[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 H,c`=Ii3  

图片:w800

Cs(sar:7  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 S
@'%dN6e  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 /Kh,  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ]}kw'&  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 16>D?;2o(  
1. Essential Macleod软件介绍 d@p#{ -  
1.1 介绍软件 sopf-g:  
1.2 创建一个简单的设计 j XH9Pq4  
1.3 绘图和制表来表示性能 $H)QUFyC  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Rx.v/H  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） IJ~j(.W  
1.6 特定设计的公式技术 _!E&%=f  
1.7 交互式绘图 #N"u 0  
2. 光学薄膜理论基础 jo^c>ur  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 L
P=y$B  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 *`rfD*  
3. 材料管理 ,/%'""`w  
3.1 材料模型 3@qv[yOE  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 gXlcB~!  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 0-[naGz  
3.4 基板光学常数的提取 ? 3OfiGX?  
4. 光学薄膜设计优化方法 .9J}Z^FD  
4.1 参考波长与g Aj|->Y  
4.2 四分之一规则 k qL.ZR  
4.3 导纳与导纳图 f9 \$,7F  
4.4 斜入射光学导纳 x\U[5d   
4.5 光学薄膜设计的进展 eZ+6U`^t  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能
pr,,E[  
4.6.1 优化目标设置 hHhDs>tB  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）
v7SYWO#  
4.6.3 膜层锁定和链接 uDP:kM  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 aopZ-^  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 N[e,%heR  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 D;NL*4zt  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 eb}P/  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 lKw-C[  
5.5 如何在Function中编写脚本 PMpq>$6b7  
6. 光学薄膜系统案例 *V%"q|L8  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 x};~8lGT>t  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ]c~yMA+]FZ  
6.3 Stack应用范例说明 9xO@_pkX  
7. 薄膜性能分析 @<{%
r  
7.1 电场分布 kqm(D#  
7.2 公差与灵敏度分析 DH yv^  
7.3 反演工程 Q(]m1\a  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 **L&I5Hhm  
8. 真空技术 jwT` Z  
8.1 常用真空泵介绍 j(Lz& *4  
8.2 真空密封和检漏 6{buel(|e  
9. 薄膜制备技术 HoABo:  
9.1 常见薄膜制备技术 m~5 unB9  
10. 薄膜制备工艺 Ba@~:  
10.1 薄膜制备工艺因素 +7}^Y}(  
10.2 薄膜均匀性修正技术 `z\hQ%1!F  
10.3 光学薄膜监控技术 hNM8H  
11. 激光薄膜 n82tZpn  
11.1 薄膜的损伤问题 [M[<'+^*  
11.2 激光薄膜的制备流程 ()IZ7#kL?  
11.3 激光薄膜的制备技术 -0d9,,c  
12. 光学薄膜特性测量 hHN[K  
12.1 薄膜光谱测量 | J3'#7  
12.2 薄膜光学常数测量 46}U+>  
12.3 薄膜应力测量 ud r\\5  
12.4 薄膜损伤测量 B{`adq?pW  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 |y U!d %  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 7b[sW|{  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 i90X0b-A  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 iz#R)EB/g  
G0UaE1n  
T;92M}\  
N l@G\_  
目录 KMj\A d  
Preface 1 wuH*a3(  
内容简介 2 $&as5z8  
目录 i -`PziGl@<  
1  引言 1 ;#85 _/  
2  光学薄膜基础 2 d/7R}n^  
2.1  一般规则 2 _u[tv,  
2.2  正交入射规则 3 =7<JD}G  
2.3  斜入射规则 6 #"N60T@  
2.4  精确计算 7 LeL
Ut<4~  
2.5  相干性 8 .7.lr[
$g  
2.6 参考文献 10 YGo?%.X  
3  Essential Macleod的快速预览 10 qSvV|G  
4  Essential Macleod的特点 32 |#2WN-  
4.1  容量和局限性 33 IE`3I#v  
4.2  程序在哪里？ 33 =y][j+WH  
4.3  数据文件 35 (SyD)G\rj  
4.4  设计规则 35 zWEPwOlI1P  
4.5  材料数据库和资料库 37 ^aSb~lce  
4.5.1材料损失 38 4/b.;$  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 \_`qon$9  
