线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:441
时间地点 xX-r<:'tmi  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ,lH }Ba02F  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 V/#Ra  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 D('.17  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 &|x7T<,)  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
1 ^|#QMT  
特邀专家介绍 sSU|N;"Y  
/3M8 ;>@u  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 >@7$=Y>D  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 [W3X$r~-  
课程概要 /0}Z>i K  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 \ ku5%y  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 $wAR cS  
课程大纲 V8/4:Va7 s  
1. Essential Macleod软件介绍 j&X&&=   
1.1 介绍软件 =803rNe  
1.2 创建一个简单的设计 x*H#?.E  
1.3 绘图和制表来表示性能 m[eqTh4*  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 9s<4`oa  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 1 !_p  
1.6 特定设计的公式技术 H$Kc~#=  
1.7 交互式绘图 1_t+lJI9j  
2. 光学薄膜理论基础 P!]uJ8bi  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Po58@g  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响  %W~w\mT  
3. 材料管理 0!,uo\`  
3.1 材料模型 ~Ykn|$_"I  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 kqCsEtm]  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Z5Lmg  
3.4 基板光学常数的提取 u@dvFzc  
4. 光学薄膜设计优化方法 o MJ `_  
4.1 参考波长与g l Xa/5QKC  
4.2 四分之一规则 '4uu@?!dVk  
4.3 导纳与导纳图 u9~5U9]O%6  
4.4 斜入射光学导纳 \96\!7$@O  
4.5 光学薄膜设计的进展 US$$ADq  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 P] *x6c^n  
4.6.1 优化目标设置 0BDw}E\  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) {_N9<i{T  
4.6.3 膜层锁定和链接 9:p-F+  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 P7F"#R0QB  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 5TJd9:\Af  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 }`gOfj)?i  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 cCZp6^/<x  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 rnZ$Qk-H  
5.5 如何在Function中编写脚本 Os<E7l zqO  
6. 光学薄膜系统案例 >[Vc$[62  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 _Gq6xv\b1  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Kn:Ml4[;  
6.3 Stack应用范例说明 3q73L<f  
7. 薄膜性能分析 J'Pyn  
7.1 电场分布 l L;5*@  
7.2 公差与灵敏度分析 8GP17j  
7.3 反演工程 k4iiL<|  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 C7S\4rDJ  
8. 真空技术 3aq'JVq   
8.1 常用真空泵介绍 6C&&="uww  
8.2 真空密封和检漏 CFh9@Nx  
9. 薄膜制备技术 _;03R{e*  
9.1 常见薄膜制备技术 GCJ[xn(_  
10. 薄膜制备工艺 B,\VLX  
10.1 薄膜制备工艺因素 x.-d)]a!  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ?)1Y|W'Rv  
10.3 光学薄膜监控技术 !Q[v"6?  
11. 激光薄膜 ?C[?dg{n  
11.1 薄膜的损伤问题 XY| y1L 3[  
11.2 激光薄膜的制备流程 YJv$,Z&;HO  
11.3 激光薄膜的制备技术 $ztsbV}  
12. 光学薄膜特性测量 ]^C 8Oh<  
12.1 薄膜光谱测量 o*H U^  
12.2 薄膜光学常数测量 Gt.'_hf Js  
12.3 薄膜应力测量 cuN]}=D  
12.4 薄膜损伤测量 sA,bR|  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 tfU*U>j  
\Sd8PGl*'  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
5z_d$.CIc  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
7,SQz6]  
内容简介 B)Y[~4o  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 wS}c \!@<,  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 r""rJzFz'  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 9;#RzelSp  
V^,gpTyv*  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
nW)+-Wxq  
目录 uHI(-!O  
Preface 1 G[mqLI{q  
内容简介 2 2Xl+}M.:Y  
目录 i $Er=i }`  
1  引言 1 =#u4^%i)  
2  光学薄膜基础 2 !ekByD  
2.1  一般规则 2 [8 Pt$5]^  
2.2  正交入射规则 3 *Y(59J2  
2.3  斜入射规则 6 Ow4_0l&  
2.4  精确计算 7 FC1rwXL(  
2.5  相干性 8 ]u5TvI,C  
2.6 参考文献 10 Em(_W5 ND{  
3  Essential Macleod的快速预览 10 <gwRE{6U  
4  Essential Macleod的特点 32 2?~nA2+vm  
4.1  容量和局限性 33 8@rYT5e3c  
4.2  程序在哪里? 33 R0=f`;  
4.3  数据文件 35 i%9vZ  
4.4  设计规则 35 WRD z*Zf  
4.5  材料数据库和资料库 37 t,9+G<)>H  
4.5.1材料损失 38 =c@hE'{  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Q("m*eMRt  
4.5.2 材料库 41 YcA. Bn|as  
4.5.3导出材料数据 43 ^i8,9T'=  
4.6  常用单位 43 qO"QSSbZqQ  
4.7  插值和外推法 46 z}Cjk6z@  
4.8  材料数据的平滑 50 s^zlBvr|.  
