线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1055
时间地点 m.m6.  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 7b>_vtrt  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 /x ?@M n>  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 6-_g1vq  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 I$t8Ko._"  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
h2Nt@  
特邀专家介绍 y%i9 b&gDd  
EyA ny\"  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Zpkd8@g@  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 lK=Is v+  
课程概要 iF^qbh%%E  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 /f1]U LmC:  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 H%vfRl3rB  
课程大纲 l[$GOLeS  
1. Essential Macleod软件介绍 ]i.N'O<p  
1.1 介绍软件 l&+O*=#Hh  
1.2 创建一个简单的设计 z!3=.D  
1.3 绘图和制表来表示性能 0>BxS9?w  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 j9 >[^t3U  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 3)EJws!  
1.6 特定设计的公式技术 }S u j=oFp  
1.7 交互式绘图 eavn.I8J  
2. 光学薄膜理论基础 H_RfIX)X  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 DlUKhbo$g  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 #kM|!U=  
3. 材料管理 {k3ItGQ_  
3.1 材料模型 mBErU6?X,A  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 f-|?He4O]  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 :lB`K>)iB}  
3.4 基板光学常数的提取 o(SPT?ao~  
4. 光学薄膜设计优化方法 r&4Xf# QD6  
4.1 参考波长与g q!:dZES  
4.2 四分之一规则 PG63{  
4.3 导纳与导纳图 Nz2 VaZ  
4.4 斜入射光学导纳 MT~^wI0a  
4.5 光学薄膜设计的进展 p [C 9g  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 D0jV}oz  
4.6.1 优化目标设置 Q0R05*  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) $vu*# .w  
4.6.3 膜层锁定和链接 q* R}yt5  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 9-T<gYl  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 T&'Jc  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 <(jk}wa<  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Qf( A  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ej-A =avd  
5.5 如何在Function中编写脚本 EN2t}rua  
6. 光学薄膜系统案例 Pjs=n7  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 N=\ zx^w,  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 D-BT`@~l  
6.3 Stack应用范例说明 6U !P8q  
7. 薄膜性能分析 ^_ch%3}Im  
7.1 电场分布 Wm6qy6HR  
7.2 公差与灵敏度分析 J]TqH`MA  
7.3 反演工程 ^ 0YQlT98  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 M)oKtiav*  
8. 真空技术 lZ-U/$od  
8.1 常用真空泵介绍 h_(M#gG  
8.2 真空密封和检漏 {nwoJ'-V  
9. 薄膜制备技术 F `o9GLxM}  
9.1 常见薄膜制备技术 r"2lcNE  
10. 薄膜制备工艺 Mm@G{J\\  
10.1 薄膜制备工艺因素 m:h6J''<Z*  
10.2 薄膜均匀性修正技术 v>wN O  
10.3 光学薄膜监控技术 ,kJ7c;:i  
11. 激光薄膜 a|z-EKV  
11.1 薄膜的损伤问题 PN93.G(W  
11.2 激光薄膜的制备流程 @KL&vm(F$  
11.3 激光薄膜的制备技术 CO`)XB6W  
12. 光学薄膜特性测量 i1uoYb?4(I  
12.1 薄膜光谱测量 $97O7j@  
12.2 薄膜光学常数测量  J| N 6r  
12.3 薄膜应力测量 V,rc&97  
12.4 薄膜损伤测量 S#M8}+ZD,  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 QZ&(e2z  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 |` :cB  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 oY^I|FEOz  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 OCrTzz8  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 X\Bl? F   
.JLJ(WM  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
\eKXsO"d  
目录 gw"cXny  
Preface 1 OY{fxBb  
内容简介 2  nz?[  
目录 i  ,RR{Y-  
1  引言 1 /iO"4%v  
2  光学薄膜基础 2 "BSY1?k{  
2.1  一般规则 2 Y|LL]@Lv  
2.2  正交入射规则 3 yDqwz[v b  
2.3  斜入射规则 6 <5E'`T  
2.4  精确计算 7 ^!S4?<v  
2.5  相干性 8 "j_iq"J  
2.6 参考文献 10 w317]-n  
3  Essential Macleod的快速预览 10 !tTv$L>  
4  Essential Macleod的特点 32 &tZIWV1&  
4.1  容量和局限性 33 &Gh,ROo4  
4.2  程序在哪里? 33 O6Py  
4.3  数据文件 35 *:H,-@  
4.4  设计规则 35 F[}#7}xjA  
4.5  材料数据库和资料库 37 90}vFoy  
4.5.1材料损失 38 9$$  Ijf  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 4JK6<Pk  
