[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 S0OL;[*.  

图片:w800

tq,^!RSbZ  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 NRG06M  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 R|}4H*N  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 !YpH\wUyvP  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 oj.J;[-  
1. Essential Macleod软件介绍 X]9<1[f  
1.1 介绍软件 dh%O {t  
1.2 创建一个简单的设计 Ohj^Z&j  
1.3 绘图和制表来表示性能 2.</n}g  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 U/PNEGuQ  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） A`M-N<T  
1.6 特定设计的公式技术 &ZMQ]'&  
1.7 交互式绘图 
)H]L/n  
2. 光学薄膜理论基础 s>G]U)d<'  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 WI| -pzg  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 7bbFUUUG"  
3. 材料管理 '/XP4B\(E  
3.1 材料模型 '\d ldg#P  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 a_/4^+  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 IO&U=-pn&  
3.4 基板光学常数的提取 9W(&g)`  
4. 光学薄膜设计优化方法 ]v5/K  
4.1 参考波长与g "oiN8#Hf  
4.2 四分之一规则 R}w}G6"\  
4.3 导纳与导纳图 Fab]'#1q4  
4.4 斜入射光学导纳 yogL8V-^4  
4.5 光学薄膜设计的进展 '_7rooU9  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ceJ#>Rj  
4.6.1 优化目标设置 q9_AL8_  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） <z%**gP~G  
4.6.3 膜层锁定和链接 ZJcX-Z!\  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 BI%~0Gj8  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 f U=P$s  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 "CC"J(&a  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 \z2y?"\?  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 .czUJyFms}  
5.5 如何在Function中编写脚本 *-fd$l.  
6. 光学薄膜系统案例 3rFku"zT$  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 P5B,= K>r  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 L?;UcCB  
6.3 Stack应用范例说明 R=a4zVQ  
7. 薄膜性能分析 e<{d{  
7.1 电场分布 *7Y#G8 s  
7.2 公差与灵敏度分析 (y?F8]TfM  
7.3 反演工程 Q5dqn"?  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 FXY>o>K%h  
8. 真空技术 +\%]<YO  
8.1 常用真空泵介绍 NTX0vQG  
8.2 真空密封和检漏 3f^jy(  
9. 薄膜制备技术 U5-8It2OR  
9.1 常见薄膜制备技术 |.RyF@N`T  
10. 薄膜制备工艺 $X-PjQb1Bb  
10.1 薄膜制备工艺因素 \ ;]{`  
10.2 薄膜均匀性修正技术 <)LR  
10.3 光学薄膜监控技术 1E||ft-1i*  
11. 激光薄膜 !hfpa_5  
11.1 薄膜的损伤问题 &0[L2x}7  
11.2 激光薄膜的制备流程 `Rq|*:LV  
11.3 激光薄膜的制备技术 5*A5Y E-  
12. 光学薄膜特性测量 IQC[ewk  
12.1 薄膜光谱测量 ^{IZpT3  
12.2 薄膜光学常数测量 'l!\2Wv2  
12.3 薄膜应力测量 %X\A|V&  
12.4 薄膜损伤测量 #6#n4`%ER  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 ECM#J28D  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 q$yg^:]2  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 nG5\vj,zB  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 Y~I>mc]  
VfJ{);   
S}h d,"I  
OW=3t#"7Kp  
目录 XW8@c2jN\7  
Preface 1 ";&PtLe  
内容简介 2 mT@Gf>}/A  
目录 i D}}?{pe  
1  引言 1 Z-ci[Zv  
2  光学薄膜基础 2 =,ax"C?pR  
2.1  一般规则 2 `Nvhp]E  
2.2  正交入射规则 3 8Vn  
2.3  斜入射规则 6 1TA!9cz0Z  
2.4  精确计算 7 Yz[Rl ^  
2.5  相干性 8 wTR?8$  
2.6 参考文献 10 LzLJ6A>;R  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ^Lfwoy7R  
4  Essential Macleod的特点 32 [#\OCdb*3  
4.1  容量和局限性 33 D?S|]]Y!q  
4.2  程序在哪里？ 33 &,PA+#  
4.3  数据文件 35 M^HYkXn[  
4.4  设计规则 35 fk?!0M6d  
4.5  材料数据库和资料库 37 @VOegf+N  
4.5.1材料损失 38 FdnLxw  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 or;VmU8$zb  
4.5.2 材料库 41 gU&+^e >  
4.5.3导出材料数据 43 .Xf_U.h$*@  
4.6  常用单位 43 a9^})By&  
4.7  插值和外推法 46  Brs}  
4.8  材料数据的平滑 50 $,r%@'=&  
4.9 更多光学常数模型 54 S{2;PaK  
4.10  文档的一般编辑规则 55 RWM~7^JA  
4.11 撤销和重做 56 xo @|;Z>&F  
4.12  设计文档 57 lQ ki58.  
