[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 &Gs/#2XQ  
9D]bCi\  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 mC} b>\  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 TjicltQi4  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 eh}|Wd7J  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 IO7cRg'-F  
1. Essential Macleod软件介绍 ('Ha$O72  
1.1 介绍软件 8Y [4JXUK  
1.2 创建一个简单的设计 l~mj>$  
1.3 绘图和制表来表示性能 'm0_pM1:D  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 jHk.]4&0  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） %LBf'iA  
1.6 特定设计的公式技术 Cd|rDa  
1.7 交互式绘图 + cZC$lo  
2. 光学薄膜理论基础 9SXpZ*Sx  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 X@za4d  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 pZKK7
  
3. 材料管理 49= K]
X  
3.1 材料模型 mFt\xGa  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 cN`P5xP'  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 L@.Trso  
3.4 基板光学常数的提取 baGV]=j  
4. 光学薄膜设计优化方法 `NfwW
:  
4.1 参考波长与g 39A|6>-?  
4.2 四分之一规则 +I+RNXR/{  
4.3 导纳与导纳图 0{/
'[o7  
4.4 斜入射光学导纳 q"Sja!-;|  
4.5 光学薄膜设计的进展 ]e$n;tuW  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 a:KL{e[  
4.6.1 优化目标设置 9M-W 1prb  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） -Gjz+cRns  
4.6.3 膜层锁定和链接 q8MyEoc:n  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 Zt}b}Bz  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 MAQ-'s@  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 -@Z9h)G|  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 5%+epzy  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 !-t"}^)  
5.5 如何在Function中编写脚本 f8-~&N/_R  
6. 光学薄膜系统案例 DABV}@K"  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 n[\L6}  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 P MI?PC[;  
6.3 Stack应用范例说明 i!eY"|o  
7. 薄膜性能分析 #Q BW%L  
7.1 电场分布 Q.Y6  
7.2 公差与灵敏度分析 l!": s:/'  
7.3 反演工程 EqOhzII^  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 rNICK2Ah  
8. 真空技术 /Mj|Px%  
8.1 常用真空泵介绍 bI8')a  
8.2 真空密封和检漏 BZIU@^Q_Y[  
9. 薄膜制备技术 0^)~p{Zh  
9.1 常见薄膜制备技术 OW#G{#.6R  
10. 薄膜制备工艺 _-2;!L#/  
10.1 薄膜制备工艺因素 AC!yc(^<  
10.2 薄膜均匀性修正技术 \eAV: qV  
10.3 光学薄膜监控技术 h@J3+u<  
11. 激光薄膜 n8JM 0 U-  
11.1 薄膜的损伤问题 9*XT|B  
11.2 激光薄膜的制备流程 IFW7MF9V  
11.3 激光薄膜的制备技术 k%iwt]i%  
12. 光学薄膜特性测量 ?xuWha@:  
12.1 薄膜光谱测量 h-
x~:$Z,  
12.2 薄膜光学常数测量 ,eSpt#M  
12.3 薄膜应力测量 -j
1]H"-  
12.4 薄膜损伤测量 UzW]kY[A<  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 olKM0K  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /m i&7C(6  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 PEaZ3{-  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 GNSh`Tm=#  
Cxe(iwa.
 
E33WT{H&_'  
#99=wn  
目录 TD78&a#  
Preface 1 QZ[S, c^  
内容简介 2 ca5;Z@t$S  
目录 i h92KU  
1  引言 1 CWJ
N{  
2  光学薄膜基础 2 #o,FVYYj  
2.1  一般规则 2 Ul3xeu  
2.2  正交入射规则 3 /lhk} y^  
2.3  斜入射规则 6 f8G<5_!K_  
2.4  精确计算 7 7r2p+LP[  
2.5  相干性 8 r]]:/pw?t  
2.6 参考文献 10 HVzkS|^F  
3  Essential Macleod的快速预览 10 F{_,IQ]U  
4  Essential Macleod的特点 32 [.w`r>kZI  
4.1  容量和局限性 33 hjhZ":I.  
