线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1094
时间地点 xi15B5 _Ps  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 h.5KzC S  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 -BEd7@?A  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ? w@)3Z=u  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 R#HX}[Hb  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
ricL.[v9S  
特邀专家介绍 #S"s8wdD  
Dao=2JB{  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 t/h,-x  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 Jj~|2Zt  
课程概要 96<0=   
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 a.fdCI]%  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 Q 6dqFnz  
课程大纲 /?u]Fj  
1. Essential Macleod软件介绍 #E#Fk3-ljQ  
1.1 介绍软件 N,4hh?  
1.2 创建一个简单的设计 c uHF^l  
1.3 绘图和制表来表示性能 jt3=<&*Bm  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ,n &Lp  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) +IG=|X  
1.6 特定设计的公式技术 =LKf.@]#  
1.7 交互式绘图 W>&!~9H  
2. 光学薄膜理论基础 ^m-w@0^z  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 u]& +TR  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 6dhzx; A  
3. 材料管理 hp}JKj@  
3.1 材料模型 'ji|'x T  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 a7jE*%f9  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Uz%2{HB@{  
3.4 基板光学常数的提取 $0Un'"`S  
4. 光学薄膜设计优化方法 k zC4V  
4.1 参考波长与g #?'@?0<6  
4.2 四分之一规则 %+ytX]E  
4.3 导纳与导纳图 eQ<Vky^SJ  
4.4 斜入射光学导纳 ^;wz+u4^l  
4.5 光学薄膜设计的进展 O"J"H2}S  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 NYc;Zwv9  
4.6.1 优化目标设置 %$67*pY'JH  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) rTim1<IXR  
4.6.3 膜层锁定和链接 r`Dm;@JU  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 5RyxVC0<  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 aev(CY,z  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 C=JS]2W2  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 5aNvGI1  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 e'.CIspN  
5.5 如何在Function中编写脚本 kc<5wY_t  
6. 光学薄膜系统案例 y:Aha#<  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 -#,4rN#  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 v1=N?8Hz1  
6.3 Stack应用范例说明 sW76RKX8  
7. 薄膜性能分析 Hp[i8PJ  
7.1 电场分布 0rxGb} b*  
7.2 公差与灵敏度分析 K|=va>   
7.3 反演工程 d '\ ^S}  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 +%Z:k  
8. 真空技术 .9vt<<Kwh  
8.1 常用真空泵介绍 ijKQ`}JA  
8.2 真空密封和检漏 *0'< DnGW  
9. 薄膜制备技术 K9 +\Z  
9.1 常见薄膜制备技术 g @NwW&  
10. 薄膜制备工艺 gy xC)br  
10.1 薄膜制备工艺因素 uw(Ml=  
10.2 薄膜均匀性修正技术 zF(abQ0  
10.3 光学薄膜监控技术 25<qo{  
11. 激光薄膜 8~3I^I_v  
11.1 薄膜的损伤问题 &a)d,4e<M  
11.2 激光薄膜的制备流程 `nY.&YT  
11.3 激光薄膜的制备技术 m]c1DvQb  
12. 光学薄膜特性测量 oA3;P]~[  
12.1 薄膜光谱测量 N_d{E/  
12.2 薄膜光学常数测量 j1=su~  
12.3 薄膜应力测量 L nyow}  
12.4 薄膜损伤测量 D;[%*q*  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ]}n|5  
p!DOc8a.\e  
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^fmuBe}d{  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 \"w+4}  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ElKMd  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 2w fkXS=~6  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 T8d=@8g,%  
_%#Uh#7P$  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
n%Oq"`w4  
目录 M*D@zb0ia  
Preface 1 +.zX?}  
内容简介 2 p{+F{e  
目录 i >=;hnLu  
