线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:601
时间地点  _cj=}!I  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 / o I 4&W  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 B RskxyL&,  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 "bF52lLu  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 M \  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
V$O6m|q  
特邀专家介绍 LjTSu9I>  
N N1}P'6Ha  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Ui"{0%  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 79@CO6  
课程概要 oz)4YBf  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 1"75+Q>D  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 e&U$;sS`  
课程大纲 Wf"GA i  
1. Essential Macleod软件介绍 _$5DK%M}  
1.1 介绍软件 n%#3xo a  
1.2 创建一个简单的设计 "~._G5i.  
1.3 绘图和制表来表示性能 SQn.`0HT  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 _*%K!%}l=  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) =~Qg(=U0U  
1.6 特定设计的公式技术 ^v'0\(H?P  
1.7 交互式绘图  C=@4U}  
2. 光学薄膜理论基础 US(RWXyg  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 /|i*'6*  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 j/=Tj'S?D  
3. 材料管理 E;x-O)(&  
3.1 材料模型 G9LWnyQt  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 {FKr^)g  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 #$-?[c$>  
3.4 基板光学常数的提取 : [328X2  
4. 光学薄膜设计优化方法 v @0G^z|  
4.1 参考波长与g U5H%wA['m  
4.2 四分之一规则 5QuRwu_  
4.3 导纳与导纳图 e98QT9  
4.4 斜入射光学导纳 UH}lKc=t  
4.5 光学薄膜设计的进展 +hr|$  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 "0[`U(/  
4.6.1 优化目标设置 K8MET&  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) d=%NFCIV  
4.6.3 膜层锁定和链接 LQ4:SV'3  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ]k^?=  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 2w8cJadT'p  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 a{Y|`*7y  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 T$%QK?B  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 amC)t8L?  
5.5 如何在Function中编写脚本 U&u63 56  
6. 光学薄膜系统案例 gj @9(dk%  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 LO)!Fj4|  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 `N.:3]B t  
6.3 Stack应用范例说明 Z'y&11  
7. 薄膜性能分析 =<p=?16 x  
7.1 电场分布 R2a99#J  
7.2 公差与灵敏度分析 Xm>zT'B_tJ  
7.3 反演工程 y$]<m+1  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 2&n6:"u|  
8. 真空技术 ;<Hk Cd  
8.1 常用真空泵介绍 BA1uo0S `S  
8.2 真空密封和检漏 *8?2+ )5"  
9. 薄膜制备技术 Uoe;=P@  
9.1 常见薄膜制备技术 em3+V  
10. 薄膜制备工艺 JN+7o h]u  
10.1 薄膜制备工艺因素 l~o!(rpX  
10.2 薄膜均匀性修正技术 z{\tn.67  
10.3 光学薄膜监控技术 lW-h @  
11. 激光薄膜 XWS]4MB+vm  
11.1 薄膜的损伤问题 YSt*uOZK  
11.2 激光薄膜的制备流程 `G\Gk|4; 2  
11.3 激光薄膜的制备技术 saiXFM 7J  
12. 光学薄膜特性测量 gFHBIN;u  
12.1 薄膜光谱测量 J QnaXjW2  
12.2 薄膜光学常数测量 RIXeV*ix  
12.3 薄膜应力测量 Q\kWQOB_  
12.4 薄膜损伤测量 gs3(B/";c  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 b)KEB9w  
xcWR#z{z  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
ZM-P  
内容简介 cYg J}(>}  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Y=G`~2Pr=  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 kOD=H-vSi  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 dLb$3!3  
p:y\{k"  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
C/Z#NP~ *  
目录 QCZ88 \jX[  
Preface 1 3\j`g  
内容简介 2 N6-7RoA+  
目录 i cb]X27uww  
1  引言 1 7{O iV}]"  
2  光学薄膜基础 2 c:.5@eq^  
2.1  一般规则 2 d}:- Q?  
