[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 1nI^-aQ3  
{^m
Kvc  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 0<.RA%dj  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 z9DcnAs  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 VagT_D  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 7-*=|gl+  
1. Essential Macleod软件介绍 e2w&&B-  
1.1 介绍软件 D4Etl5k  
1.2 创建一个简单的设计 g"K>5Cb  
1.3 绘图和制表来表示性能 =&vFVIhWcf  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 .H~Y
I  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） "2{%JFE  
1.6 特定设计的公式技术 pC(sS0J  
1.7 交互式绘图 O{]9hm(tN  
2. 光学薄膜理论基础 x({C(Q'O  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 *Y6xvib9*  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 L/Vx~r`P  
3. 材料管理 2@khSWV  
3.1 材料模型 (= ;N{u  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ;Ii1B{W  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 :O-1rD  
3.4 基板光学常数的提取 `u XQ z7
 
4. 光学薄膜设计优化方法 :a0zT#u  
4.1 参考波长与g qCPmbg  
4.2 四分之一规则 WZn.;  
4.3 导纳与导纳图 }dYBces  
4.4 斜入射光学导纳 BRv x[u  
4.5 光学薄膜设计的进展 x#H 3=YD*  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ~*.-  
4.6.1 优化目标设置 rs;r $  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） k'3Wt*i  
4.6.3 膜层锁定和链接 t ^SzqB  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 Z(GfK0vU
 
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 (zcLx;N  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 |E)aT#$f'  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 {38bv.3'  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 sa&) #Z:  
5.5 如何在Function中编写脚本 1AD]v<M  
6. 光学薄膜系统案例 j/!H$0PN  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 /)L 0`:I#  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 I)SG wt-  
6.3 Stack应用范例说明 @It>*B yB.  
7. 薄膜性能分析 p/GVTf  
7.1 电场分布 '{b1!nC;  
7.2 公差与灵敏度分析 7h9U{4r: M  
7.3 反演工程 kG0Yh2;#  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 I5ZqBB  
8. 真空技术 O XP\R  
8.1 常用真空泵介绍 </`yd2>
 
8.2 真空密封和检漏 * ?Jz2[B  
9. 薄膜制备技术 /)3Lnn
{W  
9.1 常见薄膜制备技术 b #fTAC;<  
10. 薄膜制备工艺 bBc-^  
10.1 薄膜制备工艺因素 j2 %^qL  
10.2 薄膜均匀性修正技术 [g|Y7.j8  
10.3 光学薄膜监控技术 7^6uG6  
11. 激光薄膜 `'S0*kMT  
11.1 薄膜的损伤问题 EcL-V>U#M  
11.2 激光薄膜的制备流程 na+d;h*~y  
11.3 激光薄膜的制备技术 w3T]H_V  
12. 光学薄膜特性测量 aHzHvl  
12.1 薄膜光谱测量 /RnTQ4   
12.2 薄膜光学常数测量 !ZXUPH  
12.3 薄膜应力测量 #I*QX%(H#  
12.4 薄膜损伤测量 f58?5(Dc|  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 KzUlTl0  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 :mcYZPX#  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 Xd `vDgD  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 C#0Qd%  
s#9Ui#[=h  
,E )|y4  
?/hZb"6W  
目录 LPd\-S_rsP  
Preface 1 {-/^QX]6  
内容简介 2 Dh4 6o|P  
目录 i 2/ rt@{V(  
1  引言 1 Z~  
2  光学薄膜基础 2 t<iEj"5  
2.1  一般规则 2 OX]V)QHVZ  
2.2  正交入射规则 3 >o,^b\  
2.3  斜入射规则 6 R"v 3!P  
2.4  精确计算 7 o`S?  
