[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 V^`?8P8d  

图片:w800

@`kiEg'Q  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 :B*vkwT  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 )p!*c,  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 t;LX48TQ  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 7Js>!KR  
1. Essential Macleod软件介绍 2%{YYT   
1.1 介绍软件 .W@(nQ-<  
1.2 创建一个简单的设计 i (%tHa37  
1.3 绘图和制表来表示性能 F[7Kw"~J  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Yt/SnF  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） `j}_BW_  
1.6 特定设计的公式技术 }l}yn@hYC  
1.7 交互式绘图 sk7rU+<  
2. 光学薄膜理论基础 ie$`pyj!x  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 @m/;ZQ  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ;Y@!:p-H  
3. 材料管理 W8G9rB
|T  
3.1 材料模型 4{*tn"y  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 SvX=isu!.  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 oTF^<
I-C  
3.4 基板光学常数的提取 EREolCASb  
4. 光学薄膜设计优化方法 9RCO|J  
4.1 参考波长与g uEScAeQXsI  
4.2 四分之一规则 83 i1  
4.3 导纳与导纳图 (@KoqwVWc  
4.4 斜入射光学导纳 %_b^!FR  
4.5 光学薄膜设计的进展 $>'")7z  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 lJ:M^.Em0  
4.6.1 优化目标设置 z29qARiX  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） n%0]V Xx#  
4.6.3 膜层锁定和链接 kfqpI  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 mFqSD  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 tLD~  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 KMK&[E#r  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号  cS D._"P  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 \);.0  
5.5 如何在Function中编写脚本 861i3OXVE>  
6. 光学薄膜系统案例 $5TepH0D  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 )YzHk ;(  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ~|CJsD/  
6.3 Stack应用范例说明 > $w^%I  
7. 薄膜性能分析
0T9@,scY  
7.1 电场分布 a>wfhmr  
7.2 公差与灵敏度分析
%s$rP  
7.3 反演工程 LbJtpwz>z  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 yaH Trh%  
8. 真空技术 .7 (DxN  
8.1 常用真空泵介绍 "t[M'[ `C  
8.2 真空密封和检漏 Fw_ (q!  
9. 薄膜制备技术  ?YqJ.F;  
9.1 常见薄膜制备技术 QU^/[75Ea0  
10. 薄膜制备工艺 ] vC=.&]  
10.1 薄膜制备工艺因素 NXzU0  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ?xtt7*'D  
10.3 光学薄膜监控技术 a'@-"qk  
11. 激光薄膜 _4P;+Y  
11.1 薄膜的损伤问题 .UM<a Ik  
11.2 激光薄膜的制备流程 8
G0  
11.3 激光薄膜的制备技术 ?mH@`c,fM  
12. 光学薄膜特性测量 )!'n&UxPo$  
12.1 薄膜光谱测量 AIuMX4nb  
12.2 薄膜光学常数测量 Y
]C;T  
12.3 薄膜应力测量 nK+lE0  
12.4 薄膜损伤测量 1s#yW
Q   
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 %mY|  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 z^4KU\/JK  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 9<xTu>7J  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 %x&F
4U  
<=q*N;=T,  
ds- yif6  
[NYj.#,oR  
目录 QJx9I_  
Preface 1 ZhH+D`9  
内容简介 2 -#hK|1]  
目录 i ]EB6+x!G  
1  引言 1 {IJ-4>  
2  光学薄膜基础 2 tf4*R_6;1$  
2.1  一般规则 2 g[/^cJHQ  
2.2  正交入射规则 3 >@^<S_KVh  
2.3  斜入射规则 6 G49Ng|qn  
2.4  精确计算 7 D9ANm"#  
2.5  相干性 8 sz'p3  
2.6 参考文献 10 jvu N  
3  Essential Macleod的快速预览 10 KwS`3 6:  
4  Essential Macleod的特点 32 EPc!p>  
4.1  容量和局限性 33 CE)*qFs  
4.2  程序在哪里？ 33 HtxLMzgz<<  
4.3  数据文件 35 lp(Nv(S  
4.4  设计规则 35 :Df)"~/mO+  
4.5  材料数据库和资料库 37 ^w>&?A'!  
