线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1064
时间地点 xGk6n4Gg  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 rZXrT}Xh{W  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 WiL2  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 `_ %S  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 cf_|nL#9  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
U&Wwyu:4i  
特邀专家介绍 CT a#Q,  
YIhm$A"z0"  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 jhgX{xc  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ,8'>R@o  
课程概要 . 5y"38e  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 "ICC B1N|  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 oTjyN\?H  
课程大纲 9# 4Y1LS)  
1. Essential Macleod软件介绍 ji1HV1S  
1.1 介绍软件 #65^w=Sp}  
1.2 创建一个简单的设计 F'}'(t+oAm  
1.3 绘图和制表来表示性能 m><w0k?t  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 WUc#)EEM)  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) r;>+)**@vl  
1.6 特定设计的公式技术 !`JHH&  
1.7 交互式绘图 4LcX<B U9  
2. 光学薄膜理论基础 1+;C`bnA  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 lT&wOm3  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 8F(h*e_?  
3. 材料管理 }kHdK vZ  
3.1 材料模型 Jq.lT(E8D  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 w>fdQ!RdP  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 -Y#sI3o*R8  
3.4 基板光学常数的提取 4BYE1fUzd  
4. 光学薄膜设计优化方法 `N//A}9  
4.1 参考波长与g TcTM]ixr  
4.2 四分之一规则 Cb t{ H}I3  
4.3 导纳与导纳图 )4U> !KrY  
4.4 斜入射光学导纳 WF&[HKOy/  
4.5 光学薄膜设计的进展 gbeghLP[?  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 l- pe4x  
4.6.1 优化目标设置 b+-f.!j  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) W W2Ob*  
4.6.3 膜层锁定和链接 mP38T{  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 hf/2vt m  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 AUVgPXOwd  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 /M~!sPW&?  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Z v_.na/^K  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 , ^F)L|  
5.5 如何在Function中编写脚本 |s#'dS;  
6. 光学薄膜系统案例 UUKP"  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 c3*t_!@oC  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 V=He_9B  
6.3 Stack应用范例说明 <$w?/y/'  
7. 薄膜性能分析 4(neKr5\#  
7.1 电场分布 9Etz:?)b  
7.2 公差与灵敏度分析 Xv <G-N4  
7.3 反演工程 YIt& >  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 (6CN/A{qe  
8. 真空技术 _Y=2/*y^  
8.1 常用真空泵介绍 m=AqV:%|  
8.2 真空密封和检漏 l.\re"Q  
9. 薄膜制备技术 )D'^3) FF  
9.1 常见薄膜制备技术 UX3BeUi.)  
10. 薄膜制备工艺 .x`M<L#M(  
10.1 薄膜制备工艺因素 l+V,DCE  
10.2 薄膜均匀性修正技术 9 3+"D`  
10.3 光学薄膜监控技术 ;= j@, yu  
11. 激光薄膜 8(.mt/MR  
11.1 薄膜的损伤问题 ]eQV ,Vt  
11.2 激光薄膜的制备流程 =~Ynz7 /x  
11.3 激光薄膜的制备技术 pL1Q7&&c0  
12. 光学薄膜特性测量 TSAU?r\P  
12.1 薄膜光谱测量 <Llp\XcZ  
12.2 薄膜光学常数测量 M<SdPC(+  
12.3 薄膜应力测量 \ \BCcr\l  
12.4 薄膜损伤测量 Y={&5Mir  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ,uw132<b  
o-xDh7v  
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9Suu-A  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
4Wy <?O2  
内容简介 !3i Gz_y  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ~^u16z,  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 jztq.2-c#  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Q%/<ZC.Mz6  
wxm:7$4C  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
-yGDh+-  
目录 H/M Au7  
Preface 1 kyAXRwzI  
内容简介 2 "G-1>:   
目录 i 'Y$R~e^Y?  
1  引言 1 9_\'LJ  
2  光学薄膜基础 2 _, ;j7%j  
2.1  一般规则 2 :Ih|en^w  
2.2  正交入射规则 3 A^ _a3$,0  
2.3  斜入射规则 6 ,D\GGRw  
2.4  精确计算 7 %}86D[PF  
2.5  相干性 8 M3p   
2.6 参考文献 10 =X?\MVWB  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ELh8ltLY  
4  Essential Macleod的特点 32 2<&Bw2  
4.1  容量和局限性 33 1h*)@  
4.2  程序在哪里? 33 "#v=IJy&r  
4.3  数据文件 35 #`GY}-hL!  
