时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 KDg!Y(m{
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 @b-?KH
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 7o0ej#
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 "c1vW<;
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
特邀专家介绍
Ho\K
%#u
x/bO;9E%U4 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
"R4~
8 r 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要
rbQA6_U 5A 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
{hZZU8* 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲
dpGaI 1. Essential Macleod软件介绍
Kze\|yJ 1.1 介绍
软件 - uliND 1.2 创建一个简单的设计
>d#B149 1.3 绘图和制表来表示性能
|44CD3A% 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
j%~UU0(J 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
BU]9eF!>h 1.6 特定设计的公式技术
$?wX* 1.7 交互式绘图
~wh8)rm 2. 光学薄膜理论基础
_EjS(.e/= 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
|hOqz2| 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
|F9/7 z\5+ 3. 材料管理
m'z <d 3.1 材料模型
&$< S1 3.2 介质薄膜光学常数的提取
z}u 3.3 金属薄膜光学常数的提取
u+XZdV 3.4 基板光学常数的提取
~`8`kk8 4. 光学薄膜设计
优化方法
?%*Zgk!l7 4.1 参考
波长与g
J=zh+oLCV 4.2 四分之一规则
jO!!. w 4.3 导纳与导纳图
8%vk"h:u: 4.4 斜入射光学导纳
PNg, bcl 4.5 光学薄膜设计的进展
fvN2]@: 4.6 Macleod软件的设计与优化功能
vV8y_ 4.6.1 优化目标设置
wR>\5z)^ 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
Gq+!%'][P 4.6.3 膜层锁定和链接
UAUo)VVi" 5. Essential Macleod中各个模块的应用
Ler9~}\D 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估
0^:O:X 5.2 光通信用窄带滤光片模拟
zF\k*B 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
y;sr# -L 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟
_g$6vx& 5.5 如何在Function中编写脚本
&d9";V"E 6. 光学薄膜系统案例
IjJ3CJ< 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等
QJ>+!p* 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等
7tit>dJ 6.3 Stack应用范例说明
a2o+tR;H 7. 薄膜性能分析
cp[4$lu 7.1 电场分布
\CU.'|X 7.2 公差与灵敏度分析
9dSKlB5J 7.3 反演工程
Rz*%(2Vz 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
v3.JG]zLpP 8. 真空技术
,#D&* 8.1 常用真空泵介绍
>|uZIcs 6 8.2 真空密封和检漏
=;^2#UxXA& 9. 薄膜制备技术
.i@e6JE~; 9.1 常见薄膜制备技术
M^k~w{ 10. 薄膜制备工艺
kAf2g 10.1 薄膜制备工艺因素
>qAQNX 10.2 薄膜均匀性修正技术
$I>.w4G} 10.3 光学薄膜监控技术
*jf
(TIU 11. 激光薄膜
6W#M[0 11.1 薄膜的损伤问题
:2K0/@<x 11.2 激光薄膜的制备流程
pPeS4$Y 11.3 激光薄膜的制备技术
"aAzG+NM 12. 光学薄膜特性测量
&YqgMC 12.1 薄膜
光谱测量
L[Tr"BW 12.2 薄膜光学常数测量
g^4'42UX 12.3 薄膜应力测量
n#bC, 12.4 薄膜损伤测量
u@[D*c1!H 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
ewY+a ,t
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书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
o}Dy\UfU
内容简介
/m.6NVu7 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
NC@OmSR\0 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
J?u@' "u 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
o;_v' 5A:b
\ 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
|c dQJW ^Shz[=fd 目录
f{k2sU*uBE Preface 1
fh}\#WE" 内容简介 2
v#nYH?+~mJ 目录 i
6'+3""\ 1 引言 1
9q;+ Al^Z 2 光学薄膜基础 2
+hV7o!WxC 2.1 一般规则 2
|f?tyQ 2.2 正交入射规则 3
0rjxWPc 2.3 斜入射规则 6
2c_#q1/Z/ 2.4 精确计算 7
*d?,i-Q.+ 2.5 相干性 8
q%8,@xg 2.6 参考文献 10
SWPr5h 3 Essential Macleod的快速预览 10
$Rd74;edn 4 Essential Macleod的特点 32
IbF[nQ 4.1 容量和局限性 33
Z&/bp 1 4.2 程序在哪里? 33
pRc@0^G 4.3 数据文件 35
v; &-]ka 4.4 设计规则 35
*";,HG?|Iz 4.5 材料数据库和
资料库 37
Y(-4Agq 4.5.1材料损失 38
8u!!a^F 4.5.1材料数据库和导入材料 39
^MKvZ DOP 4.5.2 材料库 41
bAGQ 4.5.3导出材料数据 43
31Y+bxQ 4.6 常用单位 43
ja#E}`wC4 4.7 插值和外推法 46
=|
%:d:r 4.8 材料数据的平滑 50
w=e~
M 4.9 更多光学常数模型 54
Qpe&_.&RE 4.10 文档的一般编辑规则 55
7%V2 4.11 撤销和重做 56
^<.mUaP 4.12 设计文档 57
pg [F{T< 4.10.1 公式 58
gj0gs 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
Jp=ur)Dj 4.10.3 沉积密度 59
DnMfHG[< 4.10.4 平行和楔形介质 60
/P Qz$e-!Y 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
G=!Gy.
