线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:932
时间地点 S&BJR!FQ  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 dm4dT59  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 | ?Js)i  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 J?Kgev%  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 nLZT3`@~,  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
J('p'SlI  
特邀专家介绍 UH8)r  
8YI.f  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 WFBg3#p  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 H^s@qh)L  
课程概要 /uSEG<D  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 sePOW#|  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 $;<h<#_n;  
课程大纲 pH&Q]u; O  
1. Essential Macleod软件介绍 maANxSzi  
1.1 介绍软件 2fc8w3  
1.2 创建一个简单的设计 c9e  }P  
1.3 绘图和制表来表示性能 ^0t81,`  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 54 8w v  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) C._I\:G^  
1.6 特定设计的公式技术 K%h83tm+  
1.7 交互式绘图 b2;Weu3WN  
2. 光学薄膜理论基础 ~mUP!f  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 )i; y4S  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 KZV$rJ%G  
3. 材料管理 ?5m[Qc (<  
3.1 材料模型 BaIh,iu  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 luZqW`?Bt  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ;F@dN,Y  
3.4 基板光学常数的提取 p\e*eV1dxx  
4. 光学薄膜设计优化方法 o?P(Fuf  
4.1 参考波长与g &libC>a[  
4.2 四分之一规则 /Ny/%[cu  
4.3 导纳与导纳图 BY: cSqAW  
4.4 斜入射光学导纳 ZMJ\C|S:  
4.5 光学薄膜设计的进展 vO" $Xw  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 F0Xv84:O  
4.6.1 优化目标设置 d87pQ3e:&  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) <wTkPErUG  
4.6.3 膜层锁定和链接 <PkDfMx2  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 j#%*@]>Tg  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 m^_)aS  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 )|/t}|DIx  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ))63?_  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 hD58 s"L$  
5.5 如何在Function中编写脚本 Jg|3Wjq5  
6. 光学薄膜系统案例 nLkC-+$tM  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 VIbm%b$~  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 =1n>vUW+J  
6.3 Stack应用范例说明 eU7RO  
7. 薄膜性能分析 'dj}- Rs  
7.1 电场分布 uXeBOLC  
7.2 公差与灵敏度分析 a(Z" }m  
7.3 反演工程 ;,*U,eV  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 X4i$,$C  
8. 真空技术 M 0->  
8.1 常用真空泵介绍 qd3B>f  
8.2 真空密封和检漏 C%#C|X193  
9. 薄膜制备技术 ]8YHA}P  
9.1 常见薄膜制备技术 ' 7>}I{Lq  
10. 薄膜制备工艺 LnZz=  
10.1 薄膜制备工艺因素 D]b5*_CT  
10.2 薄膜均匀性修正技术 r3ZY` zf  
10.3 光学薄膜监控技术 (m3p28Q?  
11. 激光薄膜 NLb/Bja  
11.1 薄膜的损伤问题 A@'):V8_%C  
11.2 激光薄膜的制备流程 y>8!qVX  
11.3 激光薄膜的制备技术 \@OKB<ra  
12. 光学薄膜特性测量 ycw'>W3.*  
12.1 薄膜光谱测量 Tjure]wQz  
12.2 薄膜光学常数测量 I+O !<S B  
12.3 薄膜应力测量 bz H5Lc{%  
12.4 薄膜损伤测量 iO#H_&L.p  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 h.'h L  
U$VTk  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
9>@_};l  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
1t!Mg{&e[x  
内容简介 xNxIqq<k  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 RW>Z~Nj  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 !^q<)!9<EO  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 RWTv,pLK  
@uY%;%Pa8  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
ZWf{!L,@Z  
目录 .:RoD?px  
Preface 1 "@` mPe/  
内容简介 2 # FaR?L![Y  
目录 i QS=n 50T,  
1  引言 1 `! m+g0  
2  光学薄膜基础 2 V^L;Nw5h  
2.1  一般规则 2 #C%<g:F8  
2.2  正交入射规则 3 L1)?5D  
2.3  斜入射规则 6 G=Ka{J  
2.4  精确计算 7 |Z 3POD"9  
2.5  相干性 8 6xz&Qi7w  
2.6 参考文献 10 l`$f@'k  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Pn7oQA\  
4  Essential Macleod的特点 32 qLYv=h$,  
4.1  容量和局限性 33 `q_7rrkO  
4.2  程序在哪里? 33 (nda!^f_s  
4.3  数据文件 35 (2qo9j"j/Y  
4.4  设计规则 35  mH?^3T  
4.5  材料数据库和资料库 37 o'Tqqrr  
4.5.1材料损失 38 !2&h=;i~V  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ?wwY8e?S  
4.5.2 材料库 41 ?Cu#(  
4.5.3导出材料数据 43 sMO3eNLn  
4.6  常用单位 43 #On1Q:d  
4.7  插值和外推法 46 fngZ0k!  
