线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:942
时间地点 (4hCT*  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 3XCePA5z  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 L=ala1{O  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 |Sne\N>%  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 &L88e\ c+  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
:U,n[.$5'  
特邀专家介绍 aCq ) hR  
"M)kV5v%  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 i #uc  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 Y5 BWg  
课程概要 CSUXa8u7  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 }67lL~L  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 +/bT4TkML  
课程大纲 ({GN.pC(  
1. Essential Macleod软件介绍 _I"T(2Au  
1.1 介绍软件 hzT,0<nw  
1.2 创建一个简单的设计 iiWs]5  
1.3 绘图和制表来表示性能 )} I>"n  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 !rK,_wH  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) G(g.~|=EZ  
1.6 特定设计的公式技术 8"fZ>XQ  
1.7 交互式绘图 QoGvjf3z  
2. 光学薄膜理论基础 s/;iZiWK  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 +A 4};]W|  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 (}]ae*  
3. 材料管理 D7 D:?VoR  
3.1 材料模型 k>2tC<  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 "sM 3NY  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 2MV!@rx  
3.4 基板光学常数的提取 #J=@} S)  
4. 光学薄膜设计优化方法 yX-h|Cr"  
4.1 参考波长与g Dd3GdG@*~  
4.2 四分之一规则 {Q%"{h']  
4.3 导纳与导纳图 _iJ8*v 8A  
4.4 斜入射光学导纳 \Ax[/J2aO  
4.5 光学薄膜设计的进展 }m`+E+T4  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 /nbHin#we  
4.6.1 优化目标设置 wM]j#  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ^}F@*A;o  
4.6.3 膜层锁定和链接 6 lp.0B  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ceW,A`J  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 .L#xX1qr  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 W)RCo}f  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 lY.{v]i }  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 CDNh9`  
5.5 如何在Function中编写脚本 Yv!r>\#0S  
6. 光学薄膜系统案例 y;.U-}e1  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 'S[&-D%(3  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 L.%N   
6.3 Stack应用范例说明 12Lc$\3P  
7. 薄膜性能分析 Po ,zTz   
7.1 电场分布 myR}~Cj;q  
7.2 公差与灵敏度分析 6 4fB$  
7.3 反演工程 yY 3Mv/R  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 e=8z,.Xk  
8. 真空技术 QJsud{ada  
8.1 常用真空泵介绍 A9?h*/$  
8.2 真空密封和检漏 I3#h  
9. 薄膜制备技术 ;;*'<\lP.j  
9.1 常见薄膜制备技术 +&U{>?.u  
10. 薄膜制备工艺 c`F~vrr)X  
10.1 薄膜制备工艺因素 ^Hdru]A$2  
10.2 薄膜均匀性修正技术 kVH^(Pi  
10.3 光学薄膜监控技术 AP2BND9  
11. 激光薄膜 )|Ho"VEmg  
11.1 薄膜的损伤问题 zv Dg1p  
11.2 激光薄膜的制备流程 wva| TZ  
11.3 激光薄膜的制备技术 _olhCLIR-  
12. 光学薄膜特性测量 Ot^<:\< `G  
12.1 薄膜光谱测量 "!fvEE  
12.2 薄膜光学常数测量 4!I;U>b b  
12.3 薄膜应力测量 *Dz<Pi^  
12.4 薄膜损伤测量 |?kZfr&9q  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 tH}$j  
';CL;A;  
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K4H U 9!  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
f19~B[a  
内容简介 +Vf39}8  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 %+1;iuDL  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 x+X^K_*  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ",pN.<F9O  
)=PmHUd  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
`akbzHOM  
目录 3hPj;-u  
Preface 1 M.[A%_|P  
内容简介 2 WX2w7O'R  
目录 i >_<J=8|E  
1  引言 1 !Q0aKkMfL  
2  光学薄膜基础 2 :kaHvf  
2.1  一般规则 2 <f')]  
2.2  正交入射规则 3 y{`aM(&  
2.3  斜入射规则 6 + pq/:h  
2.4  精确计算 7 {|jrYU.k~  
2.5  相干性 8 f"wm]Q59  
2.6 参考文献 10 1\~-No  
3  Essential Macleod的快速预览 10 9T#JlV  
4  Essential Macleod的特点 32 p?#cn   
4.1  容量和局限性 33 HoFFce7o  
4.2  程序在哪里? 33 r2Wx31j{  
4.3  数据文件 35 M[Kk43;QY!  
