线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1089
时间地点 dp*E#XCr1  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 B8?j"AF  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 Z>ztFU  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Rh{`#dI~=  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Ksvk5r&y  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
'L G )78sk  
特邀专家介绍 (xMq(g  
i6xzHfaYG  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ?fNUmk^A<  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ,? V YrL  
课程概要 !>6`+$=U  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 !s[ gv1  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 0MN)Z(Sa  
课程大纲 N`7+] T  
1. Essential Macleod软件介绍 b:x*Hjf  
1.1 介绍软件 \d QRQL{LL  
1.2 创建一个简单的设计 )H%Rw V#  
1.3 绘图和制表来表示性能 `k3sl 0z%  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 -8&P1jrI  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) gg$:U  
1.6 特定设计的公式技术 OQ4rJ#b  
1.7 交互式绘图 2Kw i4R  
2. 光学薄膜理论基础 /B5rWJ2AS  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 r,wC5%&Za  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 K#dG'/M|Pb  
3. 材料管理 $A>]lLo0  
3.1 材料模型 k j&hn  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 &}VVr  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ?nD]p!  
3.4 基板光学常数的提取 dSbz$Fct  
4. 光学薄膜设计优化方法 ^aY,Wq  
4.1 参考波长与g p}q]GJ  
4.2 四分之一规则 hIwqSKq9  
4.3 导纳与导纳图 8!7`F.BX  
4.4 斜入射光学导纳 ^6 \@$   
4.5 光学薄膜设计的进展 f&C]}P  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 TR!7@Mu 3  
4.6.1 优化目标设置 GX%r-  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 2jyxP6t  
4.6.3 膜层锁定和链接 {$v>3FG  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 q (}#{OO  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Fc a_(jw  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 cfPQcB>A  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 1#nY Z%  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 9+:<RFJ  
5.5 如何在Function中编写脚本 8lF:70wia  
6. 光学薄膜系统案例 u(4o#m  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 d>x(Bj6  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 [<VyH.  
6.3 Stack应用范例说明 je=XZ's,i~  
7. 薄膜性能分析 Q$~_'I7~Mz  
7.1 电场分布 }dG>_/3  
7.2 公差与灵敏度分析 "qw.{{:tf  
7.3 反演工程 "Fqrk>Q~  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 i/F ].Sag  
8. 真空技术 &u~%5;  
8.1 常用真空泵介绍 xWKUti i  
8.2 真空密封和检漏 > @q4Uez  
9. 薄膜制备技术 Z+Ppd=||,  
9.1 常见薄膜制备技术 uar[D|DcD"  
10. 薄膜制备工艺 els71t -  
10.1 薄膜制备工艺因素 It5n;,n  
10.2 薄膜均匀性修正技术 64f6D"."  
10.3 光学薄膜监控技术 4m6%HV8{}[  
11. 激光薄膜 iayxN5,  
11.1 薄膜的损伤问题 \"$jj<gc  
11.2 激光薄膜的制备流程 Ve t<,;Te  
11.3 激光薄膜的制备技术 z A@w[.  
12. 光学薄膜特性测量 ` NWmwmWB"  
12.1 薄膜光谱测量 Ir3|PehB  
12.2 薄膜光学常数测量 ux>LciNq  
12.3 薄膜应力测量 | @p  
12.4 薄膜损伤测量 da5fKK/s  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 B-tLRLWn   
O\^D 6\ v  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
IdciGS6 t  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
Z4tc3e  
内容简介 K=!?gd!Vw  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 QykHB k  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ~{!,ZnO*  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 n2&M?MGX  
BmCBC,j<v>  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
o^<W3Z  
目录 ~JohcU}d  
Preface 1 a>Xq   
内容简介 2 I7jIA>ZZi  
目录 i qF4DX$$<  
1  引言 1 kk+:y{0V  
