[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 IF:M_   

图片:w800

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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 p3S c4  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 47
RYpd  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ;1dz?'%V  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 Chua>p!$g  
1. Essential Macleod软件介绍 J v#^GNm  
1.1 介绍软件 k$c j|-<  
1.2 创建一个简单的设计 H6I #Xj  
1.3 绘图和制表来表示性能 V4-=Ni]k  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 F[u%t34'  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） jQb D2x6(  
1.6 特定设计的公式技术 AH`15k_i  
1.7 交互式绘图 6:,^CI|@t  
2. 光学薄膜理论基础 6ZR0_v;TD  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 9yh@_~rZ  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 V\"5<>+O  
3. 材料管理 !.9vW&t  
3.1 材料模型 T]W -g  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 mig3.is  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 =#tQIhX`  
3.4 基板光学常数的提取 gp HwiFc  
4. 光学薄膜设计优化方法 #H`y1zm  
4.1 参考波长与g a%!XLyq  
4.2 四分之一规则 [Mz;:/  
4.3 导纳与导纳图 s]c$]&IGG  
4.4 斜入射光学导纳 KV_Ga8hs  
4.5 光学薄膜设计的进展 [S:)UvB  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 &w0=/G/T=~  
4.6.1 优化目标设置 Elp!,(+&6  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） b0X[x{k"  
4.6.3 膜层锁定和链接 udFju&!W  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 1%"` =$q%  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 JNaW>X$K  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 \2pFFVT  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 |esjhf}H>v  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 G 7]wg>*  
5.5 如何在Function中编写脚本 )^H9C"7T  
6. 光学薄膜系统案例 a1SOC=.M
;  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Hz8`)cv`  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 C8:"+;  
6.3 Stack应用范例说明 'cN#rHPB6  
7. 薄膜性能分析 P@YL.'KU)  
7.1 电场分布 Td*Oljj._U  
7.2 公差与灵敏度分析 LFyceFbm  
7.3 反演工程 ~ fEs!hl  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 1omvE9 %zM  
8. 真空技术 ^4pKsO3ul  
8.1 常用真空泵介绍 7[BL 1HI*  
8.2 真空密封和检漏 h)8+4?-4I  
9. 薄膜制备技术 q-%KfZ@(|  
9.1 常见薄膜制备技术 )V3(nZY  
10. 薄膜制备工艺 ^~qs-.?  
10.1 薄膜制备工艺因素 bU]N^og^  
10.2 薄膜均匀性修正技术 [IFRwQ^%_O  
10.3 光学薄膜监控技术 *t{c}Y&@  
11. 激光薄膜 %J7mZB9  
11.1 薄膜的损伤问题 4oV_b"xz~  
11.2 激光薄膜的制备流程 JjLyV`DJ  
11.3 激光薄膜的制备技术 $sF#Na4^
 
12. 光学薄膜特性测量 qYZ7Zt;  
12.1 薄膜光谱测量 :IVMTdYf  
12.2 薄膜光学常数测量 }.UI&UZ-  
12.3 薄膜应力测量 9jGuelwN  
12.4 薄膜损伤测量 QX.6~*m1  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 C2rj
]t  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ](>7h_2B  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 `.(S#!gw  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 M |?p3%  
uuYH6bw*d  
2~WFLD  
0j!ke1C&C  
目录 U
@J/  
Preface 1 4Sstg57x~  
内容简介 2 A?D"j7JD=L  
目录 i =j+oKGkoCa  
1  引言 1 %}MA5 t]o  
2  光学薄膜基础 2 } ndvV~*1  
2.1  一般规则 2 O {6gNR,*  
2.2  正交入射规则 3 (_qBsng:  
2.3  斜入射规则 6 NQ!N"C3u  
2.4  精确计算 7 s i"`  
2.5  相干性 8 'CX.qxF1;p  
2.6 参考文献 10 `)=A!x y  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ?3,
64[  
4  Essential Macleod的特点 32 i\Pr3 7 "  
4.1  容量和局限性 33 2Cd --W+=  
4.2  程序在哪里？ 33 r` `iC5Ii  
4.3  数据文件 35 ?[S >&Vq  
4.4  设计规则 35 nN=:#4 >Y  
4.5  材料数据库和资料库 37 u1)TG"+0  
4.5.1材料损失 38 K>R;~ o  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 qSoBj&6y  
4.5.2 材料库 41 7t-*L}~WA  
4.5.3导出材料数据 43 YKe0:cWc  
4.6  常用单位 43 [pW1=tI  
4.7  插值和外推法 46 -[=AlqL  
4.8  材料数据的平滑 50 L_U3*#Zdz7  
4.9 更多光学常数模型 54 a\&(Ua  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Dl zmAN  
4.11 撤销和重做 56 rX!+@>4_L  
4.12  设计文档 57 c. TB8Ol  
4.10.1  公式 58 !q-:rW?c  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ? gA=39[j  
4.10.3  沉积密度 59 )-.Cne;n  
4.10.4 平行和楔形介质 60 -.b Io  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ^\vfos  
4.10.4  性能 61 20/
P M9  
4.10.5  保存设计和性能 64 =tS[&6/  
4.10.6  默认设计 64 9xK4!~5V  
4.11  图表 64 mI7rx`4H  
4.11.1  合并曲线图 67 Fp5NRM*-!  