4.5.2 材料库 41 -{\(s=%  
4.5.3导出材料数据 43 ,m=G9Q
cN  
4.6  常用单位 43
Xf`e 4  
4.7  插值和外推法 46 k`:
zQd^T  
4.8  材料数据的平滑 50 m.K cTM%j  
4.9 更多光学常数模型 54 ?P'$Vxl  
4.10  文档的一般编辑规则 55 IEh
D5?  
4.11 撤销和重做 56 = wD#H@h  
4.12  设计文档 57 |UB$^)Twb  
4.10.1  公式 58 .$&^yp  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ZM.'W}J{*  
4.10.3  沉积密度 59 =-2~>B  
4.10.4 平行和楔形介质 60 OIP]9lM$nC  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Y:!L  
4.10.4  性能 61
XQy`5iv  
4.10.5  保存设计和性能 64 1p}Wj*mc  
4.10.6  默认设计 64  gHe:o`  
4.11  图表 64 gK rUv0&F  
4.11.1  合并曲线图 67 R(wUu#n$  
4.11.2  自适应绘制 68 oPKLr31zt  
4.11.3  动态绘图 68 ?8-Am[xH  
4.11.4  3D绘图 69 " @D  
4.12  导入和导出 73 Y*NzY*V\  
4.12.1  剪贴板 73 KnG7w^  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 }^&S^N7  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 $:~;U xh=  
4.13  背景 77 MNu0t\`p4  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 YbZ
bA >|  
4.15  生成Rugate 84 }X)vktE+|  
4.16  参考文献 91 N9w"Lb  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 AQ'%}(#0  
5.1  Jobs 92 ]DVr-f ~  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 K0.aU  
5.3  输入材料 94 9nG^_.}|  
5.4  设计数据文件夹 95 ?Lg(,-:  
5.5  默认设计 95 +hN>Q$E  
6  细化和合成 97 "`% ,l|D  
6.1  优化介绍 97 %B$ftsYXmu  
6.2  细化 (Refinement) 98 3}|[<^$  
6.3  合成 (Synthesis) 100 {+J{t\`  
6.4  目标和评价函数 101 uBlPwb,V  
6.4.1  目标输入 102 ;5tOQ&p%v  
6.4.2  目标 103 `\UY5n72  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Bv<gVt  
6.5  层锁定和连接 104 tkj-.~@g0'  
6.6  细化技术 104 ,jY:@<n  
6.6.1  单纯形 105 :r*hY$v  
6.6.1.1 单纯形参数 106 0/GBs~P  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ng%[yY  
6.6.2.1 Optimac参数 108 r9ulTv}X  
6.6.3  模拟退火算法 109 ]rv\sD`[  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 e0`z~z]6&  
6.6.4  共轭梯度 111 cB uuq  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ^-"I
wy  
6.6.5  拟牛顿法 112 b? ); D  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 vG
_R( ]d  
6.6.6  针合成 113 &ksuk9M  
6.6.6.1 针合成参数 114 z=>fBb>w7  
6.6.7 差分进化 114 t{>K).'  
6.6.8非局部细化 115 q/b+V)V  
6.6.8.1非局部细化参数 115 u$d[&|`>_  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 KuP#i]Na  
6.7.1 　细化 116 Yz/Blh%V  
6.7.2　 合成 117 'ZF6Z9  
6.8  参考文献 117 Tw-NIT)  
7  导纳图及其他工具 118 PBn7{( x  
7.1  简介 118 h*fN]k6  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 z x-[@G  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ]d1'5F][H  
7.2.2  导纳图 120 7p1Y g  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 <e UsMo<  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 a 8k2*u  
7.5  斜入射导纳图 141 n[jXqFm!`  
7.6  对称周期 141 lx+;<la  
7.7  参考文献 142 Eg)24C R 4  
8  典型的镀膜实例 143 $'V^_|EL7  
8.1  单层抗反射薄膜 145 HA0!>_I dC  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ,iy
y2  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "KIY+7@S}  
8.4  W-膜层 148 bLg!LZ|S0s  
8.5  V-膜层 149 p7|I>8ur.  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Jx+6Kq(  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 9)VAEyv  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 )-4c@  
8.9  四层抗反射薄膜 153 #|sE]\bsH  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 .