2.2  正交入射规则 3 *izCXfW7  
2.3  斜入射规则 6 TBPu&+3  
2.4  精确计算 7 mJ<`/p?:  
2.5  相干性 8 Ly8=SIZ   
2.6 参考文献 10 }M%3  
3  Essential Macleod的快速预览 10 !`?i>k?Q E  
4  Essential Macleod的特点 32 iu8Q &Us0P  
4.1  容量和局限性 33 Mi|13[p{  
4.2  程序在哪里? 33 j#2Xw25  
4.3  数据文件 35 "o`?-bQ:  
4.4  设计规则 35 ZwsQ}5  
4.5  材料数据库和资料库 37 qCcLd7`$  
4.5.1材料损失 38 i;C` .+  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 0{ mm%@o  
4.5.2 材料库 41 .W~XX  
4.5.3导出材料数据 43 }B7Txo,Z  
4.6  常用单位 43 ~8nR3ki  
4.7  插值和外推法 46 &2XH.$Q  
4.8  材料数据的平滑 50 "y"oV[`  
4.9 更多光学常数模型 54 "i#g [x  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ohKoX$|p~  
4.11 撤销和重做 56 5?`4qSUz  
4.12  设计文档 57 ~$K{E[^<  
4.10.1  公式 58 IKP_%R8.  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 [q!]Ds" _  
4.10.3  沉积密度 59 N9G xJ6  
4.10.4 平行和楔形介质 60 $}tF66d  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 o"X..m<  
4.10.4  性能 61 d)!'5Zr M  
4.10.5  保存设计和性能 64 GNv{ Ij<  
4.10.6  默认设计 64 G) KI{D  
4.11  图表 64 }FS_"0  
4.11.1  合并曲线图 67 n4dNGp7\`  
4.11.2  自适应绘制 68 @, fvWNI  
4.11.3  动态绘图 68 W|fE]RY  
4.11.4  3D绘图 69 O DN_i  
4.12  导入和导出 73 t27UlFX  
4.12.1  剪贴板 73 Pd&KAu|<`  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 hu0z 36  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ,5W u  
4.13  背景 77 bR"4:b>K  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 mB>0$l y  
4.15  生成Rugate 84 H*k\C  
4.16  参考文献 91 "t^RZ45  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 B/a`5&G]  
5.1  Jobs 92 ${z#{c1  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 !5De?OXe   
5.3  输入材料 94 ;5X~"#%U_  
5.4  设计数据文件夹 95 Rl cL(HM  
5.5  默认设计 95 Axb=1_--  
6  细化和合成 97 NbU4|O i  
6.1  优化介绍 97 z{ eZsh b  
6.2  细化 (Refinement) 98 T:kliM"z  
6.3  合成 (Synthesis) 100 qB_s<cpn>  
6.4  目标和评价函数 101 J1O1! .  
6.4.1  目标输入 102 wX2U   
6.4.2  目标 103 X);'[/]E*  
6.4.3  特殊的评价函数 104 b(|&e  
6.5  层锁定和连接 104 ~fD\=- S1  
6.6  细化技术 104 ",aNYJR>*!  
6.6.1  单纯形 105 9>- 6Y  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Lb Jf5xdi  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ^g(qP tQ  
6.6.2.1 Optimac参数 108 9a=:e=q3#  
6.6.3  模拟退火算法 109 m,kYE9 {  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 @Hp%4$=  
6.6.4  共轭梯度 111 ~tfd9,t  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 30WOH 'n  
6.6.5  拟牛顿法 112 #J/RI[a  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 bnkZWw'9  
6.6.6  针合成 113 Y5CkCF  
6.6.6.1 针合成参数 114 /"`hz6rIv  
6.6.7 差分进化 114 ?0dmw?i  
6.6.8非局部细化 115 "#pxZ B=  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Jf= V<  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 <ivG(a*=]  
6.7.1  细化 116 Z}0{FwW"4  
6.7.2  合成 117 rlh:| #GTJ  
6.8  参考文献 117 Xa>'DO2  
7  导纳图及其他工具 118 HFjSM~  
7.1  简介 118 T$0)un  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 |) ~-Wy  
7.2.1  四分之一波长规则 119 qm/>\4eLt  
7.2.2  导纳图 120  $L uU  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 $2*_7_Qb  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 qY%|Uo  
7.5  斜入射导纳图 141 4=^Ha%l  
7.6  对称周期 141 gzhIOeY  
7.7  参考文献 142 ]m`:T  
8  典型的镀膜实例 143 FsOJmWZ  
8.1  单层抗反射薄膜 145 i75\<X  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 1O0)+9T82  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 yy/'B:g  
8.4  W-膜层 148 ^zT=qB l  
8.5  V-膜层 149 7P2(q  
8.6  V-膜层高折射基底 150 _oa*E2VN  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 |PYyhY  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *iru>F8r:  
8.9  四层抗反射薄膜 153  I*f@^(  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 `Mg3P_}=  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 E71H=C 4  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 'W9[Vm  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 M9fQ,<c<6  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 6v scu2  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 v]@ XyF\j8  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 : i.5 < f  
