线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1085
时间地点 3bQq Nk  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司  OAgZeK$  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 )a%E $`   
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 >T{TE"XyO|  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 O2U}jHsd  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
~Qf\DTM&  
特邀专家介绍 d vo|9 >  
gQ<{NQMzvd  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 IfY?P(P  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 _'n]rQ'  
课程概要 K%u>'W  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 RRl`;w?  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ]]y,FQ,r  
课程大纲 vV"I}L  
1. Essential Macleod软件介绍 b S'dXP  
1.1 介绍软件  w U1[/  
1.2 创建一个简单的设计 UVW4KUxR  
1.3 绘图和制表来表示性能 `_BmVms  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 BQs\!~Ux2  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) \c!e_rZ  
1.6 特定设计的公式技术 en6;I[\  
1.7 交互式绘图 :u)Qs#'29  
2. 光学薄膜理论基础 rMw$T=Oi  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 @CoUFdbz  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 .LbAR u  
3. 材料管理 xZ SDA8kS  
3.1 材料模型 0w vAtK|Q  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 7`^=Ie%(K  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ~n(LBA  
3.4 基板光学常数的提取 ^ q3H  
4. 光学薄膜设计优化方法 Lg7dJnf  
4.1 参考波长与g ^/xb-tuV  
4.2 四分之一规则 6 B7 F  
4.3 导纳与导纳图 *)vy%\  
4.4 斜入射光学导纳 R0bgt2J  
4.5 光学薄膜设计的进展 64^l/D(  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 =-qYp0sVP  
4.6.1 优化目标设置 7g%\+%F I  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) kUr/*an  
4.6.3 膜层锁定和链接 ?JW/Stua  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 =?N$0F!  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 %_~1(Glz  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 bw!*=<  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 f'BmIFb#  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 j+>N&.zs  
5.5 如何在Function中编写脚本 0_=^#r4Mu  
6. 光学薄膜系统案例 BJ5^-|  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ;*d?Qe:  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Q!I><u  
6.3 Stack应用范例说明 :8N{;aui  
7. 薄膜性能分析 K~fWZT3]  
7.1 电场分布 }Nma %6PfV  
7.2 公差与灵敏度分析 o>&-B.zq  
7.3 反演工程 M-e|$'4u  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 'aS: Azb  
8. 真空技术 /2Ok;!.  
8.1 常用真空泵介绍 uC[F'\Y  
8.2 真空密封和检漏 LCe6](Z  
9. 薄膜制备技术 LKZv#b[h  
9.1 常见薄膜制备技术 v+( P4f S  
10. 薄膜制备工艺 9V;A +d,  
10.1 薄膜制备工艺因素 _:Jma  
10.2 薄膜均匀性修正技术 Sw>,Q-32  
10.3 光学薄膜监控技术 hZ')<@hNP  
11. 激光薄膜 O5:[]vIn  
11.1 薄膜的损伤问题 cE?p~fq<  
11.2 激光薄膜的制备流程 ]?NiY:v  
11.3 激光薄膜的制备技术 tJm1Q#||  
12. 光学薄膜特性测量 c_aj-`BKp  
12.1 薄膜光谱测量 eQMa9_  
12.2 薄膜光学常数测量 UMHFq-  
12.3 薄膜应力测量 N9u {)u  
12.4 薄膜损伤测量 ^S(QvoaQ  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 }*vE/W  
o)'06FF\$  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
'<O.J(N~4!  
内容简介 14(ct  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 <@y(ikp>  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 jY ;Hdb''  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 |;"(C# B  
Jn9 {@??  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
n 8FIxl&u  
目录 Fz5eCe\B  
Preface 1 <X?xr f  
内容简介 2 <)"2rxX&5  
目录 i (%9J( 4  
1  引言 1 5fLp?`T  
2  光学薄膜基础 2 lXD=uRCI  
2.1  一般规则 2 t7*F,  
2.2  正交入射规则 3 *T.V5FB0S  
2.3  斜入射规则 6 b27t-p8  
2.4  精确计算 7 " ^!=e72  
2.5  相干性 8 UgOhx- 8  
2.6 参考文献 10 A[^k4 >  
3  Essential Macleod的快速预览 10 X<f4X"y  
4  Essential Macleod的特点 32 sXY{g0%  
4.1  容量和局限性 33 H)Z$j&S{  
4.2  程序在哪里? 33 m]}EVa_I`/  
4.3  数据文件 35 7Oi<_b  
4.4  设计规则 35 TeyFq0j@'  
4.5  材料数据库和资料库 37 >A}ra^gU  
4.5.1材料损失 38 KXBTJ&  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 2<d'!cm  
4.5.2 材料库 41 l(}l([rdQ  
4.5.3导出材料数据 43 6H0aHCM  
4.6  常用单位 43 -WGlOpg0;  
4.7  插值和外推法 46 GY"c1 KE$  
4.8  材料数据的平滑 50 EH'eyC-B<  
4.9 更多光学常数模型 54 l>("L9  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ]jR-<l8I-  
4.11 撤销和重做 56 ojVN -*5  
4.12  设计文档 57 Ft_g~]kZo  
4.10.1  公式 58 fr8';Jm  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 }Q-Tw,j  
4.10.3  沉积密度 59 'Hu+8,xA  
4.10.4 平行和楔形介质 60 },O7NSG<o  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 BLm}mb#/{  
4.10.4  性能 61 oq (W|  
4.10.5  保存设计和性能 64 SE$l,Z"[*b  
4.10.6  默认设计 64 !"ydl2  
4.11  图表 64 W~s:SN  
4.11.1  合并曲线图 67 |Vp ?  
