线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1078
时间地点 / w M  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 `mjx4Lb  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 B#"|5  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 iIaT1i4t.  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 {X<4wxeTo  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
( 'n8=J  
特邀专家介绍 WEtA4zCO  
W@,p9=425  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 1G%PXrEj8  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 P0e""9JOo  
课程概要 JA(fam~{  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 t3t0vWE<,  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 &_d/ciq1f  
课程大纲 <{420  
1. Essential Macleod软件介绍 M J,ZXJXs  
1.1 介绍软件 #we>75l{+R  
1.2 创建一个简单的设计 u\R`IZ&O  
1.3 绘图和制表来表示性能 GrR0RwnH)?  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 l(,;wAH  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) M+;P?|a  
1.6 特定设计的公式技术 sD8 m<   
1.7 交互式绘图 yW^IN8fm  
2. 光学薄膜理论基础 qmA2bw]  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 oD#>8Aws  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 Zknewv*sS4  
3. 材料管理 Y#&0x_Z  
3.1 材料模型 s)YP%vn#  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 knOn UU  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 s S5fd)x  
3.4 基板光学常数的提取 96pk[5lj{?  
4. 光学薄膜设计优化方法 B>Cs&}Y!  
4.1 参考波长与g pp]_/46nN  
4.2 四分之一规则 wD ],{y  
4.3 导纳与导纳图 f{Fe+iPc  
4.4 斜入射光学导纳 Bw<zc=%  
4.5 光学薄膜设计的进展 7~"(+f  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能  (X(1kj3  
4.6.1 优化目标设置 6I>5~?#  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) tB7K&ssi  
4.6.3 膜层锁定和链接 /Pn.)Lxfl  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ) p<fL  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 -nk#d%a\  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 p x|>v8  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 !ml_S)  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 'Z.OF5|eGT  
5.5 如何在Function中编写脚本 0^9:KZ.!  
6. 光学薄膜系统案例 |vfujzRZ  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 =1*%>K  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 R6q4 ["  
6.3 Stack应用范例说明 N(:nF5>_  
7. 薄膜性能分析 H 5U x.]y  
7.1 电场分布 :YqQlr\  
7.2 公差与灵敏度分析 Er"R;l]xJ  
7.3 反演工程 /z1p/RiX  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 lC=N:=Mu  
8. 真空技术 \ I^nx+l  
8.1 常用真空泵介绍 [O7w =  
8.2 真空密封和检漏 > X[|c"l.  
9. 薄膜制备技术 1Sg|3T8bGT  
9.1 常见薄膜制备技术 N )zPxQ  
10. 薄膜制备工艺 v._Egk0  
10.1 薄膜制备工艺因素 )C>}"#J>  
10.2 薄膜均匀性修正技术 > 'aG /(  
10.3 光学薄膜监控技术 ?aFr8i:)M  
11. 激光薄膜 E+}GxFG-:  
11.1 薄膜的损伤问题 %'L].+$t  
11.2 激光薄膜的制备流程 %1\v7Xw{9  
11.3 激光薄膜的制备技术 AozmO  
12. 光学薄膜特性测量 1mHwYT+  
12.1 薄膜光谱测量 |5=~(-I>@  
12.2 薄膜光学常数测量 HKTeqH_:  
12.3 薄膜应力测量 'y4zBLY  
12.4 薄膜损伤测量 j-J(C[[9  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 qr)v'aC3  
/a[V!<"R  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
17>5#JLP  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[)#u<lZ<~  
内容简介 tYs8)\{  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 \G$QNUU  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 qDnCn H  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 _1>SG2h{fV  
:`0'GM" `  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
v:r D3=M-  
目录 .E+OmJwD  
Preface 1 h6u2j p(+  
内容简介 2 dqqnCXYuW  
目录 i (n=9c%w  
1  引言 1 iH-bo@  
2  光学薄膜基础 2 P<%v +O  
2.1  一般规则 2 /8xH$n&xoC  
2.2  正交入射规则 3 w&p~0cA~  
2.3  斜入射规则 6 JY{X,?s  
2.4  精确计算 7 QVIcb ;&:}  
2.5  相干性 8 gjW\ XY  
2.6 参考文献 10 X<(6T  
3  Essential Macleod的快速预览 10 vO\:vp4fH  
4  Essential Macleod的特点 32 a9[mZVMgUK  
4.1  容量和局限性 33 Y!SE;N&  
4.2  程序在哪里? 33 }>2t&+v+  
4.3  数据文件 35 Z6 ;Wd_  
4.4  设计规则 35 >n]oB~P%  
4.5  材料数据库和资料库 37 Da-u-_~  
4.5.1材料损失 38 glv ;C/l  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 9Ei5z6Vk/+  
4.5.2 材料库 41 s(teQ\  
4.5.3导出材料数据 43 l+%Fl=Q2em  
4.6  常用单位 43 ^6Yd}  
4.7  插值和外推法 46 Pp ,Um(  
4.8  材料数据的平滑 50 :^ n*V6.4  
4.9 更多光学常数模型 54 & =G)NeT_  
4.10  文档的一般编辑规则 55 HLVQ7  
4.11 撤销和重做 56 '|Qd0,Z  
4.12  设计文档 57 P{?;T5ap6  
