线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:716
时间地点 QTeFR&q8  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ^g-Fg>&M  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 j=FMYd8$y  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 b#Jo Xa9  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 (eki X*y  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
7TnM4@*f  
特邀专家介绍 <8g=BWA  
.|U4N/XN%q  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 XynU/Go,  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 >1m)%zt  
课程概要 "$]ls9-%n  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 &3WkH W   
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 s c5\( b  
课程大纲  xQX<w\s  
1. Essential Macleod软件介绍 *&(2`#C;  
1.1 介绍软件 Q^[e/U,  
1.2 创建一个简单的设计 p "/(>8  
1.3 绘图和制表来表示性能 AS`2=w  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 4=~ 9v  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) E!dz/.  
1.6 特定设计的公式技术 aMBL1d7  
1.7 交互式绘图 Q@7l"8#[t  
2. 光学薄膜理论基础 qbEKp HnB  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 p(~Y" H  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 <%M\7NDWDA  
3. 材料管理 #-}kG"  
3.1 材料模型  \C!%IR  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ~5FS|[1L  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ~g*Y, Y  
3.4 基板光学常数的提取 >_&~!Y.Z=  
4. 光学薄膜设计优化方法 ,2RC|h^O,  
4.1 参考波长与g j?Cr31  
4.2 四分之一规则 d&NCFx  
4.3 导纳与导纳图 SAd 97A:  
4.4 斜入射光学导纳 @c6"RHG9  
4.5 光学薄膜设计的进展 P{"  WlJ  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 C(EYM$  
4.6.1 优化目标设置 <\E"clZI  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) g&{gD^9)4  
4.6.3 膜层锁定和链接 #.<*; rB  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 y T[Lzv#  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 aUKh}) B  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ov?.:M  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 '.]e._T  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 dNOX&$/=  
5.5 如何在Function中编写脚本 I~d#p ]>  
6. 光学薄膜系统案例 "L9C  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 xN e_qO  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 hq5NQi` %  
6.3 Stack应用范例说明 )`B -O::  
7. 薄膜性能分析 t)\D  
7.1 电场分布 b^uP^](J  
7.2 公差与灵敏度分析 B*- ToXQQr  
7.3 反演工程 >(IITt  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 u^}7Vs .  
8. 真空技术 -@YVe:$%b  
8.1 常用真空泵介绍 L{cK^ ,  
8.2 真空密封和检漏 8W19#?7>B  
9. 薄膜制备技术 !T<z'zZU  
9.1 常见薄膜制备技术 +L^A:}L(  
10. 薄膜制备工艺 pi^^L@@ d  
10.1 薄膜制备工艺因素 ?l6>6a7  
10.2 薄膜均匀性修正技术 HF*j`}  
10.3 光学薄膜监控技术 }s`jl` `PM  
11. 激光薄膜 &_< VZS  
11.1 薄膜的损伤问题 &Pmc"9Rl  
11.2 激光薄膜的制备流程 :*mA,2s  
11.3 激光薄膜的制备技术 80{#bb  
12. 光学薄膜特性测量 P]!LN\[  
12.1 薄膜光谱测量 k)N2 +/  
12.2 薄膜光学常数测量 y3&Tv  
12.3 薄膜应力测量 a"`g"ZRx  
12.4 薄膜损伤测量 =giM@MV  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 [ea6dv4p  
N,WI{*  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 AzHIp^  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 YWt"|  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 el <<D  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Fy}MXe"f  
[<#<:h &\  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
B6tcKh9d,  
目录 E[)7tr  
Preface 1 (P E# Y(  
内容简介 2 [47K7~9p  
目录 i 8CHb~m@^$  
1  引言 1 Bg+<*z-?e  
2  光学薄膜基础 2 xFsB?d  
2.1  一般规则 2 3e!3.$4M  
2.2  正交入射规则 3 zCKy`u .  