8.17  1/4波长堆栈 162 }U>K>"AZl  
8.18  陷波滤波器 163 v~AshmP  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 b-VQn5W  
8.20  褶皱 165 xv147"w'v  
8.21  消偏振分光器1 169 ]b;a~Y0  
8.22  消偏振分光器2 171 fO5L[U^`  
8.23  消偏振立体分光器 172 {I0!q"sF  
8.24  消偏振截止滤光片 173 _-{=Z=?6}  
8.25  立体偏振分束器1 174 ]QY-L O(  
8.26  立方偏振分束器2 177 _?felxG[  
8.27  相位延迟器 178 WRbdv{ 1E  
8.28  红外截止器 179 -@w}}BR  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ,H?e23G  
8.30  49层长波带通滤波器 181 DsxNg  
8.31  55层短波带通滤波器 182 hEo$Jz`  
8.32  47 红外截止器 183 so.}WU  
8.33  宽带通滤波器 184 yRQ1Szbjli  
8.34  诱导透射滤波器 186 ^Ar1V!PFk  
8.35  诱导透射滤波器2 188 (aJ$1bT=T  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190  nXy"  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 !W&|kvT^  
8.35  增益平坦滤波器 193 /8:e| ]  
8.38  啁啾反射镜 1 196 e)-$ #qW  
8.39  啁啾反射镜2 198 <x<qO=lq  
8.40  啁啾反射镜3 199 B/Q>i'e  
8.41  带保护层的铝膜层 200 8* m,#   
8.42  增加铝反射率膜 201 O:,Gmft+  
8.43  参考文献 202 t vW0 W  
9  多层膜 204 JY:Fu  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ".AW   
9.2  内部透过率 204 rKOa9M  
9.3 内部透射率数据 205 JB5%\   
9.4  实例 206 )2d1@]6#  
9.5  实例2 210 )9/iH(  
9.6  圆锥和带宽计算 212 5xUZeLj  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 lxD~l#)^ln  
10  光学薄膜的颜色 216 M`=\ijUwN  
10.1  导言 216 75P!`9bE  
10.2  色彩 216 uJ1oo| sn  
10.3  主波长和纯度 220 LoJEchRK  
10.4  色相和纯度 221 {<Y!'WL{  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 }(na)B{m  
10.6 色差 226 $*XTX?,'  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 F!I9)PSj  
10.8  颜色渲染指数 234 1z,P"?Q  
10.9  色差计算 235 $_HyE%F#  
10.10  参考文献 236 ?)Gb=   
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 9}K K]m6u}  
11.1  短脉冲 238 rnMi >?  
11.2  群速度 239 WqCER^~'>  
11.3  群速度色散 241 f@Ve,i  
11.4  啁啾(chirped) 245 Zl!  
11.5  光学薄膜—相变 245 vgNrHq&2q  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ei]Q<vT6  
11.7  色度色散 246 s"tH?m )6  
11.8  色散补偿 249 HDE5Mg "  
11.9  空间光线偏移 256 Bbb":c6w0  
11.10  参考文献 258 @YS,)U)4S  
12  公差与误差 260 CAA 3-"Cwi  
12.1  蒙特卡罗模型 260 97>|eDc Y  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 7<8'7<X  
12.2.1  误差工具 267 3-0jxx(  
12.2.2  灵敏度工具 271 i3(5 '  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 `'(@"-L:7  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 fgo3Gy*#  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 /bC@^Y&}  
12.3  参考文献 276 5Ktll~+:#  
13  Runsheet 与Simulator 277 H\<PGC"_Y  
13.1  原理介绍 277 "KC3+:tm  
13.2  截止滤光片设计 277 ?WS.RBe2  
14  光学常数提取 289 us:v/WTQ  
14.1  介绍 289 S!R (ae^}  
14.2  电介质薄膜 289 s9u7zqCF  
14.3  n 和k 的提取工具 295 #aP;a-Q|k  
14.4  基底的参数提取 302 O15~\8#'  
14.5  金属的参数提取 306 b!EqYT  
14.6  不正确的模型 306 3)^ 2X  
14.7  参考文献 311  $iH  
15  反演工程 313 'Ze& LQ  
15.1  随机性和系统性 313 Cq\{\!6[  
15.2  常见的系统性问题 314 WUx2CK2N  
15.3  单层膜 314 fB4zqMSfE  
15.4  多层膜 314 W,t`DMC  
15.5  含义 319 r6:nYyF$)v  
15.6  反演工程实例 319 Bq,Pk5b  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ?U*sH2F  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 <V8=*n"mR  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 rO,n~|YJ  
16.1  光学性质的热致偏移 329 aMgg[g9>t  
16.2  应力工具 335 0|rdI,z  
16.3  均匀性误差 339 _z"\3hZ  
16.3.1  圆锥工具 339 EiA_9%<  
16.3.2  波前问题 341 BJZGQrsz  
16.4  参考文献 343 w-wJhc|  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 l2LO,j}  
17.1  引言 345 ) d=&X|S>  
17.2  操作数 345 SR/ "{\C  
18  如何在Function中编写脚本 351 m O0#xY_z  
18.1  简介 351 ~~,#<g[  
18.2  什么是脚本? 351 5XNFu C9E  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 aU] nh. a  
18.4  基础 352  A1jA$  
18.4.1  Classes(类别) 352 3"6-X_  
18.4.2  对象 352 yyjgPbLN=  
18.4.3  信息(Messages) 352 ,z$ U=u o  
18.4.4  属性 352 p1\E C#Q  
18.4.5  方法 353 1lv. @-  
18.4.6  变量声明 353 ,fs>+]UY3  
18.5  创建对象 354 Hg[AulNna  
