线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:717
时间地点 xB#E&}Ho  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 B^{DCHu/  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 Lif mYn[  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 K km7L-  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 >Ko )Z&j9W  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 ~S9nLb:O{  
Pcc%VQN  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 A 3l1$t#w  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 I$&/?ns@O  
课程概要 -~g3?!+Hb  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Yu=^`I  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 >J1o@0tk  
课程大纲 =zKp(_[D  
1. Essential Macleod软件介绍 TH-^tw  
1.1 介绍软件 \Ip<bbB0  
1.2 创建一个简单的设计 Y~6pJNR  
1.3 绘图和制表来表示性能 6-~  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 7~&Y"&  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) g=.5*'Xlp  
1.6 特定设计的公式技术 Dcf`+?3  
1.7 交互式绘图 }|d:(*  
2. 光学薄膜理论基础 ?#'qY6 ^  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 BI s!  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 tXx9N_/  
3. 材料管理 \ gN) GR  
3.1 材料模型 -:QyWw/d  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 *QVE>{  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 2-~oNJqX  
3.4 基板光学常数的提取 fITml6mbE  
4. 光学薄膜设计优化方法 M\%{!Wzo8  
4.1 参考波长与g 9fiZ5\  
4.2 四分之一规则 U6Qeode  
4.3 导纳与导纳图 |Yx8Ez  
4.4 斜入射光学导纳 1#V0g Q  
4.5 光学薄膜设计的进展 [q z6_WOo  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ;u%hwlo  
4.6.1 优化目标设置 :X#(T- !t  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 3 R m$  
4.6.3 膜层锁定和链接 Z6=!}a%  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 C9z{8 ;  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 /c7j@=0  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 \=@}(<4  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ><=af 9T  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 PQK_*hJG"  
5.5 如何在Function中编写脚本 ;KhYh S(q  
6. 光学薄膜系统案例 W)l&4#__(  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Q*wx6Pu8  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 xU&rUk/L  
6.3 Stack应用范例说明 e#seqx  
7. 薄膜性能分析 ^Iz.O  
7.1 电场分布 ,uw &)A  
7.2 公差与灵敏度分析 @6E[K'5c1  
7.3 反演工程 %F7aFvl*  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 0MOAd!N  
8. 真空技术 Hq~ 2,#Ue  
8.1 常用真空泵介绍 U+ 8[Ia(t  
8.2 真空密封和检漏 8c~H![2u  
9. 薄膜制备技术 o^ 4+eE  
9.1 常见薄膜制备技术 M]W4S4&Y=  
10. 薄膜制备工艺 29GiNy+ob  
10.1 薄膜制备工艺因素 M_e! s}F  
10.2 薄膜均匀性修正技术 1vThb  
10.3 光学薄膜监控技术 4 qnQF]4  
11. 激光薄膜 5u&jNU5m_  
11.1 薄膜的损伤问题 T:-Uy&pBEN  
11.2 激光薄膜的制备流程 VS` S@+p  
11.3 激光薄膜的制备技术 bIH2cJ  
12. 光学薄膜特性测量 suVS!} C  
12.1 薄膜光谱测量 RPrk]<<1  
12.2 薄膜光学常数测量 `XD$1>  
12.3 薄膜应力测量 2|cIu 'U  
12.4 薄膜损伤测量 "[%NXan  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 Ua:EI!`  
acH.L _B:  
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TQ BL!w  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
E )PEKWK\  
内容简介 83dOSS2  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ovHbs^H%  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 5!Guf?i  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 1/gh\9h  
HCP Be2  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
q\~7z1   
目录 QW!'A`*x  
Preface 1 v|hi;l@7E  
内容简介 2 >8,BC  
目录 i ^8 z*f&g  
1  引言 1 (/)JnBy0  
2  光学薄膜基础 2 &8(2U-  
2.1  一般规则 2 j_{gk"2:d`  
2.2  正交入射规则 3 |h'ugx1iY  
2.3  斜入射规则 6 UKzmRa,s  
2.4  精确计算 7 4, :D4WYWD  
2.5  相干性 8 @<Y Za$`  
2.6 参考文献 10 oU2RxK->u  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Ro1l:P)C`  
4  Essential Macleod的特点 32 QCjmg5bf'7  
4.1  容量和局限性 33 J@$>d  
4.2  程序在哪里? 33 Ywni2-)<  
4.3  数据文件 35 cB<Zez  
4.4  设计规则 35 c>^_4QQ  
4.5  材料数据库和资料库 37 -H]svOX  
4.5.1材料损失 38 3"B|w^6'2  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 aw,8'N)  
4.5.2 材料库 41 H'Po  
4.5.3导出材料数据 43 7(oxmv}#Q  
4.6  常用单位 43 8-m"]o3  
4.7  插值和外推法 46 rg $71Ir  
4.8  材料数据的平滑 50 ,^'Y7"  
4.9 更多光学常数模型 54 v\<`"  
4.10  文档的一般编辑规则 55 bi_R.sfK&  
4.11 撤销和重做 56 _[<I&^%  
4.12  设计文档 57 ?GFVV->i  