2  光学薄膜基础 2 |@*   
2.1  一般规则 2 mv1|oFVW  
2.2  正交入射规则 3 F1&7m )f$l  
2.3  斜入射规则 6 (eO_]<wmky  
2.4  精确计算 7 anFl:=  
2.5  相干性 8 *ZF:LOnU  
2.6 参考文献 10 2Q[q)u  
3  Essential Macleod的快速预览 10 @1)C3(=A  
4  Essential Macleod的特点 32 a,\GOy(q{  
4.1  容量和局限性 33 H^8t/h  
4.2  程序在哪里? 33 gBE1a w;  
4.3  数据文件 35 $lf\1)B~*  
4.4  设计规则 35 `-<m#HF:)d  
4.5  材料数据库和资料库 37 ;V)94YT  
4.5.1材料损失 38 BaE}|4  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 juBzpQYj  
4.5.2 材料库 41 X$ 76#x  
4.5.3导出材料数据 43 Vvk \ $'  
4.6  常用单位 43 t: qPW<wc  
4.7  插值和外推法 46 $ q$\  
4.8  材料数据的平滑 50 *mfPq"/  
4.9 更多光学常数模型 54 Xe\,:~  
4.10  文档的一般编辑规则 55 K yp(dp>  
4.11 撤销和重做 56 a8r+G]Z  
4.12  设计文档 57 W^dRA xVX  
4.10.1  公式 58 'pl){aL`@u  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 j0IuuJ+  
4.10.3  沉积密度 59 `pYL/[5  
4.10.4 平行和楔形介质 60 b ;t b&o  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 gBXJ/BW$y  
4.10.4  性能 61 EO \@#",a  
4.10.5  保存设计和性能 64 Zj2tQ}N  
4.10.6  默认设计 64 ~aRcA|`  
4.11  图表 64 w0$l3^}z  
4.11.1  合并曲线图 67 Lcy>!3q3~  
4.11.2  自适应绘制 68 e+P|PW  
4.11.3  动态绘图 68 ({p @Ay  
4.11.4  3D绘图 69 }J\KnaKo  
4.12  导入和导出 73  B<?fD  
4.12.1  剪贴板 73 +0FmeM&`h_  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Q4&<RWbT^  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 T|lyjX$Q]9  
4.13  背景 77 @)m+b;  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /A/k13 J  
4.15  生成Rugate 84 %TRH,-@3h  
4.16  参考文献 91  S]&7  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 &|) (lX  
5.1  Jobs 92 `PvGfmYOl  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 +G>;NiP_  
5.3  输入材料 94 fIcra  
5.4  设计数据文件夹 95 ' C|yUsBC  
5.5  默认设计 95 .%N*g[J  
6  细化和合成 97 ' 8bT9  
6.1  优化介绍 97 0qMf6  
6.2  细化 (Refinement) 98 .=-K7.X.)  
6.3  合成 (Synthesis) 100 LjA>H>8%[  
6.4  目标和评价函数 101 ?$FvE4!n  
6.4.1  目标输入 102 ,R;wk=k  
6.4.2  目标 103 (_O_zu8_  
6.4.3  特殊的评价函数 104 LuIs4&[EW  
6.5  层锁定和连接 104 7U{g'<  
6.6  细化技术 104 >QM$ NIf@  
6.6.1  单纯形 105 kVb8$Sp  
6.6.1.1 单纯形参数 106 OM 5h>\9  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 "Crm\UI6  
6.6.2.1 Optimac参数 108 [XP3  
6.6.3  模拟退火算法 109 ;'J{ylRQ  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 l<# *[TJ  
6.6.4  共轭梯度 111 "Hw%@  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 d6hso  
6.6.5  拟牛顿法 112 #s'  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 _K"X  
6.6.6  针合成 113 jNA^ (|:  
6.6.6.1 针合成参数 114 E-q*u(IW  
6.6.7 差分进化 114 ,ZLg=  
6.6.8非局部细化 115 t'0dyQ%u  
6.6.8.1非局部细化参数 115 tkGJ!aUt  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 _GK3]F0  
6.7.1  细化 116 5=--+8[ bV  
6.7.2  合成 117 lfp'D+#p {  
6.8  参考文献 117 mME a*9P  
7  导纳图及其他工具 118 K q0!.455  
7.1  简介 118 1RF? dv  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 #7A_p8  
7.2.1  四分之一波长规则 119 X%._:st  
7.2.2  导纳图 120 ^J=l]  l  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124  Gp/yr  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 uR7\uvibUO  
7.5  斜入射导纳图 141 *rk!`n&  
7.6  对称周期 141 N yK7TKui  
7.7  参考文献 142 z2QZ;ZjvRS  
8  典型的镀膜实例 143 V5{^R+_)Ya  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ;9R;D,Gk!  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ?#LbhO*   
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 DEw_dOJ(  
8.4  W-膜层 148 8f<[Bu ze  
