[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 !kZ9Ox9^  

图片:w800

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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 uxF88$=!t  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 SBo>\<@  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 D4%5T>^LW[  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 wS"[m>.{v  
1. Essential Macleod软件介绍 5tI4m#y2  
1.1 介绍软件 qQC<oR  
1.2 创建一个简单的设计 1ipfv-hb6  
1.3 绘图和制表来表示性能 P]A>"-k  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 /*J}7  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） !|K~)4%rj  
1.6 特定设计的公式技术 YnC7e2  
1.7 交互式绘图 Gqvnc8V&  
2. 光学薄膜理论基础 k@nx+fO}P  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 FH
Wzwi*u}  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 *het_;)+{  
3. 材料管理 '3B`4W,  
3.1 材料模型 4G;FpWQm  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 |UvM[A|+  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 BU-+L}-48  
3.4 基板光学常数的提取 ZGrjb22M  
4. 光学薄膜设计优化方法 %O-RhB4q  
4.1 参考波长与g 
sU"D%G  
4.2 四分之一规则 u*u>F@C8  
4.3 导纳与导纳图 `WvNN>R  
4.4 斜入射光学导纳 4/; X-  
4.5 光学薄膜设计的进展 DIO @Zo  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 e6n1/TtqM  
4.6.1 优化目标设置 2*:lFvwP  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） ncS.~F
 
4.6.3 膜层锁定和链接 tX)l$oRPr  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 JEq0{_7  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 w5,p9f}.  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 .),%S}  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 \,jrug<C$^  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 #|'&%n|Z  
5.5 如何在Function中编写脚本 [wB-e~  
6. 光学薄膜系统案例 WK5~"aw  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 D6&fDhO27  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 WbZ{) i  
6.3 Stack应用范例说明 c$aTl9e  
7. 薄膜性能分析 HPVW2Y0_N  
7.1 电场分布 5HP6o  
7.2 公差与灵敏度分析 ;n?72&h  
7.3 反演工程 hYRGIpu5  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 ]Cd1&  
8. 真空技术 f&=y\uP]  
8.1 常用真空泵介绍 (XYYbP  
8.2 真空密封和检漏 `c@KlL*!Q  
9. 薄膜制备技术 ]Hk8XT@Q+  
9.1 常见薄膜制备技术 Qd"{2>  
10. 薄膜制备工艺 "5Oi[w&F5  
10.1 薄膜制备工艺因素 {?*3Ou  
10.2 薄膜均匀性修正技术 oL0Q%_9hW  
10.3 光学薄膜监控技术 jG=*\lK6  
11. 激光薄膜 l/[0N@r~  
11.1 薄膜的损伤问题 ]|g{{PWH  
11.2 激光薄膜的制备流程 F,{M!dL  
11.3 激光薄膜的制备技术 \zA$|) x  
12. 光学薄膜特性测量 N\b%+vR  
12.1 薄膜光谱测量 rq'Cj<=Zj  
12.2 薄膜光学常数测量 pQr `$:ga  
12.3 薄膜应力测量 \.p{~Hv  
12.4 薄膜损伤测量 "orZje9AC  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 OD5c,IkWB  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 CpHF3o`Z6  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 \M^L'Mkj  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 w6>'n }  
^SnGcr|a'  
]F5?>du@~
 
zp[Uh]-dMK  
目录 xEtzqP<]
 
Preface 1 .Q FGIAM  
内容简介 2 B6~a `~"  
目录 i vH_QSx;C#  
1  引言 1 ~6!{\un   
2  光学薄膜基础 2 PY7j uS[+  
2.1  一般规则 2 !J ")TP=  
2.2  正交入射规则 3 shjbb  
2.3  斜入射规则 6 eaP,M
kK&  
2.4  精确计算 7 @F)51$Ld  
2.5  相干性 8 u )+;(Vd  
2.6 参考文献 10 <;\T e4g[  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ?_36uJo}  
4  Essential Macleod的特点 32 Ho[Kxe[c  
4.1  容量和局限性 33 m=i8o `  
4.2  程序在哪里？ 33 /NFv?~</k  
4.3  数据文件 35 dn/0>|5OF(  
4.4  设计规则 35 gaBt;@?:Q  
4.5  材料数据库和资料库 37 [Lh<k+  
4.5.1材料损失 38 9d{iq"*R  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 9ui_/[
K  
4.5.2 材料库 41 kQ4-W9u  
4.5.3导出材料数据 43 f?: o  
4.6  常用单位 43 K~"uZa^s  
4.7  插值和外推法 46
H%NP4pK  
4.8  材料数据的平滑 50 s,>_kxuX  
4.9 更多光学常数模型 54 [*zB vj}G
 