4.10.4 性能 61
B9&"/tT 4.10.5 保存设计和性能 64
"z1\I\
^ 4.10.6 默认设计 64
LIT{rR#8 4.11 图表 64
B|/=E470G 4.11.1 合并曲线图 67
r**u=q%p 4.11.2 自适应绘制 68
D[-V1K&g 4.11.3 动态绘图 68
&S>m+m' 4.11.4 3D绘图 69
`lRZQ:27X 4.12 导入和导出 73
Dny5X.8 4.12.1 剪贴板 73
FrIgu k1 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
;*{y!pgb 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
2E9Cp 4.13 背景 77
Nv{r`J. 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
hl(M0cxEWP 4.15 生成Rugate 84
cz~Fz;)2{N 4.16 参考文献 91
kXFgvIpg< 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
)[.FUx 5.1 Jobs 92
r n"'tvhm 5.2 创建一个新Job(工作) 93
BA4qQCS;5 5.3 输入材料 94
@{_[bKg 5.4 设计数据文件夹 95
3P2H!r 5.5 默认设计 95
m-xSF]q=< 6 细化和合成 97
.z^ePZ|mV 6.1 优化介绍 97
6}qp;mR
E] 6.2 细化 (Refinement) 98
:aS8%m 6.3 合成 (Synthesis) 100
u]lf~EE 6.4 目标和评价函数 101
jjN]*{s 6.4.1 目标输入 102
F*_g3K!! 6.4.2 目标 103
hX#y7m 6.4.3 特殊的评价函数 104
#2<.0@@
TI 6.5 层锁定和连接 104
<7NY.zvwk] 6.6 细化技术 104
=;#+8w=^ 6.6.1 单纯形 105
5(W`{{AW 6.6.1.1 单纯形
参数 106
Rf||(KC< 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
52
?TLID 6.6.2.1 Optimac参数 108
5V;BimI 6.6.3 模拟退火算法 109
LmE%`qNg 6.6.3.1 模拟退火参数 109
(RW02%`jjy 6.6.4 共轭梯度 111
;m`k#J? 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
r-&Rjg 6.6.5 拟牛顿法 112
1S/KT4 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
:Q@=;P2 6.6.6 针合成 113
TUuw 6.6.6.1 针合成参数 114
r%\(5H f 6.6.7 差分进化 114
=+HMPV6yg7 6.6.8非局部细化 115
e"Kg/*Ji1 6.6.8.1非局部细化参数 115
O~sv^ 6.7 我应该使用哪种技术? 116
G;#-CT 6.7.1 细化 116
@0H}U$l 6.7.2 合成 117
dF$a52LS 6.8 参考文献 117
yxP(| 7 导纳图及其他工具 118
gmtp/?>e 7.1 简介 118
xF![3~~3[ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
Sqw:U|h\FS 7.2.1 四分之一波长规则 119
COvcR.*0F 7.2.2 导纳图 120
' P5ttI#| 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
xXkP(^ Y 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
fn(<
<FA) 7.5 斜入射导纳图 141
/qM:;:N%j 7.6 对称周期 141
Z3X/SQ'0 7.7 参考文献 142
gx,BF#8} 8 典型的镀膜实例 143
pm`BMy<5PU 8.1 单层抗反射薄膜 145
[*^`rQ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
6vy(@z 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
Jm0o[4 8.4 W-膜层 148
Z&BJ/qk
\- 8.5 V-膜层 149
fP<Tvf 8.6 V-膜层高折射基底 150
X <QSi
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
BSU%.tmI 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
&ig6\&1 8.9 四层抗反射薄膜 153
1o5n1
A 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
j_YpkKhen 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
\[u7y. b 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