4.5.1材料损失 38 :]'q#$!  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 o6*/o ]]  
4.5.2 材料库 41 z1F9$^  
4.5.3导出材料数据 43 g;8M<`qvf  
4.6  常用单位 43 D
/Rv&>Jh  
4.7  插值和外推法 46 MF
v Si  
4.8  材料数据的平滑 50 wTTRoeJ}  
4.9 更多光学常数模型 54 QV0M/k<'  
4.10  文档的一般编辑规则 55 't7Z] G  
4.11 撤销和重做 56 u=%y  
4.12  设计文档 57 (wife#)~  
4.10.1  公式 58 bZ/ hgqS  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ei@3,{~5  
4.10.3  沉积密度 59 Rfht\{N 7  
4.10.4 平行和楔形介质 60 0{Bf9cH  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ~P/]:=  
4.10.4  性能 61 H.:9:I[n  
4.10.5  保存设计和性能 64 a2o.a2  
4.10.6  默认设计 64 3!aEClRtq  
4.11  图表 64 +$PFHXB  
4.11.1  合并曲线图 67 z=qWJQ  
4.11.2  自适应绘制 68 %VWp&a8  
4.11.3  动态绘图 68 x@Y|v@}BE  
4.11.4  3D绘图 69 /u=aX  
4.12  导入和导出 73 mH)OB?+lq  
4.12.1  剪贴板 73 [<yz)<<  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 G;NB\3~X  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 2 l(Dee Y  
4.13  背景 77 !3h{lEB  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 (-\]A|
 
4.15  生成Rugate 84 8'KMxR  
4.16  参考文献 91 YZ< NP  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 'j}g  
5.1  Jobs 92 G]-%AO{K  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 MI\]IQU  
5.3  输入材料 94 `gI~|A4  
5.4  设计数据文件夹 95 !N1J@LT5h  
5.5  默认设计 95 uN9e:;  
6  细化和合成 97 ;1@C_5C  
6.1  优化介绍 97 P{cos&X|  
6.2  细化 (Refinement) 98 @ u+|=x];  
6.3  合成 (Synthesis) 100 
KY g3U  
6.4  目标和评价函数 101 N!L'W\H,  
6.4.1  目标输入 102 Lyr2(^#:  
6.4.2  目标 103 =UNT.]  
6.4.3  特殊的评价函数 104 T%kKVr  
6.5  层锁定和连接 104 KzG_ <<  
6.6  细化技术 104 KaW~ERx5  
6.6.1  单纯形 105 T`?n,'!(  
6.6.1.1 单纯形参数 106 .fEwk  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 'irGvex  
6.6.2.1 Optimac参数 108 4[1k\  
6.6.3  模拟退火算法 109 >$uUuiyL4  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ,T$r9!WTM  
6.6.4  共轭梯度 111 4\ FP  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ;g9%&  
6.6.5  拟牛顿法 112 ,dcg?48  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 U Du~2%  
6.6.6  针合成 113 $)*xC!@6X  
6.6.6.1 针合成参数 114 Lm|
al.Z  
6.6.7 差分进化 114 6vobta^w  
6.6.8非局部细化 115 sJ~P:g  
6.6.8.1非局部细化参数 115 l3p3tT3+  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 &z>q#'X;.  
6.7.1 　细化 116 &XQZs`41+  
6.7.2　 合成 117 Q#pnj thM  
6.8  参考文献 117 <KLg0L<W  
7  导纳图及其他工具 118 a5?A!k\2  
7.1  简介 118 C3}Aq8$6  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 G9Qe121m  
7.2.1  四分之一波长规则 119 lw[<STpD;  
7.2.2  导纳图 120 >vVw!.fJ  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 X NE+(Bt  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 e+@xsn3  
7.5  斜入射导纳图 141 \Ye%o}.{  
7.6  对称周期 141 4SR(->@  
7.7  参考文献 142
J3=BE2L  
8  典型的镀膜实例 143 $<OhGk-  
8.1  单层抗反射薄膜 145 5B*qbM  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ,I`_F,  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 .z
SD`v@[  
8.4  W-膜层 148 |I^y0Q:K  
8.5  V-膜层 149 G),db%,X2  
8.6  V-膜层高折射基底 150 B 8{ uR  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 dy:d=Z  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 /{X_ .fv<v  
8.9  四层抗反射薄膜 153 w$>3pQ8
d  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 H$tb;:  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 KlUqoJ;"  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Rla4L`X;  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 O]qPmEj  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 bulboyA&#
 
8.15十五层宽带抗反射膜 159  $Nu)E  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 uD(t`W"  
8.17  1/4波长堆栈 162 L~eAQR  
8.18  陷波滤波器 163 2xTT)9Tq*  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 u+2Lm*M  
8.20  褶皱 165 10MU-h.)  