b";7}9{  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 D)-LZbPa  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156
21v--wZ  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 SMZ*30i  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 0S5xmEzop  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Y(Qb)>K  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ')q0VaohC  
8.17  1/4波长堆栈 162 M`&t=0D  
8.18  陷波滤波器 163 ClKWf\(ii6  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 A;d@NOI#,K  
8.20  褶皱 165 GKoYT{6  
8.21  消偏振分光器1 169 +^BThrB  
8.22  消偏振分光器2 171 8w:ay,=  
8.23  消偏振立体分光器 172 ~<_#%R!  
8.24  消偏振截止滤光片 173 cP?GRMX@}  
8.25  立体偏振分束器1 174 4np2I~ !  
8.26  立方偏振分束器2 177 U,U=udsi  
8.27  相位延迟器 178 ?2"g*Bak  
8.28  红外截止器 179 4#(/{6J  
8.29  21层长波带通滤波器 180 D|5mNX%e  
8.30  49层长波带通滤波器 181 AZ!/{1Az  
8.31  55层短波带通滤波器 182 uj3`M9  
8.32  47 红外截止器 183 3P0z$jh"H  
8.33  宽带通滤波器 184 I">">  
8.34  诱导透射滤波器 186 WXxnOLJr  
8.35  诱导透射滤波器2 188 r-T1^u  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 @{@b^tk  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 +'m9b7+v  
8.35  增益平坦滤波器 193 M]o]D;N~l  
8.38  啁啾反射镜 1 196 HAH\#WE  
8.39  啁啾反射镜2 198 vGi<" Sn7  
8.40  啁啾反射镜3 199 &n1Vv_Lb  
8.41  带保护层的铝膜层 200 q_[y|ETJ]  
8.42  增加铝反射率膜 201 9fX0?POG  
8.43  参考文献 202 {gzQ/|}#z-  
9  多层膜 204
XuP%/\  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 4S42h_9  
9.2  内部透过率 204 =Z.0-C>W  
9.3 内部透射率数据 205 {mU%.5  
9.4  实例 206 sO) H#G  
9.5  实例2 210 uYebRCdR  
9.6  圆锥和带宽计算 212 j*QdD\)  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 :?f+*  
10  光学薄膜的颜色 216 8~T}BC  
10.1  导言 216 q&:7R .Ci  
10.2  色彩 216 f_ M
K4  
10.3  主波长和纯度 220 7NJl+
*u  
10.4  色相和纯度 221 _!2lnJ4+5  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 _7N?R0j^9N  
10.6 色差 226 ]n4PM=hz  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 #_ulmB;  
10.8  颜色渲染指数 234 T4W20dxL7  
10.9  色差计算 235 ~Y43`@3H:  
10.10  参考文献 236 ddL3wQ  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 % (h6m${j  
11.1  短脉冲 238 fmYx  
11.2  群速度 239 tzN9d~JZ  
11.3  群速度色散 241 H^Pq[3NQ  
11.4  啁啾(chirped) 245 xlZh(pf  
11.5  光学薄膜—相变 245 GipiO5)1C  
11.6  群延迟和延迟色散 246 e_!h>=$%8  
11.7  色度色散 246 dk
g`T#}  
11.8  色散补偿 249 \r
aP  
11.9  空间光线偏移 256 4(,.<#  
11.10  参考文献 258 K cex%.  
12  公差与误差 260 !43nL[]  
12.1  蒙特卡罗模型 260 "`K_5"F  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 yPfx!9B  
12.2.1  误差工具 267 i$pUUK  
12.2.2  灵敏度工具 271 k|xmZA*  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 tV4yBe<``  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 .;31G0<w2  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ~98q1HgS]D  
12.3  参考文献 276 z~Zm1tZs  
13  Runsheet 与Simulator 277 e}O&_j-  
13.1  原理介绍 277 YQ+8lANC  
13.2  截止滤光片设计 277 ]pNM~,  
14  光学常数提取 289 X,@nD@  
14.1  介绍 289 At>e4t2@  
14.2  电介质薄膜 289 &5jc &CS  
14.3  n 和k 的提取工具 295 #}.{|'L  
14.4  基底的参数提取 302 .\H-?6R^  
14.5  金属的参数提取 306 8r}tf3xMCM  
14.6  不正确的模型 306 &pl)E$Y  
14.7  参考文献 311 Nj4r[5K  
15  反演工程 313 ;xq
;c\N  
15.1  随机性和系统性 313 0Runex[  
15.2  常见的系统性问题 314 MuO(%.H  
15.3  单层膜 314 B_#M)d O  
15.4  多层膜 314 y<gRl/e  
15.5  含义 319 1grcCL q  
15.6  反演工程实例 319 Up-^km
 