4.5.2 材料库 41 [nxYfER7  
4.5.3导出材料数据 43 &pzL}/u  
4.6  常用单位 43 SEI0G_wk$  
4.7  插值和外推法 46 1TTS@\  
4.8  材料数据的平滑 50 .F7?}8>Z  
4.9 更多光学常数模型 54 t}R!i-D|HB  
4.10  文档的一般编辑规则 55 @LI;q  
4.11 撤销和重做 56 @FIL4sb  
4.12  设计文档 57 ~}b0zL  
4.10.1  公式 58  G06;x   
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 7310'wc  
4.10.3  沉积密度 59 K uwhA-IL  
4.10.4 平行和楔形介质 60 IQ<G .  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 vy~6]hH  
4.10.4  性能 61 5Yv*f:  
4.10.5  保存设计和性能 64 G@DNV3Cc  
4.10.6  默认设计 64 ZOfv\(iJ;  
4.11  图表 64 1K3XNHF  
4.11.1  合并曲线图 67 Z~SAlh T  
4.11.2  自适应绘制 68 {oY"CZ2  
4.11.3  动态绘图 68 /4Wf\ Zu  
4.11.4  3D绘图 69 fh`Y2s|:7R  
4.12  导入和导出 73 !f(A9V  
4.12.1  剪贴板 73 &C MBTY#u  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 K{_~W yRF  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 :.AC%'S  
4.13  背景 77 9c]$d  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 VL*5  
4.15  生成Rugate 84 |I1,9ex  
4.16  参考文献 91 KOe]JDU  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 G)~>d/  
5.1  Jobs 92 R^`}DlHX  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 )>h3IR  
5.3  输入材料 94 &PPnI(s^K  
5.4  设计数据文件夹 95 5P <"I["  
5.5  默认设计 95 ^ q ba<#e  
6  细化和合成 97 e*'bY;8lo  
6.1  优化介绍 97 FMCA~N  
6.2  细化 (Refinement) 98 ?M4ig_  
6.3  合成 (Synthesis) 100 {P?Ge  
6.4  目标和评价函数 101 @XG1d)sE  
6.4.1  目标输入 102 CX/[L)|Ru  
6.4.2  目标 103 ^e^-1s  S  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Ijiw`\;  
6.5  层锁定和连接 104 (zsmJe  
6.6  细化技术 104 9HR1m 3  
6.6.1  单纯形 105 !Dc?9W!b  
6.6.1.1 单纯形参数 106 j6^.Q/{^  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ds(X[7XGW  
6.6.2.1 Optimac参数 108 aT2%Az@j  
6.6.3  模拟退火算法 109 _K?v^oM#  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 _lI(!tj(  
6.6.4  共轭梯度 111 ):G+*3yb  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 prO&"t >  
6.6.5  拟牛顿法 112 ,+BFpN'  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 dKPXs-5  
6.6.6  针合成 113 "d/54PKWx  
6.6.6.1 针合成参数 114 ISZEP8w  
6.6.7 差分进化 114 J" ,Cwk\  
6.6.8非局部细化 115 /b{@']  
6.6.8.1非局部细化参数 115 rYPuo  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 pDP* 3  
6.7.1  细化 116 "=]'"'B:  
6.7.2  合成 117 fR;[??NH  
6.8  参考文献 117 _@\-`>J  
7  导纳图及其他工具 118 >Heuf"V  
7.1  简介 118 UBv#z&@[  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 8B6(SQp%  
7.2.1  四分之一波长规则 119 clqFV   
7.2.2  导纳图 120 Dp*:oMATx0  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 CA|W4f}  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 2|!jst  
7.5  斜入射导纳图 141 0@' -g^PS  
7.6  对称周期 141 _Hq)@A I   
7.7  参考文献 142  1^hG}#6_  
8  典型的镀膜实例 143 O:V.;q2]U  
8.1  单层抗反射薄膜 145 qu1! KS  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 -{L 7%j|R  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 $!'Vn)Z7  
8.4  W-膜层 148 A5fzyG   
8.5  V-膜层 149 }5" Rj<  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ]S(nA!]  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 N["M "s(N  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 j5hQ;~Fa|  
8.9  四层抗反射薄膜 153 R90chl   
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 SPT x-b[  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 sWA-_4  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 \ Ho VS  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 2CtCG8o  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 _NuHz  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 V?MaI .gj  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ]*DIn1C^  
8.17  1/4波长堆栈 162 Ey&A\  
8.18  陷波滤波器 163 >0N$R|B&  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 vO zUAi  
8.20  褶皱 165 ODCN~7-@  
8.21  消偏振分光器1 169 LD|T1 .  