4.10.1  公式 58 _a"| :kX  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 CiHx.5TiC  
4.10.3  沉积密度 59 =&"pG`x  
4.10.4 平行和楔形介质 60 $(0<T<\  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 7u^wO<  
4.10.4  性能 61 GFbn>dY  
4.10.5  保存设计和性能 64 `aX+Gz?  
4.10.6  默认设计 64 %j17QD8  
4.11  图表 64 F+R1}5-3cl  
4.11.1  合并曲线图 67 &e).l<B  
4.11.2  自适应绘制 68 r/N
aoIrJV  
4.11.3  动态绘图 68 s/~[/2[bnf  
4.11.4  3D绘图 69 :&z!o"K  
4.12  导入和导出 73 !}U3{L-  
4.12.1  剪贴板 73 f`>\bdz  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 w > GW  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 mGP%"R2X  
4.13  背景 77 g9g ]X  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =|$U`~YB  
4.15  生成Rugate 84 MMaS  
4.16  参考文献 91 ]CS N7Q+l  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 d@JavcR  
5.1  Jobs 92 Z9% u,Cb  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 P*?2+.  
5.3  输入材料 94 ;2fzA<RkK  
5.4  设计数据文件夹 95 L!/{Z  
5.5  默认设计 95 $ <[r3  
6  细化和合成 97 T=V{3v@zs  
6.1  优化介绍 97 g_tEUaiK  
6.2  细化 (Refinement) 98 g0/R\  
6.3  合成 (Synthesis) 100 3~WI3ZIR  
6.4  目标和评价函数 101 \KpJIHkBRy  
6.4.1  目标输入 102 4TU\SP8sM  
6.4.2  目标 103 !m_y@~pV#u  
6.4.3  特殊的评价函数 104 MB>4Y]rtU  
6.5  层锁定和连接 104 
xK1w->[  
6.6  细化技术 104 -2U|G  
6.6.1  单纯形 105 F)'_,.?0  
6.6.1.1 单纯形参数 106 6,~ %  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 /-@F|,O)$n  
6.6.2.1 Optimac参数 108 1dp8'f5^  
6.6.3  模拟退火算法 109 u,72Mm>  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 7X$pgNRx/a  
6.6.4  共轭梯度 111 $V<fJpA  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 OaN"6Ge#  
6.6.5  拟牛顿法 112 MbTmdRf  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 6+>X`k%D  
6.6.6  针合成 113 ph2 _P[S'  
6.6.6.1 针合成参数 114 1Nv qtVC  
6.6.7 差分进化 114 5?j#  
6.6.8非局部细化 115 ~^ '+.  
6.6.8.1非局部细化参数 115 yG#x*\9  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 +]H!q W:  
6.7.1 　细化 116 3<a|_(K  
6.7.2　 合成 117 hG9Mp!d91  
6.8  参考文献 117 V5jy,Qi)  
7  导纳图及其他工具 118 m5
?t<H~  
7.1  简介 118 ]nxSVKE4p  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 5HAAaI  
7.2.1  四分之一波长规则 119 a*_" nI&lr  
7.2.2  导纳图 120 /W}"/W9  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 =t}m  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 9I1`*0A  
7.5  斜入射导纳图 141 BH$hd|KD<  
7.6  对称周期 141 !*"#*)S.  