4.4  设计规则 35 ^8 ' sib  
4.5  材料数据库和资料库 37 k5kdCC0FCk  
4.5.1材料损失 38 @i^~0A#q*  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 yCJFo  
4.5.2 材料库 41 as=m`DqOh  
4.5.3导出材料数据 43 t9&c E:n  
4.6  常用单位 43 zkTp`>9R  
4.7  插值和外推法 46 #j@71]GI  
4.8  材料数据的平滑 50 mh<=[J,%p  
4.9 更多光学常数模型 54 Rwr 2gMt7  
4.10  文档的一般编辑规则 55 f84:hXo6  
4.11 撤销和重做 56 )}TLC 2%  
4.12  设计文档 57 h._nK\  
4.10.1  公式 58 t_ksvWUo  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Q'k\8'x  
4.10.3  沉积密度 59 `/Nm 2K  
4.10.4 平行和楔形介质 60 J$~<V IX  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 J5h+s-'  
4.10.4  性能 61 1!pa;$L  
4.10.5  保存设计和性能 64 9%* wb`&  
4.10.6  默认设计 64 F}"]92  
4.11  图表 64 ^kS T  
4.11.1  合并曲线图 67 0y&I/2  
4.11.2  自适应绘制 68 b':|uu*/  
4.11.3  动态绘图 68 ZoKcJA  
4.11.4  3D绘图 69 xEuN   
4.12  导入和导出 73 7PR#(ftz  
4.12.1  剪贴板 73 *9)SmS s  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 1 T130L  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 nhG J  
4.13  背景 77 #,{+3Y&5-+  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 A:<;M@q !  
4.15  生成Rugate 84 rF\ "w0J_  
4.16  参考文献 91 $A3<G-4O  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ++L?+^h  
5.1  Jobs 92 0A{/B/r   
5.2  创建一个新Job(工作) 93 z} '!eCl  
5.3  输入材料 94 syip;;  
5.4  设计数据文件夹 95 Ll MpS<2NO  
5.5  默认设计 95 [ofqGwpDG  
6  细化和合成 97 9w9jpe#  
6.1  优化介绍 97 (M =Y&M'f  
6.2  细化 (Refinement) 98 UD~p'^.m_  
6.3  合成 (Synthesis) 100 TpA\9N#$  
6.4  目标和评价函数 101 T32BnmB{  
6.4.1  目标输入 102 [FUjnI  
6.4.2  目标 103 l"n{.aL  
6.4.3  特殊的评价函数 104 kt4d; 4n  
6.5  层锁定和连接 104 =h(W4scgqX  
6.6  细化技术 104 IlX$YOf4  
6.6.1  单纯形 105 ^\B :R,  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Pmi#TW3X  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 %p&k5:4<"#  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ]nhr+;of/-  
6.6.3  模拟退火算法 109 kj+#Tn F-  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 (;. AS  
6.6.4  共轭梯度 111 KRJLxNr  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 8@NH%zWBp  
6.6.5  拟牛顿法 112 $./bjV%  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 iut`7  
6.6.6  针合成 113 pj?XLiM54%  
6.6.6.1 针合成参数 114 4'KOp&#l K  
6.6.7 差分进化 114 ]]}tdn_  
6.6.8非局部细化 115 /ug8]Lo0  
6.6.8.1非局部细化参数 115 uS&| "*pR  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 }FF W|f  
6.7.1  细化 116 B= keBO](@  
6.7.2  合成 117 OL7_'2_z.  
6.8  参考文献 117 8+m H:O  
7  导纳图及其他工具 118  s95vK7I  
7.1  简介 118 ] 4+s$rG  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 fAZiC+  
7.2.1  四分之一波长规则 119 d2X[(3  
7.2.2  导纳图 120 7^} Ll@  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 vi@Lz3}::  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 (h']a!  
7.5  斜入射导纳图 141 q.Nweu!jQ  
7.6  对称周期 141 .^) UO  
7.7  参考文献 142 .I3?7  
8  典型的镀膜实例 143 z9W`FBg  
8.1  单层抗反射薄膜 145 a:~@CUD >I  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 R];Ox e  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 1exl0]-  
8.4  W-膜层 148 !? ^h;)a  
8.5  V-膜层 149 <"o"z2  
8.6  V-膜层高折射基底 150 $- +/$!  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 (2?G:+C 7  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 k {-  
8.9  四层抗反射薄膜 153 P7B:%HiAx  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 1 4 LI5T  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 8\<jyJ  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 `k\grr.J  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 qDWsvx]  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 KlK`;cr?  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 uGdp@]z&8Q  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 F#xa`*AP  
8.17  1/4波长堆栈 162 ry};m_BY  
8.18  陷波滤波器 163 JT[*3 h  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 %}2@rLP  
8.20  褶皱 165 -#-p1^v}  
8.21  消偏振分光器1 169 s?WCnT  
8.22  消偏振分光器2 171 wx=0'T-[  
8.23  消偏振立体分光器 172 $]aBe !  