4.10.1  公式 58 d$w(-tV42  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ;;:">@5  
4.10.3  沉积密度 59 !X-9Ms}(d  
4.10.4 平行和楔形介质 60 $; ?c?n+  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60  KyTuF   
4.10.4  性能 61 ".gNeY6)x  
4.10.5  保存设计和性能 64 KYp[Gs  
4.10.6  默认设计 64 nE_Cuc>K\  
4.11  图表 64 Hb+X}7c$  
4.11.1  合并曲线图 67 H nK!aa  
4.11.2  自适应绘制 68 lr,q{;  
4.11.3  动态绘图 68 I?B,sl_w  
4.11.4  3D绘图 69 6 Ew@L<v  
4.12  导入和导出 73 c S4DN  
4.12.1  剪贴板 73 `?l3Ct*  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ?=<~^Lk  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 CphFv!k'Z  
4.13  背景 77 S_6g~PHsr  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 \wYc1M@7V  
4.15  生成Rugate 84 58::h. :  
4.16  参考文献 91 %,0%NjK  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 S#tY@h@XV  
5.1  Jobs 92 [@//#}5v  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 * r;xw  
5.3  输入材料 94 fN@{y+6  
5.4  设计数据文件夹 95 hUh+JW  
5.5  默认设计 95 uAUp5XP|Z  
6  细化和合成 97 e?b)p5g  
6.1  优化介绍 97 ++b$E&lYU  
6.2  细化 (Refinement) 98 w9MoT.kI}  
6.3  合成 (Synthesis) 100 /2xSNalC  
6.4  目标和评价函数 101 =>qTNh*'  
6.4.1  目标输入 102 qw<HY$3=  
6.4.2  目标 103 Xw t`(h[u  
6.4.3  特殊的评价函数 104 1fH<VgF`  
6.5  层锁定和连接 104 h$`#YNd'  
6.6  细化技术 104 ];1R&:t  
6.6.1  单纯形 105 L_Q S0_1  
6.6.1.1 单纯形参数 106 vy [C'a  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 7/aOsW"6  
6.6.2.1 Optimac参数 108 &n:{x}Uc  
6.6.3  模拟退火算法 109 _|A+ ) K  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 b5<okICD  
6.6.4  共轭梯度 111 3#c3IZ-;  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <.bRf  
6.6.5  拟牛顿法 112 RO.U(T  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 I`T1Pll  
6.6.6  针合成 113 )"| ||\Iv  
6.6.6.1 针合成参数 114 Be2lMC  
6.6.7 差分进化 114 rOcg+5  
6.6.8非局部细化 115 I-DXb M  
6.6.8.1非局部细化参数 115 U<^F4*G  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 -_em%o3XC  
6.7.1  细化 116 @}&_Dvf  
6.7.2  合成 117 ?s2^zT  
6.8  参考文献 117 VL\t>n  
7  导纳图及其他工具 118 G69GoT  
7.1  简介 118 +.kfU)6@  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 d|lpec  
7.2.1  四分之一波长规则 119 cE\>f8 I  
7.2.2  导纳图 120 hr/o<#OW  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 n<7u>;SJQ  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ]Y`Ib0$  
7.5  斜入射导纳图 141 $!B}$I;cd  
7.6  对称周期 141 ,[e\cnq[  
7.7  参考文献 142 E=$p^s  
8  典型的镀膜实例 143 3I  $>uR  
8.1  单层抗反射薄膜 145 <%P2qgz5  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 b?T  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 H,y4`p 0  
8.4  W-膜层 148 nB5zNyY4  
8.5  V-膜层 149 =r 9r~SR#  
8.6  V-膜层高折射基底 150 &%mXYj3y5  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 te,[f  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ba@ctkCW  
8.9  四层抗反射薄膜 153 KzV 2MO-$  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 =Vw 5q},3  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 'e!J06  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 g[[;w*;z  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 CU)|-*uiK  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 = 1.9/hW  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ] )}]/Qw  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 8gy_Yj&{P  
8.17  1/4波长堆栈 162 !EIjN  
8.18  陷波滤波器 163 x@KZ ]  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 V[nQQxWp=  
8.20  褶皱 165 p B;3bc  
8.21  消偏振分光器1 169 yuhnYR\`m  
8.22  消偏振分光器2 171 &ldBv_  
8.23  消偏振立体分光器 172 ye}p~&  
8.24  消偏振截止滤光片 173 _O"mfXl6  
8.25  立体偏振分束器1 174 $O)3 q $|  
8.26  立方偏振分束器2 177 r^,<(pbd  
8.27  相位延迟器 178 kgi>} %  
8.28  红外截止器 179 vVl; |  
8.29  21层长波带通滤波器 180 .iD*>M:W  
8.30  49层长波带通滤波器 181 oXXC@[??}N  
8.31  55层短波带通滤波器 182 hC <O`|lF  
8.32  47 红外截止器 183 9f+>ix,ek*  
8.33  宽带通滤波器 184 Av'GB  
8.34  诱导透射滤波器 186 H1n1-!%d  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Bun> <Y @  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ^= 0m-/  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 c%m3}mrb  
8.35  增益平坦滤波器 193 \</b4iR)LT  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ?>"Yr,b?  
