线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1000
时间地点 0 czEA  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 evE$$# 6R  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 28,g'k!  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 U&OE*dq  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ?UBhM,;XK  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
"%dok@v  
特邀专家介绍 I,7n-G_'  
E>&oe&`o'  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Stk'|-z  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 9;L50q>s  
课程概要 osPrr QoH  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 /9<62F@zJ"  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 9V?:!%J  
课程大纲 nD!5I@D  
1. Essential Macleod软件介绍 Lb0BmR%0  
1.1 介绍软件 *GC9o/  
1.2 创建一个简单的设计 ~IS3i'bh  
1.3 绘图和制表来表示性能 ]GmXZi  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 QvDD   
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) X0BBJ(e  
1.6 特定设计的公式技术 *:,y`!F=y  
1.7 交互式绘图 i3<ZFR  
2. 光学薄膜理论基础 (I ~r~5^  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 "a]Ff&T-  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 mAuN* (  
3. 材料管理 6#(rWW "_  
3.1 材料模型 /u pDbP.O  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 :=2l1Y[-G  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 k-|b{QZ8!;  
3.4 基板光学常数的提取 $LJCup,1"  
4. 光学薄膜设计优化方法 KO&oT#S  
4.1 参考波长与g dH+oV`  
4.2 四分之一规则 .Eg[[K_iD  
4.3 导纳与导纳图 ">'`{mXew  
4.4 斜入射光学导纳 +^V%D!.$@  
4.5 光学薄膜设计的进展 {U7A&e0eW  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 >o8N@`@VK-  
4.6.1 优化目标设置 #_4JTGJ  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) |<w Z;d  
4.6.3 膜层锁定和链接 3PRK.vf  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 IWP[?U=  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 /+{1;}AT  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 9/4Bx!~A  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 "6xTh0D  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 zR6^rq*  
5.5 如何在Function中编写脚本 { , zg  
6. 光学薄膜系统案例 I+FQ2\J*H  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 &dvL`  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 a!*K)x,"<  
6.3 Stack应用范例说明 |c3Yh,Sv  
7. 薄膜性能分析 [y1 x`WOk9  
7.1 电场分布 vGI?X#w3  
7.2 公差与灵敏度分析 UWW_[dJr   
7.3 反演工程 2:Rxyg@'  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 [XDr-5Dm  
8. 真空技术 s5D<c'-  
8.1 常用真空泵介绍 n ;0x\Q|S  
8.2 真空密封和检漏 E|5lm  
9. 薄膜制备技术 @Sd l~'"  
9.1 常见薄膜制备技术 K!onV3mR  
10. 薄膜制备工艺 r-IG.ym3  
10.1 薄膜制备工艺因素 4&/m>%r  
10.2 薄膜均匀性修正技术 &s<'fSI  
10.3 光学薄膜监控技术 G,JK$j>*l  
11. 激光薄膜 J<=k [Q  
11.1 薄膜的损伤问题 _.G p}0a  
11.2 激光薄膜的制备流程 IiRII)  
11.3 激光薄膜的制备技术 XbL\l  
12. 光学薄膜特性测量 b.sRB1  
12.1 薄膜光谱测量 aIW W[xZ  
12.2 薄膜光学常数测量 kr6^6I.  
12.3 薄膜应力测量 T!pjv8y@R  
12.4 薄膜损伤测量 Ceco^Mw  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 _M9-n  
1pHt3Vc(G  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
Ss c3uo0  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
L2m~ GnP|?  
内容简介 ye-R  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Fu6~8uDV{{  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ;yVT:qd %  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 |m /XGr  
Rr3<ln  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
rP7~ R  
目录  wk (}q  
Preface 1  LAfv1  
内容简介 2 OJ Y_u[  
目录 i "f-z3kL  
1  引言 1 ]f~mR_E  
2  光学薄膜基础 2 x0dO ^D  
2.1  一般规则 2 b+qdl`V d  
2.2  正交入射规则 3 sU }.2k  
2.3  斜入射规则 6 Z$&i"1{  
2.4  精确计算 7 +Xjevg6DU  
2.5  相干性 8 4_B1qN  
2.6 参考文献 10 S|HnmkV66  
3  Essential Macleod的快速预览 10 mFu0$N6]H  
4  Essential Macleod的特点 32 u"*Wo'3I|  
4.1  容量和局限性 33 %HK\  
4.2  程序在哪里? 33 ,}hJ)  
4.3  数据文件 35 U)g2 7*7  
4.4  设计规则 35 7)y9% -}  
4.5  材料数据库和资料库 37 O.g!k"nas&  
4.5.1材料损失 38 />E:}1}{  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ON~K(O2g(  
4.5.2 材料库 41 #Z.2g].  
