[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 #PPR"w2g  

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5v|H<wPp  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 yS[z2:!  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ybZ}  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 i8Fs0
U4"  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 I*D<J$ 9N  
1. Essential Macleod软件介绍 X
zT78  
1.1 介绍软件 k)`$%[K8  
1.2 创建一个简单的设计 PZys u  
1.3 绘图和制表来表示性能 bh6d./  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 M#OHY*  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ,b4):{  
1.6 特定设计的公式技术 GAv)QZyV$  
1.7 交互式绘图 \Yj#2ww  
2. 光学薄膜理论基础 !|B3i_n  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 b.#^sm
//  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 9nn>O?  
3. 材料管理 *(k%MTG  
3.1 材料模型 ~|&="K4,:  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 yeh8z:5Z O  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 'pan9PW  
3.4 基板光学常数的提取 1g1?zk8zO  
4. 光学薄膜设计优化方法 bxAsV/j  
4.1 参考波长与g hUVk54~l  
4.2 四分之一规则 @l'G[jN5  
4.3 导纳与导纳图 }6).|^]\'  
4.4 斜入射光学导纳 eSl]8BX_  
4.5 光学薄膜设计的进展 7p^@;@V  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 DU;[btK>  
4.6.1 优化目标设置 %c]nWR+/  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） oEJaH  
4.6.3 膜层锁定和链接 Bi e?M  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 *4t-e0]j@w  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 &vCeLh:s  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 -yoAxPDW  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 rFo\+//  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 UP\C"\  
5.5 如何在Function中编写脚本 lR:?uZ$  
6. 光学薄膜系统案例 : (gZgMT  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ! .AhzU1%Y  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 GuT6K}~|D  
6.3 Stack应用范例说明 LfEvc2 v=g  
7. 薄膜性能分析 czI{qi5N  
7.1 电场分布 )!e3.C|V1W  
7.2 公差与灵敏度分析 Q!yb16J  
7.3 反演工程 dIk'pA^d  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 AYcgi  
8. 真空技术 id^|\hDR  
8.1 常用真空泵介绍 vQ 4}WtvA  
8.2 真空密封和检漏 U;g S[8,p  
9. 薄膜制备技术 OkpwhkPL5  
9.1 常见薄膜制备技术 d<x1*a  
10. 薄膜制备工艺 7rcA[)<'  
10.1 薄膜制备工艺因素 _#!U"hkH  
10.2 薄膜均匀性修正技术 PL@~Ys0
  
10.3 光学薄膜监控技术 vt.P*Z5  
11. 激光薄膜 9JPEj-3`g  
11.1 薄膜的损伤问题 n#BvW,6J  
11.2 激光薄膜的制备流程 RvyuGU  
11.3 激光薄膜的制备技术 
.s2$al  
12. 光学薄膜特性测量 ;WD,x:>blO  
12.1 薄膜光谱测量 (ss3A9tG  
12.2 薄膜光学常数测量 :Hk_8J  
12.3 薄膜应力测量 DzC Df@TB"  
12.4 薄膜损伤测量 C/G]v*MBQ  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 >7'+ye6z  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 */w7?QOv  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 edijfhn  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 r?p[3JJ;mG  
qbiK^gR  
WULAty  
XE1$K
_m  
目录 @'i+ff\  
Preface 1 o
@W_a
i_  
内容简介 2 q8>t!rh<R  
目录 i N}b^fTq  
1  引言 1 *KJB>W%@uM  
2  光学薄膜基础 2 7?J

3ci\  
2.1  一般规则 2 >;4!O%F  
2.2  正交入射规则 3 XA<ozq'  
2.3  斜入射规则 6 H(|AH;?ou  
2.4  精确计算 7 F2;:vTA>  
2.5  相干性 8 ET:T7
 
2.6 参考文献 10 GqLq gns  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Zw{MgoJ0Z  
4  Essential Macleod的特点 32 =gjDCx$|  
4.1  容量和局限性 33 :et#0!  
4.2  程序在哪里？ 33 $wV1*$1
NM  
4.3  数据文件 35 nPFwPk8=M  
4.4  设计规则 35 PD6_)PXn  
4.5  材料数据库和资料库 37 ?Ik4  
4.5.1材料损失 38 ^lj7(  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 rrqQCn9  
4.5.2 材料库 41 *geN[[  
4.5.3导出材料数据 43 s5D:  
4.6  常用单位 43 z.oU4c
 