4.10  文档的一般编辑规则 55 A-<\?13uW  
4.11 撤销和重做 56 xe}d&  
4.12  设计文档 57 i/;Ql, gm  
4.10.1  公式 58 ],ioY*4G  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 vU&I,:72 H  
4.10.3  沉积密度 59 _?Zg$7VJ  
4.10.4 平行和楔形介质 60 Cv{>|
g#  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Ut4cli&cC  
4.10.4  性能 61 :lz@G4=C  
4.10.5  保存设计和性能 64 B[jCe5!w  
4.10.6  默认设计 64 --E_s/  
4.11  图表 64 GkqKIs  
4.11.1  合并曲线图 67 
4:<74B  
4.11.2  自适应绘制 68 "O1\]"j  
4.11.3  动态绘图 68 [pi!+k  
4.11.4  3D绘图 69 \{  
4.12  导入和导出 73 -'btKz*9  
4.12.1  剪贴板 73 8Wx>,$k  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ~i 'Ib_%h  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 CDcZ6.f  
4.13  背景 77 n'a=@/  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ^(7<L<H  
4.15  生成Rugate 84 <PL94  
4.16  参考文献 91 &rs+x<  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 t.|b285e  
5.1  Jobs 92 /IS_-h7>XS  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 t-_~jZ<  
5.3  输入材料 94 @q0\oG4L  
5.4  设计数据文件夹 95 ximW!y7  
5.5  默认设计 95 E0QrByr_  
6  细化和合成 97 9xL8 ];-  
6.1  优化介绍 97 0OLE/T<Xv  
6.2  细化 (Refinement) 98 KhK:%1po  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ZN75ONL  
6.4  目标和评价函数 101 u|prVzm\m  
6.4.1  目标输入 102 5tUp[/]pl  
6.4.2  目标 103 -_&"Q4FR;+  
6.4.3  特殊的评价函数 104 BUR96YN.  
6.5  层锁定和连接 104 %D|p7&  
6.6  细化技术 104 e=$p(  
6.6.1  单纯形 105 ?v8.3EE1\o  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Z_vIGH|1  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ktX\{g!U  
6.6.2.1 Optimac参数 108 e<wA["^  
6.6.3  模拟退火算法 109 H4DM
,.04  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 1FC'DH!  
6.6.4  共轭梯度 111 Cx(|ZD^  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 82ay("ZY  
6.6.5  拟牛顿法 112 ()K,~  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 fLM5L_S}Y  
6.6.6  针合成 113 +>BLox6  
6.6.6.1 针合成参数 114 -Lh\]  
6.6.7 差分进化 114 v
sc)EM ]  
6.6.8非局部细化 115 Y*0AS|r!  
6.6.8.1非局部细化参数 115 98 dl -?  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 /'KCW_Q  
6.7.1 　细化 116 z|,YO6(L  
6.7.2　 合成 117 z8v]Kt&  
6.8  参考文献 117 rqJ'm?>cr  
7  导纳图及其他工具 118 <Uj~S  
7.1  简介 118 =[]V$<G'w{  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 G Y??q8  
7.2.1  四分之一波长规则 119 .W4P/Pw'  
7.2.2  导纳图 120 mO];+=3v8  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 J_PAWW  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 Wtl/xA_  
7.5  斜入射导纳图 141 5P=3.Mk  
7.6  对称周期 141 Cq mtO?vne  
7.7  参考文献 142 5]_m\zn=  
8  典型的镀膜实例 143 @~t^zI1  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ZBw]H'sT  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 %eK=5Er jx  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 K?]><z{  
8.4  W-膜层 148 +XL^dzN[|$  
8.5  V-膜层 149 1%Yd] 1c(  
8.6  V-膜层高折射基底 150 C(N' +VV_  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 lG[@s 'j  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 %t&
  