4.4  设计规则 35 3XOf-v:~  
4.5  材料数据库和资料库 37 =N +Ou5D  
4.5.1材料损失 38 Wb|xEwqd`  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 \k8|3Y~g  
4.5.2 材料库 41 rLy <3  
4.5.3导出材料数据 43 neHozmm|  
4.6  常用单位 43 $_5@ NOZ,M  
4.7  插值和外推法 46 ,IODV`L  
4.8  材料数据的平滑 50 +yh-HYo`  
4.9 更多光学常数模型 54 Vd'KN2Jm  
4.10  文档的一般编辑规则 55 *>ilT5q  
4.11 撤销和重做 56 ?;//%c8,.  
4.12  设计文档 57 @t;WdbxB%  
4.10.1  公式 58 w(y#{!%+  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 )RQX1("O  
4.10.3  沉积密度 59 N~w4|q!]  
4.10.4 平行和楔形介质 60 gm-m_cB<  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 [q MFLY$  
4.10.4  性能 61 -quWnn/  
4.10.5  保存设计和性能 64 @_O,0d g  
4.10.6  默认设计 64 => PBdW  
4.11  图表 64 e-taBrl;  
4.11.1  合并曲线图 67 jMT];%$[  
4.11.2  自适应绘制 68 l9 K 3E<g  
4.11.3  动态绘图 68 0Q]p#;  
4.11.4  3D绘图 69 \[-z4Fxg|'  
4.12  导入和导出 73 E2PMcT{)_  
4.12.1  剪贴板 73 A(xCW+h@)  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 q$;'Fy%oy  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 _>/T<Db  
4.13  背景 77 V?k"BU  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /eoS$q  
4.15  生成Rugate 84 zW@OSKq4  
4.16  参考文献 91 CD]2a@j {  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 d^&F%)AT  
5.1  Jobs 92 e|L$e0  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 )>! IY Q  
5.3  输入材料 94 I3 %P_oW'  
5.4  设计数据文件夹 95 'k9?n)<DW  
5.5  默认设计 95 Lnk!zj  
6  细化和合成 97 is3nLm(  
6.1  优化介绍 97 e<wRA["  
6.2  细化 (Refinement) 98 %7_c|G1  
6.3  合成 (Synthesis) 100 NjTVinz  
6.4  目标和评价函数 101 i>Cxi ZT  
6.4.1  目标输入 102 S+i .@N.^  
6.4.2  目标 103 ^GXy:S$  
6.4.3  特殊的评价函数 104 a=55bEn  
6.5  层锁定和连接 104 xr2ew%&o  
6.6  细化技术 104 DIk\=[{2q  
6.6.1  单纯形 105 j15TavjGh  
6.6.1.1 单纯形参数 106 M!=WBw8Y]a  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 U`j[Ni}"  
6.6.2.1 Optimac参数 108 IH$R X GL  
6.6.3  模拟退火算法 109 3X+uJb2  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 !lSxBr[dQ  
6.6.4  共轭梯度 111 ;|2h&8yX(/  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2u[:3K-@,  
6.6.5  拟牛顿法 112 X^tVq..0  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 J,s)Fu\j@  
6.6.6  针合成 113 %j].' ;  
6.6.6.1 针合成参数 114 pai>6p  
6.6.7 差分进化 114 '~-Lxvf'  
6.6.8非局部细化 115 iL-I#"qT,  
6.6.8.1非局部细化参数 115 23/!k}G"  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 (% fl  
6.7.1  细化 116 o:\RJig<  
6.7.2  合成 117 TA47lz q  
6.8  参考文献 117 W|U!kqU  
7  导纳图及其他工具 118 0Fw0#eE  
7.1  简介 118 Co2* -[R  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 dqMR<Nl&  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Sx,O)  
7.2.2  导纳图 120 %6`{KT?  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 J&{qe@^  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 W{OlJRX8  
7.5  斜入射导纳图 141 }2Lh'0 xY  
7.6  对称周期 141 XpzdvR1  
7.7  参考文献 142 bQ-5uFe~$B  
8  典型的镀膜实例 143 5Wj+ey^ ^w  
8.1  单层抗反射薄膜 145 PN{l)&K2.  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 oZ O 6J-ea  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 28[dTsd%  
8.4  W-膜层 148 ]JX0:'x^  
8.5  V-膜层 149 ?Z@FxW  
8.6  V-膜层高折射基底 150 {~ yj]+Im  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Kp *nOZ  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 d7A08l{  