4.11.2  自适应绘制 68 U?Vik  
4.11.3  动态绘图 68 t{Ks}9B  
4.11.4  3D绘图 69 8 v da"  
4.12  导入和导出 73 cu#r#0U-  
4.12.1  剪贴板 73 -1ci.4F&  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Jt)J1CA Yo  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 GxE`z6%[  
4.13  背景 77 BiZYGq  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 %-|$7?~   
4.15  生成Rugate 84 u_*y~1^0  
4.16  参考文献 91 1`Uu;mz  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 .4y44: T  
5.1  Jobs 92 w!}kcn<  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 X& XD2o"rt  
5.3  输入材料 94 M1*x47bN  
5.4  设计数据文件夹 95 X#X/P  
5.5  默认设计 95 -y/Y%]%0  
6  细化和合成 97 >&T J  
6.1  优化介绍 97 4OG 1_6K  
6.2  细化 (Refinement) 98 dX-j3lM:#  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ;U?323Z  
6.4  目标和评价函数 101 i3>_E <"9  
6.4.1  目标输入 102 vI(CX]o  
6.4.2  目标 103 nr&9\lG]G  
6.4.3  特殊的评价函数 104 &7eN EA  
6.5  层锁定和连接 104 <4I`|D3@  
6.6  细化技术 104 Jb)xzUhES  
6.6.1  单纯形 105 0 n|>/i  
6.6.1.1 单纯形参数 106 xzf/W+.>.  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 =vL >&$  
6.6.2.1 Optimac参数 108 #5X+. !L  
6.6.3  模拟退火算法 109 Yv[<c!\   
6.6.3.1 模拟退火参数 109 V\AF%=6}  
6.6.4  共轭梯度 111 `U>]*D68  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 "rpP  
6.6.5  拟牛顿法 112 )t,efg  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 "~"=e  
6.6.6  针合成 113 7&Ie3[Rm_3  
6.6.6.1 针合成参数 114 `b_n\pf ]  
6.6.7 差分进化 114 jTqE V(  
6.6.8非局部细化 115 *(sv5c!0M8  
6.6.8.1非局部细化参数 115 XMLl>w2z  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 ^[q/w<_j~  
6.7.1  细化 116 {$C"yksr  
6.7.2  合成 117 T5_rPz  
6.8  参考文献 117 \WZSY||C|_  
7  导纳图及其他工具 118 ] B>.}  
7.1  简介 118 LE g#W  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 c3O&sa V!  