4.7  插值和外推法 46 h2~4G)J  
4.8  材料数据的平滑 50 Y$<D9fs3  
4.9 更多光学常数模型 54 yNCEz/4  
4.10  文档的一般编辑规则 55 M`7y>Ud  
4.11 撤销和重做 56 6>`c1 \8f  
4.12  设计文档 57 TL0[@rr4  
4.10.1  公式 58 lCIDBBjy^  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 4)kG-[#  
4.10.3  沉积密度 59 !eI2r  
4.10.4 平行和楔形介质 60 $,fy$ Qk,S  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 6C [E  
4.10.4  性能 61 &~~wX,6+  
4.10.5  保存设计和性能 64 ZmEEj-*7s  
4.10.6  默认设计 64 UZ2Tq
R  
4.11  图表 64 hyg8wI  
4.11.1  合并曲线图 67 9GU]l7C=z  
4.11.2  自适应绘制 68 ;H'gT+t<c  
4.11.3  动态绘图 68 ik.A1j9oN  
4.11.4  3D绘图 69 J2VTo: In  
4.12  导入和导出 73 A+getdr  
4.12.1  剪贴板 73 g}x(hF  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 y<:<$22O  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 k;ZxY"^  
4.13  背景 77 Y?d9l  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 .}B(&*9,v  
4.15  生成Rugate 84 lD
xc`S  
4.16  参考文献 91 ;# uZhd  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 j%IF2p2  
5.1  Jobs 92 T-_"|-k}P%  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 W-efv
 