2.5  相干性 8 rZXrT}Xh{W  
2.6 参考文献 10 *jq7X  
3  Essential Macleod的快速预览 10 "UFs~S|e  
4  Essential Macleod的特点 32 Io`P,l:  
4.1  容量和局限性 33 _*M42<wcO  
4.2  程序在哪里？ 33 Cizvw'XDV  
4.3  数据文件 35 4bVO9aUG{  
4.4  设计规则 35 `mfq 2bVc  
4.5  材料数据库和资料库 37 >4` dy  
4.5.1材料损失 38 T=f|,sK +7  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Ga>uFb}W~  
4.5.2 材料库 41 CBYX]  
4.5.3导出材料数据 43 oTjyN\?H  
4.6  常用单位 43 9# 4Y1LS)  
4.7  插值和外推法 46 ji1HV1S  
4.8  材料数据的平滑 50 :'L2J  
4.9 更多光学常数模型 54 F'}'(t+oAm  
4.10  文档的一般编辑规则 55 m><w0k?t  
4.11 撤销和重做 56 WUc#)EEM)  
4.12  设计文档 57 r;>+)**@vl  
4.10.1  公式 58 ~5 N)f UI\  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ,QIF
&  
4.10.3  沉积密度 59 `A$!]&[~|  
4.10.4 平行和楔形介质 60 lT&wOm3  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 QS.>0i/7l  
4.10.4  性能 61 g1E~+@  
4.10.5  保存设计和性能 64 +yob)%  
4.10.6  默认设计 64 \`<cH#  
4.11  图表 64 eK_*2=;XRW  
4.11.1  合并曲线图 67 OI1ud/>h  
4.11.2  自适应绘制 68 Y}*\[}l:&x  
4.11.3  动态绘图 68 U6Z
R->:  
4.11.4  3D绘图 69 lASL8O&\  
4.12  导入和导出 73 N]EcEM#  
4.12.1  剪贴板 73 [S]S^ej*8  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 BcjP+$k4_  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ?^mi3VM  
4.13  背景 77 x&Vm!,%:1  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ?<&O0'Q  
4.15  生成Rugate 84 c\6+=\  
4.16  参考文献 91 X[s8X!#  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 5RH2"*8T  
5.1  Jobs 92 zJDSbsc$%  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 qSqI7ptA\  
5.3  输入材料 94 {gA\ph%s  
5.4  设计数据文件夹 95 /v|"0  
5.5  默认设计 95 kd:$oS_*s  
6  细化和合成 97 W%2 80\h  
6.1  优化介绍 97  XY.5Rno4  
6.2  细化 (Refinement) 98 OJN2z  
6.3  合成 (Synthesis) 100 mME4 l  
6.4  目标和评价函数 101 ne61}F"E  
6.4.1  目标输入 102 "vYE+  
6.4.2  目标 103 p^nL&yIW,%  
6.4.3  特殊的评价函数 104 iqQUtE]E_  
6.5  层锁定和连接 104 aV o;~h~  
6.6  细化技术 104 t>GfM  
6.6.1  单纯形 105 )D'^3)FF  
6.6.1.1 单纯形参数 106 UX3BeUi.)  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 pMg3fUIM  
6.6.2.1 Optimac参数 108 &Cim!I  
6.6.3  模拟退火算法 109 93+"D`  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ;=j@, yu  
6.6.4  共轭梯度 111 `-`qdda  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 9odJr]  
6.6.5  拟牛顿法 112 -7/s]9o'  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 &mj6rIz  
6.6.6  针合成 113 @~<j&FTT  
6.6.6.1 针合成参数 114 <Llp\XcZ  
6.6.7 差分进化 114 \T]EZ'+O  
6.6.8非局部细化 115 \\BCcr\l  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Y={&5Mir  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 ,uw132<b  
6.7.1 　细化 116 f)c~cJz<q  
6.7.2　 合成 117 9Suu-A  
6.8  参考文献 117 ;Sd\VR  
7  导纳图及其他工具 118 !3i
Gz_y  
7.1  简介 118 svelYe#9z  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 }pk#!
N  
7.2.1  四分之一波长规则 119 bWl5(S` Z  
7.2.2  导纳图 120 Q%/<ZC.Mz6  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 I/VxZ8
T  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 -yGDh+-  
7.5  斜入射导纳图 141 R1F5-#?'E  
7.6  对称周期 141 kyAXRwzI  
7.7  参考文献 142 "G-1>:   
8  典型的镀膜实例 143 'Y$R~e^Y?  
8.1  单层抗反射薄膜 145 9_\'LJ  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 {QBB^px  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ;!o]wHmA  
8.4  W-膜层 148 2fU$J>Y  
8.5  V-膜层 149 Ngr/QL]Q  
8.6  V-膜层高折射基底 150 )!g{Sbl  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 |/gW_;(  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 DjU9 uZT  
8.9  四层抗反射薄膜 153 =.y*_Ja  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 d=,%=@  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 7'wS\/e4a  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 &U+ _ -Ph  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 9Rm/V5  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 =fm]Dl9h*  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 )uv=S;+  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161  $Vc~/>  
8.17  1/4波长堆栈 162 kc7l
c|'z  
8.18  陷波滤波器 163 =0@&GOq  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 |AlR^N  
8.20  褶皱 165 |IunpZV  
8.21  消偏振分光器1 169 V{|}}b?w?  