4.10.1  公式 58 gcz1*3)  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 s^AYPmR6  
4.10.3  沉积密度 59 ZpwB"%e$  
4.10.4 平行和楔形介质 60 s_]rje8`  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 @P8q=j}l9  
4.10.4  性能 61 ]\GGC]:\@  
4.10.5  保存设计和性能 64 ?=\h/C  
4.10.6  默认设计 64 4(Mt6{q  
4.11  图表 64 Z8:iaP)  
4.11.1  合并曲线图 67 IX3r$}4  
4.11.2  自适应绘制 68 gDA hl  
4.11.3  动态绘图 68 osnDW aN  
4.11.4  3D绘图 69 h;B'#$_  
4.12  导入和导出 73 Q8P;AN_JS  
4.12.1  剪贴板 73 'al-C;Z  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 9eV@v  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 dCc*<S  
4.13  背景 77 DF-og*V  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 UH)A n:9  
4.15  生成Rugate 84 f",B;C  
4.16  参考文献 91 }wiq?dr  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 W}EO]A%f.\  
5.1  Jobs 92 h[ t OY  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 (;s \Ip0  
5.3  输入材料 94 1sgoT f%  
5.4  设计数据文件夹 95 8*|@A6ig  
5.5  默认设计 95 j6Vuj/+}  
6  细化和合成 97 q-uYfXZ{j  
6.1  优化介绍 97 O /GD[9$i  
6.2  细化 (Refinement) 98 F[J;u/Z  
6.3  合成 (Synthesis) 100 K%Rx5 S  
6.4  目标和评价函数 101 f'}23\>  
6.4.1  目标输入 102 (5atU |8r  
6.4.2  目标 103 (g   
6.4.3  特殊的评价函数 104 Kyv$yf 9  
6.5  层锁定和连接 104 ((H}d?^AJ  
6.6  细化技术 104 haY.rH]z  
6.6.1  单纯形 105 643 O(0a  
6.6.1.1 单纯形参数 106 {6~W2zX&  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 u|Db%)[  
6.6.2.1 Optimac参数 108 @ws3X\`<C  
6.6.3  模拟退火算法 109 &gq\e^0CRZ  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 tv?~LJYN  
6.6.4  共轭梯度 111 ost~<4~  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 a1s=t_wT  
6.6.5  拟牛顿法 112 Ar>-xCT D  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ~DCw [y  
6.6.6  针合成 113 \l#=p+x5  
6.6.6.1 针合成参数 114 Z EG  
6.6.7 差分进化 114 fa$ Fo(.  
6.6.8非局部细化 115 FzW(An&x2  
6.6.8.1非局部细化参数 115 z<)?8tAgq  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 5<&<61[A  
6.7.1  细化 116 ; zs4>>^>  
6.7.2  合成 117 03# r F@e  
6.8  参考文献 117 d]+g3oy `  
7  导纳图及其他工具 118 FCOSgEU  
7.1  简介 118 Tl9_Wi  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 QHA<7Wg  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ;o#dmG  
7.2.2  导纳图 120 (3W<yAM+  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "bRck88V  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 tV%M2 DxS  
7.5  斜入射导纳图 141 rjfQ\W;}U  
7.6  对称周期 141 y_\vXY'  
7.7  参考文献 142 cl^tX%  
8  典型的镀膜实例 143 ?e yo2:-$  
8.1  单层抗反射薄膜 145 b[H& vp  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 )PR{ia64;<  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 `y m^0x8  
8.4  W-膜层 148 MX  qH  
8.5  V-膜层 149 *"4 OXyV  
8.6  V-膜层高折射基底 150 $Nnz |y  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 R$NH [Tz  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 kE/>Ys@w  
8.9  四层抗反射薄膜 153 YS/{q~$t  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 (l9U7^S"{K  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ~^:/t<N  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 .}2^YOmd  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ~M+|g4W%  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 = R; 0Ed&b  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 YP+0 uZ[g  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 hE+6z%A8  
8.17  1/4波长堆栈 162 @yqy$I   
8.18  陷波滤波器 163 rAk*~OK  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ^D"}OQoh  
8.20  褶皱 165 n omtP }  
8.21  消偏振分光器1 169 Q:lSKf  
8.22  消偏振分光器2 171 IZniRd;  
8.23  消偏振立体分光器 172 sl>4O]N  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ;OE{&  
8.25  立体偏振分束器1 174 bvs0y7M='  
8.26  立方偏振分束器2 177 Yw4c`MyL  
8.27  相位延迟器 178 l 8n#sGA%  
8.28  红外截止器 179 >\[sNCkf  
8.29  21层长波带通滤波器 180 <HI5xB_  
8.30  49层长波带通滤波器 181 A\k@9w\Ll;  
8.31  55层短波带通滤波器 182 t k2B\}6  
8.32  47 红外截止器 183 KhYGiVA  
8.33  宽带通滤波器 184 ^=}~  
8.34  诱导透射滤波器 186  &EV|knW  
8.35  诱导透射滤波器2 188 >O|hN`  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 {PWz:\oaD  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 'R99kL/.N  
8.35  增益平坦滤波器 193 WUMx:a0!  