4.9 更多光学常数模型 54 Gt&yz"?D  
4.10  文档的一般编辑规则 55 %!\=$s}g  
4.11 撤销和重做 56 *W8n8qG%T  
4.12  设计文档 57 ^^v3iCT  
4.10.1  公式 58 L"'=[O~  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 BHY-fb@R]H  
4.10.3  沉积密度 59 :=hL}(~]  
4.10.4 平行和楔形介质 60 fDsT@W,K  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 o:#jvi84F  
4.10.4  性能 61 5 &8BO1V.  
4.10.5  保存设计和性能 64 vt5w(}v(  
4.10.6  默认设计 64 '^)'q\v'k  
4.11  图表 64 =CFjG)L  
4.11.1  合并曲线图 67 ^dpM2$J  
4.11.2  自适应绘制 68 :z8/iD y  
4.11.3  动态绘图 68 %$ya>0?mq  
4.11.4  3D绘图 69 _5Lcr)  
4.12  导入和导出 73 qR.FjQOvn  
4.12.1  剪贴板 73 sGY}(9ED;  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 C[,h!  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Qp<*o r@  
4.13  背景 77 -Hm"Dx  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 )"\= _E#  
4.15  生成Rugate 84 ) r.Wge  
4.16  参考文献 91 6{5T^^x?<  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 cgG*7E  
5.1  Jobs 92 p1'q{E+o*  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 >c0leT  
5.3  输入材料 94 &n | <NF  
5.4  设计数据文件夹 95 Gs~eRcIB  
5.5  默认设计 95 7D<Aa?cv_l  
6  细化和合成 97 +}m`$B}mJ  
6.1  优化介绍 97  z/91v#}.  
6.2  细化 (Refinement) 98 @rT$}O1?`  
6.3  合成 (Synthesis) 100 oqvu8"  
6.4  目标和评价函数 101 }m<+tn3m  
6.4.1  目标输入 102 cy@oAoBq  
6.4.2  目标 103 fa]8v6  
6.4.3  特殊的评价函数 104 bDDP:INm.  
6.5  层锁定和连接 104 ~EmK;[Z  
6.6  细化技术 104 oPs asa  
6.6.1  单纯形 105 <,DMD  
6.6.1.1 单纯形参数 106 J PTLh{/  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 D% *ww'mt0  
6.6.2.1 Optimac参数 108 _8$xsj4_  
6.6.3  模拟退火算法 109 U`) " ;WN  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ]A[}:E 5}  
6.6.4  共轭梯度 111 .~I:Hcf/  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Srw`vql{(  
6.6.5  拟牛顿法 112 `}t5`:#k  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 (;g/wb:  
6.6.6  针合成 113 |m\7/&@<  
6.6.6.1 针合成参数 114 T ^eD  
6.6.7 差分进化 114 c@,1?q1bv  
6.6.8非局部细化 115 .?#Q(eLj  
6.6.8.1非局部细化参数 115 B[mZQ&Gz`a  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 5q4wREh  
6.7.1  细化 116 ~Q"qz<WO  
6.7.2  合成 117 LntRLB'  
6.8  参考文献 117 Ox ,Rk  
7  导纳图及其他工具 118 R[j'<gd.  
7.1  简介 118 W/RB|TMT  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 DBy%"/c  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ih("`//nP  
7.2.2  导纳图 120 !}|'1HIC  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 NfQ QJ@*  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 !|9@f$Jv  
7.5  斜入射导纳图 141 z*VK{O)o  
7.6  对称周期 141 qCVb-f  
7.7  参考文献 142 ]hlQU%&  
8  典型的镀膜实例 143 k3LHLJZ#  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ;]R5:LbXS  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 7lYf+&JZ  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147  {y{O ze  
8.4  W-膜层 148 ?pQ0* O0  
8.5  V-膜层 149 43=)akJi  
8.6  V-膜层高折射基底 150 \*5z0A9)5)  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 9Pvv6WyKy  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 L   
8.9  四层抗反射薄膜 153 \1?'JdN  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 pQZ`dS\  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 >`WQxkpy  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 _TdH6[9  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 `}ZtK574  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 4<<eqxI$|  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 |pknaz  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 'o= DGm2H  
8.17  1/4波长堆栈 162 ?;w`hA3ei  
8.18  陷波滤波器 163 |U'`Sc  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 <2O#!bX1  
8.20  褶皱 165 hw`pi6  
8.21  消偏振分光器1 169 ,ZYPffu<*  
8.22  消偏振分光器2 171 Lf.Ia *R:  
8.23  消偏振立体分光器 172 1 "t9x.  