4.2  程序在哪里？ 33 JB=L{P J  
4.3  数据文件 35 DyA1zwp}  
4.4  设计规则 35 irP*:QM  
4.5  材料数据库和资料库 37 [ $"  
4.5.1材料损失 38 b `bg`}x  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 nB]mj_)R^  
4.5.2 材料库 41 l}k'ZX4  
4.5.3导出材料数据 43 LI^D\  
4.6  常用单位 43 o/[Ks;l  
4.7  插值和外推法 46 ej1WkaR8  
4.8  材料数据的平滑 50 S~&
9DQNj  
4.9 更多光学常数模型 54 [;o>q;75Jz  
4.10  文档的一般编辑规则 55 BuUM~k&SY  
4.11 撤销和重做 56 `cIeqp  
4.12  设计文档 57 CrG!8}  
4.10.1  公式 58 t:xTmK&vt  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 O^ 5C  
4.10.3  沉积密度 59 ZI8@ 6L\  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ^(@]5
$^Z  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 U??OiKVZ+  
4.10.4  性能 61 Ps;4]=c  
4.10.5  保存设计和性能 64 4W<[& )7  
4.10.6  默认设计 64 q8
,,[R_  
4.11  图表 64 rq\<zx]au  
4.11.1  合并曲线图 67 t:v>W8N53  
4.11.2  自适应绘制 68 Qstd;qE~  
4.11.3  动态绘图 68 ]24]id  
4.11.4  3D绘图 69 'pO-h,{TS  
4.12  导入和导出 73 V|*
3*W  
4.12.1  剪贴板 73 XQmg^x[,A  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 8*|*@  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 \< a^5'  
4.13  背景 77 fhNJB0  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 sGpAaGY>  
4.15  生成Rugate 84 !DV0u)k(  
4.16  参考文献 91 Og8%SnEpMI  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 x?od_M;*8;  
5.1  Jobs 92 } :gi<#-:G  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 B}K<L\S  
5.3  输入材料 94 *y$CDv
  
5.4  设计数据文件夹 95 kf#S"[/E  
5.5  默认设计 95 !f}D*8\f  
6  细化和合成 97 (]10Z8"fJ  
6.1  优化介绍 97 t**d{P+  
6.2  细化 (Refinement) 98 K4I/a#S'@6  
6.3  合成 (Synthesis) 100 I]3!M`IMG  
6.4  目标和评价函数 101 Hw62'%  
6.4.1  目标输入 102
#\O'*mz  
6.4.2  目标 103 !1A< jL  
6.4.3  特殊的评价函数 104 {~G~=sC$  
6.5  层锁定和连接 104 =Lnip<t>ja  
6.6  细化技术 104 H ]!P[?  
6.6.1  单纯形 105 |CQ0{1R1  
6.6.1.1 单纯形参数 106 KP$AT}D  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ,DEcCHr,  
6.6.2.1 Optimac参数 108 '+'h^
 
6.6.3  模拟退火算法 109 Der'45]*^  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 v yt|x5  
6.6.4  共轭梯度 111 @=Dc(5`[  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ,p!IFS`  
6.6.5  拟牛顿法 112 P^U.VXY}  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 ,4B8?0sH|  
6.6.6  针合成 113 BWB}bq  
6.6.6.1 针合成参数 114 E]S:F3  
6.6.7 差分进化 114 kpNp}b8']  
6.6.8非局部细化 115 r`RLDN!`  
6.6.8.1非局部细化参数 115 }9!}T~NMs  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 yL -}E  
6.7.1 　细化 116 T[c-E*{hR  
6.7.2　 合成 117 m'k>U4  
6.8  参考文献 117 z\?<j%e!t  
7  导纳图及其他工具 118 #B#xSmak  
7.1  简介 118 sD&V_ &i  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 'tU\~3k  
7.2.1  四分之一波长规则 119 C}DIm&))  
7.2.2  导纳图 120 xr7M#n  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Z`zLrXPD)  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 nE2?3S>  
7.5  斜入射导纳图 141 <(yAat$H  
7.6  对称周期 141 %?[0G,JG  
7.7  参考文献 142 /FC(d
5I  
8  典型的镀膜实例 143 TmM~uc7mj  
8.1  单层抗反射薄膜 145 7r.~L  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 m}S}fH(  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 mZu
Lwd$0  
8.4  W-膜层 148 "/2kf)l{4  
8.5  V-膜层 149 L{&=SR.  
8.6  V-膜层高折射基底 150 :uC9 #H"b  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 &] xtx>qg<  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 A..`?oGj  
8.9  四层抗反射薄膜 153
o|#F@L3i  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ^L8:..+:  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 {vZAOz7#  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 9\=SG"e(  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 3preBs#i  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 k`5K&  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 [;ZC_fD  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 _>?.MUPB  
8.17  1/4波长堆栈 162 s<aG
 
8.18  陷波滤波器 163 %L wq.  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8pp;" "b  
8.20  褶皱 165 dO,;k+  
8.21  消偏振分光器1 169 ]D=fvvST  
8.22  消偏振分光器2 171 W/~q%\M {  
8.23  消偏振立体分光器 172 {))Cb9'  
8.24  消偏振截止滤光片 173 h^''ue"  
8.25  立体偏振分束器1 174 I:YgK
s)[  
8.26  立方偏振分束器2 177 F2EX7Crj  
8.27  相位延迟器 178 ,ei=w,
O  
8.28  红外截止器 179 8F's9c,  
8.29  21层长波带通滤波器 180 \=xS?(v!  