8.38  啁啾反射镜 1 196 JaiYVx(  
8.39  啁啾反射镜2 198 u3w `(3{ <  
8.40  啁啾反射镜3 199 + .mIC:9  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ) ^!oM  
8.42  增加铝反射率膜 201 7 8Nli/U  
8.43  参考文献 202 m},nKsO  
9  多层膜 204 ,bKA]#(2  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 C<eeAWP3v  
9.2  内部透过率 204 L*11hyyk  
9.3 内部透射率数据 205 k-Le)8+b  
9.4  实例 206 s=u0M;A0Q  
9.5  实例2 210 uFW4A  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Yk6fr~b  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 GL9R 5  
10  光学薄膜的颜色 216 $BwWhR  
10.1  导言 216 ;xXHSxa:=W  
10.2  色彩 216 g=:%j5?.e  
10.3  主波长和纯度 220 Fu(e4E  
10.4  色相和纯度 221 6P3ezl@#;  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ZZ)bTLu  
10.6 色差 226 6^s]2mMfk  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 (S =::ODU  
10.8  颜色渲染指数 234 DbH{; Fb  
10.9  色差计算 235 f @Hp,-  
10.10  参考文献 236 6WzE'0Nyr  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 --dGN.*xb4  
11.1  短脉冲 238 WB"$NYB  
11.2  群速度 239 N"2P&Ho]  
11.3  群速度色散 241 KAO}*?  
11.4  啁啾(chirped) 245 Qf$0^$ "  
11.5  光学薄膜—相变 245 sO~N2  
11.6  群延迟和延迟色散 246 {uDL"~^\  
11.7  色度色散 246 [yf2_{*0T  
11.8  色散补偿 249 WIQt5=-  
11.9  空间光线偏移 256 -~p@o1k0  
11.10  参考文献 258 \V+$2 :A  
12  公差与误差 260 p}}}~ lC/  
12.1  蒙特卡罗模型 260 h,\^Sb5AP  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 }$Q+x'  
12.2.1  误差工具 267 axxd W)+K  
12.2.2  灵敏度工具 271 \4bma<~a  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 DOw< XlvC  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 _C)u#]t  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 O_FT@bo\  
12.3  参考文献 276 ,D  [  
13  Runsheet 与Simulator 277 4&R\6!*s  
13.1  原理介绍 277 0v,DQJ?w8  
13.2  截止滤光片设计 277 jcYI"f"~  
14  光学常数提取 289 {o*ziZh  
14.1  介绍 289 .1t$(]CyC  
14.2  电介质薄膜 289 Go^W\y   
14.3  n 和k 的提取工具 295  d9R0P2  
14.4  基底的参数提取 302 /#G^?2o M  
14.5  金属的参数提取 306 mRW(]OFIai  
14.6  不正确的模型 306 "a?k #!E  
14.7  参考文献 311 MV e5j+8  
15  反演工程 313 qF%wl  
15.1  随机性和系统性 313 a' .o  
15.2  常见的系统性问题 314 Ni(D[?mZ  
15.3  单层膜 314 [t: =%&B  
15.4  多层膜 314 Z5bmqhDo[  
15.5  含义 319 :{E3H3  
15.6  反演工程实例 319 H*A)U'`  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 s<sqO,!  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ^pKC0E[%  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 0d9rJv}~  
16.1  光学性质的热致偏移 329 +VAfT\G2  
16.2  应力工具 335 R =mawmQ2  
16.3  均匀性误差 339 c_kxjzA#  
16.3.1  圆锥工具 339 Y=vA ;BE]R  
16.3.2  波前问题 341 Z@t).$  
16.4  参考文献 343 tJ&S&[}  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 Zdr +{-  
17.1  引言 345 [A yq%MA  
17.2  操作数 345 h}g _;k5R  
18  如何在Function中编写脚本 351 ?F(t`0=  
18.1  简介 351 ,Uc\ Ajx  
18.2  什么是脚本? 351 <$Q&n{  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 *[.+|v;A  
18.4  基础 352 &rq7;X  
18.4.1  Classes(类别) 352 #v89`$#`2  
18.4.2  对象 352 Ts}5Nk8%  
18.4.3  信息(Messages) 352 n)sK#C-VA  
18.4.4  属性 352 :uu\q7@'  
18.4.5  方法 353 !MTm4Ls  
18.4.6  变量声明 353 ^NHQ[4I  
18.5  创建对象 354 =uKK{\+|Y  
18.5.1  创建对象函数 355 Lyt6DvAp"  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 fx99@%Ii  
18.5.3 丢弃对象 356 8W[QV  
18.5.4  总结 356 w^A8ZT0^7  
18.6  脚本中的表格 357 @ns2$(wkm@  
18.6.1  方法1 357 zOg#=ql  
18.6.2  方法2 357 oT\B-lx  
18.7 2D Plots in Scripts 358 8p-5.GU)<e  
18.8 3D Plots in Scripts 359 BXZ( %tnY  
18.9  注释 360 `w[0q?}"`  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 9P{5bG0o8  
18.11  一个更高级的脚本 362 sN5 x\9U  
18.12  <esc>键 364 xZGR<+t  
