[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 )Z:-qH  
NPH(v`  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 {'{}@CuA2  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 N/o?\q8  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 `,V&@}&"n  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 xRWfZ3E#  
1. Essential Macleod软件介绍 ;5/Se"Nd  
1.1 介绍软件 ^UvL1+  
1.2 创建一个简单的设计 6|EOB~|  
1.3 绘图和制表来表示性能 nOPB*{r|  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 MGF!Z
Z\  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） Z?eTjkNS#  
1.6 特定设计的公式技术 4BMu0["6|s  
1.7 交互式绘图 P'Y(f!%  
2. 光学薄膜理论基础 X?haHM#]  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 +PYV-@q  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 }@bp v  
3. 材料管理 &b@_ah+f  
3.1 材料模型 < dE7+w  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 N6[Z*5efR  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 .uA O.<  
3.4 基板光学常数的提取 #X)DFAtb  
4. 光学薄膜设计优化方法 | d*<4-:  
4.1 参考波长与g @g[ijs\  
4.2 四分之一规则 aUMiRm-  
4.3 导纳与导纳图 UT@Qo}:  
4.4 斜入射光学导纳 #bd=G(o~6  
4.5 光学薄膜设计的进展 .Yk}iHcW.  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 >(2;(TbQm0  
4.6.1 优化目标设置 &5HI   
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） 46f-po_  
4.6.3 膜层锁定和链接
w?D=  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ^h_rE |c  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估
3SY1>}(Y  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Z84w9y7O<  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 n!zB+hW  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 %;wD
B2k*  
5.5 如何在Function中编写脚本 P=}l.R*1G  
6. 光学薄膜系统案例 @^0}wk  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 "'DPb%o  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 -n@,r%`UK  
6.3 Stack应用范例说明 jXx~5  
7. 薄膜性能分析 AIP0PJI3  
7.1 电场分布 \)*\$I\]  
7.2 公差与灵敏度分析 qi@Nz=t#HJ  
7.3 反演工程 -wUT@a  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 Oh}5
2=  
8. 真空技术 WDnNVE  
8.1 常用真空泵介绍 7IUJHc?  
8.2 真空密封和检漏 =8vwaJ  
9. 薄膜制备技术 \V~B+e  
9.1 常见薄膜制备技术 1^AQLOiRE1  
10. 薄膜制备工艺 :tENn r.9v  
10.1 薄膜制备工艺因素 9|jMN j]vo  
10.2 薄膜均匀性修正技术 6oWFjeZ0  
10.3 光学薄膜监控技术 A/zAB3  
11. 激光薄膜 hAgrs[OFj  
11.1 薄膜的损伤问题 *k\;G?  
11.2 激光薄膜的制备流程 >uJu!+#  
11.3 激光薄膜的制备技术 Eb,M+c?  
12. 光学薄膜特性测量 k'v+/6 Y  
12.1 薄膜光谱测量 f/ 3'lPK^  
12.2 薄膜光学常数测量 U7LCd+Z5X  
12.3 薄膜应力测量 pl}W|kW}  
12.4 薄膜损伤测量 XcbEh  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 2UR1T~r  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 mJ8EiRSE  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 _+}o/449  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 {#=o4~u%;H  
'Q*.[aJt  
&/Gf@

[  
/`qQWB5b  
目录 IM,d6lN6s  
Preface 1 _+Z;pt$C  
内容简介 2 6d5q<C_3t  
目录 i OHY|< &*  
1  引言 1 Ga^:y=m  
2  光学薄膜基础 2 ra ,.vJuT  
2.1  一般规则 2 !;t6\Z8&  
2.2  正交入射规则 3 [IyC}lSW^-  
2.3  斜入射规则 6 cr18`xU  
2.4  精确计算 7 p=[I;U-#H  
2.5  相干性 8 6 {`J I  
2.6 参考文献 10 OgK' ~j  
3  Essential Macleod的快速预览 10 TCgW^iu  
4  Essential Macleod的特点 32 XB[EJGaX  
4.1  容量和局限性 33 #T>pu/EQX_  
4.2  程序在哪里？ 33 `OZiN;*|  
4.3  数据文件 35 -Zg.o$  
4.4  设计规则 35 fDXTedrG/  
4.5  材料数据库和资料库 37 c?Zi/7  
4.5.1材料损失 38 ZlMS=<hgFx  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 #|V)>")  
4.5.2 材料库 41 B90fUK2g  
4.5.3导出材料数据 43 l>oJ^J  
4.6  常用单位 43 R-k
~\vCW  
4.7  插值和外推法 46 wgQx.8 h>  
4.8  材料数据的平滑 50 -23sm~`  
4.9 更多光学常数模型 54 ihct~y-9W  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Tj2
pEOu  
4.11 撤销和重做 56 OJFWm
Z(X  