1  引言 1 Q\N >W+d  
2  光学薄膜基础 2 g |H  
2.1  一般规则 2 ~y"OyOi&  
2.2  正交入射规则 3 u=Xpu,q  
2.3  斜入射规则 6 ZrB(!L~7  
2.4  精确计算 7 wN^^_  
2.5  相干性 8 I'[;E.KU  
2.6 参考文献 10 iJ @p:  
3  Essential Macleod的快速预览 10 mP's4  
4  Essential Macleod的特点 32 \fp'=&tp~a  
4.1  容量和局限性 33 #^(Yw|/K  
4.2  程序在哪里? 33 >pe!T aBN  
4.3  数据文件 35 W }v ,6Oe  
4.4  设计规则 35 'p@m`)Z  
4.5  材料数据库和资料库 37 ,<Wt8'e  
4.5.1材料损失 38 R7O<>kt  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 |~&cTDd  
4.5.2 材料库 41 &WOm[]Q4  
4.5.3导出材料数据 43 *\cU}qjk  
4.6  常用单位 43 D1@yW} 4  
4.7  插值和外推法 46 DQ9aq.;  
4.8  材料数据的平滑 50 W8r"dK  
4.9 更多光学常数模型 54 1(RRjT 9  
4.10  文档的一般编辑规则 55 vP=H 2P  
4.11 撤销和重做 56 XVb9)a  
4.12  设计文档 57 Z#D*HAd`  
4.10.1  公式 58 U@D\+T0  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 57O|e/2  
4.10.3  沉积密度 59 I zVc  
4.10.4 平行和楔形介质 60 a*iKpr-:  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 J :O&2g"g  
4.10.4  性能 61 S!b?pl  
4.10.5  保存设计和性能 64 ,_s.amL3O{  
4.10.6  默认设计 64 @Ae&1O;Zh  
4.11  图表 64 _!Pi+l4p/}  
4.11.1  合并曲线图 67 J8ScKMUN2  
4.11.2  自适应绘制 68 k'+y  
4.11.3  动态绘图 68 Zj_2B_|WN#  
4.11.4  3D绘图 69 ;=k{[g 'gv  
4.12  导入和导出 73 v#`>  
4.12.1  剪贴板 73 At !:d3  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 g^7zDU&'  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 qq3/K9 #y  
4.13  背景 77 rBi6AM/  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 dBS_N/  
4.15  生成Rugate 84 GG-b)64h`  
4.16  参考文献 91 Dy 8H(_  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?P4y$P  
5.1  Jobs 92 .J8 gW  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 9U4[o<G]=  
5.3  输入材料 94 D,|TQ Q  
5.4  设计数据文件夹 95 Q7{{r&|t&  
5.5  默认设计 95 ~wOMT  
6  细化和合成 97 g9NE>n(3  
6.1  优化介绍 97  WFhppi   
6.2  细化 (Refinement) 98 :ln?PT  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Ts3!mjn  
6.4  目标和评价函数 101 @&%/<|4P5  
6.4.1  目标输入 102 /-t!)_zvw  
6.4.2  目标 103 7I@df.rf6J  
6.4.3  特殊的评价函数 104 DY{v@ <3  
6.5  层锁定和连接 104 \I^"^'CP  
6.6  细化技术 104 m,J IId%O  
6.6.1  单纯形 105  R0F [  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Sw$/Z)1K&  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 R lbJ4`a  
6.6.2.1 Optimac参数 108 2(Yg',aMY-  
6.6.3  模拟退火算法 109 &4 #%xg  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 9_.pLLx  
6.6.4  共轭梯度 111 Xw jm T  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 G2 V$8lh  
6.6.5  拟牛顿法 112 EwgNd Gcj  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 P}(c0/  
6.6.6  针合成 113 Z;BEUtR c  
6.6.6.1 针合成参数 114 DiY74D  
6.6.7 差分进化 114 9j5|o([J  
6.6.8非局部细化 115 %_CL/H   
6.6.8.1非局部细化参数 115 ZNpC& "`G  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 nh80"Ny5  
6.7.1  细化 116 "gzn%k[D9m  
6.7.2  合成 117 -3wid1SOm  
6.8  参考文献 117 qs= i+  
7  导纳图及其他工具 118 49O_A[(d  
7.1  简介 118 9`5.0**  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ^eefR5^_w  
7.2.1  四分之一波长规则 119 59v=\; UI  
7.2.2  导纳图 120 W$&*i1<a+  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 -*hPEgcV9  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 [+#k+*1*o  
7.5  斜入射导纳图 141 ?iEn~9WCS  
7.6  对称周期 141 2 e#"JZ=  
7.7  参考文献 142 6W3."};  
8  典型的镀膜实例 143 ~E_irzOFP  
8.1  单层抗反射薄膜 145 p_e x  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 /v| b]Ji  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ;=E}PbZt2  
