[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 cR{#V1Z  

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S3#>9k;p  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 [Zrr)8A  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 fox6)Uot  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 %C0Dw\A*:  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 N;R^h? '  
1. Essential Macleod软件介绍 =v\.h=~~  
1.1 介绍软件 >sF)BoLc  
1.2 创建一个简单的设计 b'y%n  
1.3 绘图和制表来表示性能 i1085ztN  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 5N]
"~w*  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） \^LFkp  
1.6 特定设计的公式技术 +_`7G^U?%  
1.7 交互式绘图 5^cCY'I  
2. 光学薄膜理论基础 #z(]xI)"  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Fcx&hj1gQ  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 "&] -2(  
3. 材料管理 &[9709 (=  
3.1 材料模型
t:S+%u U  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 #G3<7PK  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 gIfh3D=yX  
3.4 基板光学常数的提取 {vj)76%y  
4. 光学薄膜设计优化方法 YR70BOxK  
4.1 参考波长与g NHt\ U9l'  
4.2 四分之一规则 [;N'=]`  
4.3 导纳与导纳图 h;Qk@F  
4.4 斜入射光学导纳 `XKLU
 
4.5 光学薄膜设计的进展 N mG#  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 [Pp'Ye~K@c  
4.6.1 优化目标设置 8|^7ai[am  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） MA\V[32H  
4.6.3 膜层锁定和链接 [UR-I0 s!/  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 "4Nt\WQ  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Q59su
L   
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 #Y!a6h+  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 YUb_y^B^  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 K"6vXv4QO  
5.5 如何在Function中编写脚本 Mt$ *a  
6. 光学薄膜系统案例 #4:?gfIj  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Sdo-nt  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 s"|Pdc4  
6.3 Stack应用范例说明 z}<^jgJ  
7. 薄膜性能分析 x;S @bY  
7.1 电场分布 :s,Z<^5a)g  
7.2 公差与灵敏度分析 [^)g%|W  
7.3 反演工程 Qrv<lE1V;  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 do_[&  
8. 真空技术 m
5.Zu.  
8.1 常用真空泵介绍 b>|6t~}M  
8.2 真空密封和检漏 #cJ@uqR  
9. 薄膜制备技术 -=="<0c  
9.1 常见薄膜制备技术 K9[UB  
10. 薄膜制备工艺 1oS/`)  
10.1 薄膜制备工艺因素 '91/md5  
10.2 薄膜均匀性修正技术 txpgO1  
10.3 光学薄膜监控技术 0sqFF[i  
11. 激光薄膜 }C:r9?T  
11.1 薄膜的损伤问题 :/#rZPPF  
11.2 激光薄膜的制备流程 45e~6",  
11.3 激光薄膜的制备技术 e(sk[guvX  
12. 光学薄膜特性测量 T%Lx%Qn  
12.1 薄膜光谱测量 R
i{=]$  
12.2 薄膜光学常数测量 a[C@  
12.3 薄膜应力测量 \Ri
P  
12.4 薄膜损伤测量 97]E1j]  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 eavV?\uV%  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 zda 3 ,U2o  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 3mgD(,(^  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 \zkg  
M7T5 ~/4  
 Sf'CN8  
.]u/O`c]  
目录 pb}*\/s  
Preface 1 L#J1b!D&<6  
内容简介 2 >
j/w@Fj  
目录 i ![1rzQvGDb  
1  引言 1
o4X{L`m  
2  光学薄膜基础 2 `Oa WGZ[  
2.1  一般规则 2 6'/ #+,d'  
2.2  正交入射规则 3 khe}*y  
2.3  斜入射规则 6 &pRREu:[4L  
2.4  精确计算 7 gJXaPJA{  
2.5  相干性 8 M-71 1|eGI  
2.6 参考文献 10 xEI%D|)<  
3  Essential Macleod的快速预览 10 8=l%5r^cq  
4  Essential Macleod的特点 32 q
1,~  
4.1  容量和局限性 33 {.yB'.k?  
4.2  程序在哪里？ 33 Ytkv!]"  