8.24  消偏振截止滤光片 173 GC8}X;((Y  
8.25  立体偏振分束器1 174 {Hr$wa~  
8.26  立方偏振分束器2 177 gPS&^EdxA  
8.27  相位延迟器 178 `ir3YnT+  
8.28  红外截止器 179 QD{:vG g  
8.29  21层长波带通滤波器 180 o/ [  
8.30  49层长波带通滤波器 181 8GJdRL(  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Kex[ >L10G  
8.32  47 红外截止器 183 Vbh6HqAHxJ  
8.33  宽带通滤波器 184 cIXwiC8t  
8.34  诱导透射滤波器 186 8 l/[(] &  
8.35  诱导透射滤波器2 188 %Qn(rA@9  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 i5hD#  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ^SEdA=!  
8.35  增益平坦滤波器 193 O`FqD{@V  
8.38  啁啾反射镜 1 196 mN0=i(H<  
8.39  啁啾反射镜2 198 ps1YQ3Ep&  
8.40  啁啾反射镜3 199 B68H&h]D#'  
8.41  带保护层的铝膜层 200 (7lBID4  
8.42  增加铝反射率膜 201 b syq*  
8.43  参考文献 202 ?_6YtR,{  
9  多层膜 204 2k7bK6=nm  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 _BnTv$.P  
9.2  内部透过率 204 9-*NW0  
9.3 内部透射率数据 205 YHxbDf dA  
9.4  实例 206 ]pTvMom$6  
9.5  实例2 210 Ft%hh|$5y  
9.6  圆锥和带宽计算 212 =4C}{IL  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ,S[K{y<  
10  光学薄膜的颜色 216 uMXc0fs!$  
10.1  导言 216 &!7+Yb(1  
10.2  色彩 216 zxD,E@lF  
10.3  主波长和纯度 220 +2cs#i  
10.4  色相和纯度 221 PW}OU9is  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 k D~uGA  
10.6 色差 226 #;9H@:N  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ed~R>F>  
10.8  颜色渲染指数 234 g;F"7 ^sg  
10.9  色差计算 235 $]d*0^J 6  
10.10  参考文献 236 TmEY W<  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <FFJzNc+  
11.1  短脉冲 238 o|S)C<w  
11.2  群速度 239 q/@dR{-  
11.3  群速度色散 241 mAqD jRV1  
11.4  啁啾(chirped) 245 vg%QXaM  
11.5  光学薄膜—相变 245 GA^mgm"O  
11.6  群延迟和延迟色散 246 34C``i  
11.7  色度色散 246 H^c0Kh+  
11.8  色散补偿 249 #*IVlchA"B  
11.9  空间光线偏移 256 (;o*eFC F  
11.10  参考文献 258 gqiXmMm:9  
12  公差与误差 260 wuK=6RL  
12.1  蒙特卡罗模型 260 RpQ*!a~O  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 1/j$I~B   
12.2.1  误差工具 267 oC dGQ7G}  
12.2.2  灵敏度工具 271 2JO-0j.  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 o 5Zyh26  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 B< ;==|  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 SPy3~Db-o  
12.3  参考文献 276 ?#[)C=p]z  
13  Runsheet 与Simulator 277 &/F_*=VE  
13.1  原理介绍 277 `bgb*Yaod  
13.2  截止滤光片设计 277 4!%]fg}Um  
14  光学常数提取 289 i*tv,f.(  
14.1  介绍 289 6TFo|z!C  
14.2  电介质薄膜 289 ySX/=T:<;  
14.3  n 和k 的提取工具 295 hYt7kq!"  
14.4  基底的参数提取 302 swr"k6;G  
14.5  金属的参数提取 306 #qL9{P<}  
14.6  不正确的模型 306 e9@(/+  
14.7  参考文献 311 lJ/6-dP  
15  反演工程 313 l:e9y$_)  
15.1  随机性和系统性 313 XCPb9<L  
15.2  常见的系统性问题 314  Dt}dp_  
15.3  单层膜 314 sWxK~Yg  
15.4  多层膜 314 MQw9X  
15.5  含义 319 g{ (@uzqG  
15.6  反演工程实例 319 Zw=G@4xoU  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 8=H\?4)()Y  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 19y 0$e_V  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 |'w^n  
16.1  光学性质的热致偏移 329 mCk5B*Jy  
16.2  应力工具 335 JLUms  
16.3  均匀性误差 339 Qilj/x68  
16.3.1  圆锥工具 339 "@t-Cy:!O  
16.3.2  波前问题 341 # cWHDRLX  
16.4  参考文献 343 9+VF<;Xw  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 !A-;NGxE  
17.1  引言 345 m#ad6 \  
17.2  操作数 345 x`2pr  
18  如何在Function中编写脚本 351 ]Y5dl;xrM)  
18.1  简介 351 {CP o<lz  
18.2  什么是脚本? 351 NG-`ag`s  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 5ZsDgOeY  
18.4  基础 352 pI^=B-7  
18.4.1  Classes(类别) 352 +{vQS FW  
18.4.2  对象 352 @,6ST0xT (  
18.4.3  信息(Messages) 352 Y@:3 B:m#  
18.4.4  属性 352 '5WN,Vy8.  