8.4  W-膜层 148 RBg2iG$ 8|  
8.5  V-膜层 149 ~m0=YAlk?  
8.6  V-膜层高折射基底 150 S4_ZG>\VT  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 *f{4 _ts  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 V$;`#J$\b  
8.9  四层抗反射薄膜 153 'MB+cz+v  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 <{hB&4oL  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 (2"4PU8  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 H4{7,n  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 GukwN]*OY  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 *UJB *r  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 dl |$pm@x  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ,zH\P+*  
8.17  1/4波长堆栈 162 ]W%rhppC  
8.18  陷波滤波器 163 !U(KQ:j  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 :D>flZi  
8.20  褶皱 165 {ehYE^%N  
8.21  消偏振分光器1 169 p)"EenUK  
8.22  消偏振分光器2 171 eb,QT\/G  
8.23  消偏振立体分光器 172 QJ>=a./  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Wf%)::G*uR  
8.25  立体偏振分束器1 174 +9' )G-`qj  
8.26  立方偏振分束器2 177 V\FlKC   
8.27  相位延迟器 178 i=M[$   
8.28  红外截止器 179 3/& |Z<f  
8.29  21层长波带通滤波器 180 z~v-8aw  
8.30  49层长波带通滤波器 181 |Xd& aQ  
8.31  55层短波带通滤波器 182 vp d!|/  
8.32  47 红外截止器 183 {_z6  
8.33  宽带通滤波器 184 '-G,7!.,r%  
8.34  诱导透射滤波器 186 -XkjO$=!=  
8.35  诱导透射滤波器2 188 #>BC|/P}  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 >s,*=a  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 VeQ [A?pER  
8.35  增益平坦滤波器 193 {4p7r7n'  
8.38  啁啾反射镜 1 196 I/v#!`L  
8.39  啁啾反射镜2 198 _+}hId  
8.40  啁啾反射镜3 199 d)XT> &  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ^r]-v++  
8.42  增加铝反射率膜 201 !}1l8Y  
8.43  参考文献 202 Ls.g\Gl3  
9  多层膜 204 |c-`XC2g  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 CPP9=CoR37  
9.2  内部透过率 204 oW(8bd)  
9.3 内部透射率数据 205 to #2.  
9.4  实例 206 XoMgb DC  
9.5  实例2 210 qPhVc9D#  
9.6  圆锥和带宽计算 212 xcJvXp  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 WFS6N.Ap  
10  光学薄膜的颜色 216 T).}~i;!  
10.1  导言 216 [r'hX#  
10.2  色彩 216 }:0HM8B7!  
10.3  主波长和纯度 220 wc~9zh  
10.4  色相和纯度 221 o+R(ux"  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 pMp@W`i^6  
10.6 色差 226 gKIN* Od  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 l|9'l[}&  
10.8  颜色渲染指数 234 _F8-4  
10.9  色差计算 235 Rob: W|  
10.10  参考文献 236 kaDn= ={YM  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Ox'K C  
11.1  短脉冲 238 5pRVA  
11.2  群速度 239 *\Hut'7 d  
11.3  群速度色散 241 U2JxzHXZ  
11.4  啁啾(chirped) 245 "DJ%Yo  
11.5  光学薄膜—相变 245 n4ti{-^4|d  
11.6  群延迟和延迟色散 246 W}wd?WIps  
11.7  色度色散 246 tfe'].uT  
11.8  色散补偿 249 %]O #t<D  
11.9  空间光线偏移 256 \OK}DhY#  
11.10  参考文献 258 ^AUQsRA7PZ  
12  公差与误差 260 0upZ4eN  
12.1  蒙特卡罗模型 260 HI)U6.'  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ];0:aSi#  
12.2.1  误差工具 267 M49Hm[0(  
12.2.2  灵敏度工具 271 a1weTn*  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 _ g"su #  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 6|%HCxWO  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 YeF'r.Y  
12.3  参考文献 276 $>%zNq-F  
13  Runsheet 与Simulator 277 |e3YTLsI  
13.1  原理介绍 277 qZSW5lC0  
13.2  截止滤光片设计 277 :!,.c $M  
14  光学常数提取 289 #mO.[IuD  
14.1  介绍 289 %5(v'/dQ  
14.2  电介质薄膜 289 '9|R7  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Gs}lw'pK  
14.4  基底的参数提取 302 a &R,jq  
14.5  金属的参数提取 306 D/WzYc2h]  
14.6  不正确的模型 306 Q@UY4gA '  
14.7  参考文献 311 lx~mn~;x  
15  反演工程 313 + V-&?E(  
15.1  随机性和系统性 313 q.lh  
15.2  常见的系统性问题 314 _LZ 442  
15.3  单层膜 314 ]JI A\|b6  
15.4  多层膜 314 jbTyM"Y  
15.5  含义 319 /3~}= b  
15.6  反演工程实例 319 tLx8}@X"  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ;WL0  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 6[>Zy)P  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 E __A1j*gd  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ^EKf_w-v  
16.2  应力工具 335 \G1(r=fU  
16.3  均匀性误差 339 *Kw/ilI  
16.3.1  圆锥工具 339 !E\J`K0_e  
16.3.2  波前问题 341 Xc]Q_70O  
16.4  参考文献 343 {*4Z9.2c*  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 RjX#pb  
17.1  引言 345 rB5+~ K@  
17.2  操作数 345 E}=F   
18  如何在Function中编写脚本 351 DzCb'#   
18.1  简介 351 ~bJ*LM?wOP  
18.2  什么是脚本? 351 YA^g[,  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 6~q"#94  
18.4  基础 352 CB?H`R pC.  