4.8  材料数据的平滑 50 \mc~w4B[)3  
4.9 更多光学常数模型 54 y'pG'"U]_  
4.10  文档的一般编辑规则 55 3Q`'C7Pi  
4.11 撤销和重做 56 A ;kAAM  
4.12  设计文档 57 Za}91z"  
4.10.1  公式 58 QX(:!b  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 2? !b!  
4.10.3  沉积密度 59 |Q:`:ODy`5  
4.10.4 平行和楔形介质 60 QT%&vq  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 O4$: xjs  
4.10.4  性能 61 wRie{Vk  
4.10.5  保存设计和性能 64 tO~H/0  
4.10.6  默认设计 64 P$4?-AZ  
4.11  图表 64 n}MG  
4.11.1  合并曲线图 67 ;utjW1y  
4.11.2  自适应绘制 68 _'j>xK  
4.11.3  动态绘图 68 #lVVSrF,-  
4.11.4  3D绘图 69 ,sLV6DM  
4.12  导入和导出 73 ]Uxx_1$,  
4.12.1  剪贴板 73 $k!@e M/R  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 S%%>&^5  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ;UPw;'  
4.13  背景 77 i1G}m Yz_  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 oN _% oc  
4.15  生成Rugate 84 NU 6P  
4.16  参考文献 91 HVu_@[SYR3  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 t5e(9Yhj  
5.1  Jobs 92 $V\xN(Ed  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 3{$c b"5  
5.3  输入材料 94 $rjv4e}7  
5.4  设计数据文件夹 95 bt j\v[D  
5.5  默认设计 95 ,:z@Ji  
6  细化和合成 97 bq ~'jg^#  
6.1  优化介绍 97 e dD(s5  
6.2  细化 (Refinement) 98 ((?^B  
6.3  合成 (Synthesis) 100 DTr0u}m  
6.4  目标和评价函数 101 7CQ48LH]  
6.4.1  目标输入 102 TUk1h\.q  
6.4.2  目标 103 l{y~N  
6.4.3  特殊的评价函数 104 zxsnrn;|  
6.5  层锁定和连接 104 o^AK@\e:^Z  
6.6  细化技术 104 7z+NR&' M$  
6.6.1  单纯形 105 St(7@)gvY  
6.6.1.1 单纯形参数 106 e|kYu[^  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 i.byHz?/  
6.6.2.1 Optimac参数 108 WnIh( 0  
6.6.3  模拟退火算法 109 ].1R~7b  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 cxmr|- ^  
6.6.4  共轭梯度 111 %l5J  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 52%.^/  
6.6.5  拟牛顿法 112 "kN5AeRg  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ("9)=x*5  
6.6.6  针合成 113 S:R%%cy  
6.6.6.1 针合成参数 114 #D}NT*w/  
6.6.7 差分进化 114 n ~ =]/  
6.6.8非局部细化 115 #~ >0Dr  
6.6.8.1非局部细化参数 115 &t6L8[#yd  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 L:%h]-  
6.7.1  细化 116 %F{@DN`  
6.7.2  合成 117 R a 9/L  
6.8  参考文献 117 02=eE|Y@  
7  导纳图及其他工具 118 2=U4'C4#  
7.1  简介 118 kszYbz"  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 NVOY,g=3X  
7.2.1  四分之一波长规则 119 {cG&l:-r  
7.2.2  导纳图 120 8cW]jm  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 w1iQ#.4K_  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 `|]juc  
7.5  斜入射导纳图 141 K@?S0KMK  
7.6  对称周期 141 oFY'Ek;d  
7.7  参考文献 142 EnfSVG8kB8  
8  典型的镀膜实例 143 vmk c]DC  
8.1  单层抗反射薄膜 145 G2em>W_n  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 (s \Nm_j  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 3tgct <"  
8.4  W-膜层 148 ;H}? 8L  
8.5  V-膜层 149 R2r0'Yx  
8.6  V-膜层高折射基底 150 |~uCLf>  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 G `TO[p]q  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 [Si`pPvl  
8.9  四层抗反射薄膜 153 )C <sj   
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 EpPKo  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 [dUW3}APV  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 kkh#VGh"  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 FVHEb\Z  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 )2:d8J\  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 /J5wwQ (:  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161  /pV^w  
