[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 ra>`J_  

,7P^]V1  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 lc-|Q#$3$  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 :Y>]6  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 E5 oD|'=WA  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 u`@f~QP0  
1. Essential Macleod软件介绍 zfb _ )  
1.1 介绍软件 S=p u  
1.2 创建一个简单的设计 (OB8vTRXP  
1.3 绘图和制表来表示性能 ]5fM?:<l  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 qJU)d  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） GiXde}bm  
1.6 特定设计的公式技术 bFezTl{M  
1.7 交互式绘图 l7,qWSsnK  
2. 光学薄膜理论基础 sRQh~5kM  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 >UY_:cW4%m  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 o2d~  
3. 材料管理 |nN/x<v  
3.1 材料模型 AJfi,rFPg  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Ki/5xK=s  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 h(Ed%  
3.4 基板光学常数的提取 +[/47uFbI  
4. 光学薄膜设计优化方法 r)(BT:2m  
4.1 参考波长与g \!Zh="hN  
4.2 四分之一规则 |ozoc"'  
4.3 导纳与导纳图 1\*B.  
4.4 斜入射光学导纳 ]t)M}^w  
4.5 光学薄膜设计的进展 rJZs 5g`  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 8$ZSF92C  
4.6.1 优化目标设置 PbUcbb17  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） 4V|z)=)A  
4.6.3 膜层锁定和链接 4>VZk^%b#  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 `l2<  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 !u4Z0!Ll  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 07Q[L'}y@  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 N5s
|a5  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 IXvz&4VD  
5.5 如何在Function中编写脚本 A;-z#R#V5  
6. 光学薄膜系统案例 7. 9s.*  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ef}E.Bl  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 5A$az03y$\  
6.3 Stack应用范例说明 H!r Kz  
7. 薄膜性能分析 '$h@  
7.1 电场分布 #oJbrh9J6  
7.2 公差与灵敏度分析 ESxC{ "  
7.3 反演工程 * \o$-6<  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 R``VQ  
8. 真空技术 e9@fQ  
8.1 常用真空泵介绍 &1E~ \
8U  
8.2 真空密封和检漏 `bZU&A(`Be  
9. 薄膜制备技术 6!%d-Z7)  
9.1 常见薄膜制备技术 S2ppKlVv  
10. 薄膜制备工艺 *76viqY;dE  
10.1 薄膜制备工艺因素 0uIV6LI  
10.2 薄膜均匀性修正技术 M&djw`B  
10.3 光学薄膜监控技术 2Cd --W+=  
11. 激光薄膜 >}DjHLTW\  
11.1 薄膜的损伤问题 ?[S >&Vq  
11.2 激光薄膜的制备流程 nN=:#4 >Y  
11.3 激光薄膜的制备技术 u1)TG"+0  
12. 光学薄膜特性测量 K>R;~ o  
12.1 薄膜光谱测量 qSoBj&6y  
12.2 薄膜光学常数测量 r($_>TS&"  
12.3 薄膜应力测量 B2G5hbaA  
12.4 薄膜损伤测量 Krr?`n  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 h76NR  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Xh0wWU*  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 YR|(;B  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 t
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B|h  
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~#uQm  
J[<pZ [  
"zedbJ0  
目录 (Gi+7GMV'  
Preface 1 LZQFj/,Jg  
内容简介 2 V+=*2?1  
目录 i v$)@AE  
1  引言 1 JMirz~%ib  
2  光学薄膜基础 2 X40la_[.  
2.1  一般规则 2 YMj7  
2.2  正交入射规则 3 S:p.W=TAB  
2.3  斜入射规则 6 ?Rt1CDu  
2.4  精确计算 7 d4p{5F7]^  
2.5  相干性 8 wWJQ~i?  