8.24  消偏振截止滤光片 173 HOPl0fY$L  
8.25  立体偏振分束器1 174 $<VH~Q<  
8.26  立方偏振分束器2 177 ijcF[bm E  
8.27  相位延迟器 178 a$iDn_{  
8.28  红外截止器 179 Qo]qs+  
8.29  21层长波带通滤波器 180 TrgKl2xfx  
8.30  49层长波带通滤波器 181 N3Q .4? z9  
8.31  55层短波带通滤波器 182 r^E(GmW  
8.32  47 红外截止器 183 ^!O!HMX0  
8.33  宽带通滤波器 184 o*~=NoR  
8.34  诱导透射滤波器 186 `S3)uV]I  
8.35  诱导透射滤波器2 188 i6FJG\d  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ifl LY7j  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 i$.!8AV6  
8.35  增益平坦滤波器 193 S6JWsi4C:,  
8.38  啁啾反射镜 1 196 +s7w@  
8.39  啁啾反射镜2 198 nXuy&;5TL,  
8.40  啁啾反射镜3 199 ^IvQdVB  
8.41  带保护层的铝膜层 200 W}k/>V_  
8.42  增加铝反射率膜 201 1JOoIC jB  
8.43  参考文献 202 !u:;Ew  
9  多层膜 204 EpT^r8I  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 5|}u25J  
9.2  内部透过率 204 2/F8kVx{  
9.3 内部透射率数据 205 %ol1WG9  
9.4  实例 206 6xr%xk2E  
9.5  实例2 210 9[ &q C  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Oku7&L1  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 WS@"8+re;  
10  光学薄膜的颜色 216 |rgPHRX^Hn  
10.1  导言 216 N3)n**  
10.2  色彩 216 wSZMHIW  
10.3  主波长和纯度 220 1'\s7P  
10.4  色相和纯度 221 JCB3 BZg7&  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 }QCn>LXE  
10.6 色差 226 g&_f%hx?  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 N]ebKe  
10.8  颜色渲染指数 234 [1Qg *   
10.9  色差计算 235 szqR1A  
10.10  参考文献 236 w}97`.Kt!n  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 DHvZ:)aT}  
11.1  短脉冲 238 ?oV|.LM:W  
11.2  群速度 239 _Wp.s]D [  
11.3  群速度色散 241 Lv)1 )'v0  
11.4  啁啾(chirped) 245 LOwd mj  
11.5  光学薄膜—相变 245 ]Ee$ulJ02  
11.6  群延迟和延迟色散 246 pz{ ]O_px  
11.7  色度色散 246 bq8h?Q  
11.8  色散补偿 249 m,5?|J=  
11.9  空间光线偏移 256 ExFz@6@  
11.10  参考文献 258 gTLBR  
12  公差与误差 260 @'Pay)P  
12.1  蒙特卡罗模型 260 S*76V"")  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 `O%O[  
12.2.1  误差工具 267 k2#|^N  
12.2.2  灵敏度工具 271 w)R5@ @C*  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 w xa MdA  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 L{XW2c$h  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 +KTHZpp!c2  
