线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1040
时间地点 0VK-g}"x  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 Dnc<sd;  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 D0N9Ksq  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 {f{ZHi|  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 h`MF#617  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
pNRk.m]  
特邀专家介绍 |{@FMxn|q  
n k2om$nN  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 CX m+)a-L  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 pc?>cs8  
课程概要 <?D\+khlq  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 qn,O40/]  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 MJ=)v]a  
课程大纲 Zec <m8~  
1. Essential Macleod软件介绍 eW>3XD4  
1.1 介绍软件 d9n?v)<v  
1.2 创建一个简单的设计 >*wtbkU  
1.3 绘图和制表来表示性能 Rml2"9"`  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 !'Q -yoHKD  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 4Yl;  
1.6 特定设计的公式技术 cr;g5C V  
1.7 交互式绘图 b^[F""!e  
2. 光学薄膜理论基础 oc^Br~ Th  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 @2*]"/)*0  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 4hw@yTUo  
3. 材料管理 [NFNzwUB  
3.1 材料模型 6K-5g/hL  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 RQFI'@Ks  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 _`#3f1F@[  
3.4 基板光学常数的提取 MfmACd^3$  
4. 光学薄膜设计优化方法 P+)DsZ0ig  
4.1 参考波长与g ".dZn6"mI  
4.2 四分之一规则 N D<HXO  
4.3 导纳与导纳图 ` }3qhar  
4.4 斜入射光学导纳 P4Th_B7  
4.5 光学薄膜设计的进展 C.kxQ<  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 2<hpK!R  
4.6.1 优化目标设置 {hJXj,  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) V_Wwrhua  
4.6.3 膜层锁定和链接 SwU\ q]^|Z  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ,hVvve,j}  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 .I@CS>j  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 3~#h|?  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Z/ Tm)Xd  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 wKH ::!  
5.5 如何在Function中编写脚本 2y%,p{="  
6. 光学薄膜系统案例 l$hJE;n  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 >Yt/]ta4+  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 3/#:~a9Q  
6.3 Stack应用范例说明 -n0C4kZ2o  
7. 薄膜性能分析 O+RP3ox"  
7.1 电场分布 ;sch>2&ZWU  
7.2 公差与灵敏度分析 Jxqh )l  
7.3 反演工程 }$\M{# C~  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 X w.p  
8. 真空技术 ?X&6M;Zi  
8.1 常用真空泵介绍 +`uY]Q ,O  
8.2 真空密封和检漏 Jl "mL  
9. 薄膜制备技术 *. &HD6Qr  
9.1 常见薄膜制备技术 +I>p !v  
10. 薄膜制备工艺 6{qIU}!  
10.1 薄膜制备工艺因素 *6 U&Qy-M  
10.2 薄膜均匀性修正技术 H\ 1qI7N C  
10.3 光学薄膜监控技术 Ez{MU@Fk  
11. 激光薄膜 0R0{t=VJZ  
11.1 薄膜的损伤问题 2m>-dqg  
11.2 激光薄膜的制备流程 N0>0z]4;q  
11.3 激光薄膜的制备技术 }oJAB1'k  
12. 光学薄膜特性测量 s`Cy a`  
12.1 薄膜光谱测量 L^^4=ao0  
12.2 薄膜光学常数测量 it2 a  
12.3 薄膜应力测量 J1XL<7  
12.4 薄膜损伤测量 Eq:2k)BE  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 G4 G5PXi  
U}$DhA"r"  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
1oKfy>ie  
内容简介 irk*~k ?  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 e5Mln!.o  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 t\v+ogbk)  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 +}Av-47`h  
~ 7)A"t  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
HMY@F_qY`u  
目录 d1joVUYE  
Preface 1 8q)=  
内容简介 2 71C42=AU  
目录 i [ $fJRR  
1  引言 1 U1_&gy @y  
2  光学薄膜基础 2 T#Z%y!6  
2.1  一般规则 2 YK{a  
2.2  正交入射规则 3 xLZd!>C  
2.3  斜入射规则 6 gK|R =J  
2.4  精确计算 7 2l5KJlfj>k  
2.5  相干性 8 htP|3B  
2.6 参考文献 10 D5?phyC[Z  
3  Essential Macleod的快速预览 10 [Vf}NF  
4  Essential Macleod的特点 32 ^zEE6i  
4.1  容量和局限性 33 Q)af|GW$  
4.2  程序在哪里? 33 !G_jGc=v  
4.3  数据文件 35 zdSh:  
4.4  设计规则 35 9SMiJad<  
4.5  材料数据库和资料库 37 hnWo|! ,O$  
