线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:624
时间地点 ]ul]L R%.  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 >7 4'g }  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 $Y>LUZ)b&8  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 S3.Pqp_<  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 rrmr#a  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 s%I) +|  
nI dvff  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 o-49o5:1  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 #W* 5=Cf  
课程概要 & [4Gv61  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 J6=*F;x6E  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 E{1O<qO<  
课程大纲 1?Wk qQ  
1. Essential Macleod软件介绍 !,|yrB&`S  
1.1 介绍软件 3~"G27,  
1.2 创建一个简单的设计 ;CFI*Wfp  
1.3 绘图和制表来表示性能 td%EbxJK]`  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据  #6@7XC  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) s [@II]  
1.6 特定设计的公式技术 DzH1q r  
1.7 交互式绘图 w {6kU   
2. 光学薄膜理论基础 P**h\+M>{  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 yB,$4:C  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 #jbo! wdg  
3. 材料管理 r +d%*Dx  
3.1 材料模型 <4D.P2ct  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 evz{@;.R  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 IL*C/y  
3.4 基板光学常数的提取 &Z#g/Hc  
4. 光学薄膜设计优化方法 @tR:}J*9s  
4.1 参考波长与g |*K AqTO0  
4.2 四分之一规则 E&#cU}ErN  
4.3 导纳与导纳图 2E;UHR  
4.4 斜入射光学导纳 tg.[.v Ks  
4.5 光学薄膜设计的进展 {OH "d  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 T}M!A|   
4.6.1 优化目标设置 A )tGB&  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)  2tMe#V  
4.6.3 膜层锁定和链接 LJ\uRfs  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 bM+}j+0  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 luY#l!mx3  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 8t25wPlx  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 *@^9 ]$*$  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ViKN|W >T  
5.5 如何在Function中编写脚本 6Q"fRXM   
6. 光学薄膜系统案例 P uYAoKG  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等  dtTQY  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 (_Ph{IN  
6.3 Stack应用范例说明 A]c'`Nf  
7. 薄膜性能分析 wxS.!9K  
7.1 电场分布 PFq1Zai}n|  
7.2 公差与灵敏度分析 .hPk}B/KV  
7.3 反演工程 +" |?P  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 /g(WCKva  
8. 真空技术 J2W#vFe\  
8.1 常用真空泵介绍 BE>^;`K  
8.2 真空密封和检漏 Qqm'Yom%T  
9. 薄膜制备技术 ' d' Dlg  
9.1 常见薄膜制备技术 8A'oK8Q  
10. 薄膜制备工艺 ~>6d}7xs  
10.1 薄膜制备工艺因素 {wA(%e3_  
10.2 薄膜均匀性修正技术 0wQ'~8  
10.3 光学薄膜监控技术 76epkiz;=  
11. 激光薄膜 wIeF(}VM  
11.1 薄膜的损伤问题 }w&W\g+E$  
11.2 激光薄膜的制备流程 (q o ?e2K  
11.3 激光薄膜的制备技术 %dn!$[D@  
12. 光学薄膜特性测量 s3<gq x-&r  
12.1 薄膜光谱测量 GO4IAUA  
12.2 薄膜光学常数测量 vJI]ZnL{  
12.3 薄膜应力测量 #$n >+ lc  
12.4 薄膜损伤测量 tx`gXtO$  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 |2AMj0V~  
u]0{#wu;g  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
(r*"}"ZG  
内容简介 S@4p.NMU  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 uE E;~`G  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 94.|l  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 'wyS9^F  
o{]2W `0r  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
W?TvdeBx  
目录 7up~8e$_  
Preface 1 )>"|<h.2]  
内容简介 2 G'#Uzwo  
目录 i pgUp1goAU  
1  引言 1 QzLE9   
2  光学薄膜基础 2 Nhf@Y}Cu  
2.1  一般规则 2 E|_J  
2.2  正交入射规则 3 >bRoQ8  
2.3  斜入射规则 6 +,xluwv$9  
2.4  精确计算 7 .D3k(zZ  
2.5  相干性 8 [b:0j-  
2.6 参考文献 10 _~Id~b  
3  Essential Macleod的快速预览 10 u7nTk'#r  
4  Essential Macleod的特点 32 .~ O- <P#  
4.1  容量和局限性 33 ]621Z1  
4.2  程序在哪里? 33 7?@ -|{  
4.3  数据文件 35 #W9{3JGUY  
4.4  设计规则 35 EQ [K  
4.5  材料数据库和资料库 37 %p;;aZG  
4.5.1材料损失 38 MX 7 Y1  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 4|/}~9/  
4.5.2 材料库 41 vJj}$AlI  
4.5.3导出材料数据 43 )ko[_OJj  
4.6  常用单位 43 2`^M OGYk  
4.7  插值和外推法 46 [Smqe>U 1  
4.8  材料数据的平滑 50 :@4+}  
4.9 更多光学常数模型 54 .k -!/^  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Egt !N  
4.11 撤销和重做 56 719lfI&s  
4.12  设计文档 57 i~"lcgoO  
4.10.1  公式 58 lJ Jn@A  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 U<|*V5   
4.10.3  沉积密度 59 \_)[FC@  
4.10.4 平行和楔形介质 60 X=@bzL;eq  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 PO nF_FC  
4.10.4  性能 61 .4J7 ^l  
4.10.5  保存设计和性能 64 LGh#  
4.10.6  默认设计 64 ;$vVYC  
4.11  图表 64 3!op'X!  
