线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:727
时间地点 8PWx>}XPt  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 K#j<G]I( @  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 +- ~:E_G  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 <,U=w[cH  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 taS2b#6\+  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
`0l)\  
特邀专家介绍 q Ee1OB  
gW{<:6}!*  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 OYw~I.Rq  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 #cG7h(!  
课程概要 Y{6vW-z_<  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 [@!.(Hp  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 #~A(%a  
课程大纲 ,o $F~KPu  
1. Essential Macleod软件介绍 8MHYk>O~{G  
1.1 介绍软件 m/,.3v  
1.2 创建一个简单的设计 OH`| c  
1.3 绘图和制表来表示性能 W|IMnK-  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 1Sk=;Bic  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 08J[9a0[  
1.6 特定设计的公式技术 `Yk~2t"V  
1.7 交互式绘图 ].W)eMC*c(  
2. 光学薄膜理论基础 ` ZO#n  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 uSZCJ#'G  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 p2]@yE7w  
3. 材料管理 + .Pv:7gh  
3.1 材料模型 +mM=`[Z`??  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 #6<  X  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 6jv_j[[  
3.4 基板光学常数的提取 Lu.D,oP  
4. 光学薄膜设计优化方法 -f&16pc1t  
4.1 参考波长与g U(lcQC`$  
4.2 四分之一规则 g@IV|C( *0  
4.3 导纳与导纳图 9`83cL  
4.4 斜入射光学导纳 BCDmce`=l  
4.5 光学薄膜设计的进展 ^SP/&w<c  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Lk?%B)z  
4.6.1 优化目标设置 m5!~PG:_  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) }2WscxL  
4.6.3 膜层锁定和链接 qJjXN+/D  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 iFJ2dFA  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 gN2$;hb?  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ~%SmH [i  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 {M`yYeo  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 'q158x  
5.5 如何在Function中编写脚本 l(c2 B  
6. 光学薄膜系统案例 i!H)@4jX  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 K U 2LJ_~Y  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 4*k>M+o/C4  
6.3 Stack应用范例说明 O$Wi=5  
7. 薄膜性能分析 bW"bkA80  
7.1 电场分布 vrRbUwL!  
7.2 公差与灵敏度分析 7_OC&hhL  
7.3 反演工程 f`r o {p  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ``;.Oy6jS  
8. 真空技术 UL9]LEGG  
8.1 常用真空泵介绍 Rm@#GP`  
8.2 真空密封和检漏 [v@3|@  
9. 薄膜制备技术 z\S#P|;  
9.1 常见薄膜制备技术 06ndW9>wD)  
10. 薄膜制备工艺 N>R\,n|I  
10.1 薄膜制备工艺因素 %bu$t,  
10.2 薄膜均匀性修正技术 @uh^)6i]/  
10.3 光学薄膜监控技术 2TFb!?/RQ  
11. 激光薄膜 6Zr_W#SE  
11.1 薄膜的损伤问题 (`W_ -PI  
11.2 激光薄膜的制备流程 LtIR)EtB]  
11.3 激光薄膜的制备技术 [&_7w\m  
12. 光学薄膜特性测量 Rz sgPk  
12.1 薄膜光谱测量 3,ihVVr&P  
12.2 薄膜光学常数测量 |j 9d.M  
12.3 薄膜应力测量 #$5"&SM  
12.4 薄膜损伤测量 Sb2hM~  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ^T?zR7r  
mu#I F'|b  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
OD@k9I[  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 a&^HvXO(>(  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 BlLK6"gJT  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 \ltbiDP2  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 HZINsIm!?  
<{ER#}b:O  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
'99rXw  
目录 Kw%to9 eh)  
Preface 1 *F<Ar\f5  
内容简介 2 F"-u8in`  
目录 i :P2{^0$  
1  引言 1 V 4#bW  
2  光学薄膜基础 2 ftb .CPWI  
2.1  一般规则 2 v}cTS@0  
2.2  正交入射规则 3 ;J uBybJb  
2.3  斜入射规则 6 D(;jv="/  
2.4  精确计算 7 V=i/cI\  
2.5  相干性 8 ;\'d9C  
2.6 参考文献 10 {"dvU "y)\  
3  Essential Macleod的快速预览 10 !:]/MpQ ?  
4  Essential Macleod的特点 32 D'8xP %P  
4.1  容量和局限性 33 [QwBSq8)  
4.2  程序在哪里? 33 Exb?eHO  
4.3  数据文件 35 rSgOQ  
4.4  设计规则 35 ngt?9i;N  
4.5  材料数据库和资料库 37 V}Ok>6(~  
4.5.1材料损失 38 [ML|, kq!  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 euMJ c  
4.5.2 材料库 41 ^)nIf)9}7  
4.5.3导出材料数据 43 3(oB[9]s  
4.6  常用单位 43 5i0vli /L  
4.7  插值和外推法 46 E%b*MU  
4.8  材料数据的平滑 50 nk*T x  
4.9 更多光学常数模型 54 N,3 )`Vm  
4.10  文档的一般编辑规则 55 MaS-*;BY,  
4.11 撤销和重做 56 ,q K'!  