4.12  设计文档 57 M"Y,kA|+  
4.10.1  公式 58 h5n@SE>G  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #]*d8  
4.10.3  沉积密度 59 4?_^7(%p  
4.10.4 平行和楔形介质 60 LCSJIt  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 O^~nf%  
4.10.4  性能 61 Q}^qu6  
4.10.5  保存设计和性能 64 +}g6X6m  
4.10.6  默认设计 64 S2 -J1x2N  
4.11  图表 64 sZ"(#g;3<  
4.11.1  合并曲线图 67 qnU`Q{  
4.11.2  自适应绘制 68 7<*g'6JG[  
4.11.3  动态绘图 68 4`sW_ ks  
4.11.4  3D绘图 69 (F*y27_u  
4.12  导入和导出 73 a3[,3  
4.12.1  剪贴板 73 /RF&@NJE5  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 5IRUG)Icr  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 d(vt0  
4.13  背景 77 'kJyE9*xU.  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ~'Korxa  
4.15  生成Rugate 84 OP``+z>  
4.16  参考文献 91 3my_Gp  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 C)cuy7<  
5.1  Jobs 92 rj29$d?Y9  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 2\"T&  
5.3  输入材料 94 T'5MO\  
5.4  设计数据文件夹 95 YCG$GD  
5.5  默认设计 95 G1SOvdq  
6  细化和合成 97 ^_=bssaOd  
6.1  优化介绍 97 !#4b#l(e6  
6.2  细化 (Refinement) 98 &'m&'wDt:  
6.3  合成 (Synthesis) 100 >=Na,D  
6.4  目标和评价函数 101 !^aJS'aq  
6.4.1  目标输入 102 \5#eBJ  
6.4.2  目标 103 ;YrmT9Jx6  
6.4.3  特殊的评价函数 104 cj|Urt  
6.5  层锁定和连接 104 F>k/;@d  
6.6  细化技术 104 nKch:g  
6.6.1  单纯形 105 G#.q%Up  
6.6.1.1 单纯形参数 106 q3u:Tpn4%  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 T9YrB  
6.6.2.1 Optimac参数 108 5[`f(;  
6.6.3  模拟退火算法 109 FY,)iZ}Pq  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 =pb ru=/  
6.6.4  共轭梯度 111 yh+.Yn=
+  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 eB<R"Yvi  
6.6.5  拟牛顿法 112 X(;WY^i!  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 =GC,1WVEqV  
6.6.6  针合成 113 4=l$wg~;  
6.6.6.1 针合成参数 114 mfk^t`w_  
6.6.7 差分进化 114 gAK"ShOhG=  
6.6.8非局部细化 115 5?>ES*  
6.6.8.1非局部细化参数 115 nCLEAe$W\=  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 WS\Ir-B  
6.7.1 　细化 116 I$ ?.9&.&  
6.7.2　 合成 117 ,a":/ /[  
6.8  参考文献 117 "BC;zH:  
7  导纳图及其他工具 118 0>ce~KU  
7.1  简介 118 ? RID4xu!  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 9bUFxSH  
7.2.1  四分之一波长规则 119 8)YDUE%VH  
7.2.2  导纳图 120 "|/Q5*L  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 {Lsl2@22  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 |u#7@&N1  
7.5  斜入射导纳图 141 ;IR.6k$;  
7.6  对称周期 141 }(9ZME<(  
7.7  参考文献 142 RVh{wg  
8  典型的镀膜实例 143 Ed1y%mR>  
8.1  单层抗反射薄膜 145 7DWGYvv[  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 PeJIa %iE  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 SL`nt  
8.4  W-膜层 148 5p~hUP]tT  
8.5  V-膜层 149 R|]n;*y  
8.6  V-膜层高折射基底 150 wT+\:y  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 1;~|[C  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 CEBa,hp@  
8.9  四层抗反射薄膜 153 "Ve9\$_s  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 {n(/ c33  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 KESM5p"f  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Yb%#\.M/y  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 c'wU$xt.w  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 *eMMfxFl  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ^`bMFsP  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 4-oaq'//BT  
8.17  1/4波长堆栈 162 8;x0U`}Ez(  
8.18  陷波滤波器 163 wQ81wfr1:  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 \%&eDE0  
8.20  褶皱 165 N{uVh;_  
8.21  消偏振分光器1 169 !1/F71l DX  
8.22  消偏振分光器2 171 'i4L.&  
8.23  消偏振立体分光器 172 wJh/tb=$o  
8.24  消偏振截止滤光片 173 v4F+^0?  
