线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:994
时间地点 :0@0muo  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 DQ0S]:tC  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 g}`g>&l5  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 /5E0'y,|P  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 pS8\B  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 YAXd   
{eU>E /SQ  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 h_ t`)]-  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 pq0Z<b;2  
课程概要 >C,0}lj  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Gw) y<h  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 i?B<&'G  
课程大纲 1R_@C.I  
1. Essential Macleod软件介绍 i3 XtrP""  
1.1 介绍软件 QV."ZhL5=  
1.2 创建一个简单的设计 #c:@oe4v  
1.3 绘图和制表来表示性能 JA{kifu0+  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 d%}?%VH  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Sck!w 3  
1.6 特定设计的公式技术 Vw ;iE=L  
1.7 交互式绘图 1[OY- G  
2. 光学薄膜理论基础 P_b5`e0O  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 iAe"oXK|  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 zji9\  
3. 材料管理 Ip{hg,>  
3.1 材料模型 12i`82>;  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Q:) 4  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 F$>#P7ph\a  
3.4 基板光学常数的提取 !=30s;-  
4. 光学薄膜设计优化方法 _9D]1f=&  
4.1 参考波长与g Hd4 ~v0eS  
4.2 四分之一规则 ~7aD#`amU  
4.3 导纳与导纳图 CXn?~m&K  
4.4 斜入射光学导纳 ;nh_L(  
4.5 光学薄膜设计的进展 XSx!11  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Z3o HOy  
4.6.1 优化目标设置 G>^= Bm_$  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) &K!0yR  
4.6.3 膜层锁定和链接 3B[tbU(  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 yq, qS0Fo  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 <O) if^  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 :M;|0w*b  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 no\G >#  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 n<EIu  
5.5 如何在Function中编写脚本 y=8KNseW|  
6. 光学薄膜系统案例 mr[1F]G  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 {<IHiB35q  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 L?N: 4/0;!  
6.3 Stack应用范例说明 &hVf=We  
7. 薄膜性能分析 =Q;dYx%I5  
7.1 电场分布 F6{ O  
7.2 公差与灵敏度分析 Fu?_<G%Ynp  
7.3 反演工程 xNY&*jI  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 v3~`1MM  
8. 真空技术 ;U0w<>4L  
8.1 常用真空泵介绍 [ )X(Qtk  
8.2 真空密封和检漏 cl23y}J_?  
9. 薄膜制备技术 Y)8 Py1}  
9.1 常见薄膜制备技术 r,|}^u8`  
10. 薄膜制备工艺 ,*Wh{)  
10.1 薄膜制备工艺因素 ;|=5)KE  
10.2 薄膜均匀性修正技术 Qt"jU+Zoy  
10.3 光学薄膜监控技术 <_8eOL<X  
11. 激光薄膜 Yk{4 3yw  
11.1 薄膜的损伤问题 }K.)yv n  
11.2 激光薄膜的制备流程 H5vg s2R  
11.3 激光薄膜的制备技术 H(?+-72KX  
12. 光学薄膜特性测量 {o'(_.{  
12.1 薄膜光谱测量 heES [  
12.2 薄膜光学常数测量 ,~=+]9t  
12.3 薄膜应力测量 9;gy38.3  
12.4 薄膜损伤测量 \Pfm>$Ib=  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 j0cB#M44  
$W;r S7b  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 Nc EPPl 0I  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 tR=1.M96Y  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 x;JC{d#  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 w$qdV,s 7  
Fyz1LOH[X  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
'eQ*?a43  
目录 7 A{R0@  
Preface 1 gf;B&MM6  
内容简介 2 Ta8lc %0w3  
目录 i 06af{FXsGb  
1  引言 1 ,[|i^  
2  光学薄膜基础 2 z9Y}[ pN  
2.1  一般规则 2 O8*yho  
2.2  正交入射规则 3 Q:b>1  
2.3  斜入射规则 6 R,hwn2@B  
2.4  精确计算 7 rgv$MnG  
2.5  相干性 8 RLh%Y>w  
2.6 参考文献 10 b5 AP{ #  
3  Essential Macleod的快速预览 10 :Mu]* N  
4  Essential Macleod的特点 32 !&G& ~*.x  
4.1  容量和局限性 33  *% ]&5  
4.2  程序在哪里? 33 od/Q"5t[p  
4.3  数据文件 35 GQ9H>Ssz  
4.4  设计规则 35 x50ZwV&j  
4.5  材料数据库和资料库 37  ~Ctq  
4.5.1材料损失 38 (Ixmg=C6y  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 s=&x%0f%  
4.5.2 材料库 41 K}dvXO@=|c  
4.5.3导出材料数据 43 !5zj+N  
4.6  常用单位 43 %&$s0=+  
4.7  插值和外推法 46 ];{CNDAL2  
4.8  材料数据的平滑 50 3jM+j_n R  
4.9 更多光学常数模型 54 F$,i_7Z&6  
4.10  文档的一般编辑规则 55 OYIH**?  