5.3  输入材料 94 *L4`$@l8  
5.4  设计数据文件夹 95 |7k_N|E  
5.5  默认设计 95 ;30nd=  
6  细化和合成 97 z (?=Iv3  
6.1  优化介绍 97 k8AW6oO/i  
6.2  细化 (Refinement) 98 72W s K"  
6.3  合成 (Synthesis) 100 3qL>-%):*  
6.4  目标和评价函数 101 jszK7$]^  
6.4.1  目标输入 102 _)T5lEFl=  
6.4.2  目标 103 dG7OqA:9  
6.4.3  特殊的评价函数 104 sEJC-$  
6.5  层锁定和连接 104 -G7TEq)  
6.6  细化技术 104 vw,rF`LjZ  
6.6.1  单纯形 105 |yEa5
rd?W  
6.6.1.1 单纯形参数 106 T~0k"uTE  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 }7E^ZZ]f  
6.6.2.1 Optimac参数 108 gKYfQ+  
6.6.3  模拟退火算法 109 %a+mk E  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 !K f#@0E..  
6.6.4  共轭梯度 111 4%nE*H%  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 R_XR4)(<  
6.6.5  拟牛顿法 112 a2'^8;U*_  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 C?Bl{4-P}*  
6.6.6  针合成 113 w-wV3Q6X  
6.6.6.1 针合成参数 114 eq(am%3~  
6.6.7 差分进化 114 ZOCDA2e(j  
6.6.8非局部细化 115 T&4qw(\G  
6.6.8.1非局部细化参数 115 [Zei0O  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 .sC?7O=  
6.7.1 　细化 116 /+Lfrt  
6.7.2　 合成 117 hd),&qoW?  
6.8  参考文献 117 +t5U.No  
7  导纳图及其他工具 118 ~cTN~<{dq  
7.1  简介 118 if|+EN%  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 QnZcBXI8  
7.2.1  四分之一波长规则 119 MjlP+; !  
7.2.2  导纳图 120 #]nx!*JNZ  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 &e6CJ  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 'Vyt4^$%  
7.5  斜入射导纳图 141 h$4Hw+Yxs]  
7.6  对称周期 141 Zjbc3M5  
7.7  参考文献 142 [<DZ*|+  
8  典型的镀膜实例 143 ]E\n9X-{  
8.1  单层抗反射薄膜 145 <B9C*M"4%  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 KMI_zhyB  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 O+y-}7YX  
8.4  W-膜层 148 L#E] BY  
8.5  V-膜层 149 oE#d
,Z  
8.6  V-膜层高折射基底 150 rM'=_nmi  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 1pArZzm>  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 |B?27PD  
8.9  四层抗反射薄膜 153 nqInb:  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 uV!^,,~  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ;\f gF@  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 C:PMewn  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 kS bu]AB  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 h }B% /U  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 %Ev4]}2C1  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 bbrXgQ`s+w  
8.17  1/4波长堆栈 162 -$\+' \  
8.18  陷波滤波器 163 NR`C(^}  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 o4|M0  
8.20  褶皱 165 R8ZK]5{o  
8.21  消偏振分光器1 169 ;kY(<{2  
8.22  消偏振分光器2 171 Ney/[3 A  
8.23  消偏振立体分光器 172 :A/d to  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Y;?{|  
8.25  立体偏振分束器1 174 9I6
a"PGDb  
8.26  立方偏振分束器2 177 xai*CY@cQ  
8.27  相位延迟器 178 eEuvl`&  
8.28  红外截止器 179 nih0
t^m'  
8.29  21层长波带通滤波器 180 z6*X%6,8  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Wf|Q$MHos  
8.31  55层短波带通滤波器 182 B}lvr-c#  
8.32  47 红外截止器 183 |S_eDjF  
8.33  宽带通滤波器 184 [ucpd  
8.34  诱导透射滤波器 186 IZpP[hov  
8.35  诱导透射滤波器2 188 7pe\M/kl  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 wne,e's}   
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 JpXlBEio%  
8.35  增益平坦滤波器 193 I}1NB3>^  
8.38  啁啾反射镜 1 196 '<"s \,  
8.39  啁啾反射镜2 198 jPUwSIP  
8.40  啁啾反射镜3 199 &5yVxL:  
8.41  带保护层的铝膜层 200 KV(Q;~8"X  
8.42  增加铝反射率膜 201 SLa>7`<Q  
8.43  参考文献 202 y*qVc E  
9  多层膜 204 Dfmjw  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 nAv#?1cjz  
9.2  内部透过率 204 j0oR)du  
9.3 内部透射率数据 205 E|iQc8gr&  
9.4  实例 206 'uBu6G  
9.5  实例2 210 N sXHO  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Q+[n91ey**  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 M/b Sud?@%  
10  光学薄膜的颜色 216 ]s<[D$ <,  
10.1  导言 216 o~`/_+  
10.2  色彩 216 yDzc<p\`  
10.3  主波长和纯度 220 EV]1ml k$  
10.4  色相和纯度 221 T;r2.Pupn  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 k>;`FFQU>  
10.6 色差 226 ].-
1v5  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 IxY|>5z  
10.8  颜色渲染指数 234 !|^|,"A)  
10.9  色差计算 235 0XE4<U  
10.10  参考文献 236 Te"ioU?.  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 "\w 7q  
11.1  短脉冲 238 rC5 p-B%  
11.2  群速度 239 Kp%2k^
U  
11.3  群速度色散 241 -t!~%_WCv  
11.4  啁啾(chirped) 245 m|n  
11.5  光学薄膜—相变 245 <^#,_o,!  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ~vm%6CABM  
11.7  色度色散 246 LBYMCY  
11.8  色散补偿 249 +r2+X:#~T  
11.9  空间光线偏移 256 :CG`t?N9M  
11.10  参考文献 258 +$ 'Zf0U  
12  公差与误差 260 hOjk3 k  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ZMQZs~;~d  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 u^^[Q2LDU}  
12.2.1  误差工具 267 NcBIg:V\c  
12.2.2  灵敏度工具 271 =^M/{51j  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 XP!S$Q]D  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 /:m->
T  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 , qMzWa  
12.3  参考文献 276 igCZ|Ru\  
13  Runsheet 与Simulator 277 xQ7l~O b  
13.1  原理介绍 277 "H'B*vc-  
13.2  截止滤光片设计 277 R0KPZv-  
14  光学常数提取 289 !|S(Ms  
14.1  介绍 289 }bb;~  
14.2  电介质薄膜 289 ]C!gQq2'a  
14.3  n 和k 的提取工具 295 kMIcK4.MH  
14.4  基底的参数提取 302 <}C oQz  
14.5  金属的参数提取 306 xQ f*  
14.6  不正确的模型 306 }|h# \$w  
14.7  参考文献 311 9}rS(/@ }  
15  反演工程 313 t%d Z-Ym  
15.1  随机性和系统性 313 cuax;0{%  
15.2  常见的系统性问题 314 g];!&R-  
15.3  单层膜 314 p$S*dr  
15.4  多层膜 314 ER%^!xA  
15.5  含义 319 ~[t[y~Hup  
15.6  反演工程实例 319 n1Yp1"2b[  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 %z=le7  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Q*D;U[  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Kg{+T`  
16.1  光学性质的热致偏移 329 {&&z-^  
16.2  应力工具 335 =x/X:;)>  
16.3  均匀性误差 339 R$R*'l  
16.3.1  圆锥工具 339 IPS4C[v  
16.3.2  波前问题 341 G<L;4nA)  
16.4  参考文献 343 {5Q!Y&N.%  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 S,88*F(<^q  
17.1  引言 345 ?qb}?&1  
17.2  操作数 345 P\E<9*V  
18  如何在Function中编写脚本 351 1KU! tL  
18.1  简介 351 ;YaQB#GK%  
18.2  什么是脚本？ 351 ahusta  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Ki;*u_4{  
18.4  基础 352 O%\*@4zM  
18.4.1  Classes（类别） 352 NDN7[7E  
18.4.2  对象 352 tj'\tW+s'  
18.4.3  信息（Messages） 352 /p/]t,-j2  
18.4.4  属性 352 W_JlOc!y  
18.4.5  方法 353 bL0yuAwF2  
18.4.6  变量声明 353 z0d.J1VW  
18.5  创建对象 354 &T#;-`'  
18.5.1  创建对象函数 355 #$.;'#u'so  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 %Tfbsyf%f  
18.5.3 丢弃对象 356 " s,1%Ltt  
18.5.4  总结 356 ?e%ZOI  
18.6  脚本中的表格 357 oh4E7yN  
18.6.1  方法1 357  {y)=eX9  
18.6.2  方法2 357 FnwJ+GTu  
18.7 2D Plots in Scripts 358 `