4.11.1  合并曲线图 67 GJ\bZ"vDo  
4.11.2  自适应绘制 68 8b"vXNB.f  
4.11.3  动态绘图 68 T@xaa\bzg  
4.11.4  3D绘图 69 $sFqMy  
4.12  导入和导出 73 nx Jx8d"  
4.12.1  剪贴板 73 OIs!,G|  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 r ?<?0j  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 2WS Wfh  
4.13  背景 77 Mtaky=l8~I  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ,(B/R8ZF~  
4.15  生成Rugate 84 >~O/ZDu/@  
4.16  参考文献 91 |JiN; O+K  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 /Yj; '\3  
5.1  Jobs 92 N C3XJ 4  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 +h? Gps  
5.3  输入材料 94 " 1h~P,  
5.4  设计数据文件夹 95 FI@kE19  
5.5  默认设计 95 iU|X/>k?  
6  细化和合成 97 p^C$(}Yh  
6.1  优化介绍 97 <u  ImZC  
6.2  细化 (Refinement) 98 J ql$ g  
6.3  合成 (Synthesis) 100 bo#?,80L}`  
6.4  目标和评价函数 101 Lh-+i  
6.4.1  目标输入 102 Wb5n> *  
6.4.2  目标 103 p#N2K{E  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ll ^I ;o0  
6.5  层锁定和连接 104 8CUl |I ~  
6.6  细化技术 104 w&Z.rB?  
6.6.1  单纯形 105 lvG+9e3+  
6.6.1.1 单纯形参数 106  GG(}#Z5h  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 r.' cjUs  
6.6.2.1 Optimac参数 108 |[@v+koq  
6.6.3  模拟退火算法 109 -+0!Fkt@,  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 _6`H `zept  
6.6.4  共轭梯度 111 ;?{OX  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 be]Zx`)k  
6.6.5  拟牛顿法 112 q4niA  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 R=C+]  
6.6.6  针合成 113 2E.D0E Cu  
6.6.6.1 针合成参数 114 +;a\ gF^  
6.6.7 差分进化 114 7Q|v5@;pU  
6.6.8非局部细化 115 'DUY f5nF  
6.6.8.1非局部细化参数 115 |~+bbN|b  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 gb26Y!7%  
6.7.1  细化 116 _o-01gu.  
6.7.2  合成 117 vv D515i  
6.8  参考文献 117 A<-3u  
7  导纳图及其他工具 118 0BN=>]V~j7  
7.1  简介 118 >Ft:&N9L{  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ,[u.5vC  
7.2.1  四分之一波长规则 119 &ZJ$V  
7.2.2  导纳图 120 ]eI|_O^u  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 %.s"l6 W  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 8ZNwo  
7.5  斜入射导纳图 141 Qv@)WJ="-0  
7.6  对称周期 141 .WS7gTw  
7.7  参考文献 142 Cdc=1,U(  
8  典型的镀膜实例 143 G C@U['  
8.1  单层抗反射薄膜 145 O/ZyWT  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 O*1la/~m  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 4x$Ts %]  
8.4  W-膜层 148 WE&"W$0  
8.5  V-膜层 149 y<)q;fI7  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ]U.YbWe^  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 +?Y(6$o  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 b@[\+P] "  
8.9  四层抗反射薄膜 153 '.zr:l  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Gx-tPW}  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 KCfcEz  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 7.B]B,]  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ?Q: KW  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 T0BM:ofx  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 /pz(s+4=  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ]ChN]>o  
8.17  1/4波长堆栈 162 tH9BC5+r}  
8.18  陷波滤波器 163 $1myf Z  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 `f%sq*O~  
8.20  褶皱 165 %|3NCyJ*7  
8.21  消偏振分光器1 169 \E,Fe:/g  
8.22  消偏振分光器2 171 ;%Zn)etu  
8.23  消偏振立体分光器 172 ]|/\Sd  
8.24  消偏振截止滤光片 173 6n'XRfQp)&  
8.25  立体偏振分束器1 174 fg8U* 7  
8.26  立方偏振分束器2 177 x2z%J,z@4  
