线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:987
时间地点 $%~ JG(  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 $:~;U xh=  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 [~9UsHfH  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 1[!:|=  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 : "85w#r  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
C8-7XQ=B:b  
特邀专家介绍 3k1e  
JIySe:p3  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 K?uZIDo  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 3uuIISK  
课程概要 L_Ok?9$  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 K0.aU  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 9nG^_.}|  
课程大纲 {,%&}kd>  
1. Essential Macleod软件介绍 FP=B/!g  
1.1 介绍软件 ;XN|dq  
1.2 创建一个简单的设计 Af _4Z]F  
1.3 绘图和制表来表示性能 IXy6Yn9l  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 1&dtq,|N  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ,CqWm9  
1.6 特定设计的公式技术 /s4~Ij`be  
1.7 交互式绘图 `dvg5qQ  
2. 光学薄膜理论基础 ,';|CGI cP  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 :c/54Ss~  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 |&#N&t  
3. 材料管理 tpJA~!mG3  
3.1 材料模型 Jq/itsg  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 DPI[~  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 kOydh(yE  
3.4 基板光学常数的提取 UA$IVK&{  
4. 光学薄膜设计优化方法 Z*k(Q5&U  
4.1 参考波长与g (ghI$oH  
4.2 四分之一规则 mUg :<.^  
4.3 导纳与导纳图 ?EFRf~7JP  
4.4 斜入射光学导纳 IJ Jp5[w  
4.5 光学薄膜设计的进展  V9) /  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 q<:8{Y|  
4.6.1 优化目标设置 w ,j*I7V  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Q!+AiSTU  
4.6.3 膜层锁定和链接 s 47R,K$  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 aC,adNub  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 'zYS:W  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 /QQRy_Z1)  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 G&*P*f1 S  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 n4{%M  
5.5 如何在Function中编写脚本 q/b+V)V  
6. 光学薄膜系统案例 u$d[&|`>_  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 B7f<XBU6>  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等  vD#U+  
6.3 Stack应用范例说明 G0 )[(s  
7. 薄膜性能分析 a`' >VCg  
7.1 电场分布 1$0Kvvg[  
7.2 公差与灵敏度分析 ce;7  
7.3 反演工程  LSC[S:  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真  t;o\"H  
8. 真空技术 nCq'=L,m  
8.1 常用真空泵介绍 9 5,]86  
8.2 真空密封和检漏 ^77W#{Zs  
9. 薄膜制备技术 DsMo_m/"1  
9.1 常见薄膜制备技术 [BE_^d5&  
10. 薄膜制备工艺 uMQI Aapb  
10.1 薄膜制备工艺因素 3'z$@ ;Ev+  
10.2 薄膜均匀性修正技术 DzpWU8j  
10.3 光学薄膜监控技术 0b{jox\!B  
11. 激光薄膜 Jw]!x1rF~  
11.1 薄膜的损伤问题 :H&Q!\a  
11.2 激光薄膜的制备流程 vFk@  
11.3 激光薄膜的制备技术 . Vb|le(7  
12. 光学薄膜特性测量 X~r9yl>  
12.1 薄膜光谱测量 3'uXU<W!  
12.2 薄膜光学常数测量 %E_Y4Oe1  
12.3 薄膜应力测量 D)PX|xrn  
12.4 薄膜损伤测量 =2 HY]H  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 .b";7}9{  
in1rDN%Vi  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
FDl/7P`b(  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
i6#*y!3{  
内容简介 Ge2Klyi  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 d~<$J9%  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 |Y!^E % *  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 k{+cFG\C&  
?g ,s<{  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
Z,)H f  
目录 #f#6u2nF\  
Preface 1 NMkP#s7.y  
内容简介 2 *F( qg%1+  
目录 i p(RF   
1  引言 1 g4^-B  
2  光学薄膜基础 2 V48_aL  
2.1  一般规则 2 c[-N A  
2.2  正交入射规则 3 |.c4y*  
2.3  斜入射规则 6 UCVYO. 9"  
2.4  精确计算 7 p6j-8ggL  
2.5  相干性 8 A-r;5?S  
2.6 参考文献 10 =aVvv+T  
3  Essential Macleod的快速预览 10 |5vJ:'`I  
4  Essential Macleod的特点 32 F${sEtH  
4.1  容量和局限性 33 k1z`92"  
4.2  程序在哪里? 33 "bej#'M#  
4.3  数据文件 35 4XAB_Q  
4.4  设计规则 35 g"/n95k<  
4.5  材料数据库和资料库 37 E{V?[HcWq  
4.5.1材料损失 38 z- q.8~Z  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 3Ws(],Q  
4.5.2 材料库 41 }Cu:BD.zQ  
4.5.3导出材料数据 43 Y7S1^'E 3  
4.6  常用单位 43 YW7w>}aW  
4.7  插值和外推法 46 r^Ra`:ca  
4.8  材料数据的平滑 50 |.9PwD8~VD  
4.9 更多光学常数模型 54 x;W!sO@$  
4.10  文档的一般编辑规则 55 tpS gbGzp  
4.11 撤销和重做 56 )cH\i91  
4.12  设计文档 57 XgxO:"B  
4.10.1  公式 58 p.:|Z-W$  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 N #v[YO`.  