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 FM3.z)>  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 /slCK4vFc  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 rG-x 3>b  
16.1  光学性质的热致偏移 329 e]1)_;b*  
16.2  应力工具 335 7.{+8#~nV  
16.3  均匀性误差 339  k=t{o  
16.3.1  圆锥工具 339 aIT0t0.  
16.3.2  波前问题 341 p8]XNe  
16.4  参考文献 343 11S{XbU
 
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 R(> oyxA[F  
17.1  引言 345 |@rf#,hTDp  
17.2  操作数 345 3#fg 2  
18  如何在Function中编写脚本 351 U&^(%W#  
18.1  简介 351 [C ezz5  
18.2  什么是脚本？ 351 g:^Hex?Yfd  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 7
F]oK0l_  
18.4  基础 352 Ai%Wt-  
18.4.1  Classes（类别） 352 9-#=xE9'U  
18.4.2  对象 352 t`6~ud>  
18.4.3  信息（Messages） 352 =f=>buD  
18.4.4  属性 352 <YG 42,N  
18.4.5  方法 353 % T$!I(L&  
18.4.6  变量声明 353 X.e4pLwGK  
18.5  创建对象 354 4M$"0}O;[h  
18.5.1  创建对象函数 355 }lkU3Pf1U  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 &mJm'Ks  
18.5.3 丢弃对象 356  (=%0x"'  
18.5.4  总结 356 *Ta
{  
18.6  脚本中的表格 357 gW G>}M@  
18.6.1  方法1 357 7Or?$  
18.6.2  方法2 357 'uqY%&U  
18.7 2D Plots in Scripts 358 7CU<R9Kl  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ;Uypv|xX  
18.9  注释 360 |Ntretz`\  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 .4z_ohe  
18.11  一个更高级的脚本 362 H8Ra!FW@  
18.12  <esc>键 364 lA,[&  
18.13 包含文件 365 xs)
SKG*  
18.14  脚本被优化调用 366 WD8F]+2O\  
18.15  脚本中的对话框 368 /GP:W6:6z6  
18.15.1  介绍 368 (^|vN;  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 KjV1->r#  
18.15.3  输入框函数 370 a{I(Qh!}  
18.15.4  自定义对话框 371 *%]&5  
18.15.5  对话框编辑器 371 od/Q"5t[p  
18.15.6  控制对话框 377 GQ9H>Ssz  
18.15.7  更高级的对话框 380 x50ZwV&j
 
18.16 Types语句 384 Nk\/lK\  
18.17 打开文件 385 meD?<g4n~"  
18.18 Bags 387 n~yhX%=_Du  
18.13  进一步研究 388 K}dvXO@=|c  
19  vStack 389 |r`0< `  
19.1  vStack基本原理 389 \S#![N
C  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 lt C  
19.3  五棱镜 393 Vg`32nRN  
19.4 光束距离 396 I!p[:.t7  
19.5 误差 399 I(Q3YDdb  
19.6  二向分色棱镜 399 $=!_ !tr  
19.7  偏振泄漏 404 rV/! VJ6x  
19.8  波前误差—相位 405 >` |sBx  
19.9  其它计算参数 405 O=}jg0k  
20  报表生成器 406 'oM&Ar$  
20.1  入门 406 ^,fMs:  
20.2  指令(Instructions) 406  4V 5  
20.3  页面布局指令 406 ;0 9~#Wop  
20.4  常见的参数图和三维图 407 <QRRD*\  
20.5  表格中的常见参数 408 Z&Z=24q_  
20.6  迭代指令 408 WD'[|s\  
20.7  报表模版 408 x)2ZbIDB:"  
20.8  开始设计一个报表模版 409 3Yf!H-(\uB  
21  一个新的project 413 =(as{,j  
21.1  创建一个新Job 414 k 3oR:  
21.2  默认设计 415 li)shp)
 
21.3  薄膜设计 416 :8Ql(I  
21.4  误差的灵敏度计算 420 R`>z>!)  
21.5  显色指数计算 422 5PT*b}g@  
21.6  电场分布 424 ujoJ6UOG  
后记 426 v?#W/].C+  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 Ov~>* [  
E<4'4)FHuQ  
《Essential Macleod中文手册》 l 1Ns~  
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目  录 ,mvU`>Ry  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析  ood,k{  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 F*/J`l  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 >Byxb./*  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 |7E1yu  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 4X:S#z  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 L3^+`e  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 #bdSH)V  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 0X4%Ccs  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 >_LZD4v!<  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ZE0D=  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 f-l(H="e  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 qHra9yuSh  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297
Jz6zJKcA  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 j21nh>d  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 z!:%Hbh=  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ?CUGJT
 
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价  格：400元