8.27  相位延迟器 178 k&3'[&$I*,  
8.28  红外截止器 179 Sv03="&  
8.29  21层长波带通滤波器 180 M-NY&@Nj  
8.30  49层长波带通滤波器 181 )-d &XN7  
8.31  55层短波带通滤波器 182 N2`u ]*"0  
8.32  47 红外截止器 183 M2y"M,k4  
8.33  宽带通滤波器 184 ZTP&*+d  
8.34  诱导透射滤波器 186 -W XZOdUjs  
8.35  诱导透射滤波器2 188 AME6Zu3Y  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ;Z}V}B  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 FrD,)Ad8Q  
8.35  增益平坦滤波器 193 u6BLhyS  
8.38  啁啾反射镜 1 196 6IC/~Woghx  
8.39  啁啾反射镜2 198 Ov9kD0S  
8.40  啁啾反射镜3 199 }5sJd>u5^  
8.41  带保护层的铝膜层 200 (Y?" L_pC  
8.42  增加铝反射率膜 201 w7X], auRC  
8.43  参考文献 202 DmgWIede|:  
9  多层膜 204 r!J?Lc])8  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 i:,37INMt  
9.2  内部透过率 204 `)s>},8W!  
9.3 内部透射率数据 205 6GtXM3qtS  
9.4  实例 206 C!aK5rqhv  
9.5  实例2 210 9% AL f 9  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ]Vgl  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Ga} &%  
10  光学薄膜的颜色 216 aqAWaO  
10.1  导言 216 ]o\y(!  
10.2  色彩 216 B0}f,J\  
10.3  主波长和纯度 220 f.&Y_G3a<  
10.4  色相和纯度 221 xYCX}bksh  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 #v`J]I)$  
10.6 色差 226 A1(=7ZKz  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 |lhVk\X  
10.8  颜色渲染指数 234 v(2|n}qY  
10.9  色差计算 235 h_:|H8t;w  
10.10  参考文献 236 0 SeDBs  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 C) "|sG  
11.1  短脉冲 238 _P*<T6\J>  
11.2  群速度 239 K@z zseQ}=  
11.3  群速度色散 241 '@<aS?@!t  
11.4  啁啾(chirped) 245 vS|uN(a.P  
11.5  光学薄膜—相变 245 l ,T*b  
11.6  群延迟和延迟色散 246 KW.QVBuVO#  
11.7  色度色散 246 `+/xA\X]  
11.8  色散补偿 249 (S[" ak  
11.9  空间光线偏移 256 vQpR0IEf]e  
11.10  参考文献 258 v"&Fj  
12  公差与误差 260 ki^c)Tqn  
12.1  蒙特卡罗模型 260 UR&Uwa&.  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 6{r^3Hz  
12.2.1  误差工具 267 $G5;y>  
12.2.2  灵敏度工具 271 6T5nr  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 s]=s|  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 &k+'TcWm  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 3./4] _p  
12.3  参考文献 276 YkKq}DXj  
13  Runsheet 与Simulator 277 . 787+J?  
13.1  原理介绍 277 (&G4@Vd  
13.2  截止滤光片设计 277 RqIic\aD  
14  光学常数提取 289 9j[%Y?  
14.1  介绍 289 \HB4ikl  
14.2  电介质薄膜 289 |*im$[g=-  
14.3  n 和k 的提取工具 295 K~_[[)14b  
14.4  基底的参数提取 302 4u zyU_  
14.5  金属的参数提取 306 0 pH qNlb  
14.6  不正确的模型 306 bX:ARe O  
14.7  参考文献 311 DM*mOT  
15  反演工程 313 6uYCU|JsU  
15.1  随机性和系统性 313 q=5#t~?  
15.2  常见的系统性问题 314 tndtwM*B'  
15.3  单层膜 314 M<,E[2op  
15.4  多层膜 314 %jK-}0Tu  
15.5  含义 319 uOqWMRsoi  
15.6  反演工程实例 319 ,?+rM ;  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 XQu~/{A=  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 f.`noZN  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 qF{u+Ms  
16.1  光学性质的热致偏移 329 AWP CJmr  
16.2  应力工具 335 'Dq!o[2y  
16.3  均匀性误差 339 r`|/qP:T[  
16.3.1  圆锥工具 339 ;K:)R_H  
16.3.2  波前问题 341 yFT)R hN  
16.4  参考文献 343 RpE69:~PV  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 &P%3'c}G  
17.1  引言 345 L[d 7@  
17.2  操作数 345 W^W^5-'"D,  
18  如何在Function中编写脚本 351 5A:mu+Iz6H  
18.1  简介 351 i6zfr|`@  
18.2  什么是脚本? 351 DYU+?[J  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ;%Jw9G\h  
18.4  基础 352 nBGFa  
18.4.1  Classes(类别) 352 .N99=%[}h  
18.4.2  对象 352 w<*tbq  
18.4.3  信息(Messages) 352 wj/\ !V!  
