时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 wUW^
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授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 @AaM]?=P{
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 L/_h5Q:'W
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 t*m04* }
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
特邀专家介绍
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a$yAF4HR< 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
>0DQ<@ot: 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要
J:Ea|tXK^ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
0f&B;?)! 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲
D+P( 1. Essential Macleod软件介绍
Ci4`, 1.1 介绍
软件 %i{Z@ 1.2 创建一个简单的设计
P}29wr IZ 1.3 绘图和制表来表示性能
)=;GQ*<8Zs 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
ztTj2M" 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
?1*Ka 1.6 特定设计的公式技术
d00#;R 1.7 交互式绘图
E;/WP!/. 2. 光学薄膜理论基础
y<0zAsT 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
U(P^-J<n1 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
6=U81 3. 材料管理
_v bCC7Bf8 3.1 材料模型
3}(6z"r 3.2 介质薄膜光学常数的提取
3)88B"E 3.3 金属薄膜光学常数的提取
5.5<.") 3.4 基板光学常数的提取
!TvNT}4 Z 4. 光学薄膜设计
优化方法
S[J eW 4.1 参考
波长与g
WvR-0>E 4.2 四分之一规则
yiO!ZT 4.3 导纳与导纳图
a?S5 = 4.4 斜入射光学导纳
;$,=VB:' 4.5 光学薄膜设计的进展
+wc8rE6+W 4.6 Macleod软件的设计与优化功能
?g^42IYG 4.6.1 优化目标设置
n75)%-
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
uNCM,J!#~ 4.6.3 膜层锁定和链接
6D|[3rXr 5. Essential Macleod中各个模块的应用
VK*Dm:G0 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估
k-IL%+U 5.2 光通信用窄带滤光片模拟
5{Q5?M] 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
})W9=xO~ 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟
V5:ad 5.5 如何在Function中编写脚本
2 j.6 6. 光学薄膜系统案例
8C]K36q 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等
h ` qlI1] 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等
*/c4b:s 6.3 Stack应用范例说明
X)oxNxZ[A 7. 薄膜性能分析
&H8wYs 7.1 电场分布
WX
.Ax$fT 7.2 公差与灵敏度分析
%"-bG'Yc 7.3 反演工程
"| Oj!&0 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
m}A| W[p< 8. 真空技术
A12EUr5$ 8.1 常用真空泵介绍
A,67)li3 8.2 真空密封和检漏
9gq+,g>E_ 9. 薄膜制备技术
'
`
_TFTO 9.1 常见薄膜制备技术
GWFF.Mo^ 10. 薄膜制备工艺
` _aX>fw 10.1 薄膜制备工艺因素
Drm#z05i[g 10.2 薄膜均匀性修正技术
/2^"c+/'p 10.3 光学薄膜监控技术
OT0%p) 11. 激光薄膜
Z$?(~ln 11.1 薄膜的损伤问题
&O
+?#3 11.2 激光薄膜的制备流程
8;6j 11.3 激光薄膜的制备技术
WC0z'N({W 12. 光学薄膜特性测量
!/nXEjW? 12.1 薄膜
光谱测量
37apOK4+ 12.2 薄膜光学常数测量
"s-3226kj 12.3 薄膜应力测量
LMKhtOZ? 12.4 薄膜损伤测量
F m?j-' 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
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书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介
{wy{L-X Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
>?<S( 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
wZ4w`|' 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
Gj_7wP$ 'oKen!?A 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
D:] QBA)C Su/8P[q_ 目录
n6AA%? 5 Preface 1
_'8P8T& 内容简介 2
IG+g7kDCY 目录 i
QC,fyw\ 1 引言 1
(E;+E\E 2 光学薄膜基础 2
= N&5]Z 2.1 一般规则 2
GYZP?E p* 2.2 正交入射规则 3
Vv54;Js9 2.3 斜入射规则 6
OZc4 -5 2.4 精确计算 7
Ff{,zfN+3 2.5 相干性 8
l1bkhA b
2.6 参考文献 10
:KmnwYm 3 Essential Macleod的快速预览 10
44NMof8N 4 Essential Macleod的特点 32
HQvJ*U4++ 4.1 容量和局限性 33
GO?hB4 9T 4.2 程序在哪里? 33
xi51,y+(5 4.3 数据文件 35
3
,zW6 -} 4.4 设计规则 35