8.9  四层抗反射薄膜 153 4C(vBKl  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 A>6 b 6  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 i0uBb%GMT  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ^R.#n[-r2  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 3,j)PKf ;  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 t"`LJE._P  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 @18"o"c7j  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 1<]g7W  
8.17  1/4波长堆栈 162 Wh%qvV6]  
8.18  陷波滤波器 163 y D.S"  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 v{ .-x\;  
8.20  褶皱 165 09"C&X~  
8.21  消偏振分光器1 169 R@``MC0  
8.22  消偏振分光器2 171 /)SwQgK#  
8.23  消偏振立体分光器 172 ^*C+^l&J!  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ?H7*?HV  
8.25  立体偏振分束器1 174 rE"`q1b#  
8.26  立方偏振分束器2 177 c/ wzV  
8.27  相位延迟器 178 ]GYO`,  
8.28  红外截止器 179 &I.UEF2,  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Nt#zr]Fz  
8.30  49层长波带通滤波器 181 PY: l  
8.31  55层短波带通滤波器 182 cgsM]2ZYs  
8.32  47 红外截止器 183 ]Ff"o7gT  
8.33  宽带通滤波器 184 59";{"sw  
8.34  诱导透射滤波器 186 m~9Qx`fi`  
8.35  诱导透射滤波器2 188 R2Fh WiL  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 )W'l^R4W  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ?eT^gWX  
8.35  增益平坦滤波器 193 9|T%q2O  
8.38  啁啾反射镜 1 196 d$s1l  
8.39  啁啾反射镜2 198 i8I%}8  
8.40  啁啾反射镜3 199 V\@h<%{^%7  
8.41  带保护层的铝膜层 200 l?~SH[V  
8.42  增加铝反射率膜 201 s z/7cLo  
8.43  参考文献 202 %y33evX/B  
9  多层膜 204 &R/)#NAp  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 /hf}f=7kH  
9.2  内部透过率 204 vpx8GiV  
9.3 内部透射率数据 205 OA2<jrGB!  
9.4  实例 206 [P2$[|IM  
9.5  实例2 210 C$\|eC j  
9.6  圆锥和带宽计算 212 !8vHN=)z  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 +ex@[grsGT  
10  光学薄膜的颜色 216 9g+/^j^>?f  
10.1  导言 216 A!s\;C  
10.2  色彩 216 #EAP<h  
10.3  主波长和纯度 220  L5""  
10.4  色相和纯度 221 STs~GOm-  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 d<. hkNN  
10.6 色差 226 q2 D2:0^2  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ./mh 9ax  
10.8  颜色渲染指数 234 K8doYN  
10.9  色差计算 235 LF <fp&C)h  
10.10  参考文献 236 r]?ZXe$;  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 =:[Jz1M5  
11.1  短脉冲 238 npg.*I/>  
11.2  群速度 239 0 V*Di2  
11.3  群速度色散 241 ?8. $A2(Xw  
11.4  啁啾(chirped) 245 n>jb<uz  
11.5  光学薄膜—相变 245 JPS22i)P  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ]uX'[Z}t  
11.7  色度色散 246 0P sp/H%  
11.8  色散补偿 249 ji<b#YO4  
11.9  空间光线偏移 256 8I04Nx  
11.10  参考文献 258 BFt?%E/]  
12  公差与误差 260 <Bb $d@c  
12.1  蒙特卡罗模型 260 G!k&'{2  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 :y%%Vx~  
12.2.1  误差工具 267 @Z~lM5n$8  
12.2.2  灵敏度工具 271 D4<nS<8  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 Hv(0<k6oH  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 \-N 4G1  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 )Y RVy  
12.3  参考文献 276 ] o tjoM  
13  Runsheet 与Simulator 277 z$oA6qB)  
13.1  原理介绍 277 IBb3A  
13.2  截止滤光片设计 277 LU~U>  
14  光学常数提取 289 ,x!P|\w.G{  
14.1  介绍 289 mf6?8!O}>  
14.2  电介质薄膜 289 Kvv&# eO\  
14.3  n 和k 的提取工具 295 : m$cnq~h  
14.4  基底的参数提取 302 a \B<(R.  