8.25  立体偏振分束器1 174 upGLZ#  
8.26  立方偏振分束器2 177 TrBW0Bn>p  
8.27  相位延迟器 178 sGc.;":  
8.28  红外截止器 179 ;?%_jB$P  
8.29  21层长波带通滤波器 180 P+DIo7VTX  
8.30  49层长波带通滤波器 181 gmZ] E45  
8.31  55层短波带通滤波器 182 KCnm_4  
8.32  47 红外截止器 183 \susLD  
8.33  宽带通滤波器 184 Y} 6@ w  
8.34  诱导透射滤波器 186 uc/W/c u,  
8.35  诱导透射滤波器2 188 w[AL'1s]  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 h=B= J  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ~yJJ00%  
8.35  增益平坦滤波器 193 ]`M2Kwp  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ;3o7>yEv  
8.39  啁啾反射镜2 198 1:J+`mzpl  
8.40  啁啾反射镜3 199 Rx?ze(  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ER0B{b  
8.42  增加铝反射率膜 201 W:K'2j  
8.43  参考文献 202 A#Y:VavQ?  
9  多层膜 204  s;-AZr)  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 LL==2KNUo  
9.2  内部透过率 204 qQ8+gZG$R  
9.3 内部透射率数据 205 M~~)tJYsu  
9.4  实例 206 9*r^1PRc  
9.5  实例2 210 lSc=c-iOv  
9.6  圆锥和带宽计算 212 kT:I.,N   
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 :[7O=[pk  
10  光学薄膜的颜色 216 KD?b|y@  
10.1  导言 216 Udq!YXE0  
10.2  色彩 216 mi[8O$^iJ  
10.3  主波长和纯度 220 h`iOs>  
10.4  色相和纯度 221 ;%;||?'v  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ij
;P5OA  
10.6 色差 226 (e0(GOqf4  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 6[SIDOp*^  
10.8  颜色渲染指数 234 opMnLor  
10.9  色差计算 235 iu3L9UfL[  
10.10  参考文献 236 &xUD(  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 p}<60O"r$  
11.1  短脉冲 238 # 1dg%  
11.2  群速度 239 =[LorvX+  
11.3  群速度色散 241 5{
bc&?"  
11.4  啁啾(chirped) 245 e5 }amrz  
11.5  光学薄膜—相变 245 Keem\/  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Gr#3GvL  
11.7  色度色散 246 pdvnpzj  
11.8  色散补偿 249 Hq!|r8@6  
11.9  空间光线偏移 256 " m13HS  
11.10  参考文献 258 }1W@  
12  公差与误差 260 MpBdke$  
12.1  蒙特卡罗模型 260 "%
p7ft  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 gY8$Rk %  
12.2.1  误差工具 267 57-Hx;  
12.2.2  灵敏度工具 271 } !y5hv!_  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 D <R_eK  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 )Yv=:+f  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 -$DfnAh  
12.3  参考文献 276 cvG*p||  
13  Runsheet 与Simulator 277 H2+b3y-1a]  
13.1  原理介绍 277 cqSXX++CS,  
13.2  截止滤光片设计 277 4QTHBT+2`  
14  光学常数提取 289 gKQV99  
14.1  介绍 289 {M5t)-  
14.2  电介质薄膜 289
|<5F08]v  
14.3  n 和k 的提取工具 295 qR_>41JU"  
14.4  基底的参数提取 302 *3rs+0  
14.5  金属的参数提取 306 O1S7t)ag  
14.6  不正确的模型 306 ts9wSx~[+  
14.7  参考文献 311 lo(
C3o'  
15  反演工程 313 oeB'{bG  
15.1  随机性和系统性 313 S_/S2(V"  
15.2  常见的系统性问题 314 _DH^ K9,9  
15.3  单层膜 314 R TpNxr{[  
15.4  多层膜 314 ,Gg;:)k\  
15.5  含义 319 QS5t~rb  
15.6  反演工程实例 319 XbB(<\0+  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 =$fz</S=J  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 \~"Ub"~I  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 {:|3V 7X  
16.1  光学性质的热致偏移 329 fBj)HoHQW  
16.2  应力工具 335 
doOuc4  
16.3  均匀性误差 339 1P*hC<  
16.3.1  圆锥工具 339 R$8{f:Pj  
16.3.2  波前问题 341 b5LToy:  
16.4  参考文献 343 7J!s"|VS  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 KE@+I.x  
17.1  引言 345 ^9:`D@Z+  
17.2  操作数 345 L*tfYonq  
18  如何在Function中编写脚本 351 `SsoRPW&$  
18.1  简介 351
rpK&OR/  
18.2  什么是脚本？ 351 ; Byt'S  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 tP7<WGHd/  