%N``EnF2 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
lAYyxG# 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
|Rk9W 8.15十五层宽带抗反射膜 159
g+'=#NS} 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
za$v I?ux 8.17 1/4波长堆栈 162
!Q(x A,p 8.18 陷波滤波器 163
CRXIVver 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
YB?yi( "yL 8.20 褶皱 165
n~`1KC4 8.21 消偏振分光器1 169
jFAnhbbCE 8.22 消偏振分光器2 171
BCUn[4Gp 8.23 消偏振立体分光器 172
E&js`24 & 8.24 消偏振截止滤光片 173
N_<wiwI< 8.25 立体偏振分束器1 174
k/'>,WE 8.26 立方偏振分束器2 177
(|Zah1k&] 8.27 相位延迟器 178
o!bIaeEaU 8.28 红外截止器 179
]nmVT~lBe" 8.29 21层长波带通滤波器 180
vq(ElXTO 8.30 49层长波带通滤波器 181
r5#8Vzr 8.31 55层短波带通滤波器 182
vSyR%
j 8.32 47 红外截止器 183
/O@TqH 8.33 宽带通滤波器 184
2GRL`.1 8.34 诱导透射滤波器 186
d#l z^Ls2 8.35 诱导透射滤波器2 188
<<#j?% 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190
{|:ro!& 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192
VR:4|_o 8.35 增益平坦滤波器 193
xb6y=L 8.38 啁啾反射镜 1 196
4o|-v 8.39 啁啾反射镜2 198
FR5P;Yz%H 8.40 啁啾反射镜3 199
i"4&UJu1; 8.41 带保护层的铝膜层 200
ONr}{T%@/ 8.42 增加铝反射率膜 201
Z@i"/~B|4\ 8.43 参考文献 202
Lt|'("($* 9 多层膜 204
! J7ExfEA 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204
Wra$ 9.2 内部透过率 204
Jw-?7O 9.3 内部透射率数据 205
<4{Jm8zJ 9.4 实例 206
CRpMpPi@} 9.5 实例2 210
<Sn;k[M}d 9.6 圆锥和带宽计算 212
Dej_(Dz_S 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214
g+:Go9k!F 10 光学薄膜的颜色 216
r:xbs0
7 10.1 导言 216
16pk4f8 10.2 色彩 216
4nvi7 10.3 主波长和纯度 220
j*7#1<T 10.4 色相和纯度 221
z&R
#j 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222
SO!|wag$ 10.6 色差 226
7~f"8\ 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227
}4dbS ;C< 10.8 颜色渲染指数 234
Gt|m;o 10.9 色差计算 235
39!$x[ 10.10 参考文献 236
4Y.o RB 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
'c6t,% 11.1 短脉冲 238
)0\"8}! 11.2 群速度 239
\jHHj\LLr. 11.3 群速度色散 241
GE S_|[Q 11.4 啁啾(chirped) 245
78u9> H 11.5 光学薄膜—相变 245
D~^P}_e. 11.6 群延迟和延迟色散 246
k1h>8z.Tg 11.7 色度色散 246
@Q%9b )\\ 11.8 色散补偿 249
iL48 11.9 空间
光线偏移 256
t5M"M{V 11.10 参考文献 258
!XtZI3Xu 12 公差与误差 260
l(~i>iQ
4 12.1 蒙特卡罗模型 260
$eSSW+8q" 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267
}M0GPpv 12.2.1 误差工具 267
9-`P\/ 12.2.2 灵敏度工具 271
(p?7-~6|: 12.2.2.1 独立灵敏度 271
8hZYZ /T 12.2.2.2 灵敏度分布 275
y'
r I1eF 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276
jl)7Jd 12.3 参考文献 276
]iq2_{q 13 Runsheet 与Simulator 277
4DTT/ER'qA 13.1 原理介绍 277
R5b!Ao 13.2 截止滤光片设计 277
Xus TU 14 光学常数提取 289
eE0'3?q( 14.1 介绍 289
EvJ<X,Bo 14.2 电介质薄膜 289
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