8.22  消偏振分光器2 171 < RCLI|  
8.23  消偏振立体分光器 172 IHgeQ F ~  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ^xf<nNF:p  
8.25  立体偏振分束器1 174 }M1sksk5
 
8.26  立方偏振分束器2 177 fzjU<?}  
8.27  相位延迟器 178 e*+FpW@  
8.28  红外截止器 179 ,!V]jP)  
8.29  21层长波带通滤波器 180 X2tk[Kr  
8.30  49层长波带通滤波器 181 [^8n0{JiN  
8.31  55层短波带通滤波器 182 [D5t{[i  
8.32  47 红外截止器 183 "Jjs"7  
8.33  宽带通滤波器 184 sC[yI Up  
8.34  诱导透射滤波器 186 y9#$O(G  
8.35  诱导透射滤波器2 188 & cNy  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 {pb>$G:gfx  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 6#j$GH *  
8.35  增益平坦滤波器 193 0&ByEN99  
8.38  啁啾反射镜 1 196 SI:U0gUc  
8.39  啁啾反射镜2 198 7iJ&6=/  
8.40  啁啾反射镜3 199 m
MMQ|ea  
8.41  带保护层的铝膜层 200 %{6LUn  
8.42  增加铝反射率膜 201 <p;k)S2J  
8.43  参考文献 202 Hi_G  
9  多层膜 204 b
$k&dT\o  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 .1 %T W)  
9.2  内部透过率 204 do uc('@  
9.3 内部透射率数据 205 3~e8bcb  
9.4  实例 206 nC {K$  
9.5  实例2 210 $+}+zZX5  
9.6  圆锥和带宽计算 212 v^ d]rSm  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 X-Wz:NA  
10  光学薄膜的颜色 216 y*{Zbz#{  
10.1  导言 216 DO7W}WU  
10.2  色彩 216 vK$"# F~  
10.3  主波长和纯度 220 ?PTk1sB  
10.4  色相和纯度 221 qyHZ M}/  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 |*RYq2y  
10.6 色差 226 p;?*}xa  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 3:%QB9qc]'  
10.8  颜色渲染指数 234 1b8p~-LsU  
10.9  色差计算 235 m\/ Tj0e  
10.10  参考文献 236 yfU<
UQ!1  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 '03->7V  
11.1  短脉冲 238 v#=`%]mL  
11.2  群速度 239 {brMqE>P#  
11.3  群速度色散 241 >:=|L%]s;\  
11.4  啁啾(chirped) 245 ]d[ge6  
11.5  光学薄膜—相变 245 ND<!4!R^  
11.6  群延迟和延迟色散 246 >zkRcm  
11.7  色度色散 246 R(j1n,c]  
11.8  色散补偿 249 ylKmj
]A  
11.9  空间光线偏移 256 /v095H@  
11.10  参考文献 258 o;b0m;~   
12  公差与误差 260 g<*BLF  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ( 6(x'ByT  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 M8k"je7`s  
12.2.1  误差工具 267 Y-ux7F{=z  
12.2.2  灵敏度工具 271 N8KQz_]9I  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 >pkT1Z&'  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 74<!&t  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 A?G IBjs  
12.3  参考文献 276 |%~+2m  
13  Runsheet 与Simulator 277 EL3|u64GO  
13.1  原理介绍 277 B7\k< Nit0  
13.2  截止滤光片设计 277 6)pH|d.FR  
14  光学常数提取 289 4[ryKPa,  
14.1  介绍 289 J==SZ v  
14.2  电介质薄膜 289 ,(a5@H$f  
14.3  n 和k 的提取工具 295 a:~@CUD >I  
14.4  基底的参数提取 302 D[O{(<9  
14.5  金属的参数提取 306 1exl0]-  
14.6  不正确的模型 306 B
h&Ew
 
14.7  参考文献 311 \yrisp#`  
15  反演工程 313 X\p,%hk \  
15.1  随机性和系统性 313 (2?G:+C 7  
15.2  常见的系统性问题 314 H1!iP$1#V  
15.3  单层膜 314 >-E<n8  
15.4  多层膜 314 *zO&N^X.4  
15.5  含义 319 p}Fs'l?7Rq  
15.6  反演工程实例 319  TIy&&_p  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 m?s}QGSka  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 F>]#}_  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 BiE08,n
j  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Ou'?]{  
16.2  应力工具 335 ^4%Zvl  
16.3  均匀性误差 339 t+CWeCp,  
16.3.1  圆锥工具 339 (3\Xy   
16.3.2  波前问题 341 OPpjuIRv  
16.4  参考文献 343 W{XkVKe1a  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 %/kyT%1  
17.1  引言 345 I[o*RKT'"  
17.2  操作数 345 w^K^I_2ge  
18  如何在Function中编写脚本 351 ]j>i.5  
18.1  简介 351 
]L2Oz  
18.2  什么是脚本？ 351 fJjgq)9  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 (_* wt]"'  
18.4  基础 352 l? #xAZx&_  
18.4.1  Classes（类别） 352 Kex[ >L10G  
18.4.2  对象 352 Vbh6HqAHxJ  
18.4.3  信息（Messages） 352 cIXwiC8t  
18.4.4  属性 352 8l/[(] &  
18.4.5  方法 353 h%d^Gq~  
18.4.6  变量声明 353 i5hD
#  
18.5  创建对象 354 ^SEdA=!  