2.3  斜入射规则 6 )'BJ4[aq\  
2.4  精确计算 7 JLy)}8I  
2.5  相干性 8 "C$!mdr7  
2.6 参考文献 10 1R5\GKF6o  
3  Essential Macleod的快速预览 10 hRuo,FS#:  
4  Essential Macleod的特点 32 AmT| %j&3  
4.1  容量和局限性 33 W (=Wg|cr  
4.2  程序在哪里? 33 $I}Hk^X  
4.3  数据文件 35 \3n{w   
4.4  设计规则 35 68&6J's;  
4.5  材料数据库和资料库 37 0[Xt,~  
4.5.1材料损失 38 L|]w3}ZT@  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 |d/x~t=  
4.5.2 材料库 41 ,? 0-=o  
4.5.3导出材料数据 43 IyG = 7  
4.6  常用单位 43 ooLnJ Y#  
4.7  插值和外推法 46 AiyvHt  
4.8  材料数据的平滑 50 cXLV"d  
4.9 更多光学常数模型 54 f_re"d 3u  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Q.pEUDq/  
4.11 撤销和重做 56 P`Hd*xh".j  
4.12  设计文档 57 y(c|5CQ  
4.10.1  公式 58 b2/N H1A  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 C>w9 {h  
4.10.3  沉积密度 59 X]JpS  
4.10.4 平行和楔形介质 60 p:[`%<j0  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ADLa.{  
4.10.4  性能 61 ;+r)j"W  
4.10.5  保存设计和性能 64 IS0HV$OI  
4.10.6  默认设计 64 @n~>j&Kp  
4.11  图表 64 |l6<GWG+  
4.11.1  合并曲线图 67 NgE&KPj\  
4.11.2  自适应绘制 68 5I8FD".i  
4.11.3  动态绘图 68 s% L" c  
4.11.4  3D绘图 69 xu%! b0  
4.12  导入和导出 73 )5GdvqA  
4.12.1  剪贴板 73 >?G|Yz*kEJ  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 }Ll3AR7\  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Z!*8JaMT  
4.13  背景 77 4PO%qO  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 e~t}z_>F  
4.15  生成Rugate 84 }QWTPRn  
4.16  参考文献 91 K+h9bI/Sf  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 7kX7\[zN  
5.1  Jobs 92 Zv1Bju*y  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 s_ GK;;  
5.3  输入材料 94 Ew?/@KAV\  
5.4  设计数据文件夹 95 l $p_])x  
5.5  默认设计 95 !ulLGmUn  
6  细化和合成 97 (jo(bbpj  
6.1  优化介绍 97 p E(<XD3Q  
6.2  细化 (Refinement) 98 I7q?V1f u4  
6.3  合成 (Synthesis) 100 :bM$;  
6.4  目标和评价函数 101 ~P]HG;$?n  
6.4.1  目标输入 102 K)h"G#NZM  
6.4.2  目标 103 ^7~SS2t!  
6.4.3  特殊的评价函数 104 WB=<W#?w7%  
6.5  层锁定和连接 104 =|6^)lt$  
6.6  细化技术 104 PO%yWns30o  
6.6.1  单纯形 105 ziLr }/tg  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Y&05 *b"  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 _V7^sk!  
6.6.2.1 Optimac参数 108 5&rCNi*\  
6.6.3  模拟退火算法 109 VH7iH|eW  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 cT>z  
6.6.4  共轭梯度 111 WfTdD.Xx  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 a_pCjG89  
6.6.5  拟牛顿法 112 !7ZfT?&  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 *(\;}JF-  
6.6.6  针合成 113 . ~A"Wyu\  
6.6.6.1 针合成参数 114 *nsnX/e(-  
6.6.7 差分进化 114 2LxVt@_R!%  
6.6.8非局部细化 115 ~kj(s>xP  
6.6.8.1非局部细化参数 115 :`>+f.)  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 S"KTL*9D  
6.7.1  细化 116 d'AviW>  
6.7.2  合成 117 z[lRb]:i[  
6.8  参考文献 117 M;p q2$   
7  导纳图及其他工具 118 :LIKp;  
7.1  简介 118 rt@-Pw!B  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 y`B!6p 5j  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Z'EO   
7.2.2  导纳图 120 )(ZPSg$/F  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 >nIcF m  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 8v)~J}[Bz  
7.5  斜入射导纳图 141 @Pb 1QLiz  
7.6  对称周期 141 mk`cyN>m  
7.7  参考文献 142 P{i8  
8  典型的镀膜实例 143 F&L?J_=  
8.1  单层抗反射薄膜 145 bJ,=yB+0  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 m"|(w`n]E+  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 S9"y@F <  
8.4  W-膜层 148 3R=3\;  
8.5  V-膜层 149 SVs~,  
8.6  V-膜层高折射基底 150 =iK6/ y`  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 VrGb;L'[  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 FUqhSW  
8.9  四层抗反射薄膜 153 7Yw\%}UL  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 9}qfdbI  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 <j8&u/Za~'  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 R:IS4AaS  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 G4exk5  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 g*AD$":  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 :{N3o:  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 lRATrp#T  