18.4.4  属性 352 8 YAUy\  
18.4.5  方法 353 \+E{8&TH'  
18.4.6  变量声明 353 ~ jb6  
18.5  创建对象 354 q"5iza__H  
18.5.1  创建对象函数 355 (xJ6 : u  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 h#?L6<*tm  
18.5.3 丢弃对象 356 $ +h~VC  
18.5.4  总结 356 8H3|i7.1h  
18.6  脚本中的表格 357 #J]u3*T n|  
18.6.1  方法1 357 0hXI1@8]`  
18.6.2  方法2 357 e%&2tf4  
18.7 2D Plots in Scripts 358 cs7T AX  
18.8 3D Plots in Scripts 359 1e*+k$-{  
18.9  注释 360 d_*'5Eia6  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 2JZf@x+}  
18.11  一个更高级的脚本 362 -cCujDM#T  
18.12  <esc>键 364 D*Y4B ?,  
18.13 包含文件 365 #CoJ S[t  
18.14  脚本被优化调用 366 I|JMkP  
18.15  脚本中的对话框 368 M-u:8dPu  
18.15.1  介绍 368 ,V!s w5_5m  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Cs7YD~,  
18.15.3  输入框函数 370 E)m{m$Hb  
18.15.4  自定义对话框 371 7</&=lly  
18.15.5  对话框编辑器 371 IMjnj|Fj  
18.15.6  控制对话框 377 Ns2M8  
18.15.7  更高级的对话框 380 !CROc}  
18.16 Types语句 384 l [?o du4  
18.17 打开文件 385 j0!Z 20  
18.18 Bags 387 [Z|R-{"  
18.13  进一步研究 388 gvO}u2.:  
19  vStack 389 U[=VW0  
19.1  vStack基本原理 389 (Bd8@}\u_  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 gmy$_4+6o  
19.3  五棱镜 393 *,~d!Fc  
19.4 光束距离 396 v' 7,(.E  
19.5 误差 399 m UpLD+-j  
19.6  二向分色棱镜 399  2&O!<C j  
19.7  偏振泄漏 404 " 4#V$V  
19.8  波前误差—相位 405 <<gk< _7`  
19.9  其它计算参数 405 W F<`CQg[  
20  报表生成器 406 ^$SI5WK&)  
20.1  入门 406 wQ qI@  
20.2  指令(Instructions) 406 yf+M  
20.3  页面布局指令 406 sPn[FuT>+s  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Iodk1Y;  
20.5  表格中的常见参数 408 tgH@|Kg  
20.6  迭代指令 408 |GtTz&  
20.7  报表模版 408 t\E#8  
20.8  开始设计一个报表模版 409 x):cirwkl  
21  一个新的project 413 r k;k:<c  
21.1  创建一个新Job 414 5\}A8Ng  
21.2  默认设计 415 Juj"cjob  
21.3  薄膜设计 416 `;4P?!WG  
21.4  误差的灵敏度计算 420 abkl)X>k  
21.5  显色指数计算 422 qz"di~7  
21.6  电场分布 424 *Hy-D</w%  
后记 426 uyMxBc%6  
]7n+|@3x  
,j^ /~  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 2Jl6Xc8  
E&P'@'Yk  
《Essential Macleod中文手册》
72R|zR  
yB\}e'J^  
目  录 !`L%wS  
,\q9>cZ!  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Esvr~)Y  
第1章 介绍 ..........................................................1 /) Bk r/  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 Ql^I$5&  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 @9g$+_"ZT  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17  -iWt~  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 yEyx.Mh.Af  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 p'fq&a+  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 `"zXf-qeE  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 =mxG[zDtQ  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 u8L%R[#o  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 TZ{';oU  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 @ofivCc<%  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 J7q^4M+o:  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ;`',M6g  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 r18eu B%  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 U8qb2'a8  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 8)HUo?/3  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ste0:.*qb  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 /MYl:>e>  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 [E<NEl *  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 ZN#mu]jC?  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 T#kPn#|  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 VA + ?xk  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 >Lj0B%^EvM  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ")m 0 {  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 o0nd]"q?  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Y!s94#OaZ  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 N Q~keN  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /ap3>xkt  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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