4.11 撤销和重做 56 =W'{xG}  
4.12  设计文档 57 V(!-xu1,  
4.10.1  公式 58 &~N@M!`Dn  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 enQev?8%  
4.10.3  沉积密度 59 0e~4(2xK  
4.10.4 平行和楔形介质 60 )O6_9f_  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Z=144n 1  
4.10.4  性能 61 g/z7_Aq/  
4.10.5  保存设计和性能 64 w"FBJULzn9  
4.10.6  默认设计 64 u`Zj~ t  
4.11  图表 64 $@ZrGT  
4.11.1  合并曲线图 67 tc<HA7vpt~  
4.11.2  自适应绘制 68 >f~y2YAr  
4.11.3  动态绘图 68 VL@eR9}9K  
4.11.4  3D绘图 69 X_J(P?  
4.12  导入和导出 73 &_<!zJ;Hn  
4.12.1  剪贴板 73 8(GJz ~y  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ,a@jg&Mb]  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 $mDlS  
4.13  背景 77 vt2A/9_Z%  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 } |? W  
4.15  生成Rugate 84 G+W0X  
4.16  参考文献 91 0bI} s`sr  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 b~EA&dc  
5.1  Jobs 92 4wx _@8  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 !Im{-t  
5.3  输入材料 94 i{nFk',xX  
5.4  设计数据文件夹 95 ,mvU`>Ry  
5.5  默认设计 95 +J(@.  
6  细化和合成 97 &/]g@^h9  
6.1  优化介绍 97 C1SCV^#  
6.2  细化 (Refinement) 98 *gL-v]V  
6.3  合成 (Synthesis) 100  jf~-;2  
6.4  目标和评价函数 101 KIHr%  
6.4.1  目标输入 102 5(&'/U^  
6.4.2  目标 103 <lHVch"(^$  
6.4.3  特殊的评价函数 104 q5ja \  
6.5  层锁定和连接 104 YhFd0A?]  
6.6  细化技术 104 l]__!X  
6.6.1  单纯形 105 rh 7%<xb>  
6.6.1.1 单纯形参数 106 x`gsD3C  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 )Vnqz lI5  
6.6.2.1 Optimac参数 108 vvcA-k?  
6.6.3  模拟退火算法 109 IO]%AL(.;  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 .Fn7yTQ%  
6.6.4  共轭梯度 111 uO}UvMW  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Ny)N  
6.6.5  拟牛顿法 112 4ai|*8.  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 u|D|pRM-LT  
6.6.6  针合成 113 ^|ln q.j  
6.6.6.1 针合成参数 114 U8R*i7  
6.6.7 差分进化 114 3YOYlb %j  
6.6.8非局部细化 115 YO`V'6\  
6.6.8.1非局部细化参数 115 X) xeq  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 NE2P "mY  
6.7.1  细化 116 7xy[;  
6.7.2  合成 117 h}c R >  
6.8  参考文献 117 ]Geg;[ t  
7  导纳图及其他工具 118 "jMSF@lr  
7.1  简介 118 jK9#. 0  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Y>2kOE  
7.2.1  四分之一波长规则 119 s'yT}XQ;r  
7.2.2  导纳图 120 ;7w4BJcq']  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ,f?+QV\T.  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 LyA}Nd]pyq  
7.5  斜入射导纳图 141 /D&7 \3}  
7.6  对称周期 141 l#k&&rI5x.  