18.4  基础 352 0B7G:X0  
18.4.1  Classes（类别） 352 Z)M "`2Ur  
18.4.2  对象 352 YnRO>`
  
18.4.3  信息（Messages） 352 HFZ'xp|3dn  
18.4.4  属性 352 o_BTo5]  
18.4.5  方法 353 Z17b=xJw  
18.4.6  变量声明 353 k#Sr;"  
18.5  创建对象 354 C| ~A]wc=  
18.5.1  创建对象函数 355 .i I{  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 >&KH!:OX|  
18.5.3 丢弃对象 356 ,MNv}w@  
18.5.4  总结 356 3Iv^  
18.6  脚本中的表格 357 C2"^YRN,  
18.6.1  方法1 357 94BH{9b5  
18.6.2  方法2 357 suwR`2  
18.7 2D Plots in Scripts 358 +w^,!gA&  
18.8 3D Plots in Scripts 359 i[IFD]Xy!j  
18.9  注释 360 (.cA'f?h  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 0Eb4wupo  
18.11  一个更高级的脚本 362 s@@Km1w  
18.12  <esc>键 364 N*}soMPV^.  
18.13 包含文件 365 L)J1yw  
18.14  脚本被优化调用 366 !6%?VJB|b  
18.15  脚本中的对话框 368 QQ.?A(U7  
18.15.1  介绍 368 p%>sc  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 FL^ _)`  
18.15.3  输入框函数 370 KtL?,zi  
18.15.4  自定义对话框 371 ;+E]F8G9r  
18.15.5  对话框编辑器 371 t.28IHJ  
18.15.6  控制对话框 377 f?Zjd&|Ch  
18.15.7  更高级的对话框 380 x?{UWh%  
18.16 Types语句 384 N7_eLhPt*8  
18.17 打开文件 385 $qQYxx@  
18.18 Bags 387 RTcxZ/\"#  
18.13  进一步研究 388 Y:ly x-lj  
19  vStack 389 |6JKB'  
19.1  vStack基本原理 389 a31
e.36g  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 I.jqC2G  
19.3  五棱镜 393 ?f"5yQ-B  
19.4 光束距离 396 w5HIR/kP  
19.5 误差 399 $:F+Nf 8  
19.6  二向分色棱镜 399 BqNeY<zB*  
19.7  偏振泄漏 404 ?l/6DT>e  
19.8  波前误差—相位 405 LUMbRrD-  
19.9  其它计算参数 405 ?n`m
 
20  报表生成器 406 5;/n`Bd  
20.1  入门 406 Xkhd"Axi  
20.2  指令(Instructions) 406 4@  
20.3  页面布局指令 406 '6dVe
2V  
20.4  常见的参数图和三维图 407 1RYrUg"s"  
20.5  表格中的常见参数 408 \N*([{X  
20.6  迭代指令 408 "=Br&FN{|  
20.7  报表模版 408 qg oB}n%  
20.8  开始设计一个报表模版 409 1l$Ei,9  
21  一个新的project 413 ?7aZU  
21.1  创建一个新Job 414 +)sX8zb*gY  
21.2  默认设计 415 8Agg%*Qs}  
21.3  薄膜设计 416 H`CID*Ji  
21.4  误差的灵敏度计算 420 (?|M'gZ  
21.5  显色指数计算 422 yDafNH  
21.6  电场分布 424 GEWjQ;g  
后记 426
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 ^?VQ$o2  
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《Essential Macleod中文手册》 bqcCA91  
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目  录 1#A$&'&\J;  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 }<04\t?  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 z%wh|q  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 t%lat./yT  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ?R)]D:`  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 R@o&c%K"  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 U N9hZ>9  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 bE_8NA"2  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 tqGrhOt  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 R*[sO*h\k  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 puC91  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 S[Du >  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 u.GnXuax  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 YMX9Z||  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 CxFd/X,  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ``-N2U5  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 3Z b]@n  
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价  格：400元