4.11.2  自适应绘制 68 iM/*&O}  
4.11.3  动态绘图 68 ayH%  qp  
4.11.4  3D绘图 69 mo|PrLV  
4.12  导入和导出 73 EtR@sJ<  
4.12.1  剪贴板 73 xxLgC;>[  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 h\=p=M  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ]Z.<c$  
4.13  背景 77 f/0v'
Jt  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 +q #Xy0u  
4.15  生成Rugate 84 mEB2RLCM  
4.16  参考文献 91 .*EOVo
9S  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 "[Qb'9/Jc  
5.1  Jobs 92 .7pGx*WH^Y  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 SRt$4EL21  
5.3  输入材料 94 FVsu8z u  
5.4  设计数据文件夹 95  NVO9XK  
5.5  默认设计 95 ]]J#7L#  
6  细化和合成 97 (#j2P0B  
6.1  优化介绍 97 bmj8WZ  
6.2  细化 (Refinement) 98 r^w\9
a_  
6.3  合成 (Synthesis) 100 $[
M}K  
6.4  目标和评价函数 101 NJ|NJp&0  
6.4.1  目标输入 102 %aj7-K6:t  
6.4.2  目标 103 #*yM2H"7,;  
6.4.3  特殊的评价函数 104 9N~8s6Ob  
6.5  层锁定和连接 104 F!OOrW]p0  
6.6  细化技术 104 Y )u_nn'[  
6.6.1  单纯形 105 )(h&Q? Ar  
6.6.1.1 单纯形参数 106 z:Xj_ `p  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 )l+XDI  
6.6.2.1 Optimac参数 108 0|+>A?E}E  
6.6.3  模拟退火算法 109 n!0${QVnS  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ~vW)1XnK  
6.6.4  共轭梯度 111 \LIy:$`8  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 @9Oe
C O  
6.6.5  拟牛顿法 112 B>~k).M&,  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 6QN1+MwB  
6.6.6  针合成 113 g2g
`,"T  
6.6.6.1 针合成参数 114 >DDQ
'W!  
6.6.7 差分进化 114 D^66p8t  
6.6.8非局部细化 115 N<KKY"?I'  
6.6.8.1非局部细化参数 115 gCv"9j<j
 
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 abM84EU  
6.7.1 　细化 116 BN+V,W  
6.7.2　 合成 117 )^t!|*1LA  
6.8  参考文献 117 _:wZmZU}  
7  导纳图及其他工具 118 3C277nx  
7.1  简介 118 9 '2=  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 (b
g}an  
7.2.1  四分之一波长规则 119 "DVt3E  
7.2.2  导纳图 120 7<h.KZPc  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 kx|me~I  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 yB-.sGu  
7.5  斜入射导纳图 141 mWNR(()v  
7.6  对称周期 141 \Os:6U=X-  
7.7  参考文献 142 _ymJ~MK  
8  典型的镀膜实例 143 % 2I  
8.1  单层抗反射薄膜 145 f"Ost;7zg  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 |WB"=PE  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ^[ET&"  
8.4  W-膜层 148 pU M&"V  
8.5  V-膜层 149 `Jn,IDq  
8.6  V-膜层高折射基底 150 YV*b~6{d  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 O x{Q.l  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 D~Z=0yD  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Af`z/:0<  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ;xL67e%?  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Uf# PoQ!y  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 >OT\~C  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 j2M4H@  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 llNXQlP\B  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 TW>?h=
.z  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 (G#}*  
8.17  1/4波长堆栈 162 0[.3Es:_  