2.6 参考文献 10 ^p"4)6p-W  
3  Essential Macleod的快速预览 10 J-, H6u  
4  Essential Macleod的特点 32 xH"W}-#[  
4.1  容量和局限性 33 a(}VA|l  
4.2  程序在哪里？ 33 us\%BxxI9  
4.3  数据文件 35 ZSF=  
4.4  设计规则 35 vJTfo#C|  
4.5  材料数据库和资料库 37 ol?z<53X]  
4.5.1材料损失 38 xm}q6>jRV  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ;&+[W(7Sy  
4.5.2 材料库 41 x2j/8]'o  
4.5.3导出材料数据 43 -7-Fd_F8  
4.6  常用单位 43 $Yx6#m}[M  
4.7  插值和外推法 46 z*M}=`M$  
4.8  材料数据的平滑 50 hl6,#2$  
4.9 更多光学常数模型 54 Yg=E@F   
4.10  文档的一般编辑规则 55 -5V)q.Og  
4.11 撤销和重做 56 + ZR(  
4.12  设计文档 57 >/TB_ykb  
4.10.1  公式 58 fa!3/X+  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #*yM2H"7,;  
4.10.3  沉积密度 59 9N~8s6Ob  
4.10.4 平行和楔形介质 60 F!OOrW]p0  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Y )u_nn'[  
4.10.4  性能 61 )(h&Q? Ar  
4.10.5  保存设计和性能 64 z:Xj_ `p  
4.10.6  默认设计 64 )l+XDI  
4.11  图表 64 0|+>A?E}E  
4.11.1  合并曲线图 67 n!0${QVnS  
4.11.2  自适应绘制 68 ~vW)1XnK  
4.11.3  动态绘图 68 \LIy:$`8  
4.11.4  3D绘图 69 @9Oe
C O  
4.12  导入和导出 73 B>~k).M&,  
4.12.1  剪贴板 73 j~,h)C/v  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 g2g
`,"T  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Cz'xGW{  
4.13  背景 77 D^66p8t  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 N<KKY"?I'  
4.15  生成Rugate 84 gCv"9j<j
 
4.16  参考文献 91 %B#hb<7}  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Eyr5jXt%;  
5.1  Jobs 92 d^KBIz8$5l  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 !(kX~S  
5.3  输入材料 94 zc6Ho  
5.4  设计数据文件夹 95 5a=nF9/  
5.5  默认设计 95 wl7 MfyU  
6  细化和合成 97 qTyg~]e9(  
6.1  优化介绍 97 N=>- Q)  
6.2  细化 (Refinement) 98 eQ$N:]  
6.3  合成 (Synthesis) 100 x S  
6.4  目标和评价函数 101 >$2E1HW.  
6.4.1  目标输入 102 CdX`PQ  
6.4.2  目标 103 :&Qb>PH[  
6.4.3  特殊的评价函数 104 NNwc!x)*  
6.5  层锁定和连接 104 ~k9O5S{  
6.6  细化技术 104 F|ETug n  
6.6.1  单纯形 105 CfQf7-  
6.6.1.1 单纯形参数 106 }C=Quy%Z<  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 'eqiYY|  
6.6.2.1 Optimac参数 108 @q,)fBZq  
6.6.3  模拟退火算法 109 )yHJ[  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ?sV[MsOsC  
6.6.4  共轭梯度 111 S*4f%!  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 q#;BhPc  
6.6.5  拟牛顿法 112 a*V9_Px$&  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 BRe{1i 6  
6.6.6  针合成 113 GA.BI"l  
6.6.6.1 针合成参数 114 T'hml   
6.6.7 差分进化 114 doLkrEm&
 
6.6.8非局部细化 115 >Cvjs  
6.6.8.1非局部细化参数 115 d{W}p~UbH  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 [u[ U_g*  
6.7.1 　细化 116 GOGt?iw*<  
6.7.2　 合成 117 L*P_vCC  
6.8  参考文献 117 ]x2Jpk99a  
7  导纳图及其他工具 118 pP3U,n   
7.1  简介 118 ,NDh@VYe  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 3Q",9(D  
7.2.1  四分之一波长规则 119 for{  
7.2.2  导纳图 120 6{Ks`Af  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 TfL4_IAG.  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 |Td_S|:d  
7.5  斜入射导纳图 141 dPHw3^J0j  
7.6  对称周期 141 ?gLAWz  
7.7  参考文献 142 zyDZ$Dhka  
8  典型的镀膜实例 143 ~]4kkm7Y  
8.1  单层抗反射薄膜 145 .vK.XFZ8R  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 QeL{Wa-2F  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 i!L;? `F{  
8.4  W-膜层 148 eO'xkm  
8.5  V-膜层 149 J2'K?|,m  
8.6  V-膜层高折射基底 150 aRX  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 c -w0  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 H"O$&  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Ss 2$n  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 bjlkX[{}I  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 mk\i}U>`  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 l2(.>-#  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 _e*c  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 *E}Oh  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 9Fk4|+OJ  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 :Dayv6g  
8.17  1/4波长堆栈 162 q@%h^9.  