4.10.3  沉积密度 59 yq.@-]ytZ  
4.10.4 平行和楔形介质 60 "7sv@I_j  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 @|(cr: (=H  
4.10.4  性能 61 qq!ZYWy2  
4.10.5  保存设计和性能 64 _EMX x4J  
4.10.6  默认设计 64 R_j.k3r4d  
4.11  图表 64 7NJl+*u  
4.11.1  合并曲线图 67 J;>;K6pW  
4.11.2  自适应绘制 68 rTR$\ [C  
4.11.3  动态绘图 68  !y@\w  
4.11.4  3D绘图 69 ;\th.!'rn  
4.12  导入和导出 73 2}<tzDI'  
4.12.1  剪贴板 73 F(1E@xs  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 p@78Xmu?q  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 3fLdceT  
4.13  背景 77 .+>fD0fW7Y  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 oJM; CN  
4.15  生成Rugate 84 W)1nc"WqY  
4.16  参考文献 91 iJOoO"Ai  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 uyEk1)HC  
5.1  Jobs 92 \:h7,[e  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 %rB,Gl:)g  
5.3  输入材料 94 O$z"`'&j#  
5.4  设计数据文件夹 95 \X %#-y  
5.5  默认设计 95 ;ZB=@@l(  
6  细化和合成 97 DvhF CA}z  
6.1  优化介绍 97 f IV"U  
6.2  细化 (Refinement) 98 UZ/LR  
6.3  合成 (Synthesis) 100 G!`%.tH  
6.4  目标和评价函数 101 HCr}|DxyK  
6.4.1  目标输入 102 n$ByTmKxv  
6.4.2  目标 103 `/1rZ#  
6.4.3  特殊的评价函数 104 YAR$6&  
6.5  层锁定和连接 104 * 0K]/tn<  
6.6  细化技术 104 6MOwn*%5k  
6.6.1  单纯形 105 h<3bv&oI .  
6.6.1.1 单纯形参数 106 trwo(p  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 \ MuKS4  
6.6.2.1 Optimac参数 108 !_Y%+Rkp0  
6.6.3  模拟退火算法 109 ;PVE= z+y  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 @j\;9>I/  
6.6.4  共轭梯度 111 }vZfp5Y  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 I!F&8B+|  
6.6.5  拟牛顿法 112 R;AcAJ;  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 C=;}7g  
6.6.6  针合成 113 3K(/=  
6.6.6.1 针合成参数 114 &T-:`(  
6.6.7 差分进化 114 ^Zs ^  
6.6.8非局部细化 115 =?L16mu1&  
6.6.8.1非局部细化参数 115 L7- JK3/E  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 YeJTB}  
6.7.1  细化 116 f`vWCb  
6.7.2  合成 117 1grcCL q  
6.8  参考文献 117 Up-^km  
7  导纳图及其他工具 118 q: F6MW  
7.1  简介 118 K4Ed]hX  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 *#p}FB2H#  
7.2.1  四分之一波长规则 119 a@|`!<5  
7.2.2  导纳图 120 4WlB Q<5  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 6k')12~'  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 %eF=;q  
7.5  斜入射导纳图 141 O|m-[]  
7.6  对称周期 141 p8]XNe  
7.7  参考文献 142 11S{XbU  
8  典型的镀膜实例 143 R(> oyxA[F  
8.1  单层抗反射薄膜 145 |@rf#,hTDp  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 3#fg 2  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 l [ m_<1L  
8.4  W-膜层 148 E0i!|H  
8.5  V-膜层 149 {'P?wv  
8.6  V-膜层高折射基底 150 <_8eOL<X  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 R8.@5g_  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 }K.)yv n  
8.9  四层抗反射薄膜 153 H5vg s2R  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 H(?+-72KX  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ty;a!yjC  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 aEUEy:.  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 4D.h~X4  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 O~Jf"Ht  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 1jK2*y  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 4,`t9f^:  
8.17  1/4波长堆栈 162 N#OO{`":Z`  
8.18  陷波滤波器 163 D(_j;?i  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 W)2k>cS  
8.20  褶皱 165 laCVj6Rk  
8.21  消偏振分光器1 169 ?MRT  
8.22  消偏振分光器2 171 ?S)Pv53>}  