4.5.1材料损失 38 _y .]3JNm  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 nW?R"@Zm  
4.5.2 材料库 41 ]IJv-(  
4.5.3导出材料数据 43 G%u9+XV1#  
4.6  常用单位 43 c-j_INGm  
4.7  插值和外推法 46 +rWZ|&r%  
4.8  材料数据的平滑 50 +CM7C%U   
4.9 更多光学常数模型 54 PNSMcakD  
4.10  文档的一般编辑规则 55 >6Lm9&}  
4.11 撤销和重做 56 # fhEc;t  
4.12  设计文档 57 %~*jae!f  
4.10.1  公式 58 1px\K8  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 b]gY~cbI8  
4.10.3  沉积密度 59 uHNpfKnZ  
4.10.4 平行和楔形介质 60 jw6Tj;c  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 (P6vOo  
4.10.4  性能 61 v[<Bjs\q5  
4.10.5  保存设计和性能 64 0=v{RQ;W4  
4.10.6  默认设计 64 z2/!m[U  
4.11  图表 64 8n4V cu  
4.11.1  合并曲线图 67 t^E hE  
4.11.2  自适应绘制 68 `#IcxweA  
4.11.3  动态绘图 68 f"&Xr!b.h  
4.11.4  3D绘图 69 `0#H]=$2h  
4.12  导入和导出 73 Ul Mi.;/^  
4.12.1  剪贴板 73 3}&ZOO   
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 &~5=K  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 >CgO<\  
4.13  背景 77 >{Rb 3Z]  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 h[XGC =%  
4.15  生成Rugate 84 yZ}d+7T}  
4.16  参考文献 91 <M[U#Q~?~e  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Uz8hANN0_  
5.1  Jobs 92 Tvf~P w  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ;)!"Ty|  
5.3  输入材料 94 \Mi#{0f+q  
5.4  设计数据文件夹 95 & 7QH^  
5.5  默认设计 95 k3@HI|  
6  细化和合成 97 0o&}mKe  
6.1  优化介绍 97 i+M*J#'  
6.2  细化 (Refinement) 98 dGgP_ S  
6.3  合成 (Synthesis) 100 qJ[@:&:  
6.4  目标和评价函数 101 :Eh'(   
6.4.1  目标输入 102 :\V,k~asl  
6.4.2  目标 103 DpL8'Dib  
6.4.3  特殊的评价函数 104 lUh*?l  
6.5  层锁定和连接 104 Na!za'qk[o  
6.6  细化技术 104 J+<p+(^*v  
6.6.1  单纯形 105 @Hr+/52B  
6.6.1.1 单纯形参数 106 V"d=.Hb>  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Ae|P"^kZ  
6.6.2.1 Optimac参数 108 dU;upS_-  
6.6.3  模拟退火算法 109 M/jb}*xDR  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 L{ ^4DznI  
6.6.4  共轭梯度 111 ekzjF\!y  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 VfSGCe  
6.6.5  拟牛顿法 112 %]Cjhs"v  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ~-Oa8ww  
6.6.6  针合成 113 ? J|4l[x  
6.6.6.1 针合成参数 114 1 ycc5=.  
6.6.7 差分进化 114 (M% ;~y\  
6.6.8非局部细化 115 c>Z*/>~  
6.6.8.1非局部细化参数 115 q=Xg*PM,  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 rpU/s@%L  
6.7.1  细化 116 , Fytk34  
6.7.2  合成 117 Sr y,@p)  
6.8  参考文献 117 dl/X."iv!  
7  导纳图及其他工具 118 3;BvnD7  
7.1  简介 118 ?ei%RWo  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 P79R~m`  
7.2.1  四分之一波长规则 119 U'3Fou}  
7.2.2  导纳图 120 M9V-$ _)  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 yU`: IMz  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 {$TZ}z"DA  
7.5  斜入射导纳图 141 WV_`1hZX  
7.6  对称周期 141 Lb q_~   
7.7  参考文献 142 $j`<SxJ>  
8  典型的镀膜实例 143 )W9_qmYd"  
8.1  单层抗反射薄膜 145 e(\Q)re5Q  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Yk>8g;<  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ul}'{|4  
8.4  W-膜层 148 b:B [3|  
8.5  V-膜层 149 Dsb(CoWw  
8.6  V-膜层高折射基底 150 W]LQ &f  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 uZ[/%GTX{)  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 />Jm Rdf  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ]%XK)[:5_=  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 :_c*m@=z(  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 YmCbxYa7  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Nu. (viQ}  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 |e"/Mf[  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 DNho%Xk  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 BHiOQ0Fs  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 P7>IZ >bw  
8.17  1/4波长堆栈 162 1#!@["  
8.18  陷波滤波器 163 *SGlqR['\e  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 >x?2Fz.  
8.20  褶皱 165 0o;~~\fq.  