18.13 包含文件 365 y!blp>V6  
18.14  脚本被优化调用 366 e4khReF;  
18.15  脚本中的对话框 368 D7sw;{ns  
18.15.1  介绍 368 o:f=dBmoX  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 3|/ ;`KfQ  
18.15.3  输入框函数 370 qAivsYN*  
18.15.4  自定义对话框 371 o! sxfJKl  
18.15.5  对话框编辑器 371 #y-OkGS ^  
18.15.6  控制对话框 377 tE(x8>5A:  
18.15.7  更高级的对话框 380 Q\m"n^XN  
18.16 Types语句 384 ` *$^rQS  
18.17 打开文件 385 &{Uaa  
18.18 Bags 387 Y0&w;P  
18.13  进一步研究 388 Q]{DhDz ?+  
19  vStack 389 RNl%n}   
19.1  vStack基本原理 389 yoGE#+|7^  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 {Y` 0}  
19.3  五棱镜 393 rouD"cy  
19.4 光束距离 396 "y_$!KY%  
19.5 误差 399 o1GWcxu*\  
19.6  二向分色棱镜 399 ?9mWMf%t  
19.7  偏振泄漏 404 x03GJy5  
19.8  波前误差—相位 405 )Qw|)='-  
19.9  其它计算参数 405 N^%[ B9D  
20  报表生成器 406 |Ro\2uSr  
20.1  入门 406 kki]6_/n  
20.2  指令(Instructions) 406 q'C'S#qqn  
20.3  页面布局指令 406 b]hRmW  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Vxo3RwmR  
20.5  表格中的常见参数 408  by>,h4  
20.6  迭代指令 408 k(u W( 6  
20.7  报表模版 408 +:/`&LOS-  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ndF Kw  
21  一个新的project 413 C [=/40D  
21.1  创建一个新Job 414 5C#&vYnq  
21.2  默认设计 415 9I]*T  
21.3  薄膜设计 416 gl2~6"dc  
21.4  误差的灵敏度计算 420 l]oGhM;  
21.5  显色指数计算 422 %#/7Tl:  
21.6  电场分布 424 x*Z"~'DI  
后记 426 <:q]t6]$  
@ mt v2P`  
(a&.Ad0{  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 khjW9Aa8t  
D2>=^WP6+  
《Essential Macleod中文手册》
wQPjo!FEX  
F'pD_d9]e  
目  录 +qzsC/y  
wz073-v>ZV  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 WdunI~&.  
第1章 介绍 ..........................................................1 dgX0\lKpf  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 4A|5eg9N  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 z4UeUVfZ}  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 m"H9C-Y  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 dXrv  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 e-UPu%'  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 L_ 8C=MS  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 "9>#Q3<N  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 -_b}b)2iYN  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 R%7k<1d'`  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 uh:  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 R^%7|  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 Bk?MF6  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 OM}:1He  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 xV<NeU  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 -2% [ ]  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 B0Xn9Tvk  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ro^Y$;G  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 5-=mtvA:  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 JK[7&C-O  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 R:^GNra;  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ;I5HMc_a"  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 7/Ve=7]  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 9FJU'$FN  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ;v8,r#4  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 }v=q6C#Q>  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Q\ro )r  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 \$riwL  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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