8.17  1/4波长堆栈 162 glHHr  
8.18  陷波滤波器 163 0naegy?,  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 C~kw{g+|  
8.20  褶皱 165 Pc1vf]  
8.21  消偏振分光器1 169 ,Y}HP3  
8.22  消偏振分光器2 171 G;`+MgJ)  
8.23  消偏振立体分光器 172 ^gD&NbP8  
8.24  消偏振截止滤光片 173 z+Y0Zh";/#  
8.25  立体偏振分束器1 174 ve'hz{W  
8.26  立方偏振分束器2 177 y/ vE  
8.27  相位延迟器 178 .p <!2   
8.28  红外截止器 179 d)9=hp;,V  
8.29  21层长波带通滤波器 180 _>*TPlB  
8.30  49层长波带通滤波器 181 UKn>.,  
8.31  55层短波带通滤波器 182 (AV j_Cw  
8.32  47 红外截止器 183 J4=~.&6  
8.33  宽带通滤波器 184 "y#$| TMB  
8.34  诱导透射滤波器 186 02?y%  
8.35  诱导透射滤波器2 188 vr2tMD  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 SmC91XO  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 +.gZILw  
8.35  增益平坦滤波器 193 i. 6c;KU  
8.38  啁啾反射镜 1 196 b$%W<D  
8.39  啁啾反射镜2 198 U H `=  
8.40  啁啾反射镜3 199  O &;Cca  
8.41  带保护层的铝膜层 200 E ekX|*  
8.42  增加铝反射率膜 201 z GA1  
8.43  参考文献 202 #sN]6  
9  多层膜 204 }-!0d*I  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 r m\]  
9.2  内部透过率 204 8)/d8@  
9.3 内部透射率数据 205 f6u<.b  
9.4  实例 206 =J<3B H^m  
9.5  实例2 210 }~y i6!w'  
9.6  圆锥和带宽计算 212 l*":WzRGvF  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 q\/ph(HF  
10  光学薄膜的颜色 216 /Rf:Z.L  
10.1  导言 216 2old})CLJ  
10.2  色彩 216 (gQP_Oa(  
10.3  主波长和纯度 220 RG0kOw0  
10.4  色相和纯度 221 2.qEy6  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 *3d+ !#;rG  
10.6 色差 226 O,x[6P54P  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ?^n),mR  
10.8  颜色渲染指数 234 Vo"Wr>F  
10.9  色差计算 235 kZ>_m &g  
10.10  参考文献 236 B/0Xqyu  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 jEVDz  
11.1  短脉冲 238 oIrO%v:'!  
11.2  群速度 239 =;ClOy9  
11.3  群速度色散 241 j 4!$[h  
11.4  啁啾(chirped) 245 UQ c!"D  
11.5  光学薄膜—相变 245 e#!%:M;4P  
11.6  群延迟和延迟色散 246 k#liYw I  
11.7  色度色散 246 ($'W(DH4  
11.8  色散补偿 249 c#( Hh{0  
11.9  空间光线偏移 256 X6 *4IE  
11.10  参考文献 258 X|y(B%:  
12  公差与误差 260 %<8`(Uu5  
12.1  蒙特卡罗模型 260 !K*(# [  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ``4e&  
12.2.1  误差工具 267 y)vK=,"  
12.2.2  灵敏度工具 271 0Un?[O  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ,cE yV74  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 @ <(4J   
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Pm&hv*D  
12.3  参考文献 276 _rM?g1}5j  
13  Runsheet 与Simulator 277 n&OM~Vs  
13.1  原理介绍 277 }C4wED.  
13.2  截止滤光片设计 277 Kv0V`}<Yc  
14  光学常数提取 289 J?{@pA  
14.1  介绍 289 iR?}^|]  
14.2  电介质薄膜 289 2Pow-o*r  
14.3  n 和k 的提取工具 295 G?kK:eV  
14.4  基底的参数提取 302 @@JyCUd  
14.5  金属的参数提取 306 1r$*8 |p  
14.6  不正确的模型 306 )Zf1%h~0r  
14.7  参考文献 311 ls7eypKR  
15  反演工程 313 !7Eodq-0  
15.1  随机性和系统性 313 `+z^#3l  
15.2  常见的系统性问题 314 i/j53towe  
15.3  单层膜 314 -M/j&<;LW  
15.4  多层膜 314 vAp<Muj(a  
15.5  含义 319 FFa =/XB"  
15.6  反演工程实例 319 *5IB@^<  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 KpA1Ac)T  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 m/z,MT74*J  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 mG"xo^1_H  
16.1  光学性质的热致偏移 329 H2H`7 +I,  
16.2  应力工具 335 CYRZ2Yrk?"  