18.4.5  方法 353 )+B=z}:Nfz  
18.4.6  变量声明 353 qRUCnCZs  
18.5  创建对象 354 59MR|Jt  
18.5.1  创建对象函数 355 `i4I!E  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ;GQm[W([  
18.5.3 丢弃对象 356 3;D?|E]1  
18.5.4  总结 356 ![Hhxu  
18.6  脚本中的表格 357 Q!) z)-hI  
18.6.1  方法1 357 f(.6|mPp  
18.6.2  方法2 357 *^6k[3VY  
18.7 2D Plots in Scripts 358 rgT%XhUS6f  
18.8 3D Plots in Scripts 359 e[p^p!a  
18.9  注释 360 0# UAjT3  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 8l?w=)Qy  
18.11  一个更高级的脚本 362 R`3x=q  
18.12  <esc>键 364 G;9|%yvd8  
18.13 包含文件 365  uE"2kn  
18.14  脚本被优化调用 366 e5qvyUJM  
18.15  脚本中的对话框 368 5:_~mlfi  
18.15.1  介绍 368 3DI^y` av  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Jmy)J!ib*  
18.15.3  输入框函数 370 Ctj8tK$D  
18.15.4  自定义对话框 371 Si[eAAd' :  
18.15.5  对话框编辑器 371 j,ZW[*M  
18.15.6  控制对话框 377 -g$O OJB6  
18.15.7  更高级的对话框 380 Yoe les-  
18.16 Types语句 384 * S{\#s  
18.17 打开文件 385 8tC+ lc  
18.18 Bags 387 y8D 8Y8B  
18.13  进一步研究 388 Nq  U9/  
19  vStack 389 gpsrw>nw  
19.1  vStack基本原理 389 K9}jR@jy$  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 FBbm4NB  
19.3  五棱镜 393 Ol_/uy1r[  
19.4 光束距离 396 'iGMn_&  
19.5 误差 399 |oFI[PE  
19.6  二向分色棱镜 399 2}>go^#O/w  
19.7  偏振泄漏 404 D~7%};D[  
19.8  波前误差—相位 405 v(k*A:  
19.9  其它计算参数 405 f5N<3m=  
20  报表生成器 406 iF+S%aPd#  
20.1  入门 406 .0KOnLdK  
20.2  指令(Instructions) 406 h#;?9DP  
20.3  页面布局指令 406 &F9OZMK=  
20.4  常见的参数图和三维图 407 )*+u\x_Hx  
20.5  表格中的常见参数 408 =cknE=  
20.6  迭代指令 408 AwA1&mh  
20.7  报表模版 408 l`oT:  
20.8  开始设计一个报表模版 409 0yKwH\S  
21  一个新的project 413 |#!eMJ&0  
21.1  创建一个新Job 414 $kM '  
21.2  默认设计 415 XZ!cW=bqS  
21.3  薄膜设计 416 |\rSa^:5  
21.4  误差的灵敏度计算 420 %oMWcgsdJi  
21.5  显色指数计算 422 r$Yh)rpt:  
21.6  电场分布 424 /1H9z`qV  
后记 426 '=-s1c@^  
$)4GCP  
qW+=g]x\  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ;}$Z 80  
P~n8EO1r  
《Essential Macleod中文手册》
6j?FRs  
r=xTs,xx  
目  录 _95- -\  
N,h1$)\B#  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Dg1kbO=2  
第1章 介绍 ..........................................................1 i#Ne'q;T  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ]L[JS^#7  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 fpI; `s  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Ax :3}  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 @Pd) %'s  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 j\%?<2dj=  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 A!Knp=Gw  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 EKV+?jj$  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 " &_$V@S  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 (R9QBZP5  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 Ty g$`\#   
第12章 优化和综合 ..................................................................120 3w[<cq.!  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 TXZ(mj?  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ^=aml   
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 ~R"]LbeY  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 jsK|D{m?  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 3P%w-qT!N  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Aqx3!  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229  Dlqn~  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 H ={O13  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 H5 p}Le  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 rTWh(8T  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 !:]s M-cCt  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 <XkkYI(  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 !D.= 'V  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 [q0_7  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 lQ=&jkw  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 lGD%R'}  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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