8.21  消偏振分光器1 169 |C D}<r(N  
8.22  消偏振分光器2 171 Dp^/gL=  
8.23  消偏振立体分光器 172 RrWNJ&o  
8.24  消偏振截止滤光片 173 (WE,dY+.  
8.25  立体偏振分束器1 174 ce'TYkPM  
8.26  立方偏振分束器2 177 zZ,Yfd|W  
8.27  相位延迟器 178 7Fl-(Nv`  
8.28  红外截止器 179 l!I
Gc:  
8.29  21层长波带通滤波器 180 =.b Y#4  
8.30  49层长波带通滤波器 181 7lU.Nit  
8.31  55层短波带通滤波器 182 KzVTkDn,  
8.32  47 红外截止器 183 #T\  
8.33  宽带通滤波器 184 uRQ_'l  
8.34  诱导透射滤波器 186 K"l0w**Og#  
8.35  诱导透射滤波器2 188 !kXeO6X@m  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 Y&~M7TYb  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 9+Nw/eszO  
8.35  增益平坦滤波器 193 L'9N9CR{i  
8.38  啁啾反射镜 1 196 c3k|G<C2  
8.39  啁啾反射镜2 198 sX:lE^)-z  
8.40  啁啾反射镜3 199 Zq*eX\#C  
8.41  带保护层的铝膜层 200 sKfXg`0  
8.42  增加铝反射率膜 201 VPd,]]S5(  
8.43  参考文献 202 G$5m$\K  
9  多层膜 204 %S#WPD'Y  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 9#rt:&xo0  
9.2  内部透过率 204 SI*^f\lu  
9.3 内部透射率数据 205 jvs[ /  
9.4  实例 206 f0oek{  
9.5  实例2 210 V8"Wpl9Cz  
9.6  圆锥和带宽计算 212 g-@h>$< 1  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 J_ J+cRwq  
10  光学薄膜的颜色 216 &U&%ka<*  
10.1  导言 216 )}-
$A-p#  
10.2  色彩 216 i&Kz*,pt  
10.3  主波长和纯度 220 5I,$EGG  
10.4  色相和纯度 221 /cY^]VLe  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 _e'Y3:  
10.6 色差 226 hI~SAd ,#A  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 2F?kjg,  
10.8  颜色渲染指数 234 8(xw?|D7  
10.9  色差计算 235 &KqVN]1+^  
10.10  参考文献 236 +t]Xj1Q  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 U:lv^QPG  
11.1  短脉冲 238 nq;#_Rkr  
11.2  群速度 239 z[&s5"  
11.3  群速度色散 241 qY(:8yC36  
11.4  啁啾(chirped) 245 cZQu*K^j  
11.5  光学薄膜—相变 245 C6@t  
11.6  群延迟和延迟色散 246 +?d}7zh  
11.7  色度色散 246 dr})-R  
11.8  色散补偿 249 x / XkD]Hq  
11.9  空间光线偏移 256 -G b-^G  
11.10  参考文献 258 -(;LQDG |  
12  公差与误差 260 )U(u>SV(\  
12.1  蒙特卡罗模型 260 7+XM3  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 K.DXJ UR  
12.2.1  误差工具 267 77We;a  
12.2.2  灵敏度工具 271 d6.}.*7Whc  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 GLh]G(  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 3jPB#%F  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276