4.5.3导出材料数据 43 ,F)9{ <r]  
4.6  常用单位 43 QY]G+3W  
4.7  插值和外推法 46 ywS2` (  
4.8  材料数据的平滑 50 }3&~YBx;:  
4.9 更多光学常数模型 54 n'-?CMH`  
4.10  文档的一般编辑规则 55 +bv-!rf  
4.11 撤销和重做 56 /o)o7$6Q  
4.12  设计文档 57 Y']D_\y  
4.10.1  公式 58 Z(=U ZI?  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 6 s$jt-bH  
4.10.3  沉积密度 59 MU/3**zoW  
4.10.4 平行和楔形介质 60 !<P|:Oo*Dl  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 s wIJmA  
4.10.4  性能 61 %Z#s9QC  
4.10.5  保存设计和性能 64 = g[Cs*  
4.10.6  默认设计 64 $JTQA  
4.11  图表 64 ^&mJDRe  
4.11.1  合并曲线图 67 <#r/4a"V  
4.11.2  自适应绘制 68 0nbQKoF  
4.11.3  动态绘图 68 ozr82  
4.11.4  3D绘图 69 }F~4+4B^  
4.12  导入和导出 73 8w|-7$ v  
4.12.1  剪贴板 73 ^`&?"yj<z  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ?U PZ49y  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 !u;r<:g!  
4.13  背景 77 DfJHH)Ry}  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 H ^<LnYZ  
4.15  生成Rugate 84 KS6H`Mm}/  
4.16  参考文献 91 fEB>3hI  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 6mH --!j  
5.1  Jobs 92 #kt3l59Ty  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 '`K-rvF,C  
5.3  输入材料 94 aN/0'V|&ym  
5.4  设计数据文件夹 95 ^*fZ  
5.5  默认设计 95 1 ynjDin<  
6  细化和合成 97 zAxscD f'  
6.1  优化介绍 97 GvCB3z  
6.2  细化 (Refinement) 98 ]U8VU  
6.3  合成 (Synthesis) 100 M#PutrH  
6.4  目标和评价函数 101 -!kfwJg8N(  
6.4.1  目标输入 102 .<Lbv5m  
6.4.2  目标 103 v,] &[`  
6.4.3  特殊的评价函数 104 .%'$3=/oe  
6.5  层锁定和连接 104 B?G!~lQ)o  
6.6  细化技术 104 )t-Jc+*A>  
6.6.1  单纯形 105 { eU_  
6.6.1.1 单纯形参数 106 fuQb h  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 WjrUns  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Snav)Hb'  
6.6.3  模拟退火算法 109 n4YedjHSN  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 BV8-\R@  
6.6.4  共轭梯度 111 l-Q.@hG  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 keBf^NY  
6.6.5  拟牛顿法 112 H*Tc.Ie  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 p? dXs^ c  
6.6.6  针合成 113 YR{%p Zp  
6.6.6.1 针合成参数 114 38[ko 3  
6.6.7 差分进化 114 FccT@ ,.F  
6.6.8非局部细化 115 @vC7j>*4B  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Q^iE,_Zq  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 p..O;_U  
6.7.1  细化 116 J9kmIMq-C  
6.7.2  合成 117 >brf7h  
6.8  参考文献 117 J*lKXFq7  
7  导纳图及其他工具 118 R>ak 3Y  
7.1  简介 118 1%;o-F@  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 )<kI d4E  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ?ep'R&NV  
7.2.2  导纳图 120 "0nT:!BZ  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 i09w(k?  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 b~1]}9TJ  
7.5  斜入射导纳图 141 G9/5KW}-  
7.6  对称周期 141 q Z,7q  
7.7  参考文献 142 JMUk=p<\  
8  典型的镀膜实例 143 AV%?8-  
8.1  单层抗反射薄膜 145 sUfYEVjr  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 T.fmEl  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Gl1Qbd0  
8.4  W-膜层 148 |7K[+aK  
8.5  V-膜层 149 D};zPf@!p  
8.6  V-膜层高折射基底 150 <HLe,  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 T\G2B*fGd  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 b&y"[1`  
8.9  四层抗反射薄膜 153 abHW[VP9  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 qm.30 2  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ?9_RI(a.}  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 5i+0GN3nd  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 j &#A 9!  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 #q06K2  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 c\n&Z'vK  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 6(Qr!<  
8.17  1/4波长堆栈 162 S~8w-lG!  