8.22  消偏振分光器2 171 bA"*^"^  
8.23  消偏振立体分光器 172 L{f0r!d|  
8.24  消偏振截止滤光片 173 v{SYz<(  
8.25  立体偏振分束器1 174 (ia+N/$u  
8.26  立方偏振分束器2 177 -oju-gf K  
8.27  相位延迟器 178 FGMYpapc~  
8.28  红外截止器 179 l>Zp#+I-  
8.29  21层长波带通滤波器 180 I*+*Wf  
8.30  49层长波带通滤波器 181 }z-)!8vF  
8.31  55层短波带通滤波器 182 noWwX  
8.32  47 红外截止器 183 0oyZlv*  
8.33  宽带通滤波器 184 jA3Ir;a  
8.34  诱导透射滤波器 186 a,t]>z95  
8.35  诱导透射滤波器2 188 8 =3#S'n  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 >va9*pdJ  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 :n}t7+(>U  
8.35  增益平坦滤波器 193 L~M6 ca"  
8.38  啁啾反射镜 1 196 #=fd8}9  
8.39  啁啾反射镜2 198 y9GaxW* &  
8.40  啁啾反射镜3 199 / vzwokH  
8.41  带保护层的铝膜层 200 n QOLR? %  
8.42  增加铝反射率膜 201 ~:4Mf/Ca  
8.43  参考文献 202 SP|Dz,o  
9  多层膜 204 Z+;670Z  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 uc;,JX!bN  
9.2  内部透过率 204 y?s#pSX;N  
9.3 内部透射率数据 205 X% M*d%n b  
9.4  实例 206 "OKsl2e  
9.5  实例2 210 y-7$HWn  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ")qO#b4  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 {uO2m*JrI  
10  光学薄膜的颜色 216 ZnB|vfL?  
10.1  导言 216 'q*/P&x5  
10.2  色彩 216 1'J|yq  
10.3  主波长和纯度 220 [~rBnzb  
10.4  色相和纯度 221 L5>.ku=T  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 *j|BSd P  
10.6 色差 226 6EX8,4c\  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 A|GheH!t  
10.8  颜色渲染指数 234 -}<W|r  
10.9  色差计算 235 Z}6H529[  
10.10  参考文献 236 $Xo_C_:B  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 G0$,H(]~  
11.1  短脉冲 238 H!{Cr#=  
11.2  群速度 239 @7B!(Q  
11.3  群速度色散 241 Si%K|$?@  
11.4  啁啾(chirped) 245 >RT02Ey>  
11.5  光学薄膜—相变 245 9L xa?Y1  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ~C],?X(zk  
11.7  色度色散 246 ]2B=@V t,  
11.8  色散补偿 249 U_c9T>=  
11.9  空间光线偏移 256 faaFmEC  
11.10  参考文献 258 w6l8RNRe  
12  公差与误差 260 [VwoZX:  
12.1  蒙特卡罗模型 260 fDY#&EO: %  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 > jvi7  
12.2.1  误差工具 267 7L&=z$U@m  
12.2.2  灵敏度工具 271 |Gh~Zu p  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 . B9rG~  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 8MPXrc,9-  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 O>`DR0  
12.3  参考文献 276 Z:}d\~`x$%  
13  Runsheet 与Simulator 277 _[.3I1kG  
13.1  原理介绍 277 @RF !p  
13.2  截止滤光片设计 277 s|Acv4| V  
14  光学常数提取 289 ff9D{$V5  
14.1  介绍 289 %t^-Guz  
14.2  电介质薄膜 289 H{ CG/+x  
14.3  n 和k 的提取工具 295 `!\`yI$!%w  
14.4  基底的参数提取 302 [SJ*ks,]  
14.5  金属的参数提取 306 aE( j_`L78  
14.6  不正确的模型 306 J@c)SK%2h  
14.7  参考文献 311 ']ussFaQ  
15  反演工程 313 ( XoL,lJ  
15.1  随机性和系统性 313 ;  u0 MY  
15.2  常见的系统性问题 314 z@3t>k|K  
15.3  单层膜 314 =F5(k(Ds  
15.4  多层膜 314 ;'r} D!8w/  
15.5  含义 319 QvH=<$  
15.6  反演工程实例 319 G-]ndrTn  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 4b B)t#  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 J!,<NlP0K  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 'Bp7LtG92  
16.1  光学性质的热致偏移 329 aoh"<I%]>4  
16.2  应力工具 335 hYMo5?  
16.3  均匀性误差 339 #B3P3\  
16.3.1  圆锥工具 339 4jl UyAD  
16.3.2  波前问题 341 d tw4cG  
16.4  参考文献 343 tN=B9bm3j  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 /L8Q[`;.  