7.2.1  四分之一波长规则 119 o\nFSG kn  
7.2.2  导纳图 120 Qo80u? *  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 F*y7 4j,  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 mqiCn]8G  
7.5  斜入射导纳图 141 E .CG  
7.6  对称周期 141 yz%o?%@  
7.7  参考文献 142 qh6Q#s>tH  
8  典型的镀膜实例 143 ?%b#FXA  
8.1  单层抗反射薄膜 145 gc W'  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 W}WDj:  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 w1+ %+x  
8.4  W-膜层 148 2>xEE  
8.5  V-膜层 149 2hb>6Z;r]K  
8.6  V-膜层高折射基底 150 D<T:UJ  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 X6r3$2!  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 0 l+Jq  
8.9  四层抗反射薄膜 153 6N/6WrQEeg  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154  y`pgJO  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 N\fj[?f[  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 48.4GwL7  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ?4_ME3$t  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 zTw<9Nf  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 xqv&^,ic  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 %D`j3cEp@  
8.17  1/4波长堆栈 162 &HqBlRo  
8.18  陷波滤波器 163  \ns} M3  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 +O7GgySx  
8.20  褶皱 165 $]J<^{v  
8.21  消偏振分光器1 169 i`!>zl+D  
8.22  消偏振分光器2 171 $IJ"fs  
8.23  消偏振立体分光器 172 )vGxF}I3  
8.24  消偏振截止滤光片 173 lXutZ<S[  
8.25  立体偏振分束器1 174 ~b6c:db3  
8.26  立方偏振分束器2 177 WA#y&  
8.27  相位延迟器 178 w$jSlgUHy)  
8.28  红外截止器 179 tSVS ogGd  
8.29  21层长波带通滤波器 180 C-^8;xd  
8.30  49层长波带通滤波器 181 c7]0 >nU;  
8.31  55层短波带通滤波器 182 <lRjh7  
8.32  47 红外截止器 183 @={ qy}  
8.33  宽带通滤波器 184 r>6FJ:Tx  
8.34  诱导透射滤波器 186 e1ExB#  
8.35  诱导透射滤波器2 188 }|],UXk{xB  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 jEL"Q?#  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 HcGbe37Xq  
8.35  增益平坦滤波器 193 m1RjD$fM  
8.38  啁啾反射镜 1 196 /lc4oXG8  
8.39  啁啾反射镜2 198 X#ud_+6x  
8.40  啁啾反射镜3 199 Xc<Hm  
8.41  带保护层的铝膜层 200 RAA,%rRhu(  
8.42  增加铝反射率膜 201 6|1*gl1_LD  
8.43  参考文献 202 lr)9U 7  
9  多层膜 204 w3"%d~/[x  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 EfX,0NqT  
9.2  内部透过率 204 9T<k|b[6  
9.3 内部透射率数据 205 pV$A?b"?*  
9.4  实例 206 RG_6& A  
9.5  实例2 210 VL$?vI'  
9.6  圆锥和带宽计算 212 )gk tI!  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 HE+D]7^  
10  光学薄膜的颜色 216 N({-&A.N  
10.1  导言 216 Nh^q&[?  
10.2  色彩 216 eRg;)[#0>$  
10.3  主波长和纯度 220 3o#K8EL  
10.4  色相和纯度 221 8o466m6/  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 [=>[2Ty  
10.6 色差 226 so A] f  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 :#=B wdC  
10.8  颜色渲染指数 234 \OkJX_7  
10.9  色差计算 235 5L,q,kVS  
10.10  参考文献 236 a#&\65D  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ESuP ZB  
11.1  短脉冲 238 C-/+n5J  
11.2  群速度 239 H:mcex  
11.3  群速度色散 241 [+qB^6I+P%  
11.4  啁啾(chirped) 245 )00jRuF  
11.5  光学薄膜—相变 245 xj JoWB  
11.6  群延迟和延迟色散 246 G~/*!?&z  
11.7  色度色散 246 [>lQi X  
11.8  色散补偿 249 d,o|>e$  
11.9  空间光线偏移 256 jV#1d8qm  
11.10  参考文献 258  }S}%4c>  
12  公差与误差 260 ?_. SV g  
12.1  蒙特卡罗模型 260 iAXF;'|W  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 eH%i8a  
12.2.1  误差工具 267 |wuN`;gc"  
12.2.2  灵敏度工具 271 9+~1# |  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 B. #-@  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 a4",BDx  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 "|/q4JN)7d  
12.3  参考文献 276 e<"sZK  
13  Runsheet 与Simulator 277 |pE ~  
13.1  原理介绍 277 @Suww@<  
13.2  截止滤光片设计 277 W2A!BaH%  
14  光学常数提取 289 \psO$TxF=  
14.1  介绍 289  9-y<= )  
14.2  电介质薄膜 289 Jjh=zxR>  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ^O**ZndB/  
14.4  基底的参数提取 302 VA%4ssy  
14.5  金属的参数提取 306 iGNZC{  
14.6  不正确的模型 306 /km0[M  
14.7  参考文献 311 >dwY( a  
15  反演工程 313 |2I/r$Q  
15.1  随机性和系统性 313 35YDP|XZb  
15.2  常见的系统性问题 314 TIno"tc3  
15.3  单层膜 314 vSk1/  
15.4  多层膜 314 v5.KCc}"  
15.5  含义 319 DK#Tr: 7  
15.6  反演工程实例 319 \3 O1o#=(  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 TU9$5l/;g  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 UhSaqq  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 gY_AO1  
16.1  光学性质的热致偏移 329 -c %'f&P  
16.2  应力工具 335 IC-W[~  
16.3  均匀性误差 339 isz-MP$:K5  
16.3.1  圆锥工具 339 E-#C#B  
16.3.2  波前问题 341 m4G))||9Q  
16.4  参考文献 343 s2 $w>L  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 xxpzz(S ]A  
17.1  引言 345 ilQt`-O!  