8.18  陷波滤波器 163 QJcaOXyMS  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Lqt.S|  
8.20  褶皱 165 O:=%{/6&D  
8.21  消偏振分光器1 169 tA?cHDp4E  
8.22  消偏振分光器2 171 Y4\BHFq  
8.23  消偏振立体分光器 172 62R9 4  
8.24  消偏振截止滤光片 173 eYER "E  
8.25  立体偏振分束器1 174 hdw-gem{?  
8.26  立方偏振分束器2 177 t3#My2=  
8.27  相位延迟器 178 !T((d7;  
8.28  红外截止器 179 "k8Yc<`u  
8.29  21层长波带通滤波器 180 V-y"@0%1  
8.30  49层长波带通滤波器 181 +@'{  
8.31  55层短波带通滤波器 182 U5 `h  
8.32  47 红外截止器 183 ]%{.zl!  
8.33  宽带通滤波器 184 RG'Ft]l92N  
8.34  诱导透射滤波器 186 ad\?@>[ I  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ZfpV=DU  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Nh I&wl  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ,&DK*LT8U  
8.35  增益平坦滤波器 193 +h64idM{U  
8.38  啁啾反射镜 1 196 V)$y  
8.39  啁啾反射镜2 198 _f~(g1sE  
8.40  啁啾反射镜3 199 $`2rtF  
8.41  带保护层的铝膜层 200 +<G |Ru-  
8.42  增加铝反射率膜 201 ;g3z?Uz)  
8.43  参考文献 202 N2?o6)  
9  多层膜 204 m3apeIEi[  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 KjrUTG0oA  
9.2  内部透过率 204 V~Zi #o  
9.3 内部透射率数据 205 'IorjR@ 40  
9.4  实例 206 Zu4|1 W  
9.5  实例2 210 fn%Gu s~  
9.6  圆锥和带宽计算 212 A@8Ot-t:\2  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 b7 pD#v  
10  光学薄膜的颜色 216 N1lhlw6  
10.1  导言 216 [79 eq=  
10.2  色彩 216 e}x}Fj</(  
10.3  主波长和纯度 220 (xp<@-  
10.4  色相和纯度 221 xiu?BP?V  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ")/TbT Vu  
10.6 色差 226 E+Jh4$x {  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ZZkxEq+D  
10.8  颜色渲染指数 234 $Hx00 ho  
10.9  色差计算 235 9,?\hBEu  
10.10  参考文献 236 Oz\mIVC#  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 dmq<vVxC  
11.1  短脉冲 238 U>q&p}z0 H  
11.2  群速度 239 \m.ap+dFa  
11.3  群速度色散 241 L<kIzB !  
11.4  啁啾(chirped) 245 Kn9O=?Xh;  
11.5  光学薄膜—相变 245 zW`Zmt\T2  
11.6  群延迟和延迟色散 246 W\(u1>lj  
11.7  色度色散 246 16iymiLz&  
11.8  色散补偿 249 5yvaY "B  
11.9  空间光线偏移 256  0p8Z l  
11.10  参考文献 258 i[:S *`@S  
12  公差与误差 260 ;l^4/BR  
12.1  蒙特卡罗模型 260 <@B zF0  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 g$&uD  
12.2.1  误差工具 267 _%HpB=  
12.2.2  灵敏度工具 271 *cjH]MQ0Ak  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 U=?hT&w\S  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 MA:2]l3e  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 U6hT*126  
12.3  参考文献 276 JvA6kw,  
13  Runsheet 与Simulator 277 }uI(D&?+h  
13.1  原理介绍 277 pNOVyyo>BW  
13.2  截止滤光片设计 277 (nhv#&Fd+  
14  光学常数提取 289 y-UutI&  
14.1  介绍 289 5e!YYt>  
14.2  电介质薄膜 289 .YvE  
14.3  n 和k 的提取工具 295 |E\0Rv{H3  
14.4  基底的参数提取 302 89I[Dg;"u  
14.5  金属的参数提取 306 2gn*B$a  
14.6  不正确的模型 306 vYh_<Rp5  
14.7  参考文献 311 (Bta vE  
15  反演工程 313 bYr;~ ^  
15.1  随机性和系统性 313 go, Hfb  
15.2  常见的系统性问题 314 GP"(+5  
15.3  单层膜 314 us&!%`  
15.4  多层膜 314 jTNfGu0x  
15.5  含义 319 x\=2D<@az  
15.6  反演工程实例 319 ]J^ 9iDTTA  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 @w1@|"6vF  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 SZOcFmC?  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 9aLS%-x!+  
16.1  光学性质的热致偏移 329 RU>Hr5ebo  
16.2  应力工具 335 L  lP  
16.3  均匀性误差 339 a:C'N4K  
16.3.1  圆锥工具 339 $#4J^(I*:  
16.3.2  波前问题 341 f%LzWXA  
16.4  参考文献 343 u-W6 hZ$  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 >Z#=<  
17.1  引言 345 UcCkn7}  
17.2  操作数 345 S~"1q 0  
18  如何在Function中编写脚本 351 7m;2M]BRi  
18.1  简介 351 xl%!7?G|$>  
18.2  什么是脚本? 351 UOn L^Z}  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 %IS'R`;3  
18.4  基础 352 By=/DVm)=  
18.4.1  Classes(类别) 352 20hF2V  
18.4.2  对象 352 4\HB rd#P  
18.4.3  信息(Messages) 352 P)fv:a  
18.4.4  属性 352 a8T<f/qW k  
18.4.5  方法 353 '1)BZ!  