18.4.1  Classes(类别) 352 :y[tZ&*<_?  
18.4.2  对象 352 k\M">K0E  
18.4.3  信息(Messages) 352 2c<phmiK  
18.4.4  属性 352 8f|+045E@  
18.4.5  方法 353 Jz\'%O'  
18.4.6  变量声明 353 &,`P%a&k  
18.5  创建对象 354 &Lgi  
18.5.1  创建对象函数 355  WR"p2=  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 T?FR@. Rm  
18.5.3 丢弃对象 356 }L*cP;m#  
18.5.4  总结 356 ZpY"P6  
18.6  脚本中的表格 357 LIHf]+  
18.6.1  方法1 357 uM~j  
18.6.2  方法2 357  /=7[Q  
18.7 2D Plots in Scripts 358 gG=E2+=uy  
18.8 3D Plots in Scripts 359 $rE_rZ+]="  
18.9  注释 360 n7Ia8?8-l  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 c}FZb$q#  
18.11  一个更高级的脚本 362 :dzam HbX9  
18.12  <esc>键 364 <$ Ar*<,6  
18.13 包含文件 365 U=bZy,FT$  
18.14  脚本被优化调用 366 l=JK+uZ  
18.15  脚本中的对话框 368 'H,l\i@"  
18.15.1  介绍 368 wA}+E)x/C  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 /=qn1  
18.15.3  输入框函数 370 th*E"@  
18.15.4  自定义对话框 371 Nm=W?i  
18.15.5  对话框编辑器 371 D}Lx9cL  
18.15.6  控制对话框 377 !P0Oq)q  
18.15.7  更高级的对话框 380 +P<LoI  
18.16 Types语句 384 D*j\gI  
18.17 打开文件 385 re/l5v,|3  
18.18 Bags 387 ]Z\.Vx  
18.13  进一步研究 388 zKk2>.  
19  vStack 389 [e'Ts#($A  
19.1  vStack基本原理 389 )/9/p17:xu  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 s0"1W"7vh  
19.3  五棱镜 393 ?o9g5Z  
19.4 光束距离 396 Rj=xn(@d  
19.5 误差 399 Tce2]"^;  
19.6  二向分色棱镜 399 Ol24A^  
19.7  偏振泄漏 404 ,tL<?6_  
19.8  波前误差—相位 405 Hd)4_ uBt  
19.9  其它计算参数 405 _`zj^*%  
20  报表生成器 406 >2~q{e  
20.1  入门 406 3l 0>  
20.2  指令(Instructions) 406 u1&pJLK0[  
20.3  页面布局指令 406 puz~Rfn#*  
20.4  常见的参数图和三维图 407 nV%1/e"5  
20.5  表格中的常见参数 408 v }ZQC8wL  
20.6  迭代指令 408 a ^b_&}y  
20.7  报表模版 408 pRj1b^F5y  
20.8  开始设计一个报表模版 409 X] &Q^  
21  一个新的project 413 @D rMaTr  
21.1  创建一个新Job 414 ;p#)z/zZ  
21.2  默认设计 415 b^\u P  
21.3  薄膜设计 416 m$:o+IH/  
21.4  误差的灵敏度计算 420 MD S;qZx=  
21.5  显色指数计算 422 a<M<) {$u  
21.6  电场分布 424 =?3D:k7z  
后记 426 n ||/3-HDj  
oToUpkAI  
oxb#{o9G  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 Jn. WbS  
R;f!s/^)  
《Essential Macleod中文手册》
@twClk.s  
`|;R}"R;  
目  录 Y`3>i,S6\  
nJ4i[j8  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 M yr [  
第1章 介绍 ..........................................................1 J]~LmSh  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ZO+c-!%[(  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 nqt;Ge M  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ^'~+w3M@  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 Bls\)$  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 |b52JF ",  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 a="Z]JGk  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 v3Y/D1jd"  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 / PAxPZf_  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 e qQAst#~  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 -U(T  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 eW]K~SPd7  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 }r6SV%]:  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 37Z:WJ?  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 3ADT Yt".  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 HKCMKHR  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 e;56}w  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 b:Dr _|  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 nW3`Z1kq})  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 _gjsAbM  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 "*WzoRA={  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 b,8W |  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 Tz1St{s\  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 h&||Ql1  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 %< JjftNQ  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 67Z|=B !7  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 16[>af0<g  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 _* ]~MQ=  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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