12.3  参考文献 276 Zv8GrkK  
13  Runsheet 与Simulator 277 P*ZMbAf.  
13.1  原理介绍 277 Z(LTHAbBk|  
13.2  截止滤光片设计 277 mM{cH=  
14  光学常数提取 289 %z~kHL  
14.1  介绍 289 :N_DJ51  
14.2  电介质薄膜 289 ^q|W@uG-(  
14.3  n 和k 的提取工具 295 \W\*'C8q\  
14.4  基底的参数提取 302 3m&  
14.5  金属的参数提取 306 #\K"FE0PGz  
14.6  不正确的模型 306 sfy}J1xIL  
14.7  参考文献 311 nuA 0%K  
15  反演工程 313 *l%&/\  
15.1  随机性和系统性 313 r{*BJi.b  
15.2  常见的系统性问题 314 >V\^oh)t]t  
15.3  单层膜 314 <q I!Dj{  
15.4  多层膜 314 H%}/O;C  
15.5  含义 319  &Du S*  
15.6  反演工程实例 319 ao|n<*}  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 vbG&F.P  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 2,|;qFJY-@  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 :" @-Bcln  
16.1  光学性质的热致偏移 329 #veV {,g  
16.2  应力工具 335 {r5OtYmpR  
16.3  均匀性误差 339 Tv 5J  
16.3.1  圆锥工具 339 q_9 tbZ;  
16.3.2  波前问题 341 nC!L<OMr  
16.4  参考文献 343 h 'Hnq m  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 +NiCt S  
17.1  引言 345 sN#ju5  
17.2  操作数 345 n@q- f-2  
18  如何在Function中编写脚本 351 N\rL ~4/  
18.1  简介 351 *{\))Zmhd  
18.2  什么是脚本? 351 YPCitGBl  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 UG}2q:ST  
18.4  基础 352 0y+i?y 9  
18.4.1  Classes(类别) 352 1Lp; LY"_  
18.4.2  对象 352 f=S2O_Ee  
18.4.3  信息(Messages) 352 H4sc7-  
18.4.4  属性 352 "I9r>=  
18.4.5  方法 353 [%~yY&  
18.4.6  变量声明 353 @S>;t)\J  
18.5  创建对象 354 7;&,L H  
18.5.1  创建对象函数 355 'P[#.9E  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 {2i8]Sp1d/  
18.5.3 丢弃对象 356 pmO0/ty  
18.5.4  总结 356 j5]ul!ji  
18.6  脚本中的表格 357 4G XS(  
18.6.1  方法1 357 [8 H:5 Ho  
18.6.2  方法2 357 ( 5uSqw&U  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ooC9a>X  
18.8 3D Plots in Scripts 359 tvq((2  
18.9  注释 360 TZ!@IBu  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 `46.!  
18.11  一个更高级的脚本 362 t`>Z#=cl\  
18.12  <esc>键 364 -*Th=B-  
18.13 包含文件 365 ;P/ 4.|<  
18.14  脚本被优化调用 366 25@@-2h @  
18.15  脚本中的对话框 368 1-&L-c.  
18.15.1  介绍 368 {];-b0MS~  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 vJV/3-yX  
18.15.3  输入框函数 370 l\uNh~\  
18.15.4  自定义对话框 371 |{_>H '  
18.15.5  对话框编辑器 371 Xkg  
18.15.6  控制对话框 377 mm.%Dcn  
18.15.7  更高级的对话框 380 5K)_w:U X  
18.16 Types语句 384 ou<,c?nNM  
18.17 打开文件 385 f*9O39&|  
18.18 Bags 387 9.il1mAKg  
18.13  进一步研究 388 ,LxkdV  
19  vStack 389  ts=:r  
19.1  vStack基本原理 389 pVrY';[,|  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 WIpV'F|t]`  
19.3  五棱镜 393 XD't)B(q  
19.4 光束距离 396 m7u`r(&  
19.5 误差 399 nj0]c`6rN@  
19.6  二向分色棱镜 399 B;W%P.<.  
19.7  偏振泄漏 404 D!.1R!(Z  
19.8  波前误差—相位 405 I3d}DpPx%  
19.9  其它计算参数 405 o P;6i  
20  报表生成器 406 nAAv42j[  
20.1  入门 406 >}W[>WReI  
20.2  指令(Instructions) 406 9cU9'r# h  
20.3  页面布局指令 406 sf# px|~9  
20.4  常见的参数图和三维图 407 E-FR w  
20.5  表格中的常见参数 408 !6@'H4cb=  
20.6  迭代指令 408 Pz\K3-  
20.7  报表模版 408 .>P:{''  
20.8  开始设计一个报表模版 409 r@bh,U$  
21  一个新的project 413 Eh|,[ D!E  
21.1  创建一个新Job 414 XoL DqN!  
21.2  默认设计 415 Im@OAR4,R  
21.3  薄膜设计 416 PLMC<4$s  
21.4  误差的灵敏度计算 420 n|XheG7:  
21.5  显色指数计算 422 G -+!h4p  
21.6  电场分布 424 J%M [8  
后记 426 SgehOu  
|D%mWQng  
~1[n@{*:(  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 6N5(DD  
P)J-'2{  
《Essential Macleod中文手册》
kc't  
X;Sb^c"j1  
目  录 ahy6a,)K~  
NRx I?v  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 }2Euz.0  
第1章 介绍 ..........................................................1 ^\?Rh(pu  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 =!xX{o?64  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 >eQ.y- 4  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ?+^p$'5  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 $?bD55  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 MGt>:&s(]  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 UeLO`Ug0;  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ,w H~.LHi  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 Qz#By V:  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 yNP4Ey  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 [H>u'fy:C  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 =CZRX' +yN  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 \AKP ea=  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 \y]K]iv  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 %xOxMK@  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 G[yzi  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 4n7Kz_!SVf  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 C49\'1\6  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 orH6R8P]  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 j&'6|s{  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 %oTBh*K'o  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ,6X;YY  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 }9fch9>Zr  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 TnK<Wba  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 6&ut r!\7  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 j9h fW'  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 NimgU Fa  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Kq-1  b  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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