7.7  参考文献 142 vsq |m5  
8  典型的镀膜实例 143 vBY?3p,0p  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ~/K'n  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 \)g}  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 !.|A}8nK  
8.4  W-膜层 148 q(#,X~0  
8.5  V-膜层 149 UD2l!)rW  
8.6  V-膜层高折射基底 150 2XjH1  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 gHWsKE
%  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 `Z2-<:]6&a  
8.9  四层抗反射薄膜 153 e&<=+\ul  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 2rf#Bq?7  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 8*]dAft  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ~>%%kQt  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 )o::~ eu  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 RS{E|  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 &_]bzTok  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 /5f=a  
8.17  1/4波长堆栈 162 @[ '?AsO  
8.18  陷波滤波器 163 CT=5V@_u\  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 f_.0 uM  
8.20  褶皱 165 !,DA`Yt  
8.21  消偏振分光器1 169 catJC3  
8.22  消偏振分光器2 171 #J$z0%P  
8.23  消偏振立体分光器 172 jyRz53  
8.24  消偏振截止滤光片 173 mP +H C)2  
8.25  立体偏振分束器1 174
T<0V ^B7  
8.26  立方偏振分束器2 177 Ee$F]NA  
8.27  相位延迟器 178 y(**F8>?xE  
8.28  红外截止器 179 NQd0$q  
8.29  21层长波带通滤波器 180 dhr-tw  
8.30  49层长波带通滤波器 181 :-+j,G9t  
8.31  55层短波带通滤波器 182 OK:YnSk"  
8.32  47 红外截止器 183 (6)X Fp&  
8.33  宽带通滤波器 184 q:,ck@-4  
8.34  诱导透射滤波器 186 e
=",58  
8.35  诱导透射滤波器2 188 '81WogH:  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 3pkx3tp{  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 }~ga86:n0  
8.35  增益平坦滤波器 193 xHn "D@  
8.38  啁啾反射镜 1 196 1(a+|  
8.39  啁啾反射镜2 198 6?l|MU"Q.  
8.40  啁啾反射镜3 199 }pT>dbZ
  
8.41  带保护层的铝膜层 200 XiyL563gh  
8.42  增加铝反射率膜 201 T FK#ign  
8.43  参考文献 202 #\O?|bN'q  
9  多层膜 204 ;E\e.R  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 tj" EUqKQ  
9.2  内部透过率 204 K=J">^uW  
9.3 内部透射率数据 205 >6z7.d  
9.4  实例 206  9E  
9.5  实例2 210  11-?M  
9.6  圆锥和带宽计算 212 IOH6h=  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 aN"dk-eK  
10  光学薄膜的颜色 216 T'%Rkag>  
10.1  导言 216 t&(\A,ch%  
10.2  色彩 216 %uy?@e  
10.3  主波长和纯度 220 2,'%G\QT  
10.4  色相和纯度 221 U0dhr;l  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 yxy~N\0  
10.6 色差 226 ^A t,x  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 9Qc=D
"'  
10.8  颜色渲染指数 234 _I#a`G  
10.9  色差计算 235 o:RO(oA0?  
10.10  参考文献 236 y6Ea_v  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 (fC U+  
11.1  短脉冲 238 A}0u-W  
11.2  群速度 239 .v#Tj|w^  
11.3  群速度色散 241 +C`zI~8  
11.4  啁啾(chirped) 245 *>7Zc  
11.5  光学薄膜—相变 245 /cZ-+cu  
11.6  群延迟和延迟色散 246 h1QrFPQnu  
11.7  色度色散 246 A@ 4Oq  
11.8  色散补偿 249 pm'i4!mY<P  
11.9  空间光线偏移 256 Jnq}SUev  
11.10  参考文献 258 1(m[L=H5>  
12  公差与误差 260 2[Bw+<YA`  
12.1  蒙特卡罗模型 260 bB
XUD;$  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 sj%\lq  
12.2.1  误差工具 267 w?A6S-z  
12.2.2  灵敏度工具 271 ,gn**E  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 uBxs`'C  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 <FU1|  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 'FmnlC1  
12.3  参考文献 276 v\Xyz )  
13  Runsheet 与Simulator 277

Q`(h  
13.1  原理介绍 277 :LX (9f   
13.2  截止滤光片设计 277 Te&5IB-  
14  光学常数提取 289 G297)MFF  
14.1  介绍 289 IM&l%6[).  