8.23  消偏振立体分光器 172 GOCe&?  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ZjK'gu8*  
8.25  立体偏振分束器1 174 YFcMU5_F  
8.26  立方偏振分束器2 177 mg3YKHNG  
8.27  相位延迟器 178 @ uL4'@Ej  
8.28  红外截止器 179 0 4ceDe  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ],<pZ1V;  
8.30  49层长波带通滤波器 181 lA,[&  
8.31  55层短波带通滤波器 182 sEb*GF*.V  
8.32  47 红外截止器 183 ~!fOl)F  
8.33  宽带通滤波器 184 1OFrxSg  
8.34  诱导透射滤波器 186 _P_R`A)"  
8.35  诱导透射滤波器2 188 gfXit$s  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 /u'V>=D;f  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 =b3<}]  
8.35  增益平坦滤波器 193 fQfd1=4  
8.38  啁啾反射镜 1 196 a{I(Qh!}  
8.39  啁啾反射镜2 198 )P W Zc?M  
8.40  啁啾反射镜3 199 P#KT lH  
8.41  带保护层的铝膜层 200 St3/mDtH  
8.42  增加铝反射率膜 201 pr \OjpvD  
8.43  参考文献 202 G7#<Jo<8  
9  多层膜 204 meD?<g4n~"  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 n~yhX%=_Du  
9.2  内部透过率 204 K}dvXO@=|c  
9.3 内部透射率数据 205 . P! pC  
9.4  实例 206 \S#![NC  
9.5  实例2 210 lt C  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ;:~-=\  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 VPDd*32HC  
10  光学薄膜的颜色 216 - [vH4~  
10.1  导言 216 5F5)Bh  
10.2  色彩 216 H1ox>sC  
10.3  主波长和纯度 220 4:s!mHcz  
10.4  色相和纯度 221 4^w`] m  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 78zwu<ET  
10.6 色差 226  4V 5  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ,h9N,bIQg  
10.8  颜色渲染指数 234 U'xmn$ O  
10.9  色差计算 235 uWrvkLGN  
10.10  参考文献 236 tb'O:/  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 X./7b{Pax  
11.1  短脉冲 238 y}> bJ:  
11.2  群速度 239 {dNWQE*\c  
11.3  群速度色散 241 WaDdZIz4  
11.4  啁啾(chirped) 245 ";/,FUJJ  
11.5  光学薄膜—相变 245 }ILg_>uq[  
11.6  群延迟和延迟色散 246 `yua?n  
11.7  色度色散 246 BWG#W C  
11.8  色散补偿 249 k%sh ;1.  
11.9  空间光线偏移 256 idP2G|Z  
11.10  参考文献 258 .^FdO$"  
12  公差与误差 260 |D[4 G6&  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ":Ll. =!  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 OYk/K70l3  
12.2.1  误差工具 267 sxn^1|O;m  
12.2.2  灵敏度工具 271 l%xjCuuhU  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 kiR+ Dsl  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 !Im{-t  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 lZhd^69y  
12.3  参考文献 276 y(Ck j"  
13  Runsheet 与Simulator 277 CoQ<Ky}*  
13.1  原理介绍 277 `&)uuLn|  
13.2  截止滤光片设计 277 [f@[ gE  
14  光学常数提取 289 #BwkbOgr  
14.1  介绍 289 gK>aR ^*  
14.2  电介质薄膜 289 k|F TT  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ]w9\q*S]  
14.4  基底的参数提取 302 i|OG#PsY-  
14.5  金属的参数提取 306 <(dg^;  
14.6  不正确的模型 306 }SBpc{ch  
14.7  参考文献 311 #TKByOcD2!  
15  反演工程 313 . KzU7  
15.1  随机性和系统性 313 fg0zD:@rA  
15.2  常见的系统性问题 314 +G?nmXG[vj  
15.3  单层膜 314 v?qU/  
15.4  多层膜 314 |qX[Dk  
15.5  含义 319 uO}UvMW  
15.6  反演工程实例 319 Ny)N  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 4ai|*8.  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 4ROuy+Ms'  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 5AO' IhpL  
16.1  光学性质的热致偏移 329 wYLJEuS|  
16.2  应力工具 335 vSG$ 2g=  
16.3  均匀性误差 339 *Bm _  
16.3.1  圆锥工具 339 5Uha,Q9SA  
16.3.2  波前问题 341 };s8xGW:k3  
16.4  参考文献 343 DE_ <LN  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 c*HWH$kB  
17.1  引言 345 1|/]bffg!c  
17.2  操作数 345 KO5! (vi@  
18  如何在Function中编写脚本 351 ;ax%H @o  
18.1  简介 351 `78)|a*R.  