18.5.1  创建对象函数 355 jdevat,&u  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 K|W^l\Lt  
18.5.3 丢弃对象 356 UVf\2\Y  
18.5.4  总结 356 kfC0zd+  
18.6  脚本中的表格 357 p]W+eT  
18.6.1  方法1 357 n)8Yj/5  
18.6.2  方法2 357 ]TO/
kl/  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ETv9k g  
18.8 3D Plots in Scripts 359 5IVks
g  
18.9  注释 360 v4?iOD  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 (.K\Jg'Y6j  
18.11  一个更高级的脚本 362 F-n"^.7  
18.12  <esc>键 364 %XhfXd'  
18.13 包含文件 365 xu%'GZ,o9  
18.14  脚本被优化调用 366 QhGXBM  
18.15  脚本中的对话框 368 jyW[m,#(go  
18.15.1  介绍 368 )tZ`K |  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 9-h.|T2il  
18.15.3  输入框函数 370 _3Q8n|  
18.15.4  自定义对话框 371 OVoO6F]  
18.15.5  对话框编辑器 371 !J>A,D"-
 
18.15.6  控制对话框 377 #;9H@:N  
18.15.7  更高级的对话框 380 "5DJu~  
18.16 Types语句 384 n1(?|aJ#1  
18.17 打开文件 385 \Z)1 ?fq  
18.18 Bags 387 t> Q{yw  
18.13  进一步研究 388 g: %9jf  
19  vStack 389 l_FGZ!7  
19.1  vStack基本原理 389 _rQUE
^9  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 T)u4S[ &  
19.3  五棱镜 393 f%^'P"R  
19.4 光束距离 396 ?z`MPdO  
19.5 误差 399 ayp b  
19.6  二向分色棱镜 399 O?K./So&  
19.7  偏振泄漏 404 eVy2|n9rH  
19.8  波前误差—相位 405 Yt1mB[&f^  
19.9  其它计算参数 405 #JNy  
20  报表生成器 406 vX1uR]A[  
20.1  入门 406 /MMtTB H  
20.2  指令(Instructions) 406 HR{s&ho  
20.3  页面布局指令 406 P9#)~Zm
}]  
20.4  常见的参数图和三维图 407 "h$R ]~eG  
20.5  表格中的常见参数 408 f>iuHR*EXB  
20.6  迭代指令 408 2PC5^Ni/9@  
20.7  报表模版 408 !c8L[/L  
20.8  开始设计一个报表模版 409 vP]9;mQ  
21  一个新的project 413 k0K A~  
21.1  创建一个新Job 414 XDmbm*~i  
21.2  默认设计 415 u]vPy ria  
21.3  薄膜设计 416 IlZu~B9c  
21.4  误差的灵敏度计算 420 bAhZ7;T~  
21.5  显色指数计算 422 2bQ/0?.).-  
21.6  电场分布 424 [STj
e8+V  
后记 426 R8sck)k'}  
~Yk"Hos  
O8RzUg&  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 a|x8=H  
8GB]95JWwp  
《Essential Macleod中文手册》 $4j^1U`~)K  
ZxSsR{  
目  录 Zw=G@4xoU  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 8=H\?4)()Y  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 19y 0$e_V  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 S=9E@(]  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 PZ]5Hf1"  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 }brr ))  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 "\T"VS^pd  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 Z;*`fd?8  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 : ^(nj7D  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 sco uO$
K  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 FLbZ9pX}  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 QWhp:]}  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 A~y VYC6l  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 BR3mAF  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 *,jqE9:O  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 MSB%{7'o  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 N{pa) /  
~= 9Vv  
价  格：400元