8.17  1/4波长堆栈 162 |b'<XQ&l5  
8.18  陷波滤波器 163 _F|_C5A  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Ye=7Y57Nr  
8.20  褶皱 165 d$pf[DJQo  
8.21  消偏振分光器1 169 _~S^#ut+  
8.22  消偏振分光器2 171 !qGx(D{\  
8.23  消偏振立体分光器 172 W$MEbf%1  
8.24  消偏振截止滤光片 173 *~<]|H5~  
8.25  立体偏振分束器1 174 ??%T  
8.26  立方偏振分束器2 177 SSsQu^A  
8.27  相位延迟器 178 iJKm27 ">  
8.28  红外截止器 179 ;pNbKf:  
8.29  21层长波带通滤波器 180 f_P+qm  
8.30  49层长波带通滤波器 181 cA*X$j6  
8.31  55层短波带通滤波器 182 (zYSSf!I  
8.32  47 红外截止器 183 6!Ji>h.Ak  
8.33  宽带通滤波器 184 X3=Jp'p$h  
8.34  诱导透射滤波器 186 d t0E0i  
8.35  诱导透射滤波器2 188 }`/n2  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 nIqY}??  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 H"RF[bX(  
8.35  增益平坦滤波器 193 xEZVsz  
8.38  啁啾反射镜 1 196 b;;Kxi:7$}  
8.39  啁啾反射镜2 198 k -DB~-L  
8.40  啁啾反射镜3 199 {6y.%ysU  
8.41  带保护层的铝膜层 200 yJ`1},^  
8.42  增加铝反射率膜 201 RdVis|7o  
8.43  参考文献 202 dj&m  
9  多层膜 204 ^`r|3c0  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 6p]R)K>wS  
9.2  内部透过率 204 }}bi#G:R+  
9.3 内部透射率数据 205 u-M$45vct  
9.4  实例 206 qH$rvD!]  
9.5  实例2 210 *0@; kD=  
9.6  圆锥和带宽计算 212 A8Z?[,Mq!  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 E?h2e~ ,]  
10  光学薄膜的颜色 216 ,, #rv-*  
10.1  导言 216 lGHu@(n<  
10.2  色彩 216 V #\ZS{'J  
10.3  主波长和纯度 220 Ft8h=  
10.4  色相和纯度 221 [ma#8p)  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 [tK:y[nk  
10.6 色差 226 @C [|'[xQ  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 k|c0tvp  
10.8  颜色渲染指数 234 Ihq@|s8  
10.9  色差计算 235 j72] _G  
10.10  参考文献 236 ^5 =E`q".  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 `1}?{ud  
11.1  短脉冲 238 J8?6G&0H  
11.2  群速度 239 Odjd`DD1  
11.3  群速度色散 241 KPe.AK,8  
11.4  啁啾(chirped) 245 BRzWZq%r3  
11.5  光学薄膜—相变 245 qg:I+"u  
11.6  群延迟和延迟色散 246 M9jo<+  
11.7  色度色散 246 Rpd/9x.)&  
11.8  色散补偿 249 gw"l& r  
11.9  空间光线偏移 256 4bi\$   
11.10  参考文献 258 }vA nP]!A5  
12  公差与误差 260 A*U'SCg(G  
12.1  蒙特卡罗模型 260 /F}\V ^  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 4m(>"dHP  
12.2.1  误差工具 267 \bQ!> l\  
12.2.2  灵敏度工具 271 G$`4.,g  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 JG4*B|3  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 YYr&r.6  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 GfPz^F=ie.  
12.3  参考文献 276 (BQ3M-  
13  Runsheet 与Simulator 277 $$f$$  
13.1  原理介绍 277 +9F#~{v`4a  
13.2  截止滤光片设计 277 +4nR&1z$  
14  光学常数提取 289 n:."ZBtY*  
14.1  介绍 289 j3-6WUO  
14.2  电介质薄膜 289 vFC=qLz:  
14.3  n 和k 的提取工具 295 17]31  
14.4  基底的参数提取 302 YaT+BRh?  
14.5  金属的参数提取 306 <$2zr4  
14.6  不正确的模型 306 @,`=~_J  
14.7  参考文献 311 w>BFgb?  
15  反演工程 313 w*P4_= :%Y  
15.1  随机性和系统性 313 Y4!q 1]TGX  
15.2  常见的系统性问题 314 VgTI2  
15.3  单层膜 314 ?q}wl\"8  
15.4  多层膜 314 w$:)wyR-  
15.5  含义 319 aDv/kFfn  
15.6  反演工程实例 319 i*w-Q=  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 QLU; .&  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 NG!Q< !Y  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 fqsp1m$  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Wc>)/y5$  
16.2  应力工具 335 mg/kyua^  
16.3  均匀性误差 339 Y8{1?LO  
16.3.1  圆锥工具 339 =>%%]0  
16.3.2  波前问题 341 cP=mJ1  
16.4  参考文献 343 ioCkPj  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345  CyDf[C)=  
17.1  引言 345 /l%qq*Ew  
17.2  操作数 345 % peb{i  
18  如何在Function中编写脚本 351 U (7P X`1  
18.1  简介 351 ZM, ^R?e  
18.2  什么是脚本? 351 dk`!UtNNRa  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 (w B[ ]O$@  
18.4  基础 352 eaP$/U D?  