8.5  V-膜层 149 S:En9E  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ] 7, mo  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 iZ3%'~K<3J  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 bvM a|;f1  
8.9  四层抗反射薄膜 153 1wa zJj=v  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ![BQ;X  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 2I#4jy/g  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 *SX'Or,  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 v@0lTl_  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 w8Mi: ;6  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 &ns !\!  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 t4H@ZvAH0  
8.17  1/4波长堆栈 162 YpT x1c-  
8.18  陷波滤波器 163 Tej-mr3P  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 lFNf/j^Z  
8.20  褶皱 165 :_q   
8.21  消偏振分光器1 169 s}d1 k  
8.22  消偏振分光器2 171 KGclo-,  
8.23  消偏振立体分光器 172 l*|^mx^Q  
8.24  消偏振截止滤光片 173 F-)lRGw  
8.25  立体偏振分束器1 174 ?5#Ng,8iT  
8.26  立方偏振分束器2 177 pH%cbBm  
8.27  相位延迟器 178 uLsGb=m%b  
8.28  红外截止器 179 >Udb*76 D  
8.29  21层长波带通滤波器 180 *@q+A1P7@  
8.30  49层长波带通滤波器 181 d))(hk:  
8.31  55层短波带通滤波器 182 lGI5  
8.32  47 红外截止器 183 o?f7_8fG  
8.33  宽带通滤波器 184 xP.B,1\X  
8.34  诱导透射滤波器 186 28;D>6c  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Vs~^r>  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 B8^tIq  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 5O Ob(  
8.35  增益平坦滤波器 193 p1Q[c0NMK  
8.38  啁啾反射镜 1 196 iAX\F`  
8.39  啁啾反射镜2 198 U n#7@8,  
8.40  啁啾反射镜3 199 6rEt!v #K[  
8.41  带保护层的铝膜层 200 @+ VvZc2Y  
8.42  增加铝反射率膜 201 2roPZj  
8.43  参考文献 202 nu] k<^I5|  
9  多层膜 204 3,bA&c3  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 FX"%  
9.2  内部透过率 204 Z1FO.[FV  
9.3 内部透射率数据 205 "3{xa;c  
9.4  实例 206 z[DUktZl  
9.5  实例2 210 PXcpROg56  
9.6  圆锥和带宽计算 212 H(ht{.sjI  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 w~EXO;L2  
10  光学薄膜的颜色 216 \^kyC1  
10.1  导言 216 XnQd(B`M  
10.2  色彩 216 BciwS_Qx  
10.3  主波长和纯度 220 )p"37Ct?  
10.4  色相和纯度 221 v.)'b e*u  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 fMr6ZmB  
10.6 色差 226 PKR0y%Ar  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 a}a_&rf~Z  
10.8  颜色渲染指数 234 2#LcL  
10.9  色差计算 235 BbZ-dXC<  
10.10  参考文献 236 =y8HOT}8  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 |2X Et\P  
11.1  短脉冲 238 5+GW% U/  
11.2  群速度 239 }$V]00 X  
11.3  群速度色散 241 YWeEvo(,=  
11.4  啁啾(chirped) 245 0k>NuIIP  
11.5  光学薄膜—相变 245 tnbaU%;|J  
11.6  群延迟和延迟色散 246 {a9Z<P  
11.7  色度色散 246 -8qLshQ  
11.8  色散补偿 249 8Uvf9,I'  
11.9  空间光线偏移 256 %4cUa| =?  
11.10  参考文献 258 Mk= tS+  
12  公差与误差 260 #$%9XD3  
12.1  蒙特卡罗模型 260 c6s*u%+},  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267  r_]wa  
12.2.1  误差工具 267 bvn?wK   
12.2.2  灵敏度工具 271 bslv_OxJ  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 KO<fN,DR  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 _%!C;`3Y  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 {$>*~.Wu  
12.3  参考文献 276 rx'},[b]3  
13  Runsheet 与Simulator 277 <"/Y`/  
13.1  原理介绍 277 + H_Jr'/  
13.2  截止滤光片设计 277 F&;g< SD  
14  光学常数提取 289 a@zKi;  
14.1  介绍 289 nG$*[7<0u  
14.2  电介质薄膜 289 BgD;"GD*W  
14.3  n 和k 的提取工具 295 TclZdk]%T  
14.4  基底的参数提取 302 8nQlmWpJ  
14.5  金属的参数提取 306 Gp$[u4-6M6  
14.6  不正确的模型 306 ~*Ve>4  
14.7  参考文献 311 eg) =^b  
15  反演工程 313 C;wN>HE  
15.1  随机性和系统性 313 JJ ,Fh .  
