0  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 JMyTwj[7  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 RtV.d \  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 %XRN]tsu  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 H;KDZO9W  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 "mIgs9l$  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 R>)MiHcCg  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 & 0v.E"0<  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 @}LZ! y  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 _sMs}?^  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 dcq#TBo8  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 L-h$Z0]_F  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 #V_GOy1-  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 UpUp8%fCU  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 t#b0H)  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284  [aW =  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 }NmNanW^  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 `y!/F?o+!  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 DJ;g|b  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 t/p $  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 grcbH  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 'Z8aPHD  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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