4.12  设计文档 57 B*@0l:  
4.10.1  公式 58 )MWbZAI  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 @oNYMQ@)d  
4.10.3  沉积密度 59 -=InGm\Y  
4.10.4 平行和楔形介质 60 tqFE>ojlI  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 3/{,}F$  
4.10.4  性能 61  &*Z"r*  
4.10.5  保存设计和性能 64 O>@ChQF  
4.10.6  默认设计 64 3j6Am{9  
4.11  图表 64 $=9g,39  
4.11.1  合并曲线图 67 Yn_v'Os2  
4.11.2  自适应绘制 68 <~bvf A=  
4.11.3  动态绘图 68 ii5dTimRJ  
4.11.4  3D绘图 69 l9Av@|  
4.12  导入和导出 73 @hF$qevX  
4.12.1  剪贴板 73 ~]Weyb[ N  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 3E-dhSz:i  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 $xqX[ocor  
4.13  背景 77 Krd0Gc~\|  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 3Viz0I<%  
4.15  生成Rugate 84 `yYYyB[  
4.16  参考文献 91 8zO;=R A7%  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Tr.u'b(  
5.1  Jobs 92 O~OM.:al&  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 `]I p`_{  
5.3  输入材料 94 {O!B8a    
5.4  设计数据文件夹 95 5h l!zA?  
5.5  默认设计 95 v ;nnr0;  
6  细化和合成 97 SUb:0GUa  
6.1  优化介绍 97 E#~J"9k98  
6.2  细化 (Refinement) 98 Ez+8B|0P  
6.3  合成 (Synthesis) 100 #G]g  
6.4  目标和评价函数 101 qQwf#&  
6.4.1  目标输入 102 O?f?{Jsx  
6.4.2  目标 103 f;%=S:3  
6.4.3  特殊的评价函数 104 \'6%Ld5km  
6.5  层锁定和连接 104 pG^>y0  
6.6  细化技术 104 >x*ef]aS  
6.6.1  单纯形 105 i<M F8 $  
6.6.1.1 单纯形参数 106 cS%;JV>C  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 @Yw>s9X  
6.6.2.1 Optimac参数 108 6Zx)L|B  
6.6.3  模拟退火算法 109 =<X4LO)C  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 zwJ\F '  
6.6.4  共轭梯度 111 x3l~kZ(  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Y;{(?0 s  
6.6.5  拟牛顿法 112 tfdb9# &?  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 C ~Doj  
6.6.6  针合成 113 avY<~-44B  
6.6.6.1 针合成参数 114 e3k58  
6.6.7 差分进化 114 8'Iei78Ov  
6.6.8非局部细化 115 1oI2  
6.6.8.1非局部细化参数 115 : j`4nXm  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 |~B`[p]5H  
6.7.1  细化 116 =@P]eK/  
6.7.2  合成 117 6eQa @[.Q  
6.8  参考文献 117 D$Ao-6QE W  
7  导纳图及其他工具 118 0D/7X9xg9+  
7.1  简介 118 v$Xoxp  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 d^Rea8  
7.2.1  四分之一波长规则 119 pB0 SCS*  
7.2.2  导纳图 120 MxqIB(5k  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 |`'WEe2  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 D%= j@  
7.5  斜入射导纳图 141 ,7)z avA  
7.6  对称周期 141 riQ0'-p  
7.7  参考文献 142 G5NAwpZf  
8  典型的镀膜实例 143 i,mZg+;w  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ! u9LZ  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 y\=^pla  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 W)AfXy  
8.4  W-膜层 148 %?BygG  
8.5  V-膜层 149 xHe "c<  
8.6  V-膜层高折射基底 150 y?UB?2 VN  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 zFr#j~L"  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 \F14]`i  
8.9  四层抗反射薄膜 153 HfEl TC:3f  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ]] T,;|B  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 X2`n&JE  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 q}C;~nMD  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 hVNT  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 l6N"{iXU  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ir~4\G!  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 1sq1{|NW~  
8.17  1/4波长堆栈 162 :464~tHI[`  
8.18  陷波滤波器 163 a&Me#H{  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 "}b/[U@>  
8.20  褶皱 165 ;pqS|ayl  
8.21  消偏振分光器1 169 *9US>mVy  
8.22  消偏振分光器2 171 LCqWL1  
8.23  消偏振立体分光器 172 i^)JxEPr w  
8.24  消偏振截止滤光片 173 G[]h1f!  