15.2  常见的系统性问题 314 .%3bXK+F  
15.3  单层膜 314 ~.AUy%$_g+  
15.4  多层膜 314 b`E0tZcJ  
15.5  含义 319 R+gh 2 6e  
15.6  反演工程实例 319 o&g=Z4jj<  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 5wRDH1z@{  
15.6.2 反演工程提取折射率 327  ;e()|  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 (SoV2[|  
16.1  光学性质的热致偏移 329 k$}XZ,Q  
16.2  应力工具 335 1 @E<5rp o  
16.3  均匀性误差 339 dI-=0v-|  
16.3.1  圆锥工具 339 CBs0>M/  
16.3.2  波前问题 341 5)V J  
16.4  参考文献 343  nq8mzI  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 I5F oh|)  
17.1  引言 345 Q0,]Q ]_  
17.2  操作数 345 FM0)/6I'x  
18  如何在Function中编写脚本 351 ~y_TT5+ 3  
18.1  简介 351 xv's52x  
18.2  什么是脚本? 351 ]0xbvJ8oK  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 2y#4rl1Utx  
18.4  基础 352 ;Y j_@=   
18.4.1  Classes(类别) 352 rYeFYPS  
18.4.2  对象 352 mR[J Xh9s  
18.4.3  信息(Messages) 352 jIZQ/xp8_  
18.4.4  属性 352  ,L\OhT  
18.4.5  方法 353 joAR;J  
18.4.6  变量声明 353 Z5[ t/  
18.5  创建对象 354 QZ"Lh  
18.5.1  创建对象函数 355 WY?(C@>s  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 .gv J;A7  
18.5.3 丢弃对象 356 7w|W\J^7r  
18.5.4  总结 356 jbn{5af  
18.6  脚本中的表格 357 P00d#6hPJ  
18.6.1  方法1 357 pJVzT,poh  
18.6.2  方法2 357 G#N h)ff  
18.7 2D Plots in Scripts 358 p<`q^D  
18.8 3D Plots in Scripts 359 4kT|/ bp  
18.9  注释 360 @&S4j]rq  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 %$Wt"~WE"O  
18.11  一个更高级的脚本 362 :!N 5daK  
18.12  <esc>键 364 [}9R9G>"  
18.13 包含文件 365 PsEm(.z  
18.14  脚本被优化调用 366 cA`R~o"  
18.15  脚本中的对话框 368 |M[E^  
18.15.1  介绍 368 E[Tz%x=P  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 _w Cp.[3?t  
18.15.3  输入框函数 370 .O3i"X]  
18.15.4  自定义对话框 371 WsL*P .J  
18.15.5  对话框编辑器 371 yps7MM-r  
18.15.6  控制对话框 377 >72j,0=e  
18.15.7  更高级的对话框 380 >VE,/?71@  
18.16 Types语句 384 PGP9-M  
18.17 打开文件 385 }v;@1[.B  
18.18 Bags 387 Dvo.yn|kB  
18.13  进一步研究 388 R8c1~'  
19  vStack 389 +su>0'a  
19.1  vStack基本原理 389 IW Lv$bPZ/  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 'vhgR2/  
19.3  五棱镜 393 s)_7*DY  
19.4 光束距离 396 6QLWF @  
19.5 误差 399 )T(xQ2&r4  
19.6  二向分色棱镜 399 {|^9y]VFu  
19.7  偏振泄漏 404 82YTd(yB  
19.8  波前误差—相位 405 8 %Lq~ lk  
19.9  其它计算参数 405 :tedtV ~  
20  报表生成器 406 p=coOWOQ  
20.1  入门 406 %njX'7^u  
20.2  指令(Instructions) 406 bkceR>h%  
20.3  页面布局指令 406 a"b9h{h@  
20.4  常见的参数图和三维图 407 S3MMyS8  
20.5  表格中的常见参数 408 M9_ y>N[0  
20.6  迭代指令 408 ,1Suq\ L  
20.7  报表模版 408 Ib*l{cxN  
20.8  开始设计一个报表模版 409 b DeHU$  
21  一个新的project 413 zKx?cEpE  
21.1  创建一个新Job 414 U!XC-RA3 _  
21.2  默认设计 415 g*N~r['dZ  
21.3  薄膜设计 416 q^JJ5{36e  
21.4  误差的灵敏度计算 420 "e69aAA,  
21.5  显色指数计算 422 ipQJn_:2  
21.6  电场分布 424 PM=Q\0  
后记 426 ^Gq4Yr  
D}SRr,4v  
0F1 a  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 zg.'  
ua0`&,a3I  
《Essential Macleod中文手册》
W% YJ.%I  
c;xL.  
目  录 U8c0N<j  
2Y(P hw2%  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 e=o<yf9>Q  
第1章 介绍 ..........................................................1 (8?t0}#t  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 8do]5FE  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 U-QK   
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 6;dQ#wmg  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 "6[' !rq0  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 1tDd4r?Y  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 }W#Gf.$6C  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 uH^/\  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 h1z[ElEeoP  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 (*;b\h  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 V()s! w  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 MOP/q4j[  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 )TP 1i  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 N|O/3:P<,U  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 IiHl"2+/  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 AY5%<CWj8  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 _VMW-trG  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 <ap%+(!I  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 7Y&W^]UZ0t  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 |g;hXr#~  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 `J|bGf#  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 WogJ~N,d53  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 :XxsDD  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 jmxjiJKP  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 O]DZb+O"  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ?[hIv6c  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 "a6[FqTs  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 v(W$\XH  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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