8.9  四层抗反射薄膜 153 c3S}(8g5.  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 H&$L1CrdL  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 +qN}oyL  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ~SKV%  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 eBUexxBY  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 `^3N|76Y  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 r7dwj  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 QT\||0V~p  
8.17  1/4波长堆栈 162 clhmpu  
8.18  陷波滤波器 163 EI+RF{IKh  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 uJxT)m!/  
8.20  褶皱 165 e@6]rl  
8.21  消偏振分光器1 169 #bI,;]T  
8.22  消偏振分光器2 171 ^,-2";2Xh  
8.23  消偏振立体分光器 172 il8n K  
8.24  消偏振截止滤光片 173 & OO0v*@{  
8.25  立体偏振分束器1 174 QMO.Bnek  
8.26  立方偏振分束器2 177 eyM<#3\\S  
8.27  相位延迟器 178 /\7E&n:)2  
8.28  红外截止器 179 2A>s a3\  
8.29  21层长波带通滤波器 180 @k+&89@G  
8.30  49层长波带通滤波器 181 \kN?7b^  
8.31  55层短波带通滤波器 182 mVaWbR@HS  
8.32  47 红外截止器 183 =()Vrk|uK  
8.33  宽带通滤波器 184 }4Q~<2  
8.34  诱导透射滤波器 186 |
DUWB;  
8.35  诱导透射滤波器2 188 c{"=p8F_  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 8Pb~`E/  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 1>~bzXY#  
8.35  增益平坦滤波器 193 JxP&znng  
8.38  啁啾反射镜 1 196 qdW"g$fW  
8.39  啁啾反射镜2 198 6&J7=g%G  
8.40  啁啾反射镜3 199 XRQz~Py  
8.41  带保护层的铝膜层 200 a:v5(@8  
8.42  增加铝反射率膜 201 2
}\/_Y6  
8.43  参考文献 202 .}n-N #  
9  多层膜 204 3Q0g4#eP  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204
5>Kk>[|.  
9.2  内部透过率 204 Zk:Kux[7  
9.3 内部透射率数据 205 gT-"=AsxZQ  
9.4  实例 206 ?)-#\z=6G  
9.5  实例2 210 ]z77hcjB1  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ID_#a9N  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 `erKHZ]S  
10  光学薄膜的颜色 216 +nAbcBJAl  
10.1  导言 216 W1;QPdz:  
10.2  色彩 216 FF5|qCV/z  
10.3  主波长和纯度 220 ^RI&`5g  
10.4  色相和纯度 221 -){a
BMOv3  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 3< 'bi}{  
10.6 色差 226 {P{h|+;  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 h_>DcVNIx  
10.8  颜色渲染指数 234 K[
q{)>,9  
10.9  色差计算 235 drwD3jx0xv  
10.10  参考文献 236 S+ 3lX7  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 d1qvS@  
11.1  短脉冲 238 ,J&\) yTP  
11.2  群速度 239 Fp&tJ]=B.  
11.3  群速度色散 241 9)?_[|2  
11.4  啁啾(chirped) 245 f2LiCe.?  
11.5  光学薄膜—相变 245 0$g;O5y"i  
11.6  群延迟和延迟色散 246 # 4&t09  
11.7  色度色散 246 ,f@\Fs~n  
11.8  色散补偿 249 ]N;\AXZ7  
11.9  空间光线偏移 256 (Q?@LzCjy  
11.10  参考文献 258 ,,c+R?D  
12  公差与误差 260 Y"Ut  
12.1  蒙特卡罗模型 260 V(5*Dn84  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 -=WQed}  
12.2.1  误差工具 267 BUs={"Pa  
12.2.2  灵敏度工具 271 <kCOg8<y :  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 OLZs}N+;]  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ZLZh$eZZ  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ;XIDu6  
12.3  参考文献 276 q o6~)Aws  
13  Runsheet 与Simulator 277 WYN0,rv1:+  
13.1  原理介绍 277 wnU-5r&!]  
13.2  截止滤光片设计 277 Nu;?})tF  
14  光学常数提取 289 )^`V{iD  
14.1  介绍 289 KvH t`  
14.2  电介质薄膜 289 6r.#/' "  
14.3  n 和k 的提取工具 295 mUNAA[0 L  
14.4  基底的参数提取 302 Q~f mVWq  
14.5  金属的参数提取 306 6z5wFzJv?q  
14.6  不正确的模型 306 /# d^  
14.7  参考文献 311 5AK@e|G$w  
15  反演工程 313 U4NH9-U'  
15.1  随机性和系统性 313 T'ei>]y]  
15.2  常见的系统性问题 314 34,'smHi%  
15.3  单层膜 314 /|p\l"  
15.4  多层膜 314 V!Pe%.>  
15.5  含义 319 Ay6]vU  
15.6  反演工程实例 319 n-u HKBq  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 f hjlt#  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 %Jji<M]  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 x=03WQ8  
16.1  光学性质的热致偏移 329 D<gd)  
16.2  应力工具 335 9H/C(Vo  
16.3  均匀性误差 339 ^;sE)L6  
16.3.1  圆锥工具 339 H0f]Swh0a  
16.3.2  波前问题 341 d%K&  
16.4  参考文献 343 }` YtXD-o  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 9vP#/-g  
17.1  引言 345 t$3B#=  
17.2  操作数 345 ?3%r:
g4  
18  如何在Function中编写脚本 351 0g2rajS  
18.1  简介 351 kX2Z@ w`  
18.2  什么是脚本？ 351 ..R JHa6B  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 3Rhoul[S  
18.4  基础 352 n/{ pQ&B  
18.4.1  Classes（类别） 352 dZY|6  
18.4.2  对象 352 H)h$@14xu  
18.4.3  信息（Messages） 352 )3WUyD*UZN  
18.4.4  属性 352 #w@FBFr@  
18.4.5  方法 353 }}Zg/(  
18.4.6  变量声明 353 )KY4BBc  
18.5  创建对象 354 HB,?}S#TP  
18.5.1  创建对象函数 355 EbeSl+iMx_  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 v|KGzQx$.*  
18.5.3 丢弃对象 356 1En:QQ4/  
18.5.4  总结 356 :NL[NbQYt  
18.6  脚本中的表格 357 0 ;].q*|#  
18.6.1  方法1 357 h1)ny1;  
18.6.2  方法2 357 / */"gz%  
18.7 2D Plots in Scripts 358 -Q/wW4dE=  
18.8 3D Plots in Scripts 359 QUm[7<"  
18.9  注释 360 S5:&_&R8[  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 aCJ-T8?'  
18.11  一个更高级的脚本 362 !ALq
?u  
18.12  <esc>键 364 >@h#'[z,d  
18.13 包含文件 365
u_}UU 2  
18.14  脚本被优化调用 366 },{sJ0To
 