8.25  立体偏振分束器1 174 >VJ"e`  
8.26  立方偏振分束器2 177 !?z"d  
8.27  相位延迟器 178 _ Gkb[H&RZ  
8.28  红外截止器 179 s14 ot80)  
8.29  21层长波带通滤波器 180 VDlP,Mm*  
8.30  49层长波带通滤波器 181 UYGO|lkEU  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ]+Z,HY@;-  
8.32  47 红外截止器 183 cA~bH 6  
8.33  宽带通滤波器 184 MC1&X'  
8.34  诱导透射滤波器 186 B;t{IYhq{  
8.35  诱导透射滤波器2 188 +A1xqOB  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 PJAM_K;  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 [j?<&^SW  
8.35  增益平坦滤波器 193 ]?_V+F  
8.38  啁啾反射镜 1 196 >:0^v'[  
8.39  啁啾反射镜2 198 fr&K^je\  
8.40  啁啾反射镜3 199 0y%s\,PsT  
8.41  带保护层的铝膜层 200 oN,9#*PVL  
8.42  增加铝反射率膜 201 UPkc-^BN  
8.43  参考文献 202 IO"q4(&;P4  
9  多层膜 204 V]/ $ dJ  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 :M.]-+(  
9.2  内部透过率 204 %-an\.a.  
9.3 内部透射率数据 205 6%&DJBU!  
9.4  实例 206 < Q6  
9.5  实例2 210 5>-~!Mg1  
9.6  圆锥和带宽计算 212 7b(r'b@N  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 >[<f\BN|  
10  光学薄膜的颜色 216 N~DO_^  
10.1  导言 216 Z& bIjp  
10.2  色彩 216 :` S\p[5  
10.3  主波长和纯度 220 Hi&bNM>?O  
10.4  色相和纯度 221 =/ 19 -Y:  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 kQ|phtbI  
10.6 色差 226 ~I@ % ysR  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 k;HI-v  
10.8  颜色渲染指数 234 _8wT4|z5  
10.9  色差计算 235  kZ=yb-~  
10.10  参考文献 236 ,S1'SCwVdJ  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 yJ!,>OQ%'  
11.1  短脉冲 238 \F<C$cys\  
11.2  群速度 239 -pQ0,/}K  
11.3  群速度色散 241 h_B  nQZ\  
11.4  啁啾(chirped) 245 +u3vKzD  
11.5  光学薄膜—相变 245 `eKFs0M.  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ;W3c|5CE  
11.7  色度色散 246 d6A+pa'2  
11.8  色散补偿 249 |%j7Es  
11.9  空间光线偏移 256 uf`/-jY  
11.10  参考文献 258 5oR)  
12  公差与误差 260 $HAwd6NI  
12.1  蒙特卡罗模型 260 IW=%2n(<1  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 21hTun"W  
12.2.1  误差工具 267 uP1]EA  
12.2.2  灵敏度工具 271 A6#v6iT  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 JR|P]}  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Agwl2AM5k  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 L/,M@1@R  
12.3  参考文献 276 tw<}7l_>Au  
13  Runsheet 与Simulator 277 >t4<2|!(M  
13.1  原理介绍 277 QPW+L*2  
13.2  截止滤光片设计 277 WDh*8!)  