14.5  金属的参数提取 306 CFAz/x@%  
14.6  不正确的模型 306 6UR.,*f=  
14.7  参考文献 311 /]2-I_WB  
15  反演工程 313 |/C>xunzz  
15.1  随机性和系统性 313 lBh|+K N  
15.2  常见的系统性问题 314 Oyhl*`-*t  
15.3  单层膜 314 Cq;t;qN,nQ  
15.4  多层膜 314 _,_>B8  
15.5  含义 319 "2(lgxhj  
15.6  反演工程实例 319 p>h B&h  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 T!eeMsI  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Um]>B`."wK  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 N_Cu%HP  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Lw\ANku  
16.2  应力工具 335 ) Yz` 6  
16.3  均匀性误差 339 .5|AX6p+^  
16.3.1  圆锥工具 339 e5maZ(.;F  
16.3.2  波前问题 341 lidzs<W-fW  
16.4  参考文献 343 o Q I3Yz  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 \Xc6K!HJM  
17.1  引言 345 2;r(?ebw  
17.2  操作数 345 ?~uTbNR  
18  如何在Function中编写脚本 351 }legh:/*?O  
18.1  简介 351 55MsF}p  
18.2  什么是脚本? 351 x+l.04a@  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 KL,=Z&.<=  
18.4  基础 352 `DIIJ<;g  
18.4.1  Classes(类别) 352 >t7xa]G  
18.4.2  对象 352 <iunDL0  
18.4.3  信息(Messages) 352 "pdmz+k8S  
18.4.4  属性 352 ?Z {4iF  
18.4.5  方法 353 ~'KymarPU  
18.4.6  变量声明 353 >Jt,TMMlt  
18.5  创建对象 354 ?Q[uIQ?dV  
18.5.1  创建对象函数 355 f;`pj`-k%  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 trnjOm  
18.5.3 丢弃对象 356 xOP%SF  
18.5.4  总结 356 xu(5U`K  
18.6  脚本中的表格 357 <KqZ.7XfB  
18.6.1  方法1 357 ^_#0\f  
18.6.2  方法2 357 M 8a^yoZn  
18.7 2D Plots in Scripts 358 W_9-JM(r  
18.8 3D Plots in Scripts 359 \~d|MP}"F:  
18.9  注释 360 v~e@:7d i  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 evNo(U\C  
18.11  一个更高级的脚本 362 A\iDK10Q$  
18.12  <esc>键 364 ]#P9.c_}  
18.13 包含文件 365 (xpj?zlmM  
18.14  脚本被优化调用 366 6js94ko[  
18.15  脚本中的对话框 368 )(~4fA5j)  
18.15.1  介绍 368 mv|eEz)r  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 f9u^/QVS&  
18.15.3  输入框函数 370 <uDEDb1|l  
18.15.4  自定义对话框 371 N ncur]  
18.15.5  对话框编辑器 371 EQ'iyXhEe  
18.15.6  控制对话框 377 zJWBovT/  
18.15.7  更高级的对话框 380 :zdMV6s  
18.16 Types语句 384 0{#,'sc;  
18.17 打开文件 385 L&ySXc=  
18.18 Bags 387 ~Z!!wDHS  
18.13  进一步研究 388 |E-/b6G  
19  vStack 389 +gqtW8 6  
19.1  vStack基本原理 389 >;kCcfS3ct  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 YMOy 6C  
19.3  五棱镜 393 -jnx0{/  
19.4 光束距离 396 xZW6Hk _  
19.5 误差 399 P1)f-:;  
19.6  二向分色棱镜 399 [~9rp]<  
19.7  偏振泄漏 404 {i y[8eLg  
19.8  波前误差—相位 405 pV{MW#e  
19.9  其它计算参数 405 ['ol]ZJ  
20  报表生成器 406 PhW< )B]  
20.1  入门 406 OY7\*wc:  
20.2  指令(Instructions) 406 [T#5$J  
20.3  页面布局指令 406 i*B@#;;F  
20.4  常见的参数图和三维图 407 RpPbjz~  
20.5  表格中的常见参数 408 Wc [@,  
20.6  迭代指令 408 BV,P;T0"D  
20.7  报表模版 408 \PU3{_G]  
20.8  开始设计一个报表模版 409 R+k-mbvnt  
21  一个新的project 413 BoZ])Y6=  
21.1  创建一个新Job 414 DqyJ]}|  
21.2  默认设计 415 'b#RfF,7H}  
21.3  薄膜设计 416 s'' ?: +  
21.4  误差的灵敏度计算 420 //cj$}Rn!  
21.5  显色指数计算 422 .r[b!o^VR  
21.6  电场分布 424 e\x=4i  
后记 426 w6DK&@w`'/  
fmZ5rmw!  
wr{03mQHxp  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 d!kiWmw,  
&}wr N(?w  
《Essential Macleod中文手册》
\~!9T5/*  
KD?~ hpg  
目  录 iL(rZT&^  
G6K;3B  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 meunAEe  
第1章 介绍 ..........................................................1 H?98^y7  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 n B4)%  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 S!Ue+jW  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 G0Zq:kJ  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 \hN\px  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 i0DYdUj  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 7uG@ hL36  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 %^s;{aN*!  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 It'hmwu#  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 c#sPM!!  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 'U ',9  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 nM:e<`r  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 pFi.?|6"  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 =!7k/n';  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 /.<%y 8v  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 xcdy/J&  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 PmOm>  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 RG/M-  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 d%_v eVIe  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 2|]$hjs  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 *KNj5>6=  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 >m='#x0>Y  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 Sx)b~*  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 =H6"\`W  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 4 zuM?Dp  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 >Ia{ZbQV  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 gQaBQq9  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 kbzzage6L  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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