18.15  脚本中的对话框 368 )5`~WzA  
18.15.1  介绍 368 iaJLIrl  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 !*3]PZ25a(  
18.15.3  输入框函数 370 (+6N)9rj`/  
18.15.4  自定义对话框 371 OrF.wcg  
18.15.5  对话框编辑器 371 4s9."
)G  
18.15.6  控制对话框 377 Rt7l`|g a+  
18.15.7  更高级的对话框 380 wA"d?x  
18.16 Types语句 384 c_>AbF{  
18.17 打开文件 385 gi>W&6  
18.18 Bags 387 0Y'ow=8M  
18.13  进一步研究 388 l$kO%E'  
19  vStack 389 Fn0|v66  
19.1  vStack基本原理 389 \mTi@T!&  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 N{}8Zh4op  
19.3  五棱镜 393 )w5!'W4Z8  
19.4 光束距离 396 G^cMY$?99  
19.5 误差 399 ]0O3kiVQ  
19.6  二向分色棱镜 399 !xBJJ/K+|  
19.7  偏振泄漏 404 1JJ1!& >  
19.8  波前误差—相位 405 #?`S+YN!q)  
19.9  其它计算参数 405 #k1IrqUp  
20  报表生成器 406 yeMe2Zx  
20.1  入门 406 b@Dt]6_UL  
20.2  指令(Instructions) 406 XwfR/4  
20.3  页面布局指令 406 S_nAO\h  
20.4  常见的参数图和三维图 407 NcHU)  
20.5  表格中的常见参数 408 A^$xE6t  
20.6  迭代指令 408 (sI`FW_  
20.7  报表模版 408 S&.xgBR  
20.8  开始设计一个报表模版 409 _;%l~q/  
21  一个新的project 413 ^O=G%de  
21.1  创建一个新Job 414 .beqfcj"  
21.2  默认设计 415 Q"uK6ANp'  
21.3  薄膜设计 416 K'/if5>Bc  
21.4  误差的灵敏度计算 420 2.=G  
21.5  显色指数计算 422 Jamt@=
  
21.6  电场分布 424 EiaP1o  
后记 426 "Bwmq9Jq  
'r(g5H1}gi  
"LH!Trl@k  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 R^=v&c{@  
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《Essential Macleod中文手册》 )#1!%a
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目  录 `>b,'u6F  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 b
#"&]s-  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 Vrd16s  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ._t1eb`m{  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 +Wgfxk'{  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 _"OE}$C  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 I<XYLe[_S  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 /2hRLyeAZ  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ^16zZ*
 
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ycwkF$7  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 :>o0zG[;f  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 FA;-D5=
 
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ,%BDBZ  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 @H3x51PT(m  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 2`%a[t@M.  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 =9`UcTSi6p  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 i~AReJxt7  
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价  格：400元