18.2  什么是脚本? 351 7,&M6<~  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 UbSAyf  
18.4  基础 352 UKBaGX:v  
18.4.1  Classes(类别) 352 [,As;a*o  
18.4.2  对象 352 QFX )Nov];  
18.4.3  信息(Messages) 352 Cp.qL  
18.4.4  属性 352 g6~B|?!  
18.4.5  方法 353 |?/,ED+|>D  
18.4.6  变量声明 353 LyWgaf#/d  
18.5  创建对象 354 t }q \.  
18.5.1  创建对象函数 355 [$AOu0J  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355  pu?D^h9/  
18.5.3 丢弃对象 356 - TU^*  
18.5.4  总结 356 ?kKr/f4N  
18.6  脚本中的表格 357 z*B-`i.  
18.6.1  方法1 357 K \_JG $(9  
18.6.2  方法2 357 (nLT 8{>0  
18.7 2D Plots in Scripts 358 uKE?VNC]  
18.8 3D Plots in Scripts 359 =UMqa;\K  
18.9  注释 360 # 8fq6z|JZ  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 WXX)_L$2  
18.11  一个更高级的脚本 362 7\nR'MOZ  
18.12  <esc>键 364 }SZU'lYHoM  
18.13 包含文件 365 "0]s|ys6<  
18.14  脚本被优化调用 366 $K}Y  
18.15  脚本中的对话框 368 T?Y/0znB*  
18.15.1  介绍 368 WG=~GDS>  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 P!K;`4Ika  
18.15.3  输入框函数 370 %1^E;n  
18.15.4  自定义对话框 371 ~|5B   
18.15.5  对话框编辑器 371 !au%D?w  
18.15.6  控制对话框 377 X4{O/G  
18.15.7  更高级的对话框 380 ;'~GuZ#I  
18.16 Types语句 384 s%l`XW;v  
18.17 打开文件 385 }Z Nyd  
18.18 Bags 387 W5_aS2$  
18.13  进一步研究 388 moT*r?l  
19  vStack 389 0` \!O(jJ  
19.1  vStack基本原理 389 C|hD^m  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 N^;rLrm*  
19.3  五棱镜 393 y|(C L^(  
19.4 光束距离 396 "Q <  
19.5 误差 399 ,3~[cE<4  
19.6  二向分色棱镜 399 w:+wx/\  
19.7  偏振泄漏 404 # )]L3H<  
19.8  波前误差—相位 405 T>qI,BEY  
19.9  其它计算参数 405 CPt62j8  
20  报表生成器 406 `@)>5gW&p  
20.1  入门 406 {RPZq2Tpc  
20.2  指令(Instructions) 406 $2'Q'Mx[gd  
20.3  页面布局指令 406 Kp)H>~cL  
20.4  常见的参数图和三维图 407 .Qz412  
20.5  表格中的常见参数 408 *p Q'w  
20.6  迭代指令 408 WO]9\"|y  
20.7  报表模版 408 I5mtr  
20.8  开始设计一个报表模版 409 h}SP`  
21  一个新的project 413 x}B_;&>&"_  
21.1  创建一个新Job 414 MQvk& AX  
21.2  默认设计 415 uXkc07 r'  
21.3  薄膜设计 416 nXFPoR)T  
21.4  误差的灵敏度计算 420 5eJMu=UpR  
21.5  显色指数计算 422 6<qVeO&uZ  
21.6  电场分布 424 S&Szc0-|k  
后记 426  A4  
rS&"UH?c7  
yHNx,ra   
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 vn5O8sD  
SL ) ope  
《Essential Macleod中文手册》
aRE%(-5  
h5^qo ^;g7  
目  录 yh:Wg$qx  
 J*FUJT  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 N6UPD11}6  
第1章 介绍 ..........................................................1 fs,]%g^  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 v_L2>Pa.  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 _ISaO C{2-  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Wkj0z ]]?  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 kX)QHNzP  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 m]D3ec\K'  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 XSoHh-  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 N3$%!\~O  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 odsLFU(  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 x*7Q  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ONU,R\jMb-  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 -~=?g9fGm6  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 u}Q cyG^  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167  TnXx;v  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 |D1:~z  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 3$f+3/l  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 y)*W!]:7^>  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 tRu j}n+x  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 I3,0vnE@  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 *VV#o/Q p  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271  hSgH;k  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284  Jk>!I\  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 `)WC|=w2  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 6QM$aLLP?  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 P1qQ)-J  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 f(UB$^4  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 j{&$_  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /hp [ +K  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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