14.2  电介质薄膜 289 iea7*]vW  
14.3  n 和k 的提取工具 295 \PgMMc4'  
14.4  基底的参数提取 302 LE4P$%>H  
14.5  金属的参数提取 306 4lF?s\W:  
14.6  不正确的模型 306 G}gmkp]
z  
14.7  参考文献 311 N#4"P:Sv  
15  反演工程 313 OW1\@CC-69  
15.1  随机性和系统性 313 vS+E
`[  
15.2  常见的系统性问题 314 s%S; 9T  
15.3  单层膜 314 ~mu)Cw  
15.4  多层膜 314 gjex;h  
15.5  含义 319 [5s4Jp$+  
15.6  反演工程实例 319 >`D$Jz,  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 CC{{@  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ?<eH!MHF  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 8z'_dfP=5  
16.1  光学性质的热致偏移 329 K6@9=_A  
16.2  应力工具 335 QB#rf='  
16.3  均匀性误差 339 }Jk=ZBVjT7  
16.3.1  圆锥工具 339 w]
Z:Y`  
16.3.2  波前问题 341 }C9P--  
16.4  参考文献 343 "2J
2za  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 \tZZn~ex  
17.1  引言 345 W)m\q}]FYz  
17.2  操作数 345 Qwu~{tf+'  
18  如何在Function中编写脚本 351 h(3ko An  
18.1  简介 351 KeE)9e   
18.2  什么是脚本？ 351 g
0-J8&?X  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 |GnqfD  
18.4  基础 352 $VyH2+ jC  
18.4.1  Classes（类别） 352 ])uhm)U@  
18.4.2  对象 352 c:sk1I,d~^  
18.4.3  信息（Messages） 352 /yO|Q{C}M8  
18.4.4  属性 352 FW--|X]8  
18.4.5  方法 353 #a=~a=c(^  
18.4.6  变量声明 353  N2Q%/}+,  
18.5  创建对象 354 f%5 s8)  
18.5.1  创建对象函数 355 ^h\Y.  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ':LV"c4t  
18.5.3 丢弃对象 356 ;$$.L bb8  
18.5.4  总结 356 X*Cvh|  
18.6  脚本中的表格 357 -/ h'uG  
18.6.1  方法1 357 'r_NA!R  
18.6.2  方法2 357 !Au9C   
18.7 2D Plots in Scripts 358 mnS F=l;;  
18.8 3D Plots in Scripts 359 |\_d^U&`  
18.9  注释 360 :Vl2\H=P  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 OVgx2_F  
18.11  一个更高级的脚本 362 w.6Gp;O  
18.12  <esc>键 364
RYem(%jq  
18.13 包含文件 365 P{_Xg,Z  
18.14  脚本被优化调用 366 ;E]^7T  
18.15  脚本中的对话框 368 r&?i>.Kz8  
18.15.1  介绍 368 |$aTJ9 Iq:  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 NM:\T1  
18.15.3  输入框函数 370 AEr8^6  
18.15.4  自定义对话框 371 @Ap~Wok  
18.15.5  对话框编辑器 371 ^t#W?rxp&  
18.15.6  控制对话框 377 hAv.rjhw_  
18.15.7  更高级的对话框 380  (:ObxJ*  
18.16 Types语句 384 ?ta(`+"  
18.17 打开文件 385 wEJ) h1=)^  
18.18 Bags 387 BmGY#D,  
18.13  进一步研究 388 8O0E;6b  
19  vStack 389 An0Zg'o!G  
19.1  vStack基本原理 389 @ATJ|5.gr  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ^ H )nQ  
19.3  五棱镜 393 3iC$ "9!p  
19.4 光束距离 396 /,m!SRJ  
19.5 误差 399 x]%'^7#v)  
19.6  二向分色棱镜 399 #\X="'/  
19.7  偏振泄漏 404 uw,p\:D&  
19.8  波前误差—相位 405 5$w`m3>i(  
19.9  其它计算参数 405 +{F2hEYP  
20  报表生成器 406 4OOH 3O  
20.1  入门 406 "UDV4<|^k  
20.2  指令(Instructions) 406 I"1H]@"=  
20.3  页面布局指令 406 .*zWm  
20.4  常见的参数图和三维图 407 N 2\lBi  
20.5  表格中的常见参数 408 sq~9 l|F  
20.6  迭代指令 408 O)E8'Oe"Q  
20.7  报表模版 408 D3BT>zTGK  
20.8  开始设计一个报表模版 409 p2Fff4nQ   
21  一个新的project 413 <B%s9Zy  
21.1  创建一个新Job 414 ~p0M|  
21.2  默认设计 415 
gN("{j1Q  
21.3  薄膜设计 416 V`/D!8>  
21.4  误差的灵敏度计算 420 E,nxv+AQ  
21.5  显色指数计算 422 sWc_,[b  
21.6  电场分布 424 (+^z9p7/!  
后记 426 tB i
16=  
6bXR?0$*M.  
8r46Wr7Q  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 Z+G.v=2q<  
RZg8y+jM  
《Essential Macleod中文手册》 '!wI8f  
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目  录 XzBnj7E  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 :g`j gn0  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 c4'k-\JvT  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 {hmC=j  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ZWH9E.uj  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 #rkz:ir4  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 %Ct^{k~1  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 (-:lO{@FsC  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 +KzbaBK  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 7ZsBYP8%  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 sD!)=t_  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 1K`7  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 f0lpwwe  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 OdrnPo{  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 PS=N]e7k'  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 TOe=6
Z5h  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 [7btoo|P]  
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价  格：400元