8.21  消偏振分光器1 169 Hd*Fc=>"Y  
8.22  消偏振分光器2 171  tJ1-DoU  
8.23  消偏振立体分光器 172 4Bo<4 4-,  
8.24  消偏振截止滤光片 173 r9 ;`  
8.25  立体偏振分束器1 174 _@|fva&s,;  
8.26  立方偏振分束器2 177 T:n< db,Px  
8.27  相位延迟器 178 zn[QvY  
8.28  红外截止器 179 kC|Tubs(  
8.29  21层长波带通滤波器 180 n'3u] ~7^  
8.30  49层长波带通滤波器 181 KZ4zF  
8.31  55层短波带通滤波器 182 gD5P!}s[u0  
8.32  47 红外截止器 183 a],h<wGEx  
8.33  宽带通滤波器 184 =WjJN Q  
8.34  诱导透射滤波器 186 W2n*bNI  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ULTNhq R*n  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 AJ4r/b }  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 i?W]*V~ply  
8.35  增益平坦滤波器 193 >@:667i,`  
8.38  啁啾反射镜 1 196 wzxdVn 'S  
8.39  啁啾反射镜2 198 ?+Hp?i$1  
8.40  啁啾反射镜3 199 @4@PuWI0-  
8.41  带保护层的铝膜层 200 To^# 0  
8.42  增加铝反射率膜 201 Y'&8L'2Z[  
8.43  参考文献 202 `;}H%  
9  多层膜 204 6mAB(X^+  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 a G@nErdW  
9.2  内部透过率 204 Y^X:vI  
9.3 内部透射率数据 205 >Pyc[_j  
9.4  实例 206 bu&;-Ynb  
9.5  实例2 210 *78)2)=~  
9.6  圆锥和带宽计算 212 bm^X!i5  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 w=5   
10  光学薄膜的颜色 216 ,y%ziay  
10.1  导言 216 \"J?@  
10.2  色彩 216 ennR@pg  
10.3  主波长和纯度 220 \{:%v#ZZ  
10.4  色相和纯度 221 $wgc vySx  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 |a>}9:g,=*  
10.6 色差 226 8T<@ @6`T  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 y]<#%Fh  
10.8  颜色渲染指数 234 PM8Ks?P#u  
10.9  色差计算 235 n{L:MT9TD  
10.10  参考文献 236 `i9N )3 X  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 @kz!{g]Sn  
11.1  短脉冲 238 sK`< kbj  
11.2  群速度 239 2Gm-\o&Td"  
11.3  群速度色散 241 [u7 vY@  
11.4  啁啾(chirped) 245 * *.:)  
11.5  光学薄膜—相变 245 u7n[f@Eg,%  
11.6  群延迟和延迟色散 246 (Hl8U  
11.7  色度色散 246 8H7O/n  
11.8  色散补偿 249 /MhS=gVxM  
11.9  空间光线偏移 256 Rnzqw,q  
11.10  参考文献 258 %N>\:8 5?  
12  公差与误差 260 64h_1,U  
12.1  蒙特卡罗模型 260 5St`@  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 =?HzNA$yh  
12.2.1  误差工具 267 ,TEuM|  
12.2.2  灵敏度工具 271 -}E)M}W  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 |>Z&S=\I)  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 wKGo gf[(%  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276  gm(De9u  
12.3  参考文献 276 2YE7 23H=Z  
13  Runsheet 与Simulator 277 :fRmUAK%  
13.1  原理介绍 277 6k:y$,w  
13.2  截止滤光片设计 277 q Frt^+@  
14  光学常数提取 289 E(% XVr0W  
14.1  介绍 289 6g}^Q?cpV#  
14.2  电介质薄膜 289 \QliHm!  
14.3  n 和k 的提取工具 295 <D~6v2$  
14.4  基底的参数提取 302 gxI&f  
14.5  金属的参数提取 306 ;]{{)dst  
14.6  不正确的模型 306 | O57N'/  
14.7  参考文献 311 ;CA ?eI  
15  反演工程 313 pF|8OB%  
15.1  随机性和系统性 313 qZXyi'(d  
15.2  常见的系统性问题 314 v#iFQVBq  
15.3  单层膜 314 $p jf#P8U  
15.4  多层膜 314 Cca6L9%  
15.5  含义 319 K2*1T+?X  
15.6  反演工程实例 319 Y 5Qb4Sa  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 a#^_"GX  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 GhtbQM1[H  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 I<c@uXXV;!  