4.3  数据文件 35 SU0 hma8  
4.4  设计规则 35 2ESo2  
4.5  材料数据库和资料库 37 (HVGlw'`  
4.5.1材料损失 38 ";F'~}bDA  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 zfU{Kd  
4.5.2 材料库 41 G
[=c Ss,  
4.5.3导出材料数据 43 Dtk=[;"k2a  
4.6  常用单位 43 dH!*!r>  
4.7  插值和外推法 46 C]6O!Pb0  
4.8  材料数据的平滑 50 1#x0q:6  
4.9 更多光学常数模型 54 (zk"~Ud  
4.10  文档的一般编辑规则 55 \h
XDO_U  
4.11 撤销和重做 56 d0D]Q  
4.12  设计文档 57 rp$'L7lrX  
4.10.1  公式 58 @dKTx#gZ  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 GOPfXtkC  
4.10.3  沉积密度 59 vaLSH xi  
4.10.4 平行和楔形介质 60 7
dWS  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 K0~rN.C!0  
4.10.4  性能 61 It(_v  
4.10.5  保存设计和性能 64 4 KiY6
)  
4.10.6  默认设计 64 dN q$}  
4.11  图表 64 & 21%zPm  
4.11.1  合并曲线图 67 # d  
4.11.2  自适应绘制 68 7#Ft|5$~q  
4.11.3  动态绘图 68 COlqcq'qAu  
4.11.4  3D绘图 69 /: "1Z]@  
4.12  导入和导出 73 5! {D!  
4.12.1  剪贴板 73 -RwE%cr  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 )
7F/O3Tq  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 .*oU]N%K=  
4.13  背景 77 `?]k{ l1R  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ye&;(30Oq  
4.15  生成Rugate 84 lxx2H1([  
4.16  参考文献 91 fhiM U8(&  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 jcOcWB|  
5.1  Jobs 92 79gT+~z  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 [,Gg^*umS  
5.3  输入材料 94 +(Ae4{z"1+  
5.4  设计数据文件夹 95 HPl<%%TI  
5.5  默认设计 95 [0!(xp^  
6  细化和合成 97 %b$>qW\*&  
6.1  优化介绍 97 ZK,G v  
6.2  细化 (Refinement) 98 B#A6v0Ta  
6.3  合成 (Synthesis) 100 |Cv!,]9:r  
6.4  目标和评价函数 101 @d'j zs  
6.4.1  目标输入 102 XFl6M~ c  
6.4.2  目标 103 N~Jda o  
6.4.3  特殊的评价函数 104 3]Ct6  
6.5  层锁定和连接 104 Txu/{M,  
6.6  细化技术 104 y29m/i:  
6.6.1  单纯形 105 #a#F,ZT  
6.6.1.1 单纯形参数 106 {7[Ox<Ho  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 x2xRBkRg=  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ES[G  
6.6.3  模拟退火算法 109 V~GDPJ+  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 YK_7ip.a[  
6.6.4  共轭梯度 111 =_CzH(=f#  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Mx}gN:Wt  
6.6.5  拟牛顿法 112 VY-EmbkG-t  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 81F9uM0  
6.6.6  针合成 113 =;L|gtH"  
6.6.6.1 针合成参数 114 Z,gk|M3.  
6.6.7 差分进化 114 pglVR </  
6.6.8非局部细化 115 )%TmAaj9d  
6.6.8.1非局部细化参数 115 z{q`GwW  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 awRX1:T#;O  
6.7.1 　细化 116 Qs!5<)6  
6.7.2　 合成 117 W?&%x(6M  
6.8  参考文献 117 P \I|,  
7  导纳图及其他工具 118 "+c-pO`Wg  
7.1  简介 118 Xw1*
(ffk  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 3]hWfj1m2  
7.2.1  四分之一波长规则 119
Ry&6p>-  
7.2.2  导纳图 120  " bG2:  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 vN $s|R'@  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 6Wn1{v0  
7.5  斜入射导纳图 141 +@UV?"d  
7.6  对称周期 141 @Qe0! (_=  
7.7  参考文献 142 }p V:M{Nu&  
8  典型的镀膜实例 143 %T[]zJ(  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ceA9){  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 SbZ6t$"  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 u*R_\*j@  
8.4  W-膜层 148 MV"=19]  
8.5  V-膜层 149 +ZYn? #IQ  
8.6  V-膜层高折射基底 150 )oZ dj`  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 =4!mAo}  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 `cO:<^%  
8.9  四层抗反射薄膜 153 gw(z1L5 n  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 %O<BfIZ  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 y`F