4#CHX^De 4.5 材料数据库和
资料库 37
lZAXDxhnT 4.5.1材料损失 38
NSa6\.W) 4.5.1材料数据库和导入材料 39
5?MaKNm } 4.5.2 材料库 41
[#=IKsO'R6 4.5.3导出材料数据 43
}?\^^v h7 4.6 常用单位 43
e2e!"kEF 4.7 插值和外推法 46
NbC2N)L4 4.8 材料数据的平滑 50
[
*Dj7zt: 4.9 更多光学常数模型 54
@ ]40xKF 4.10 文档的一般编辑规则 55
Oa2\\I
4.11 撤销和重做 56
ZNVrja* 4.12 设计文档 57
zauDwV= 4.10.1 公式 58
MyZVx|7E 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
X n8&&w" 4.10.3 沉积密度 59
ollsB3]] 4.10.4 平行和楔形介质 60
HfZ ^ED"} 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
lJ]]FuA-Q 4.10.4 性能 61
%s497' 4.10.5 保存设计和性能 64
s+~GQcj<T 4.10.6 默认设计 64
0-~s0R89A 4.11 图表 64
X% )~i[_DV 4.11.1 合并曲线图 67
^,0Lr$+ 4.11.2 自适应绘制 68
=z;]FauR! 4.11.3 动态绘图 68
RIQ-mpg~(k 4.11.4 3D绘图 69
3&>0'h 4.12 导入和导出 73
HKr}"`I. 4.12.1 剪贴板 73
DK
eB%k 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
4Q/{lqG 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
l$1NI#& 4.13 背景 77
_RzFh 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
(i L*1f 4.15 生成Rugate 84
DuNindo8 4.16 参考文献 91
e!PB3I 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
NXQ=8o9,9 5.1 Jobs 92
GGnlkp& E 5.2 创建一个新Job(工作) 93
,f{w@Er 5.3 输入材料 94
{nXygg
J 5.4 设计数据文件夹 95
?"*JV1 9 5.5 默认设计 95
}toe'6 6 细化和合成 97
=\_gT=tZ 6.1 优化介绍 97
Q-<Qm ? 6.2 细化 (Refinement) 98
F~i ~%f, 6.3 合成 (Synthesis) 100
iGSA$U P| 6.4 目标和评价函数 101
;W+8X-B 6.4.1 目标输入 102
>{QO$F# 6.4.2 目标 103
(BFwE@1" 6.4.3 特殊的评价函数 104
4e/!BGkAS 6.5 层锁定和连接 104
rf-yUH]&S 6.6 细化技术 104
r<vy6 6.6.1 单纯形 105
q\}+]|nGs 6.6.1.1 单纯形
参数 106
H<[~V0= 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
`vMhrn 6.6.2.1 Optimac参数 108
5VP0Xa ~ 6.6.3 模拟退火算法 109
8q%y(e 6.6.3.1 模拟退火参数 109
70GBf" 6.6.4 共轭梯度 111
ax>j3HKi 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
g9q}D- 6.6.5 拟牛顿法 112
PcEE`. 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
t[J=8rhER 6.6.6 针合成 113
En1LGi4# 6.6.6.1 针合成参数 114
W^H3 =hZ 6.6.7 差分进化 114
t))MZw&@ 6.6.8非局部细化 115
m0As t<u 6.6.8.1非局部细化参数 115
EwX&Cj". 6.7 我应该使用哪种技术? 116
w8>h6x" 6.7.1 细化 116
5e$1KN` 6.7.2 合成 117
\7i_2|w 6.8 参考文献 117
u1L^INo/ 7 导纳图及其他工具 118
Jn^b}bk t 7.1 简介 118
QOo'Iv+EL 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
;RJ
8h
x 7.2.1 四分之一波长规则 119
(z>t 4(%\ 7.2.2 导纳图 120
?9a%g\`?: 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
7M~sol[* 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
,#UZp\zZ* 7.5 斜入射导纳图 141
e~'lWJD 7.6 对称周期 141
iW^J>aKy 7.7 参考文献 142
s6@mXO:H^ 8 典型的镀膜实例 143
Cp(2]Eb 8.1 单层抗反射薄膜 145
u30D`sky 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
7Vsp<s9bj 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
oD V6[e 8.4 W-膜层 148
E{&MmrlL, 8.5 V-膜层 149
X0u,QSt'O 8.6 V-膜层高折射基底 150
{?eUAB< 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
nq]6S$3
6 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
Q}|K29Y:p 8.9 四层抗反射薄膜 153
W\k8f+Ke 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
R
,qQC< 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
8 s$6R|ti 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
D<;~eZ' 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
nFNRiDx 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
)^ Y+Vn 8.15十五层宽带抗反射膜 159
B6Kl_~gT 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
g w([08 8.17 1/4波长堆栈 162
\"oZ\_ 8.18 陷波滤波器 163
Z-Qp9G'
8.19 厚度调制陷波滤波器 164
[&