./$&'  
18.8 3D Plots in Scripts 359 atj(eg  
18.9  注释 360 XgZD%7  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 N:^n('U&j  
18.11  一个更高级的脚本 362 AzPu)  
18.12  <esc>键 364 0Fq} N  
18.13 包含文件 365 v_yw@  
18.14  脚本被优化调用 366 irZ]
)a  
18.15  脚本中的对话框 368 49eD1h3'X[  
18.15.1  介绍 368  \__i  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 %:i7s-0w  
18.15.3  输入框函数 370 91/Q
9xY  
18.15.4  自定义对话框 371 )7hqJa-V  
18.15.5  对话框编辑器 371 )j6~Wy@4  
18.15.6  控制对话框 377 n3WlZ!$  
18.15.7  更高级的对话框 380 [:dY0r+  
18.16 Types语句 384 9p]QM)M  
18.17 打开文件 385 &<z1k-&!  
18.18 Bags 387 [DuttFX^x  
18.13  进一步研究 388 jVi) Efy  
19  vStack 389 {$oj.V 4  
19.1  vStack基本原理 389 YqscZ(L:y  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 _YRFet[,m  
19.3  五棱镜 393 'B|JAi?  
19.4 光束距离 396 ,CJWO bn3  
19.5 误差 399 hDDn,uzpd  
19.6  二向分色棱镜 399 9+|$$)  
19.7  偏振泄漏 404 /WcG{Wdp  
19.8  波前误差—相位 405 6bg ;q(*7  
19.9  其它计算参数 405 Dm981t>wL  
20  报表生成器 406 #<fRE"v:Q  
20.1  入门 406 [NTzcSN.  
20.2  指令(Instructions) 406 q
])K,)  
20.3  页面布局指令 406 Xg6Jh``  
20.4  常见的参数图和三维图 407 n9\TO9N  
20.5  表格中的常见参数 408 1C+13LE$U  
20.6  迭代指令 408 rSY!vkLE\  
20.7  报表模版 408 l$KA)xbI  
20.8  开始设计一个报表模版 409 `bq
<$e  
21  一个新的project 413 J0WxR&%a)  
21.1  创建一个新Job 414 )$2QZ qX  
21.2  默认设计 415 -_g0C^:<,  
21.3  薄膜设计 416 ic:zsuEm  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ,)cM3nu  
21.5  显色指数计算 422 sI
=xl  
21.6  电场分布 424 Fe*R  
后记 426 !)f\%lb  
`7E;VL^Y1  
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(Q=^  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 WCZjXDiwJ  
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《Essential Macleod中文手册》 kt#fMd$  
dFxIF;C>/  
目  录 l:~/<`o  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 k=$TGqQY?  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 c^xIm'eob  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 LVM%"sd?  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Y(ykng  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 b#%hY{$j  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 mthA4sz  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ;+R&}[9,A)  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 u{cW:  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 K!%+0)A  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 gx/,)> E.  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 QE+g j8  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 `,(4]tlL  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 J[|
y:N  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 x;.Jw6g  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 rBzuKQK}J  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 *8A  
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价  格：400元