16.1  光学性质的热致偏移 329 /X@7ju;   
16.2  应力工具 335 ('T4Db  
16.3  均匀性误差 339 l8er$8S}  
16.3.1  圆锥工具 339 (L`l+t1  
16.3.2  波前问题 341 MJ1W*'9</W  
16.4  参考文献 343 5LO4P>fq  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 ^CfM|L8>  
17.1  引言 345 mr@_ %U  
17.2  操作数 345 sk~za  
18  如何在Function中编写脚本 351 U&,r4>V@h>  
18.1  简介 351 ^uC"dfH  
18.2  什么是脚本? 351 `@4 2jG}*  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Sc%aJ1  
18.4  基础 352 Uc\|X;nkRk  
18.4.1  Classes(类别) 352 ooomi"u  
18.4.2  对象 352 b;Hm\aK  
18.4.3  信息(Messages) 352 6lN?)<uQ  
18.4.4  属性 352 ^Vl^,@  
18.4.5  方法 353 N{ : [/  
18.4.6  变量声明 353 9@( O\xr  
18.5  创建对象 354 's=Q.s  
18.5.1  创建对象函数 355 C]yvK}  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 2~#ZO?jE6  
18.5.3 丢弃对象 356 nsZDZ/jx  
18.5.4  总结 356 ^:qpa5^"  
18.6  脚本中的表格 357 T {hyt  
18.6.1  方法1 357 L v  
18.6.2  方法2 357 JCM)N8~i  
18.7 2D Plots in Scripts 358 \#uqD\DE  
18.8 3D Plots in Scripts 359 -$AjD?;   
18.9  注释 360 "B3iX@C  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ;X+G6F'  
18.11  一个更高级的脚本 362 hCU)W1q#  
18.12  <esc>键 364 gcX5Q^`a=  
18.13 包含文件 365 } 9MW! Ss  
18.14  脚本被优化调用 366 {[l'S  
18.15  脚本中的对话框 368 7'-)/Pk  
18.15.1  介绍 368 {fAh@:{@  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 z2rQ$O -#  
18.15.3  输入框函数 370 ;6DR .2}?>  
18.15.4  自定义对话框 371  ~Y1"k]J  
18.15.5  对话框编辑器 371 tfi2y]{A  
18.15.6  控制对话框 377 wlm3~B\64  
18.15.7  更高级的对话框 380 WpZy](,  
18.16 Types语句 384 Q'FX:[@x-S  
18.17 打开文件 385 M \ :"~XW  
18.18 Bags 387 :GN)7|:  
18.13  进一步研究 388 &@mvw=d  
19  vStack 389 gg lNpzj  
19.1  vStack基本原理 389 ,2=UuW"K  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 W)6U6  
19.3  五棱镜 393 [{6&.v  
19.4 光束距离 396 PiIp<fJd$  
19.5 误差 399 b|X>3(  
19.6  二向分色棱镜 399 d_4n0Kh0  
19.7  偏振泄漏 404 t:?<0yfp&  
19.8  波前误差—相位 405 9`LU=Xv/  
19.9  其它计算参数 405 8r7/IGFg  
20  报表生成器 406 f9h:"Dnzin  
20.1  入门 406 )a4E&D  
20.2  指令(Instructions) 406 G:E+s(x  
20.3  页面布局指令 406 ]=$-B  
20.4  常见的参数图和三维图 407 9b{g+lMZo  
20.5  表格中的常见参数 408 #J%h!#3g  
20.6  迭代指令 408 dg!1wD   
20.7  报表模版 408 X+(aQ >y  
20.8  开始设计一个报表模版 409 HB/ _O22  
21  一个新的project 413 PO=ZxG   
21.1  创建一个新Job 414 {GGO')p  
21.2  默认设计 415 sqq/b9 uL/  
21.3  薄膜设计 416 kMwIuy  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ^L*VW gi9  
21.5  显色指数计算 422 j8D$/  
21.6  电场分布 424 73! x@Duh  
后记 426 fzGZ:L  
L<[,7V  
0C9QAJa  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 9hz7drhR;\  
PuUon6bZ  
《Essential Macleod中文手册》
uK"$=v6|  
(HTk;vbZm  
目  录  d'**wh,  
.@x"JI> ;  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 2vW,.]95M  
第1章 介绍 ..........................................................1 @=aq&gb  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 +e{djp@m  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 `9G$p|6  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 OTy 4"%  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 K>DnD0  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 CwCo"%E8}  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 z9uEOX&2\  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 %(O^as  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 H)?" 8 s  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 45!`g+)  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 {~B4F}ES  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 1W6n[Xg  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ZT3jxwe  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 duiKFNYN  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 hQW#a]]V:  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ><Mbea=U+  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ]i_):@  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 R!M|k%(  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 #L+s%OJ`  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 ^5zS2nm  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 JzS^9) &  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 QdG?"Bdt2  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 H$($l<G9C  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 5]2!B b6>  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 5p>]zij>  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 !&`7  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ogh2kht  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 \gPNHL*  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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