Q_4Zb  
12.3  参考文献 276 +d
39f-[  
13  Runsheet 与Simulator 277 ^ KH>1!  
13.1  原理介绍 277 agsIS
u(  
13.2  截止滤光片设计 277  5$Kf]ZP  
14  光学常数提取 289 e4.&aIC[  
14.1  介绍 289 ;$!I&<)  
14.2  电介质薄膜 289 JTUN
b'#RZ  
14.3  n 和k 的提取工具 295 y1,5$
0@G  
14.4  基底的参数提取 302 Ew4g'A:H  
14.5  金属的参数提取 306 C\Ayv)S#2  
14.6  不正确的模型 306 Hj~O49%j&  
14.7  参考文献 311 Lq04T0  
15  反演工程 313 Q}P-$X+/ n  
15.1  随机性和系统性 313 E`AYee%l  
15.2  常见的系统性问题 314 
g6euXI  
15.3  单层膜 314 $D_HZ"ytu  
15.4  多层膜 314 }lfn0 %(@  
15.5  含义 319 nem@sB;v#  
15.6  反演工程实例 319 r_2btpL^  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 !_^g8^>2(  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 7~vqf3ON4J  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Z.Pi0c+  
16.1  光学性质的热致偏移 329 GS%b=kc  
16.2  应力工具 335 sh6(z?KP  
16.3  均匀性误差 339 T]71lRY5  
16.3.1  圆锥工具 339 |Fv?6qw+  
16.3.2  波前问题 341 .#!mDlY;  
16.4  参考文献 343 =kFuJ x)f  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 _!:@w9  
17.1  引言 345 D'L{wm  
17.2  操作数 345 )w"0w(  
18  如何在Function中编写脚本 351 )iSy@*nY  
18.1  简介 351 Kbas-</Si  
18.2  什么是脚本？ 351 j=j+Nf$  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 J Jy{@[m  
18.4  基础 352 ma]? )1<{  
18.4.1  Classes（类别） 352 B>|5xpZM12  
18.4.2  对象 352 }1m_o@{3P  
18.4.3  信息（Messages） 352 d8
:C3R  
18.4.4  属性 352 3qo e^e  
18.4.5  方法 353 A,c'g}:  
18.4.6  变量声明 353 I,j3bC  
18.5  创建对象 354 V2<i/6~  
18.5.1  创建对象函数 355 ;0j*>fb\q7  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 `d*b]2  
18.5.3 丢弃对象 356 e2Jp'93o'  
18.5.4  总结 356 0QoLS|voA/  
18.6  脚本中的表格 357 h7?.2Q&S  
18.6.1  方法1 357 QymD-A"P  
18.6.2  方法2 357 WQt5#m; W  
18.7 2D Plots in Scripts 358 !}q."%%J_%  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Cef7+fa  
18.9  注释 360 7) 0q--B  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 F5IZ"Itu(  
18.11  一个更高级的脚本 362 (C`@a/q  
18.12  <esc>键 364 @L;C_GEa  
18.13 包含文件 365 $4Y&j}R  
18.14  脚本被优化调用 366 F+*Q <a4  
18.15  脚本中的对话框 368 B] i:)   
18.15.1  介绍 368 an KuTI  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 76cEKH
a<  
18.15.3  输入框函数 370 b-nYxd
  
18.15.4  自定义对话框 371 HRHrSf7  
18.15.5  对话框编辑器 371 ;*QN9T=0  
18.15.6  控制对话框 377 !!+Da>  
18.15.7  更高级的对话框 380 GCH[lb>IJv  
18.16 Types语句 384 h,]+>`b  
18.17 打开文件 385 T} 8CfG_j  
18.18 Bags 387 o?dR\cxj  
18.13  进一步研究 388 P)IjL&[  
19  vStack 389 W5I=X]&  
19.1  vStack基本原理 389 !KDr`CV&  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 5_aw.s>  
19.3  五棱镜 393 6ZksqdP8  
19.4 光束距离 396 :;
T
YL[  
19.5 误差 399 1;`Fe":;vC  
19.6  二向分色棱镜 399 x@Vt[}e  
19.7  偏振泄漏 404 ;]@exp5  
19.8  波前误差—相位 405 4\1;A`2%0  
19.9  其它计算参数 405 [B,p,Q"  
20  报表生成器 406 b,Lw7MY}[  
20.1  入门 406 (H-cDsh;c  
20.2  指令(Instructions) 406 {F!v+W>  
20.3  页面布局指令 406 Y)OBTX  
20.4  常见的参数图和三维图 407 4W-"|Z_x  
20.5  表格中的常见参数 408 i;]CL[#2e`  
20.6  迭代指令 408 8m7;x/0ld  
20.7  报表模版 408 % $.vOFP9  
20.8  开始设计一个报表模版 409 >)y$mc6  
21  一个新的project 413 l0#4Fma  
21.1  创建一个新Job 414 %^!aB  
21.2  默认设计 415 kjX7- ZPY  
21.3  薄膜设计 416 eP?~-#  
21.4  误差的灵敏度计算 420 R8uj3!3^  
21.5  显色指数计算 422 pz @km  
21.6  电场分布 424 sDAK\#z  
后记 426 Gc^t%Ue-H)  
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Um'Ro4  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 tj0Qr-/  
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《Essential Macleod中文手册》 6=3(oUl  
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目  录 jYk5~<\k  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 req-Q |  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 V" }*"P-%  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Pl?}>G  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44
Z:c*!`F  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Se/ss!I
f  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 `x*/UCy\  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 OF-WUa4t  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ) H+d.
Y  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 L}b'+Wi@  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ]*GnmG:D*  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 I3An57YV].  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 l{QC}{Ejc2  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 D@*|24y  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 *F..ZS'$[  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 `OBl:e  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 V:8@)Hc=  
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价  格：400元