7.7  参考文献 142 ?0k4l8R  
8  典型的镀膜实例 143 IIIP<nyc  
8.1  单层抗反射薄膜 145 v[I,N$ :  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 k9vzxZ%s:  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @eU5b63jM  
8.4  W-膜层 148 b?{\t;  
8.5  V-膜层 149 N9=1<{Z  
8.6  V-膜层高折射基底 150 W$ag |WV  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Hklgf  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 b'$fr6"O1  
8.9  四层抗反射薄膜 153 8|Vm6*TY&p  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 1^_V8dm)  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 =9y&j-F  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 1O@ D  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 z}&JapJ  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 yITL;dBy  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 <b$.{&K  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 pZaOd;t  
8.17  1/4波长堆栈 162 U+wfq%Fz  
8.18  陷波滤波器 163 T99\R%  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 J2d 3&6  
8.20  褶皱 165 +JrbC/&  
8.21  消偏振分光器1 169 z)&ZoSXWc  
8.22  消偏振分光器2 171 N!iugGL  
8.23  消偏振立体分光器 172 /Dk`vn2eN  
8.24  消偏振截止滤光片 173 N497"H</  
8.25  立体偏振分束器1 174 X[r\ Qa  
8.26  立方偏振分束器2 177 7t~12m8x  
8.27  相位延迟器 178 QkU6eE<M*  
8.28  红外截止器 179 E[2>je  
8.29  21层长波带通滤波器 180  %kSpMj|  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ^I]A@YNni  
8.31  55层短波带通滤波器 182 [) S&PK  
8.32  47 红外截止器 183 k1HVvMD<  
8.33  宽带通滤波器 184 ,J)wn;@  
8.34  诱导透射滤波器 186 |\k,qVQ  
8.35  诱导透射滤波器2 188 lbUUf}   
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 gOL-b9W  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Q8>  
8.35  增益平坦滤波器 193 ('Doy1L  
8.38  啁啾反射镜 1 196 /_.1f|{B  
8.39  啁啾反射镜2 198 1b4/  
8.40  啁啾反射镜3 199 9~ JeI/  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ZxvBo4>tH  
8.42  增加铝反射率膜 201 v3 ]mZ}W$  
8.43  参考文献 202 lPO +dm  
9  多层膜 204 \6WVs>z  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 }{S f*  
9.2  内部透过率 204 .&2Nm&y$ K  
9.3 内部透射率数据 205 z3l(4WP  
9.4  实例 206 k^C^.[?  
9.5  实例2 210 ll8Zo+-[  
9.6  圆锥和带宽计算 212 !5zDnv  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 .Mb<.R3  
10  光学薄膜的颜色 216 R7Z7o4jg  
10.1  导言 216 ~us1Df0bp  
10.2  色彩 216 yZcnky  
10.3  主波长和纯度 220 bji^b@ us_  
10.4  色相和纯度 221 lJIcU RI4  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 U+2U#v=<  
10.6 色差 226 ILyI%DA&  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 H{CiN  
10.8  颜色渲染指数 234 <2,NWn.  
10.9  色差计算 235 FBGe s[,  
10.10  参考文献 236 Pg\!\5  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 lNs;-`I~  
11.1  短脉冲 238 %]1.)j  
11.2  群速度 239 X5w_ }Nhe  
11.3  群速度色散 241 Uuq*;L  
11.4  啁啾(chirped) 245 yi&6HNb  
11.5  光学薄膜—相变 245 2.PZtl  
11.6  群延迟和延迟色散 246 +]dh`8*8>1  
11.7  色度色散 246 w8iXuRv  
11.8  色散补偿 249 t$zeB OI)  
11.9  空间光线偏移 256 Y7_2pGvZ  
11.10  参考文献 258 Ehw2o-s^  
12  公差与误差 260 ONU,R\jMb-  
12.1  蒙特卡罗模型 260 -~=?g9fGm6  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 u}Q cyG^  
12.2.1  误差工具 267  TnXx;v  
12.2.2  灵敏度工具 271 |D1:~z  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 3$f+3/l  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 y)*W!]:7^>  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 KJ#SE|  
12.3  参考文献 276 nBkzNb{"AZ  
13  Runsheet 与Simulator 277 |9Pi*)E  
13.1  原理介绍 277 (\$=de>?  
13.2  截止滤光片设计 277 )kk10AZV-E  
14  光学常数提取 289 )1, U~+JFU  
14.1  介绍 289 a>8&B  
14.2  电介质薄膜 289 cf+EQY  
14.3  n 和k 的提取工具 295 [M/0Qx[,  
14.4  基底的参数提取 302 ,+GS.]8<  
14.5  金属的参数提取 306 v9 *WM3  
14.6  不正确的模型 306 dKJ-{LV  
14.7  参考文献 311 s8V:;$ !  