8.39  啁啾反射镜2 198 ig}A9j?]  
8.40  啁啾反射镜3 199 <FI-zca  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ?';OD3-  
8.42  增加铝反射率膜 201 ,\2:/>2  
8.43  参考文献 202 G  uQ=gN  
9  多层膜 204 z7GTaX$d  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 3jB$2:#  
9.2  内部透过率 204 ' Z0r>.  
9.3 内部透射率数据 205 RPd}Wf  
9.4  实例 206 7\FXz'hA  
9.5  实例2 210 I`KQ|h0%  
9.6  圆锥和带宽计算 212 %\|'%/"`2(  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ~w8JH2O  
10  光学薄膜的颜色 216 +5VLw  
10.1  导言 216 xj5;: g#!  
10.2  色彩 216 Sf5X3,Uw  
10.3  主波长和纯度 220 ^V$Ajt  
10.4  色相和纯度 221 Tm_B^ W}  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 4SPy28<f  
10.6 色差 226 ]I3!fEAWR  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Mi'8 ~J  
10.8  颜色渲染指数 234 `Qr%+OD  
10.9  色差计算 235 W @|6nPm  
10.10  参考文献 236 xk&Jl#v  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 [ i#zP  
11.1  短脉冲 238 [(1c<b2r  
11.2  群速度 239 ;q N+^;,2  
11.3  群速度色散 241 y E[#ze  
11.4  啁啾(chirped) 245 sBrI}[oyx  
11.5  光学薄膜—相变 245 2{|h8oz  
11.6  群延迟和延迟色散 246 fd-q3 _f  
11.7  色度色散 246 {43>m)8+  
11.8  色散补偿 249 "HE^v_p  
11.9  空间光线偏移 256 S26MDLk`R3  
11.10  参考文献 258 s(X;Eha  
12  公差与误差 260 P ;IrBq6|o  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Reatd h  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 V<k8N^  
12.2.1  误差工具 267 P#=`2a#G  
12.2.2  灵敏度工具 271  Yn8=  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 >4t+:Ut:  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 -D6exTxh"  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 4Y[1aQ(%  
12.3  参考文献 276 0RoU}r@z4  
13  Runsheet 与Simulator 277 giz7{Ai  
13.1  原理介绍 277 yX~v-N!X  
13.2  截止滤光片设计 277 U8 nH;}i  
14  光学常数提取 289 !.d@L6  
14.1  介绍 289 W.kM7z>G  
14.2  电介质薄膜 289 -[-wkC8a  
14.3  n 和k 的提取工具 295 L|p Z$HB  
14.4  基底的参数提取 302 uu`G 2[t  
14.5  金属的参数提取 306 72'5%*1  
14.6  不正确的模型 306 >,td(= :  
14.7  参考文献 311 720DV +o  
15  反演工程 313 ocs+d\  
15.1  随机性和系统性 313 TqnT S0fx  
15.2  常见的系统性问题 314 kh`"WN Nt  
15.3  单层膜 314 r?/'!!4  
15.4  多层膜 314 (DI>5.x"  
15.5  含义 319 cFJY^A  
15.6  反演工程实例 319 Qjb:WC7he  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 >p"c>V& 8  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 55z]&5N  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 [UH||qW  
16.1  光学性质的热致偏移 329 *c2YRbU(  
16.2  应力工具 335 [sW3l:^  
16.3  均匀性误差 339 +llR204  
16.3.1  圆锥工具 339 #"B\UN  
16.3.2  波前问题 341 d QqK^#  
16.4  参考文献 343 @H=:)* ;  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 Ftr5k^!  