18.4.6  变量声明 353 &"dT/5}6  
18.5  创建对象 354 Bp3%*va  
18.5.1  创建对象函数 355 *_<P% J  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 6qA48:/F=  
18.5.3 丢弃对象 356 !GkwbHr+p  
18.5.4  总结 356 RUTlwTdv  
18.6  脚本中的表格 357 G"CV S@  
18.6.1  方法1 357 QK0  
18.6.2  方法2 357 15Vb`Vf`N  
18.7 2D Plots in Scripts 358 W_EM k  
18.8 3D Plots in Scripts 359 [/#c9RA  
18.9  注释 360 \Nc/W!r*9  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 .p%p_  
18.11  一个更高级的脚本 362 tt=?*n  
18.12  <esc>键 364 Lm<"W_  
18.13 包含文件 365 KWU ~QAc  
18.14  脚本被优化调用 366 r3o_mO?X  
18.15  脚本中的对话框 368 IVYWda0m  
18.15.1  介绍 368 z\Y+5<a  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Q)\7(n  
18.15.3  输入框函数 370 yD iL  
18.15.4  自定义对话框 371 Wjt1NfS&  
18.15.5  对话框编辑器 371 4!Ez#\  
18.15.6  控制对话框 377 vjG: 1|*e  
18.15.7  更高级的对话框 380 zdCeOZ 6  
18.16 Types语句 384 ! /Z{uy  
18.17 打开文件 385 -If-c'"G  
18.18 Bags 387 @ViJJ\  
18.13  进一步研究 388 &sL(|>N  
19  vStack 389 N9r}nqCN  
19.1  vStack基本原理 389 LTu cs }  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 C+-GE9=  
19.3  五棱镜 393 de{KfM`W;  
19.4 光束距离 396 u7>b}+ak&  
19.5 误差 399 D%v4B`4ua'  
19.6  二向分色棱镜 399 :8}QKp  
19.7  偏振泄漏 404 &~P5 [[Q  
19.8  波前误差—相位 405 hkw;W[ZWa  
19.9  其它计算参数 405 ]!J 6S.@#+  
20  报表生成器 406 @ NGK2J  
20.1  入门 406 I]P'wav~O  
20.2  指令(Instructions) 406 !oeu  
20.3  页面布局指令 406 W=M`Bkw{  
20.4  常见的参数图和三维图 407 O"4Q=~Y  
20.5  表格中的常见参数 408 ;crQ7}k  
20.6  迭代指令 408 HlqvXt\  
20.7  报表模版 408 'v^CA}  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ]]{$X_0n  
21  一个新的project 413 8YC\Bw  
21.1  创建一个新Job 414 <v;;:RB6c  
21.2  默认设计 415 k"|4 LPv[  
21.3  薄膜设计 416 3*$A;%q  
21.4  误差的灵敏度计算 420 JqTkNKi/s  
21.5  显色指数计算 422 D<$~bUkxR  
21.6  电场分布 424 t>|Y-i3cb  
后记 426 I_@\O!<y}  
8DbXv~3@  
Pg" uisT#>  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 W R@=[G#TJ  
LtKiJ.j?A  
《Essential Macleod中文手册》
W HO;;j  
{J q[N}  
目  录 trmCIk&Fkj  
)n 1b  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ";38v jIV  
第1章 介绍 ..........................................................1 iph>"b$D  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 S(](C  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 KE:PRX  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 *]~ug%a  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 $$~x: iN  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Eq^k @  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 X-9>;Mb~y  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 H];|<G  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 y0>asl  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Mk"+*G  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ?-0k3  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 6H67$?jMyJ  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 VO3&!uOd  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 }\}pSqW  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 wXp A1,i  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 <qN0Q7  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 V{;!vt~  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 5bM/ v  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 9K~2!<  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 HXhz|s0  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 02:]  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 1eQ9(hzF  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 TSqfl/UI  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 s42M[BW]  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 duB{ 1  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ^]w!ow41  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 J]/TxUE  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ES!$JWK|  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1