8.18  陷波滤波器 163 -<6v:Z  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 !&W|myN^  
8.20  褶皱 165 EY]a6@;  
8.21  消偏振分光器1 169 p:B ]Ft  
8.22  消偏振分光器2 171 qB+n6y%  
8.23  消偏振立体分光器 172 pqJ)G;%9  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Z #EvRC  
8.25  立体偏振分束器1 174 P2Onkl  
8.26  立方偏振分束器2 177 CQ<8P86gt  
8.27  相位延迟器 178 VO9XkA7  
8.28  红外截止器 179 8zAg;b[  
8.29  21层长波带通滤波器 180 JfkTw~'R  
8.30  49层长波带通滤波器 181 oB4#J*  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Rxx>{+f4M  
8.32  47 红外截止器 183 _D-5}a"  
8.33  宽带通滤波器 184 ^+M><jE9  
8.34  诱导透射滤波器 186 NS Np  
8.35  诱导透射滤波器2 188 )6G"*  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 n? ]f@OR  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 8hZwQ[hr  
8.35  增益平坦滤波器 193 ^1.7Juvb  
8.38  啁啾反射镜 1 196 va^0JfQ  
8.39  啁啾反射镜2 198 x:qr\Rz  
8.40  啁啾反射镜3 199 wk@yTTnb  
8.41  带保护层的铝膜层 200 3q
"7K  
8.42  增加铝反射率膜 201  [@<G+j  
8.43  参考文献 202 [7RheXO<  
9  多层膜 204 ;,dkJ7M  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 v`SY6;<2  
9.2  内部透过率 204 v~}5u 5$O  
9.3 内部透射率数据 205 V/+Jc(N  
9.4  实例 206 b
_vVB`>  
9.5  实例2 210 TMww  
9.6  圆锥和带宽计算 212 qC..\{z  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ".E5t@ }?m  
10  光学薄膜的颜色 216 ?gN9kd)  
10.1  导言 216 l DnMjK\M  
10.2  色彩 216 VJg,~lQN#t  
10.3  主波长和纯度 220 7 5|pp  
10.4  色相和纯度 221 EI\v  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 XIRR Al(,  
10.6 色差 226 2h<U  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 [fxuUmU  
10.8  颜色渲染指数 234 ;R!*I%  
10.9  色差计算 235 5qRc4d'  
10.10  参考文献 236 lbS?/f  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 "5}%"-#  
11.1  短脉冲 238 Oqmg;\pm  
11.2  群速度 239 /[iG5~G  
11.3  群速度色散 241 ec?V[v  
11.4  啁啾(chirped) 245 T(V8;!  
11.5  光学薄膜—相变 245 rrcwtLNbu  
11.6  群延迟和延迟色散 246 `L\)ahM  
11.7  色度色散 246 f>z`i\1oO  
11.8  色散补偿 249 Gqt-_gga  
11.9  空间光线偏移 256 FsY(02  
11.10  参考文献 258 D%U:!|G  
12  公差与误差 260 &6/%kkv  
12.1  蒙特卡罗模型 260 x'qWM/  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 SdxY>;  
12.2.1  误差工具 267 hiwIWd:H  
12.2.2  灵敏度工具 271 @KA1"Wb_  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 %
`+'v_iu  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 `hzrfum4  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 5V@&o`!=h  
12.3  参考文献 276 %iJ|H(P  
13  Runsheet 与Simulator 277 ax_YKJ5#P  
13.1  原理介绍 277 *b"CPg/\  
13.2  截止滤光片设计 277 7~b!4x|Z  
14  光学常数提取 289 "OL~ul5  
14.1  介绍 289 J &{xP8uq_  
14.2  电介质薄膜 289 G52Z)^  
14.3  n 和k 的提取工具 295 94{)"w]  
14.4  基底的参数提取 302 =VSkl;
(O  
14.5  金属的参数提取 306 /.$L"u  
14.6  不正确的模型 306 c@(1:,R  
14.7  参考文献 311 ~+HoSXu@E  
15  反演工程 313 sx5r(0Z  
15.1  随机性和系统性 313 EgNH8i  
15.2  常见的系统性问题 314 %LQ/q3?_  
15.3  单层膜 314 -=)-sm'  
15.4  多层膜 314 O-PdM`mqW  
15.5  含义 319 \zu}\{  
15.6  反演工程实例 319 +O+<Go@a  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 #3 bv3m  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 =nU/ [T.  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ZJ
(rG((!  