17.1  引言 345 9E6_]8rl  
17.2  操作数 345 o,)?!{k}  
18  如何在Function中编写脚本 351 #)nSr  
18.1  简介 351 }"|K(hq  
18.2  什么是脚本? 351 ajEjZ6  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 n^g|Ja  
18.4  基础 352 ]iUx p+  
18.4.1  Classes(类别) 352 7Ve1]) u  
18.4.2  对象 352 sc}~8T  
18.4.3  信息(Messages) 352 0.@&_XTPl  
18.4.4  属性 352 \RG8{G,  
18.4.5  方法 353 ojan Bg   
18.4.6  变量声明 353 j-lfMEa$o  
18.5  创建对象 354 y]f"@9G#  
18.5.1  创建对象函数 355 9@Jtaq>jf  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 C)`Fv=]R  
18.5.3 丢弃对象 356 fSokm4]vg  
18.5.4  总结 356 &__es{;P  
18.6  脚本中的表格 357 t&AFU t\c  
18.6.1  方法1 357 XMxSQ B1  
18.6.2  方法2 357 sG92XJ  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ?M\{&mlF  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ]d! UJ&<?  
18.9  注释 360 ;5659!;  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 >LOjV0K/  
18.11  一个更高级的脚本 362 1ng!G 7g  
18.12  <esc>键 364 3`t%g[D1  
18.13 包含文件 365 8; 0A g  
18.14  脚本被优化调用 366 \nPEyw,U  
18.15  脚本中的对话框 368 ,X`)ct  
18.15.1  介绍 368 ;)D];u|_  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 -;^j:L{   
18.15.3  输入框函数 370 hpO`]  
18.15.4  自定义对话框 371 "eB$k40-  
18.15.5  对话框编辑器 371 YoBDvV":@  
18.15.6  控制对话框 377 AP'*Nh@Ik(  
18.15.7  更高级的对话框 380 R#%(5-Zu#R  
18.16 Types语句 384 7/I,HxXp!  
18.17 打开文件 385 i OW#>66d  
18.18 Bags 387 5kCUaPu  
18.13  进一步研究 388 E87Ww,z8  
19  vStack 389 e4? >-  
19.1  vStack基本原理 389 lh7jux  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 leTf&W  
19.3  五棱镜 393 1H6<[iHW  
19.4 光束距离 396  : y%d  
19.5 误差 399 j+$rj  
19.6  二向分色棱镜 399 r]:(Vk]|F  
19.7  偏振泄漏 404 &,{fw@#)_  
19.8  波前误差—相位 405 ;$.J3!  
19.9  其它计算参数 405 I ?gSG*m  
20  报表生成器 406 UC]\yUK1J  
20.1  入门 406 K,+LG7ec  
20.2  指令(Instructions) 406 &$`P,i 1)  
20.3  页面布局指令 406 }dgfqq  
20.4  常见的参数图和三维图 407 3@dL /x4A  
20.5  表格中的常见参数 408 ,JAx ?Xb  
20.6  迭代指令 408 "s0)rqf<  
20.7  报表模版 408 p<2L.\6"  
20.8  开始设计一个报表模版 409 itBwCIjG  
21  一个新的project 413 /Z'L^ L%R  
21.1  创建一个新Job 414 42G)~lun-d  
21.2  默认设计 415 g jDh?I  
21.3  薄膜设计 416 ,(qRc(Ho  
21.4  误差的灵敏度计算 420 }wr{W:j  
21.5  显色指数计算 422 k/#&qC>]  
21.6  电场分布 424 _(%d(E2?  
后记 426 hYPl&^  
ObVGV  
KL1/^1  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 xS4w5i2  
E ~Sb  
《Essential Macleod中文手册》
>,gg5<F-E  
yu!h<nfzA  
目  录 _x%7@ .TB  
v1o#1;  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 +ga k#M"n\  
第1章 介绍 ..........................................................1 ~zCEpU|@N  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 %7zuQ \w  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 b6nsg|&#  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 cv998*|X:  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 WIC/AL'  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ub^h&= \S  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 JjPKR?[>  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 >7lx=T x  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 [I '0,y  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 XG{{ 2f  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 @L<*9sLWh  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 IHam4$~-  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 TSTl+W  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 |'P]GK  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 _4"mAPt  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 `eE&5.   
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 @mOH"acGn?  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 G_;)a]v8)  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 HePUWL'  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 iHeN9 cl  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 E7t+E)=8  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 FQu8 vwV6>  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 t2/#&J]  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 7S '% E  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 Wvbf"hq  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 *w^C"^*  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 =5J7Hw&K  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 P\yDa*m  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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