8.30  49层长波带通滤波器 181 oL<5hN*D  
8.31  55层短波带通滤波器 182 "*(a2k3J  
8.32  47 红外截止器 183 D0TFC3.k}  
8.33  宽带通滤波器 184 u]ps-R_$G  
8.34  诱导透射滤波器 186 .3cD.']%  
8.35  诱导透射滤波器2 188 !(Q@1c&z  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190
)@y7 qb  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 v-Q>I5D;:  
8.35  增益平坦滤波器 193 J |U
FuD  
8.38  啁啾反射镜 1 196 oEj$xm_}  
8.39  啁啾反射镜2 198 GMoz$c6n_  
8.40  啁啾反射镜3 199 +ef>ek  
8.41  带保护层的铝膜层 200 +Z"[2Dm  
8.42  增加铝反射率膜 201 4Mt
RI  
8.43  参考文献 202 ,Tk53"  
9  多层膜 204 q(1hY"S"}b  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 i*A_Po  
9.2  内部透过率 204 9|OOT[  
9.3 内部透射率数据 205 fE3%$M[V7  
9.4  实例 206 _Vt(Eg_\  
9.5  实例2 210 Z5EII[=$o  
9.6  圆锥和带宽计算 212 :hR^?{9Z4>  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 xh!T,|IR  
10  光学薄膜的颜色 216 h]&~yuI>  
10.1  导言 216 p1mAoVxR  
10.2  色彩 216 }nO%q6|\V  
10.3  主波长和纯度 220 TgJ6O,0  
10.4  色相和纯度 221 +V[;DOlll  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 y-gXGvZ  
10.6 色差 226 /WK1(B:  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 T,PN6d  
10.8  颜色渲染指数 234 }Gx@1)??  
10.9  色差计算 235 E]r<t#  
10.10  参考文献 236 pZt>rv  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 *Ue#Sade  
11.1  短脉冲 238 [UB*39D7  
11.2  群速度 239 8qxZ7|Y@  
11.3  群速度色散 241 5 [4{1v  
11.4  啁啾(chirped) 245 S?OCy4dk:  
11.5  光学薄膜—相变 245 8=?U7aw  
11.6  群延迟和延迟色散 246 t"e%'dFv  
11.7  色度色散 246 kr!>rqN5  
11.8  色散补偿 249 yF+mJ >kj  
11.9  空间光线偏移 256 DNyt_5j&:  
11.10  参考文献 258 ,wv>
G]v  
12  公差与误差 260 R
a:UnA  
12.1  蒙特卡罗模型 260 @uG/2'
B(  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 }ov>b2H#<  
12.2.1  误差工具 267 B7oUS}M  
12.2.2  灵敏度工具 271 h%v qt~0  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 <yvo<R^30  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ?wn<F}UH  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 F6:LH,~8  
12.3  参考文献 276 /ZH*
t\  
13  Runsheet 与Simulator 277 j_0l'Saj  
13.1  原理介绍 277 &4l!2  
13.2  截止滤光片设计 277 +"~*L,ken0  
14  光学常数提取 289 T eu.i  
14.1  介绍 289 dX[Xe  
14.2  电介质薄膜 289 8H8Q
  
14.3  n 和k 的提取工具 295 eiRVw5g  
14.4  基底的参数提取 302 y$6EEp  
14.5  金属的参数提取 306 4\uq$.f-  
14.6  不正确的模型 306 Rd5pLrr[0)  
14.7  参考文献 311 #'RfwldD9  
15  反演工程 313 lTtc#  
15.1  随机性和系统性 313 aQzmobleep  
15.2  常见的系统性问题 314 G(t&(t`[  
15.3  单层膜 314 !FB2\hiM  
15.4  多层膜 314 !d[]Qt%mA  
15.5  含义 319 5-S-r9  
15.6  反演工程实例 319 '
A1y~x#2B  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 -B-HZ_  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ]+tO  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Hd gABIuX  
16.1  光学性质的热致偏移 329 f
3:dn7  
16.2  应力工具 335 L},o;p:  
16.3  均匀性误差 339 XjxI@VXzUV  
16.3.1  圆锥工具 339 I7t}$S6  
16.3.2  波前问题 341 }wEt=zOJ  
16.4  参考文献 343 &W&A88FfZU  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 >N}+O<Fc  
17.1  引言 345 0TiDQ4}i[  
17.2  操作数 345 DQ0 UY  
18  如何在Function中编写脚本 351 %O7?:#_  
18.1  简介 351 \\d8ulu  
18.2  什么是脚本？ 351 r"\<+$ 7  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 !thFayq  
18.4  基础 352 N~S#(.}[  
18.4.1  Classes（类别） 352 WM=)K1p0u  
18.4.2  对象 352 2_Cp}Pj  
18.4.3  信息（Messages） 352 Vgy12dE  
18.4.4  属性 352 +j$nbU0U  
18.4.5  方法 353 zhyf}Ta'  
18.4.6  变量声明 353 c]ga)A(  
18.5  创建对象 354 <YCR^?hJSi  
18.5.1  创建对象函数 355 eQqCRXx  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ^a!oq~ZSy  
18.5.3 丢弃对象 356 6r[pOl:  
18.5.4  总结 356 "ZmxHMf  
18.6  脚本中的表格 357 &iy7It  
18.6.1  方法1 357 B>cx[.#!  