17.2  操作数 345 /Y| <0tq  
18  如何在Function中编写脚本 351 au/5`  
18.1  简介 351 4K >z?jd  
18.2  什么是脚本? 351  r^,"OM]  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 JC7:0A^  
18.4  基础 352 8B6 -f:  
18.4.1  Classes(类别) 352 iL'j9_w,  
18.4.2  对象 352 Om2w+yU  
18.4.3  信息(Messages) 352 m|PJwd6  
18.4.4  属性 352 A#]78lR  
18.4.5  方法 353  `dIwBfg_  
18.4.6  变量声明 353  x(A6RRh  
18.5  创建对象 354 KR>o 2  
18.5.1  创建对象函数 355 MK <\:g  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 5]2 p>%G  
18.5.3 丢弃对象 356 "FLiSz%ME  
18.5.4  总结 356 ccy q~  
18.6  脚本中的表格 357 TmJXkR.5  
18.6.1  方法1 357 >&Y\g?Z6G  
18.6.2  方法2 357 "MyMByomQ  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ME*A6/h  
18.8 3D Plots in Scripts 359 -6# _t  
18.9  注释 360 Sea6xGdq  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 2 e&M/{  
18.11  一个更高级的脚本 362 `{Fz  
18.12  <esc>键 364 rg I Z  
18.13 包含文件 365 '>t'U?7w<  
18.14  脚本被优化调用 366 H"wIa8A  
18.15  脚本中的对话框 368 )<.y{_QUN  
18.15.1  介绍 368 NBA`@K~4  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 2h1P!4W85  
18.15.3  输入框函数 370 dyl1~'K^  
18.15.4  自定义对话框 371 Myh?=:1~(c  
18.15.5  对话框编辑器 371 EEiWIf&S,  
18.15.6  控制对话框 377 t<e3EW@>>  
18.15.7  更高级的对话框 380 ix5<h }  
18.16 Types语句 384 Tb{RQ?Nw'  
18.17 打开文件 385 i$CF*%+t  
18.18 Bags 387 40 zO4  
18.13  进一步研究 388 0KjCM4t  
19  vStack 389 ]2MX7  
19.1  vStack基本原理 389 n'!x"O7  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 =:\5*  
19.3  五棱镜 393 I 1Yr{(ho  
19.4 光束距离 396 %{0F.  
19.5 误差 399 Us% _'}(/U  
19.6  二向分色棱镜 399 Op hD_^  
19.7  偏振泄漏 404 C{,Vk/D-0  
19.8  波前误差—相位 405 As j<u!L  
19.9  其它计算参数 405 otQ G6  
20  报表生成器 406 M%7|7V<o)^  
20.1  入门 406 Wlp`D  
20.2  指令(Instructions) 406 `tl-] ^Y2  
20.3  页面布局指令 406 6Ia[`x uL  
20.4  常见的参数图和三维图 407 {8,_[?H  
20.5  表格中的常见参数 408 <Ik5S1<h$H  
20.6  迭代指令 408 )#sN#ZR$  
20.7  报表模版 408 sY?sQ'E2]  
20.8  开始设计一个报表模版 409 4|DN^F~iut  
21  一个新的project 413 .p(r|5(b  
21.1  创建一个新Job 414 :bXTV?#0  
21.2  默认设计 415 nI8zT0o  
21.3  薄膜设计 416 im F,8'  
21.4  误差的灵敏度计算 420 \p!m/2  
21.5  显色指数计算 422 <]*Jhnx/  
21.6  电场分布 424 -jVg {f!  
后记 426 "e/"$z'ca  
0f9U:)1z  
)/Oldyp  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 7H4kj7UK  
vgi`.hk  
《Essential Macleod中文手册》
^cuH\&&7  
+^*b]"[  
目  录 BRv#`  
k7M{+X6[  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ?<^^.Si  
第1章 介绍 ..........................................................1 P=X)Ktmv  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 m<!CF3g  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Hio+k^  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 boZ/*+t  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 4I2#L+W  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 L5CnPnF  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 kRH D{6mol  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 qipS`:TER  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 2FGCf} ,  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Bo ??1y  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ACF_;4%&  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 pE$*[IvQ'  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 1U ='"  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 EW/NH&{  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 ML%JT x0+Z  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 0\+$j5;  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 A@reIt  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 _,w*Rv5=  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 7r pTk&`  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 =.,XJIw&  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 }{v0}-~@  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 6L2Wv5C  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 m*v@L4t( 1  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 rK4 pYo  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 3w! NTvp  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 2(R{3E4.  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 >uE<-klv  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Ah zV?6e  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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