18.4.1  Classes(类别) 352 <X&:tZ #/  
18.4.2  对象 352 Fe< t@W  
18.4.3  信息(Messages) 352 Qs X59d  
18.4.4  属性 352 0-f-  
18.4.5  方法 353 (gB=!1/|G  
18.4.6  变量声明 353 $%8n,FJ[  
18.5  创建对象 354 yP]W\W'  
18.5.1  创建对象函数 355 ',7Z1O  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 q\Kdu5x{  
18.5.3 丢弃对象 356 {5-{f=Rk  
18.5.4  总结 356 yS3s5C{C  
18.6  脚本中的表格 357 *sVxjZvV  
18.6.1  方法1 357 h l'k_<a*  
18.6.2  方法2 357 ~0Q72  
18.7 2D Plots in Scripts 358 6WM_V9Tidq  
18.8 3D Plots in Scripts 359 7N=VVD~!b  
18.9  注释 360 .cog9H'  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 }"H900WE|  
18.11  一个更高级的脚本 362 &B7KWvAy  
18.12  <esc>键 364 4\es@2q  
18.13 包含文件 365 O G}&%NgH  
18.14  脚本被优化调用 366 bA,D]  
18.15  脚本中的对话框 368 \>7-<7+I6  
18.15.1  介绍 368 N6%q%7F.:  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 *OcptmY<  
18.15.3  输入框函数 370 l= S_#  
18.15.4  自定义对话框 371 f L?~1i =  
18.15.5  对话框编辑器 371 {z_pL^S'52  
18.15.6  控制对话框 377 jzMGRN/67  
18.15.7  更高级的对话框 380 qrYeh`Mv  
18.16 Types语句 384 ?=rh=#  
18.17 打开文件 385 +t{FF!mL  
18.18 Bags 387 -~ Q3T9+  
18.13  进一步研究 388 '#6DI"vJ  
19  vStack 389 [~S0b  
19.1  vStack基本原理 389 =@l5He.]&  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 LnX^*;P5t  
19.3  五棱镜 393 o!S_j^p[C  
19.4 光束距离 396 c7wgjQ[   
19.5 误差 399 {v(|_j&:o  
19.6  二向分色棱镜 399 C( ;7*]  
19.7  偏振泄漏 404 ^KR(p!%  
19.8  波前误差—相位 405 xGL"N1  
19.9  其它计算参数 405 kk#d-! $[  
20  报表生成器 406 <{kj}nxz  
20.1  入门 406 !!%F$qUd\  
20.2  指令(Instructions) 406 i+3b)xtW7  
20.3  页面布局指令 406 o*'3N/D~  
20.4  常见的参数图和三维图 407 5]+eLKXB  
20.5  表格中的常见参数 408 ~'iuh>O)  
20.6  迭代指令 408 XWV~6"  
20.7  报表模版 408 $=R\3:j  
20.8  开始设计一个报表模版 409 o\[nGf C&  
21  一个新的project 413 !<ucwWY,  
21.1  创建一个新Job 414 >=Veu; A  
21.2  默认设计 415 5GP' cE  
21.3  薄膜设计 416 s]OXB {M  
21.4  误差的灵敏度计算 420 +.St"f/1  
21.5  显色指数计算 422 ,0xN#&?Ohh  
21.6  电场分布 424  tvILLR  
后记 426 :;QLoZh^  
4r$t}t gX  
T^t`H p  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 l[Oxf|  
u 05O[>w  
《Essential Macleod中文手册》
(aLnbJeJ  
2e &Zs%u  
目  录 =6:Iv"<  
d1N&J`R\1  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 _G`aI*rKsy  
第1章 介绍 ..........................................................1 WxdYvmp6z[  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 on|>"F`pb  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 seim?LK  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 k9 E ?5  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 /hHD\+0({  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 gnt[l0m  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 @VFg XN  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 N]~q@x;<)3  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 S5vJC-"  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 JaEyVe  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 )`a R?_  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 )erPp@  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 Ghz)=3  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 _G42|lA$/  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 ):\L#>:w  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 v{+*/NQ_  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 KT}}=st%  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 q#1um @m3  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 O<5bsKw'r  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 )xU70:X  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 (1R,   
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 zKZ6Qjd8!  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 aOOY_S E  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 EC7o 3LoND  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 {k>m5L  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 MLJ8m  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 KMv|;yXYj4  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 yl*S|= 8;k  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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