16.1  光学性质的热致偏移 329 a2yE
:16o6  
16.2  应力工具 335 i8~$o:&HT  
16.3  均匀性误差 339 } 0M{A+  
16.3.1  圆锥工具 339 vv.PF~:  
16.3.2  波前问题 341 _ 08];M|  
16.4  参考文献 343 3.vgukkk5  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 aFY u}kl  
17.1  引言 345 _]|Qec)  
17.2  操作数 345 IgM v =^U  
18  如何在Function中编写脚本 351 Y"!uU.=xJ  
18.1  简介 351 |^GyH$.  
18.2  什么是脚本？ 351 i:Y\`J  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 A#DR9Eq  
18.4  基础 352 |RhM| i  
18.4.1  Classes（类别） 352 I:$"E% >=  
18.4.2  对象 352 +\`rmI  
18.4.3  信息（Messages） 352 M"U OgS  
18.4.4  属性 352 M35Ax],:^  
18.4.5  方法 353 ]V<-J   
18.4.6  变量声明 353 =
;{^"#r\  
18.5  创建对象 354 ;%zC@a~{  
18.5.1  创建对象函数 355 6sB$<#  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 |J3NR`-R  
18.5.3 丢弃对象 356 K]fpGo  
18.5.4  总结 356 rWQY?K@  
18.6  脚本中的表格 357 6 h'&6  
18.6.1  方法1 357 \
VN=Ef\E  
18.6.2  方法2 357 5~r2sCDPk  
18.7 2D Plots in Scripts 358 L"vj0@n'0  
18.8 3D Plots in Scripts 359 H+l,)Se  
18.9  注释 360 uZ(? >  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 G!Zyl^  
18.11  一个更高级的脚本 362 S%l:kKD  
18.12  <esc>键 364 U7H9/<&o  
18.13 包含文件 365 `ZGcgO<c\  
18.14  脚本被优化调用 366 yn~P{}68  
18.15  脚本中的对话框 368 G/{ ~_&t
 
18.15.1  介绍 368
OW`STp!  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 js <Ww$zFW  
18.15.3  输入框函数 370 K+),?Q ?.p  
18.15.4  自定义对话框 371 T~k)uQ  
18.15.5  对话框编辑器 371 '*R%^RK  
18.15.6  控制对话框 377 (-"`,8K 2}  
18.15.7  更高级的对话框 380 i@zY9,b  
18.16 Types语句 384 QUOKThY?  
18.17 打开文件 385 N 8t=@~]  
18.18 Bags 387 ~V+l_:  
18.13  进一步研究 388 dGkgaC+  
19  vStack 389 JP'= UZ'  
19.1  vStack基本原理 389 PW)aLycPK  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 \=nrt?  
19.3  五棱镜 393 ,rO[mNk9@  
19.4 光束距离 396 44-r\>  
19.5 误差 399 |4C^$  
19.6  二向分色棱镜 399 I>"Ci(N  
19.7  偏振泄漏 404 7NF/]y4w  
19.8  波前误差—相位 405 ;pZ[|  
19.9  其它计算参数 405 BHr|.9g]%%  
20  报表生成器 406 li/aN  
20.1  入门 406 ([LIjaoi  
20.2  指令(Instructions) 406 g.C5r]=+&  
20.3  页面布局指令 406 -:`V<  
20.4  常见的参数图和三维图 407 qnIew?-*  
20.5  表格中的常见参数 408 +)/Uu3"=  
20.6  迭代指令 408 LP<<'(l`  
20.7  报表模版 408 YQVcECj  
20.8  开始设计一个报表模版 409 C}"@RHEu  
21  一个新的project 413 ZkWL_ H)  
21.1  创建一个新Job 414 j_Nm87i]  
21.2  默认设计 415 c`kQvXx  
21.3  薄膜设计 416 h-XY4gq/  
21.4  误差的灵敏度计算 420 tXq)nfGe{  
21.5  显色指数计算 422 nSS=%,?  
21.6  电场分布 424 BD*G1k_q  
后记 426 )=_ycf^MC  
LmLGki$w  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 JN[0L:  
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《Essential Macleod中文手册》 ClQe4uo{  
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目  录 :.nRN`e  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 W{Z^n(f4  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 E
HI'xt  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 nk@atK,38^  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 # cFr   
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100  y4jU{,  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 .C!vr@@]  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 id,NONb\  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 )K0i@hM(n  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 t;O1IMF  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 FFcB54ALTf  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 b?VV'{4  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 .i/m  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 npH?4S-8G  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 %SA!p;  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Z4q~@|+%  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 |jG~,{  
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价  格：400元