16.3  均匀性误差 339 _j+!Fd  
16.3.1  圆锥工具 339 $=iw<B r  
16.3.2  波前问题 341 K!]a+M]>  
16.4  参考文献 343  ^M{,{bG  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 sUF9_W5z  
17.1  引言 345 `78Bv>[A  
17.2  操作数 345 |lt]9>|  
18  如何在Function中编写脚本 351 q3AqU?f  
18.1  简介 351 6<EGH*GQ$  
18.2  什么是脚本? 351 h5SJVa  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 7:,f|>  
18.4  基础 352 x-"8V(  
18.4.1  Classes(类别) 352 %x N${4)6  
18.4.2  对象 352 T'9ZR,{F  
18.4.3  信息(Messages) 352 3 P9ux  
18.4.4  属性 352 XEQTTD<  
18.4.5  方法 353 T]ls&cW5  
18.4.6  变量声明 353 Dn6U8s&  
18.5  创建对象 354 d2V X\  
18.5.1  创建对象函数 355 sxsb)a  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 _bGkJ=  
18.5.3 丢弃对象 356 =e4 r=I  
18.5.4  总结 356 ];Z6=9n  
18.6  脚本中的表格 357 L8 L1_  
18.6.1  方法1 357 ,$0-I@*V  
18.6.2  方法2 357 oQ 2$z8  
18.7 2D Plots in Scripts 358 _]-4d_&3(  
18.8 3D Plots in Scripts 359 &W,jR|B  
18.9  注释 360 g:>'+(H;  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 -~mgct5  
18.11  一个更高级的脚本 362 #,%7tXOLR  
18.12  <esc>键 364 v8)"skVnFG  
18.13 包含文件 365 ? 3=G'Ip5n  
18.14  脚本被优化调用 366 e"ehH#i  
18.15  脚本中的对话框 368 Gq^vto  
18.15.1  介绍 368 27EK +$  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 H+4j.eVzZU  
18.15.3  输入框函数 370 1Y|a:){G  
18.15.4  自定义对话框 371 xSm;~')g  
18.15.5  对话框编辑器 371 $iu[-my_  
18.15.6  控制对话框 377 8.i4QaU  
18.15.7  更高级的对话框 380 D7;9D*o\  
18.16 Types语句 384 m[^lu1\wn  
18.17 打开文件 385 } o%^ Mu B  
18.18 Bags 387 Snx!^4+MF  
18.13  进一步研究 388 dE7S[O  
19  vStack 389 [ QiG0D_'=  
19.1  vStack基本原理 389 rZ~w_DK*  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 2yZr!Rb~*  
19.3  五棱镜 393 E5w;75,  
19.4 光束距离 396 iQ;p59wSzL  
19.5 误差 399 Q?#I{l)V(  
19.6  二向分色棱镜 399 Dwp,d~z  
19.7  偏振泄漏 404 7l D-|yx  
19.8  波前误差—相位 405 w G%W{T$  
19.9  其它计算参数 405 xG9Sk  
20  报表生成器 406 i"WYcF |  
20.1  入门 406 k, HC"?K  
20.2  指令(Instructions) 406 {FNkPX  
20.3  页面布局指令 406 ']r8q %  
20.4  常见的参数图和三维图 407 0NXH449I=  
20.5  表格中的常见参数 408 J@s>Pe)  
20.6  迭代指令 408  Y{p$%  
20.7  报表模版 408 " 8xAe0-4  
20.8  开始设计一个报表模版 409 i[o 2(d,  
21  一个新的project 413 1~5DIU^  
21.1  创建一个新Job 414 xu2 KEwgb  
21.2  默认设计 415 23s;O))  
21.3  薄膜设计 416 iwotEl0*{  
21.4  误差的灵敏度计算 420 S#7YJ7 K"N  
21.5  显色指数计算 422 'X^auyL  
21.6  电场分布 424 aD^$v  
后记 426 eTiTS*`u  
-8Jw_  
"& ,ov#  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 JvpGxj  
6l#x1o;  
《Essential Macleod中文手册》
.ZpOYhk  
K^Awf6%  
目  录 Lo%n{*if  
CU'JvVe3  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 -V2\s  
第1章 介绍 ..........................................................1 #BC"bY  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 [#PE'i4  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 U2q6^z4l  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 rUiYR]mV  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 WYP;s7_  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ^*K=wE}AG  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 %#HU~X:  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 h051Ol\v*  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 b)LT[>f  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 BVQy@:K/  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 !+l'<*8V  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 ?'a8QJo  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149  : T*Q2  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 al2t\Iq90  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 bSB%hFp=Cp  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 (WM3(US|  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 C]`uC^6g  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 *{g3ia  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 YR%iZ"`*+O  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 +iVEA(0&$  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 p3Sh%=HE'  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ~zVxprEf_  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 7=!9kk0  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 $#Pxf  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 x9_mlZ  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Z_d"<k}I  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 (eHyas %X  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 k]b*&.EY1  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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