w-!'o  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 WIOV2+
 
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 _F{C\}  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 2%1hdA<  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 [Q
TV9  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 G$PE}%X  
8.17  1/4波长堆栈 162 +\'tE~V  
8.18  陷波滤波器 163
@HW*09TG  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 6@f-Glwg  
8.20  褶皱 165 E`q_bn  
8.21  消偏振分光器1 169 'qi}|I  
8.22  消偏振分光器2 171 58K5ZZG  
8.23  消偏振立体分光器 172 DIvHvFss  
8.24  消偏振截止滤光片 173 a.'*G6~Qgw  
8.25  立体偏振分束器1 174 QJNFA}*>  
8.26  立方偏振分束器2 177 =41xkAMnk  
8.27  相位延迟器 178 N!32 wJ  
8.28  红外截止器 179 ;<5q]/IHK  
8.29  21层长波带通滤波器 180 q4q6c")zp  
8.30  49层长波带通滤波器 181 SuznN L=/$  
8.31  55层短波带通滤波器 182 0YzpZW"+  
8.32  47 红外截止器 183 $( )>g>%  
8.33  宽带通滤波器 184
0V]s:S  
8.34  诱导透射滤波器 186 $M#>9QHhc  
8.35  诱导透射滤波器2 188 zT/\Cj68  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 wBzC5T%,  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 l0] EX>"E  
8.35  增益平坦滤波器 193 a?.=V  
8.38  啁啾反射镜 1 196 *"kM{*3:v  
8.39  啁啾反射镜2 198 H]!"Zq k  
8.40  啁啾反射镜3 199 h![#;>(  
8.41  带保护层的铝膜层 200 .543N<w  
8.42  增加铝反射率膜 201 uEYtE7  
8.43  参考文献 202 *
=n:
-  
9  多层膜 204 Qd6FH2Pl  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 %S
I'BJ  
9.2  内部透过率 204 hSMH,^Io$  
9.3 内部透射率数据 205 % nIf)/2g  
9.4  实例 206 HDKbF/  
9.5  实例2 210 ckn~#UE=  
9.6  圆锥和带宽计算 212 iLz@5Zj8  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 8Y3I0S  
10  光学薄膜的颜色 216 F/Pep?'  
10.1  导言 216 N7_"H>O$0U  
10.2  色彩 216 "ta x?  
10.3  主波长和纯度 220 fh{`Mz,o  
10.4  色相和纯度 221 C?Ucu]cW  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 J;
%Xfx]  
10.6 色差 226 3F0 N^)@
 
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 9cgUT@a  
10.8  颜色渲染指数 234 2%>FR4a  
10.9  色差计算 235 -+5>|N#  
10.10  参考文献 236 uM
v1O{  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 j4b4!^fV  
11.1  短脉冲 238 &R siVBA  
11.2  群速度 239 V:27)]q  
11.3  群速度色散 241 Ug`djIL  
11.4  啁啾(chirped) 245 Wf<LR3  
11.5  光学薄膜—相变 245 fatf*}eln  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Bf:Q2slqI  
11.7  色度色散 246 h$=
2p5'-  
11.8  色散补偿 249 i&k7-<  
11.9  空间光线偏移 256 nd(S3rct&  
11.10  参考文献 258 e*!kZAf  
12  公差与误差 260 o.\oA6P_  
12.1  蒙特卡罗模型 260 {|\.i  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 h1{3njdr  
12.2.1  误差工具 267 E e]-qN*8  
12.2.2  灵敏度工具 271 H:G1BZjq  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 Jl<2>@  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Nluoqoac  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 fX)#=c|5  
12.3  参考文献 276 X(C$@N  
13  Runsheet 与Simulator 277 mqJ_W[y7  
13.1  原理介绍 277 Gc!x|V;T  
13.2  截止滤光片设计 277 _~pbqa,  
14  光学常数提取 289 'n|5ZhXPB  
14.1  介绍 289 ^t"'rD-I  
14.2  电介质薄膜 289 uGt-l4  
14.3  n 和k 的提取工具 295 XUw/2"D'?  
14.4  基底的参数提取 302 T)}) pt!V  
14.5  金属的参数提取 306 y==CTY@  
14.6  不正确的模型 306 .~}1+\~5  
14.7  参考文献 311 j7c3(*Pl  
15  反演工程 313 y?:.;%!E  
15.1  随机性和系统性 313 JCaOK2XT;  
15.2  常见的系统性问题 314 :Yks|VJ1  
15.3  单层膜 314 j=J/x:w_e  
15.4  多层膜 314 ;>YzEo  
15.5  含义 319 g*"P:n71  
15.6  反演工程实例 319 2m[<]$  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 J$!iq|  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 D0q":WvE  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 K@#L)VT!  