18.6.2  方法2 357 @ W q8AFo  
18.7 2D Plots in Scripts 358 'l-VWqR-  
18.8 3D Plots in Scripts 359 IQmlmu  
18.9  注释 360 X6?Gxf,  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 (?.h<v1}  
18.11  一个更高级的脚本 362 $ylxl"Y  
18.12  <esc>键 364 I6S>*V  
18.13 包含文件 365 ?~]mOv>  
18.14  脚本被优化调用 366 hWX4 P  
18.15  脚本中的对话框 368 5\}QOL  
18.15.1  介绍 368 !8RJHMX&  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 !Uhcjfq`e  
18.15.3  输入框函数 370 7a.iT-*  
18.15.4  自定义对话框 371 V@1,((,l  
18.15.5  对话框编辑器 371 qs9r$o.\l  
18.15.6  控制对话框 377 cn9=wm\\  
18.15.7  更高级的对话框 380 :`4LV  
18.16 Types语句 384 i2LN`5k  
18.17 打开文件 385 -,$:^4  
18.18 Bags 387 KT<N ;
[;  
18.13  进一步研究 388 i}))6   
19  vStack 389 *r6v9  
19.1  vStack基本原理 389 ^[2siG  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 sq8O+AWl  
19.3  五棱镜 393 4k6:   
19.4 光束距离 396 Ka"1gbJ|  
19.5 误差 399 Yg1HvSw\  
19.6  二向分色棱镜 399 8yuTT^  
19.7  偏振泄漏 404 gM6o~ E  
19.8  波前误差—相位 405 FGpV ]p  
19.9  其它计算参数 405 =]<X6!0mR  
20  报表生成器 406 .O{_^~w_q  
20.1  入门 406  Y@b|/+  
20.2  指令(Instructions) 406 XKT[8o<L  
20.3  页面布局指令 406 QCfR2Nn}  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Jd33QL}Hj  
20.5  表格中的常见参数 408 $^#q0Yx  
20.6  迭代指令 408 cZw_^@!  
20.7  报表模版 408 a1v?{vu\E  
20.8  开始设计一个报表模版 409 "m}N hoD4  
21  一个新的project 413 Z>W&vDeuN  
21.1  创建一个新Job 414 YsRq.9Mr  
21.2  默认设计 415 SQJ4}w>i  
21.3  薄膜设计 416 U(<~("ocN  
21.4  误差的灵敏度计算 420 )Qo^Mz  
21.5  显色指数计算 422 &Hl w2^  
21.6  电场分布 424 O*Z-3l  
后记 426 ]pVuRj'pP  
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'5 9{VA6h  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 pEb/yIT"  
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)JqF.  
《Essential Macleod中文手册》 y*I,i*iv  
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目  录 {ka={7  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 3X1 U  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 Z$K[e  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 +a'nP=e&  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 z+nq<%"'  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 4uv*F:eo  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 _P=L| U#C  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 //^{u[lr  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 :)k|O
nz  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Qgl5Jr.  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 I"W
mDC`1  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 #| m*
k  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 sTi3x)#xB  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Qmj%otSg  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 er>@- F7w  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 QV=|' S  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 %nj{eT  
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价  格：400元