14  光学常数提取 289 Q S<)*  
14.1  介绍 289 GX N:=  
14.2  电介质薄膜 289 G.qjw]Llf  
14.3  n 和k 的提取工具 295 /?S,u,R  
14.4  基底的参数提取 302 , 1il&  
14.5  金属的参数提取 306 lht :%Ts$  
14.6  不正确的模型 306 !lI1jb"  
14.7  参考文献 311 !uhh_3RH  
15  反演工程 313 !{XVaQ?x  
15.1  随机性和系统性 313 Z`ZML+;~6  
15.2  常见的系统性问题 314 /re0"!0y  
15.3  单层膜 314 6^TWY[z2%  
15.4  多层膜 314 xsg55`  
15.5  含义 319 ]u%Y8kBe  
15.6  反演工程实例 319 E\VKlu4  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 JgB"N/Oz  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 M"8?XD%  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 <^adt *m  
16.1  光学性质的热致偏移 329 d4LH`@SUZ-  
16.2  应力工具 335 B &)wJG  
16.3  均匀性误差 339 tS[@?qP  
16.3.1  圆锥工具 339 mnM$#%q;%  
16.3.2  波前问题 341 p:Zhg{sF  
16.4  参考文献 343 Bacmrf  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 B`|H }KU  
17.1  引言 345 V4|l7  
17.2  操作数 345 03 ;L  
18  如何在Function中编写脚本 351 m[A$Sp_"-h  
18.1  简介 351 3EyVoS6D  
18.2  什么是脚本? 351 O_Z   
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 q`@8  
18.4  基础 352 ExSy/^4f  
18.4.1  Classes(类别) 352 l8d }g  
18.4.2  对象 352 5I0j>{U&  
18.4.3  信息(Messages) 352 zC!Pb{IaH  
18.4.4  属性 352 }?Tz=hP  
18.4.5  方法 353 zmU>  
18.4.6  变量声明 353 Y^'mBM#j  
18.5  创建对象 354 s5oU  
18.5.1  创建对象函数 355 ]dnB ,  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 BtKbX)R$J  
18.5.3 丢弃对象 356 S{JBV@@tC  
18.5.4  总结 356 g #[,4o;  
18.6  脚本中的表格 357 j8ag}%  
18.6.1  方法1 357 ''B}^yKEW  
18.6.2  方法2 357 U_5\ FM  
18.7 2D Plots in Scripts 358 FMAt6HfU  
18.8 3D Plots in Scripts 359 sT>l ?L  
18.9  注释 360 f/g-b]0  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360  t/a  
18.11  一个更高级的脚本 362 J\\o# -H  
18.12  <esc>键 364 ^vo]bq7  
18.13 包含文件 365 B@,#,-=  
18.14  脚本被优化调用 366 3NgyF[c  
18.15  脚本中的对话框 368 # |,c3$  
18.15.1  介绍 368 V e4@^Jy;  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 t+n+_X  
18.15.3  输入框函数 370 I=}R Z9  
18.15.4  自定义对话框 371 r~T3Ieb  
18.15.5  对话框编辑器 371 0/zgjT|fe  
18.15.6  控制对话框 377 RTeG\U  
18.15.7  更高级的对话框 380 YMn_9s7<  
18.16 Types语句 384 \rmge4`4  
18.17 打开文件 385 yUu+68Z6  
18.18 Bags 387 xu* dPG)v  
18.13  进一步研究 388 Ml9  
19  vStack 389 F6-U{+KU$!  
19.1  vStack基本原理 389 q@Sj$  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 z229:L6"  
19.3  五棱镜 393 _eMY ?  
19.4 光束距离 396 9E]7Etfw  
19.5 误差 399 A{a`%FAV  
19.6  二向分色棱镜 399 4AuJ1Z  
19.7  偏振泄漏 404 GsC4ty  
19.8  波前误差—相位 405 e"voXe  
19.9  其它计算参数 405 @8V~&yqq  
20  报表生成器 406 3Uni{Z]Q)  
20.1  入门 406 ;.b^A  
20.2  指令(Instructions) 406 xi"Ug41)  
20.3  页面布局指令 406 +U,>D +  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Qb&gKQtt@  
20.5  表格中的常见参数 408 ah0  
20.6  迭代指令 408 ^0T[V-PgiD  
20.7  报表模版 408 1<3!   
20.8  开始设计一个报表模版 409  7VAet  
21  一个新的project 413 F(;C \[Ep  
21.1  创建一个新Job 414 2^=.jML[  
21.2  默认设计 415 >O}J*4A>+#  
21.3  薄膜设计 416 &Ch~$Wb^  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ~QE-$;  
21.5  显色指数计算 422 $7bux 1L  
21.6  电场分布 424 }A'Ro/n  
后记 426 D``>1IA]  
o:Q.XWa@MG  
>X-*Hu'U#  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 S*?x|&a  
=CjN=FM  
《Essential Macleod中文手册》
Com`4>0>I  
2Jc9}|,  
目  录 [49Ae2W`  
};@J)}  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 odC}RdN  
第1章 介绍 ..........................................................1 P0XVR_TJf  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 #[ch?K  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 f3HleA&&  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 uQtwh08i  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 L64cCP*  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 9!|+GIjn  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ,7|Wf %X  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 "4e{Cq  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 {>R'IjFc  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 * IBCThj  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 +2S#3m?1  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 _=;ltO  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 m kHcGB!~  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 o!ycVY$yW  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Z@b GLS  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 &[|P/gj#>  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 {Qr0pjE7R  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 gTjhD(  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 *]RCfHo\=  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 ;(,1pi7|  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 #Do#e {=+  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 *oU-V#   
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289  `Aa*}1  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Wx-vWWx*Q  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 @%sr#YqY  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307  _F9O4Q4  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 "[BDa}Il  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 FkJX)  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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