15  反演工程 313 W87kE?,  
15.1  随机性和系统性 313 &qyXi[vw  
15.2  常见的系统性问题 314 vTsMq>%,<  
15.3  单层膜 314 z0T9tN!(  
15.4  多层膜 314 ;6}> Shs  
15.5  含义 319 ^d@ME<mb  
15.6  反演工程实例 319 U%r|hn3  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 FxdWJ|rN9D  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 9 .18E(-  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 *4OB 88$  
16.1  光学性质的热致偏移 329 VOGx  
16.2  应力工具 335 w\lc;4U   
16.3  均匀性误差 339 Pe/8=+qO  
16.3.1  圆锥工具 339  WJTc/  
16.3.2  波前问题 341 MWq1 "c  
16.4  参考文献 343 q#PMQR"C  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 6Wk9"?+1  
17.1  引言 345 J;*2[o.N  
17.2  操作数 345 k7kPeq  
18  如何在Function中编写脚本 351 g#lMT%  
18.1  简介 351 8DkZ @}  
18.2  什么是脚本? 351 p\22_m_wd  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 *?rO@sQy]  
18.4  基础 352 "h7Np/ m3  
18.4.1  Classes(类别) 352  {HbSty  
18.4.2  对象 352 $EG9V++b3  
18.4.3  信息(Messages) 352 WP5Vev9*+  
18.4.4  属性 352 k2/t~|5  
18.4.5  方法 353 ov\+&=IRG  
18.4.6  变量声明 353 . L9n  
18.5  创建对象 354 nSp OTQ  
18.5.1  创建对象函数 355 Y?AvcY.  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 y<kg;-& 8  
18.5.3 丢弃对象 356 G * =>  
18.5.4  总结 356 2sYz$ZGC"#  
18.6  脚本中的表格 357 KM9H<;A  
18.6.1  方法1 357 *nB-] w/  
18.6.2  方法2 357 1h3`y  
18.7 2D Plots in Scripts 358 :Z.P0=  
18.8 3D Plots in Scripts 359 MDCwgNPiQW  
18.9  注释 360 K"cV7U rE  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 nT9Hw~f<j  
18.11  一个更高级的脚本 362 89UR w9  
18.12  <esc>键 364 ;sAe#b  
18.13 包含文件 365 Ze?n Q-  
18.14  脚本被优化调用 366 Ac'pu,v  
18.15  脚本中的对话框 368 >{[  
18.15.1  介绍 368 v >cPr(  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 !NMiWG4R  
18.15.3  输入框函数 370 K0|:+s@u  
18.15.4  自定义对话框 371 @$1jp4c   
18.15.5  对话框编辑器 371 ^t?vv;@}  
18.15.6  控制对话框 377 { g4`>^;  
18.15.7  更高级的对话框 380 kG u{[Rh  
18.16 Types语句 384 )cU$I)  
18.17 打开文件 385 JC# 5CCz  
18.18 Bags 387 63QF1*gPH  
18.13  进一步研究 388 Fg0!2MKq*  
19  vStack 389 N!./u(b  
19.1  vStack基本原理 389 QB d4ok: R  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 y1B' _s  
19.3  五棱镜 393 r<B pX["  
19.4 光束距离 396 gF:| j(  
19.5 误差 399 ;Kh?iq n^  
19.6  二向分色棱镜 399 Y+eDE:4  
19.7  偏振泄漏 404 %$N,6}n  
19.8  波前误差—相位 405 N%9?8X[5  
19.9  其它计算参数 405 K%UjPzPWw  
20  报表生成器 406 "A0y&^4B@  
20.1  入门 406 =R)w=ce  
20.2  指令(Instructions) 406 h:i FLSf  
20.3  页面布局指令 406 :r7!HG _  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Sa@T#%oU  
20.5  表格中的常见参数 408 N]-skz<v  
20.6  迭代指令 408 K5F;/ KR"  
20.7  报表模版 408 (9b%'@A@m  
20.8  开始设计一个报表模版 409 thz[h5C?C  
21  一个新的project 413 [x'D+!  
21.1  创建一个新Job 414 pTT00`R  
21.2  默认设计 415 e/x6{~ju^N  
21.3  薄膜设计 416 a% /D~5Z  
21.4  误差的灵敏度计算 420 FSkLR h  
21.5  显色指数计算 422 F<b/)<Bm=  
21.6  电场分布 424 WLiFD.  
后记 426 z:=E- +  
$xis4/2  
S0ltj8t  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ;rV+eb)I  
)4N1EuD6  
《Essential Macleod中文手册》
Ii<k<Bt,  
Awr(}){  
目  录 s1tkiX{>  
#kE8EhQZ  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 'F3@Xh  
第1章 介绍 ..........................................................1 WWC&-Ni  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ([#'G+MC&  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 VQ8Fs/Zt!  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ">Ms V/  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 IC1nR u2I  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 @$nh6l>i  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 % bKy  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 4q.yp0E  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 nJ$2RN  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 FL4BdJ\  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 s p+'c;a  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 nw#AKtd@x  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 *3s-=.U~  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 JJ'f\f9  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 qJ2Z5  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ~NLthZ (O  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 \.>7w 1p  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 y:_>R=sw  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 o ZQ@Yu3  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 E~VV19Bv]/  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 R / ND f`  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ]z#)XW3#i  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 5z\,]  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 tx)$4v  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 CIf@G>e-  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 $zF%F.rln  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 X|D-[|P  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 j-VwY/X  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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