8.18  陷波滤波器 163 WV2~(/hX&  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 )=Zsv40O  
8.20  褶皱 165 FOSbe]  
8.21  消偏振分光器1 169 p'80d:  
8.22  消偏振分光器2 171 b
_vVB`>  
8.23  消偏振立体分光器 172 *qG$19b  
8.24  消偏振截止滤光片 173 O4E(R?wd  
8.25  立体偏振分束器1 174 *2=W5LaK.  
8.26  立方偏振分束器2 177 {
S*!B  
8.27  相位延迟器 178 Mb/L~gd"  
8.28  红外截止器 179 gH'_ymT= 3  
8.29  21层长波带通滤波器 180 /1[gn8V691  
8.30  49层长波带通滤波器 181 UQ~4c,  
8.31  55层短波带通滤波器 182 /$Z m~Mp  
8.32  47 红外截止器 183 k-Fdj5/  
8.33  宽带通滤波器 184 <raG07{!*  
8.34  诱导透射滤波器 186 "XhOsMJ  
8.35  诱导透射滤波器2 188 $3 4j6;oN  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 oIR.|=Hk{  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ]26m
B  
8.35  增益平坦滤波器 193 yb?{LL-uy  
8.38  啁啾反射镜 1 196 /W`$yM3  
8.39  啁啾反射镜2 198 sMm/4AY]  
8.40  啁啾反射镜3 199 \vVSh  
8.41  带保护层的铝膜层 200 (Xo

SG  
8.42  增加铝反射率膜 201 d=y0yq{L  
8.43  参考文献 202 2e.N"eLNt  
9  多层膜 204 ~.6|dw\p!  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 +#s;yc#=2  
9.2  内部透过率 204 [O_^MA,z  
9.3 内部透射率数据 205 V&[eSVY?  
9.4  实例 206 -\Z `z}D  
9.5  实例2 210 W' e
p6O  
9.6  圆锥和带宽计算 212 13a(FG  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 VgMP^&/gZ  
10  光学薄膜的颜色 216 q{E"pyt36R  
10.1  导言 216 PrSkHxm  
10.2  色彩 216 4P%m>[  
10.3  主波长和纯度 220 xnbsg!`;7W  
10.4  色相和纯度 221 @rwU 1T33  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 DjwQ`MA  
10.6 色差 226 {6O0.}q]&  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 FJT1i@N  
10.8  颜色渲染指数 234 ru{f]|  
10.9  色差计算 235 X>t3|
h  
10.10  参考文献 236 Obo_YE  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ErDL^M-`  
11.1  短脉冲 238 @Tr&`Hi  
11.2  群速度 239 +9[SVw8  
11.3  群速度色散 241 TsHF tj9S  
11.4  啁啾(chirped) 245 5+K;_)   
11.5  光学薄膜—相变 245 q (>c`5  
11.6  群延迟和延迟色散 246 P+Z\3re  
11.7  色度色散 246 ,[`$JNc  
11.8  色散补偿 249 :#$F)]y'\  
11.9  空间光线偏移 256 k)":v3^  
11.10  参考文献 258 g19S  
12  公差与误差 260 bRPO:lAy  
12.1  蒙特卡罗模型 260 O k7zpq  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 3SNL5  
12.2.1  误差工具 267 DZs^ 2Zc  
12.2.2  灵敏度工具 271 p<5!02yQ\  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 B1$ikY  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 >SDpuG&>  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 [U.v:tR   
12.3  参考文献 276 {Q~7M$  
13  Runsheet 与Simulator 277 ~Ltr.ci  
13.1  原理介绍 277 JE!("]&  
13.2  截止滤光片设计 277 u9]1X1wV  
14  光学常数提取 289 )X5(#E  
14.1  介绍 289 0@pu@DP~  
14.2  电介质薄膜 289 |0 !I5|<k  
14.3  n 和k 的提取工具 295 v <Hb-~  
14.4  基底的参数提取 302 T?npQA07=  
14.5  金属的参数提取 306 tln1eN((q  
14.6  不正确的模型 306 G{RTH_p
 
14.7  参考文献 311 `,Orf ZMb  
15  反演工程 313 .Yx_:h=u  
15.1  随机性和系统性 313 kNPDm6m  
15.2  常见的系统性问题 314 S~3\3qt$  
15.3  单层膜 314 ^%#grX#  
15.4  多层膜 314 \%5MAQS  
15.5  含义 319 sLns3&n2  
15.6  反演工程实例 319 2P9J' L  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 #w>~u2W  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 )q3"t2-  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 3z[$4L'.  