16.1  光学性质的热致偏移 329 >*n0n!vF  
16.2  应力工具 335 gdoLyxQ  
16.3  均匀性误差 339 ]fD} ^s3G  
16.3.1  圆锥工具 339 f {"?%Ku#  
16.3.2  波前问题 341 ~nPtlrQa#*  
16.4  参考文献 343 %[yJ4WL  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 9E tz[`|  
17.1  引言 345 O<\@~U  
17.2  操作数 345 &M'*6A  
18  如何在Function中编写脚本 351 YF:L)0H'O  
18.1  简介 351 c=+!>Z&i$G  
18.2  什么是脚本？ 351  ][]  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Tqk\XILG N  
18.4  基础 352 m9A
!D  
18.4.1  Classes（类别） 352 ``Un&-Ms  
18.4.2  对象 352 LDg?'y;2  
18.4.3  信息（Messages） 352 (k
hL-F  
18.4.4  属性 352 [sb[Z:  
18.4.5  方法 353 [h:T*(R?  
18.4.6  变量声明 353 3Hm/(C  
18.5  创建对象 354 6_ow%Rx~F  
18.5.1  创建对象函数 355 !L8#@BjU  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 |a%Tp3Q~  
18.5.3 丢弃对象 356 2"S}bfrX  
18.5.4  总结 356 PY0j9$i?  
18.6  脚本中的表格 357 TuYCR>P[  
18.6.1  方法1 357 d'I"jZ  
18.6.2  方法2 357 r)6M!_]AW  
18.7 2D Plots in Scripts 358 FkRo _?  
18.8 3D Plots in Scripts 359 f4Rf?w*  
18.9  注释 360 nJLFfXWx  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 :Lug7bUVD  
18.11  一个更高级的脚本 362 zA"`!}*  
18.12  <esc>键 364 jZ3fKyp#
 
18.13 包含文件 365 8h4'(yGQQW  
18.14  脚本被优化调用 366 Pco'l#:  
18.15  脚本中的对话框 368 ~3S~\0&|  
18.15.1  介绍 368 ,'iE;o{Tu  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 R^e.s -  
18.15.3  输入框函数 370 OaZQ7BGq  
18.15.4  自定义对话框 371 CsifKHI  
18.15.5  对话框编辑器 371 A_#DJJMm  
18.15.6  控制对话框 377 d5z`BH.  
18.15.7  更高级的对话框 380 =4!e&o  
18.16 Types语句 384 jMDY(mwt  
18.17 打开文件 385 0nD/;\OU  
18.18 Bags 387 |id <=Xf  
18.13  进一步研究 388 CWP2{  
19  vStack 389 9 5RBO4w%w  
19.1  vStack基本原理 389 O s.4)  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 C=4Qlt[`  
19.3  五棱镜 393 .@Dxp]/B}  
19.4 光束距离 396 CC^'@~)?  
19.5 误差 399 
U~l$\c  
19.6  二向分色棱镜 399 %-e 82J1  
19.7  偏振泄漏 404 ")HFYqP>9  
19.8  波前误差—相位 405 E1U",CMU  
19.9  其它计算参数 405 R+,u^;\  
20  报表生成器 406 :Qf '2.h)  
20.1  入门 406 9,'ncw$/C  
20.2  指令(Instructions) 406 X/M4!L}\  
20.3  页面布局指令 406 1|6%evPu(  
20.4  常见的参数图和三维图 407 e01epVR;  
20.5  表格中的常见参数 408 om-omo&,X=  
20.6  迭代指令 408 =6|&Jt  
20.7  报表模版 408 VgC2+APg  
20.8  开始设计一个报表模版 409 y%bF&  
21  一个新的project 413 \A6B,|@  
21.1  创建一个新Job 414 VEw"  
21.2  默认设计 415 )M//l1  
21.3  薄膜设计 416 DXK}-4"\  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Y,e B|  
21.5  显色指数计算 422 h@WhNk7"xa  
21.6  电场分布 424 Eue~Y+K*b  
后记 426 ?vHU#  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 A;|D:;x3G  
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《Essential Macleod中文手册》 p >t#@Eu|  
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目  录 /mu*-,aeX  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Y6L~K?  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 @)&=%  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 5vZ^0yFQ  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 \1 &,|\E#  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 (<oyN7NT  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Q=20IQp  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 @qlK6tE`  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 &<U0ZvrsH  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 c[1oww  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 BC<^a )D=  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 .oUTqki  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 YLE!m?  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 SHo$9+  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 VsE9H]v   
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 6N S201o  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 RnI&8  
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价  格：400元