17.1  引言 345 Yp1;5Bbp  
17.2  操作数 345 sF$$S/b  
18  如何在Function中编写脚本 351 %EuJ~;x(Mg  
18.1  简介 351 6.| {l8%r  
18.2  什么是脚本? 351 90o G+T4  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 xn'&TQo0  
18.4  基础 352 ?H\K];  
18.4.1  Classes(类别) 352 JgJ4RmH-  
18.4.2  对象 352 $ \j/s:Y  
18.4.3  信息(Messages) 352 x roo_  
18.4.4  属性 352 82.::J'e  
18.4.5  方法 353 IvFxI#.ju  
18.4.6  变量声明 353 Fy^=LrH=D  
18.5  创建对象 354 S: IhJQ4K  
18.5.1  创建对象函数 355 $[L~X M  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 C:+-T+m[  
18.5.3 丢弃对象 356 5\MCk"R!  
18.5.4  总结 356 y3^<rff3Gc  
18.6  脚本中的表格 357 K}e %E&|>  
18.6.1  方法1 357 ?6;9r[ p  
18.6.2  方法2 357 v803@9@  
18.7 2D Plots in Scripts 358 _?"P<3/iF  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ?RyeZKf  
18.9  注释 360 'aYUF&GG  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ZG29q>  
18.11  一个更高级的脚本 362 TI^W=5W@@  
18.12  <esc>键 364 $T.u Iq  
18.13 包含文件 365 or~2r8  
18.14  脚本被优化调用 366 <$6r1y*G  
18.15  脚本中的对话框 368 e[<vVe!  
18.15.1  介绍 368 F|+Qi BO  
18.15.2  消息框-MsgBox 368  GtR!a  
18.15.3  输入框函数 370 b`a4SfbQS  
18.15.4  自定义对话框 371 YfRjr  
18.15.5  对话框编辑器 371 ~s3X&!#   
18.15.6  控制对话框 377 Q=YIAGK  
18.15.7  更高级的对话框 380 PIk2mX/D_6  
18.16 Types语句 384 tu5g> qb  
18.17 打开文件 385 5&59IA%S  
18.18 Bags 387 3jSt&+  
18.13  进一步研究 388 b |SDg%e  
19  vStack 389 2IfcdYG  
19.1  vStack基本原理 389 R[#Np`z  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 / thFs4  
19.3  五棱镜 393 (,nQ7,2EX  
19.4 光束距离 396 JM&`&fsOC{  
19.5 误差 399 {lam],#r  
19.6  二向分色棱镜 399 p{@jM  
19.7  偏振泄漏 404 g=#Cc( q  
19.8  波前误差—相位 405 ;H' ,PjU  
19.9  其它计算参数 405 7%j1=V/  
20  报表生成器 406 u~O9"-m !V  
20.1  入门 406 d/"%fpp^0G  
20.2  指令(Instructions) 406 As{Q9o5j/  
20.3  页面布局指令 406 ;*c8,I;  
20.4  常见的参数图和三维图 407 3<XP/c";  
20.5  表格中的常见参数 408 2v$\mL  
20.6  迭代指令 408 t6q7 w  
20.7  报表模版 408 wiFA 3_\G  
20.8  开始设计一个报表模版 409 /wi*OZ7R  
21  一个新的project 413 5)c B\N1u  
21.1  创建一个新Job 414 awU! 3)B  
21.2  默认设计 415 S4S}go*G[  
21.3  薄膜设计 416 ([ jm=[E^  
21.4  误差的灵敏度计算 420 <B Vx%  
21.5  显色指数计算 422 u<U8LR=)V5  
21.6  电场分布 424 1Y:JGon  
后记 426 |4C5;"Pc  
{1"kZL  
GU0[K#%  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 @ N@ !Q  
a9uMgx}  
《Essential Macleod中文手册》
 \4j(el  
*L&|4|BF2  
目  录 ,7I    
/pC60y}O0  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 E{'Y>g B6  
第1章 介绍 ..........................................................1 e>UU/Ks  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 U6F7dT  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 }vb.>hy  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ^v&"{2  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ~bq w!rz  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 7sU+:a  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 gg.lajX  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 98maQQWD  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 y5j ;Daq  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 bt"5.nm  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 5`6U:MDq  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 Jim5Ul  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 7ju^B/ 7  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 _&M^}||UH  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Ekn3ODz,  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 @,{Qa!A>l  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 5S ) N&%  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 `Bb32L   
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 zhe~kI  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 <r)5jf  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ~i]4~bkH2  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 8yybZ@  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 z2jS(N?J1  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 lSy_cItF  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 iM$iZ;Tp  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 T[-Tqi NT  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 F5+!Gb En  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 T#KVN{O  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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