16.1  光学性质的热致偏移 329 :a3xvN-l  
16.2  应力工具 335 $}tjS3klr  
16.3  均匀性误差 339 B?6QMC;  
16.3.1  圆锥工具 339 u~F~cDu  
16.3.2  波前问题 341 v0@)t&O  
16.4  参考文献 343 R1%y]]*-P  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 Qn=$8!Qqa  
17.1  引言 345 s".HEP~]=  
17.2  操作数 345 1`-r#-MGG  
18  如何在Function中编写脚本 351 NL!9U,h5|  
18.1  简介 351 #I%s3  
18.2  什么是脚本？ 351 ^M
ytp>7  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 {gU&%j  
18.4  基础 352 =u|~ <zQw  
18.4.1  Classes（类别） 352 8_Z/o5s  
18.4.2  对象 352 YBjdp=als  
18.4.3  信息（Messages） 352 V3.t;.@  
18.4.4  属性 352 \dkOK`)b  
18.4.5  方法 353 _H\<[-l  
18.4.6  变量声明 353 `fS^ j-_M  
18.5  创建对象 354 h-mTj3p-K  
18.5.1  创建对象函数 355 #Ufo)\x  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 tZho
)[1  
18.5.3 丢弃对象 356 %Q4i%:Qi  
18.5.4  总结 356 {THqz$KN  
18.6  脚本中的表格 357 &s VadOBQ  
18.6.1  方法1 357 G]*|H0j  
18.6.2  方法2 357 p;%<mUI  
18.7 2D Plots in Scripts 358 U5+vN[ K  
18.8 3D Plots in Scripts 359 {a"RXa  
18.9  注释 360 C-SLjJw  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 )2.)3w1_4  
18.11  一个更高级的脚本 362 yV]xRaRr2  
18.12  <esc>键 364 u$\a3yi  
18.13 包含文件 365 FFzH!=7T?  
18.14  脚本被优化调用 366 u#jC#u^M  
18.15  脚本中的对话框 368 rVzI_zYqp'  
18.15.1  介绍 368 M{KW@7j  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 wahZK~,EaY  
18.15.3  输入框函数 370 9l
 !S9d  
18.15.4  自定义对话框 371 ][:rLs  
18.15.5  对话框编辑器 371 8^ #mvHah  
18.15.6  控制对话框 377 IZNOWX|Z;  
18.15.7  更高级的对话框 380 x"\
qf'{D  
18.16 Types语句 384 tZ8e`r*  
18.17 打开文件 385 G[z .&l  
18.18 Bags 387 3 ^}A %-bS  
18.13  进一步研究 388 m<@z}%v-  
19  vStack 389 G{lcYP O  
19.1  vStack基本原理 389 M-MKk:o  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 {
o|k.zy  
19.3  五棱镜 393 %ROwr[Dj=  
19.4 光束距离 396 xRxy|x[  
19.5 误差 399 g9>~HF$U  
19.6  二向分色棱镜 399 ZGz|m0b (  
19.7  偏振泄漏 404 (S9f/i^  
19.8  波前误差—相位 405 ,XB%\[pKe  
19.9  其它计算参数 405 @d&H]5  
20  报表生成器 406 vsMmCd)7U  
20.1  入门 406 n=!uNu7  
20.2  指令(Instructions) 406  y4jU{,  
20.3  页面布局指令 406 +^ yq;z  
20.4  常见的参数图和三维图 407 id,NONb\  
20.5  表格中的常见参数 408 )K0i@hM(n  
20.6  迭代指令 408 wCb(>
pL0  
20.7  报表模版 408 yyP-=Lhmo=  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ^jyD#  
21  一个新的project 413 H3O@9YU  
21.1  创建一个新Job 414 ht6244:  
21.2  默认设计 415 aC^$*qN-)  
21.3  薄膜设计 416 9- )qZ  
21.4  误差的灵敏度计算 420 {IM! Wb  
21.5  显色指数计算 422 $c9k*3{<+A  
21.6  电场分布 424 PCE4W^ns  
后记 426 1FERmf? ?d  
5Ec/(-F  
l-O$m  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 ls|LCQPx  
6X_\Ve  
《Essential Macleod中文手册》 :b/J\  
2qU&l|>  
目  录 EX "|H.(  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 M$S]}   
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 <bUe/m  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Xs$Ufi  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ejePDgi_[  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 }31ZX  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 r4{<
Z3*N  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 Hf
c"L>  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 @,OT/egF4:  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 PLR0#).n  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 )D@~|j:  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 d7Ro}>lp  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ^k/i-%k0  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 $yb@ Hhx>  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 MDO$m g  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 -_0?_Cb  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 %dttE)oH?  
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价  格：400元