18.5.1  创建对象函数 355 `9G1Bd8k  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 g$Ns u:L  
18.5.3 丢弃对象 356 73E[O5?b  
18.5.4  总结 356 qd [Z\B  
18.6  脚本中的表格 357 rf2-owWN  
18.6.1  方法1 357 G4f%=Z  
18.6.2  方法2 357 ]=5D98B  
18.7 2D Plots in Scripts 358 _M[T8"e(  
18.8 3D Plots in Scripts 359 *3y:Wv T>  
18.9  注释 360 I}/-zyx>=  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 pW2-RHGJY  
18.11  一个更高级的脚本 362 @0%^\Qf2  
18.12  <esc>键 364 kc"SUiy/  
18.13 包含文件 365 Ktf lbI!  
18.14  脚本被优化调用 366 G^w:c]  
18.15  脚本中的对话框 368 F:2V;  
18.15.1  介绍 368 =Wl}Pgo!  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 |H-zm&h>'  
18.15.3  输入框函数 370 :YN,cId*  
18.15.4  自定义对话框 371 '.tg\]|  
18.15.5  对话框编辑器 371 v6KF0mqA&  
18.15.6  控制对话框 377 2-u9%  
18.15.7  更高级的对话框 380 3C;nC?]K  
18.16 Types语句 384 'Y-Y By :  
18.17 打开文件 385 m[?gN&%nc  
18.18 Bags 387 k*= #XbX  
18.13  进一步研究 388 cpBTi  
19  vStack 389 9GVv[/NAb  
19.1  vStack基本原理 389 Nc[u?-  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ns !Mqcm  
19.3  五棱镜 393 {o.i\"x;  
19.4 光束距离 396 Qw/H7fvh&  
19.5 误差 399 A{QA0X!p  
19.6  二向分色棱镜 399 s4{>7`N2  
19.7  偏振泄漏 404 2z0 27P-Q  
19.8  波前误差—相位 405 p EbyQ[  
19.9  其它计算参数 405 ."JtR  
20  报表生成器 406 6J%yo[A(w  
20.1  入门 406 '"Y(2grP  
20.2  指令(Instructions) 406 si3@R?WR6*  
20.3  页面布局指令 406 .uu[MzMIu  
20.4  常见的参数图和三维图 407 G![JRJxQ  
20.5  表格中的常见参数 408 4BAG GD2  
20.6  迭代指令 408 '#@tovr  
20.7  报表模版 408 R8<P}mv  
20.8  开始设计一个报表模版 409 L)j<;{J/Q0  
21  一个新的project 413 Mi&jl_&  
21.1  创建一个新Job 414 f 8836<c  
21.2  默认设计 415 )Fh5*UC  
21.3  薄膜设计 416 5\eM3w'd  
21.4  误差的灵敏度计算 420 YhNO{4D  
21.5  显色指数计算 422 @a}jnl(2  
21.6  电场分布 424 uu+)r  
后记 426 K';x2ffj  
$fl+l5?9  
#Vi:-zyY  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 u~q6?*5  
V`XtGTx  
《Essential Macleod中文手册》
:LEC[</yvl  
H|*Ual  
目  录 @fG 'X  
K/ 5U;oC  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 /32x|Ow# 1  
第1章 介绍 ..........................................................1 %?z8*G]M  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 vX/("[  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Doc_rQYku  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Tg ~SGAc  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 tDIQ=  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 TdWatvY5p  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 Y ]6kA5  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 @j|=M7B  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 'WQ?%da  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 9S]]KEGn4  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 p?XVO#  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 o6T'U#7P  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 3r-oZ8/n  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 o-_H+p6a  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 U/l3C(bc!  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 lLi)?  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 4RoE>m1[G  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 >s|zr S)  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 .bvEE  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 Vx*O^cM  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 {kNV|E  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 pa8R;A70Dl  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 RJk42;]  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 !)$e+o^W  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 !b4v}70,  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 "9bd;Tt:  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 5l[&-: (Lh  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 NY3.?@Z  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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