[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 zsmlXyP'e!  

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RE.t<VasP  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 z-G*:DfgH  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 #s
3R4@{  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ~xU\%@I\  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 /\d@AB^5I  
1. Essential Macleod软件介绍 w*krPaT3  
1.1 介绍软件 :3.!?mOe2  
1.2 创建一个简单的设计 'NSfGC%7R  
1.3 绘图和制表来表示性能 h}yfL@  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 +5qY*$dn  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） (;cvLop  
1.6 特定设计的公式技术 CjZIBMGc  
1.7 交互式绘图 lCiRvh1K  
2. 光学薄膜理论基础 )POU58$  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 'A)9h7k}  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ~R C\  
3. 材料管理 EKf!j3  
3.1 材料模型 0+6=ag%  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 NEff`mwm5)  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 G}#p4\/  
3.4 基板光学常数的提取 ]Pf!wv  
4. 光学薄膜设计优化方法 -E>LB\[t)  
4.1 参考波长与g @ *n oma  
4.2 四分之一规则 ;>r E+k%_  
4.3 导纳与导纳图 z\c$$+t  
4.4 斜入射光学导纳 ;(Kj-,>  
4.5 光学薄膜设计的进展 $64sf?aZ>#  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 OSIf>1  
4.6.1 优化目标设置 Ob@HzXH  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） UIK4]cYC'  
4.6.3 膜层锁定和链接 0i~?^sT'  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ]oizBa@?G  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ]!v\whZ>  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 dlCmSCp%  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 L)9uBdF  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 `[F[0fY-  
5.5 如何在Function中编写脚本 DQhstXX  
6. 光学薄膜系统案例 X{tfF!+iy  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 cg_j.=M-  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 $<F9;Z  
6.3 Stack应用范例说明 wH]Y1 m  
7. 薄膜性能分析 lc\%7
-%:5  
7.1 电场分布 KhZ\q|5  
7.2 公差与灵敏度分析 PXo^SHJ+gt  
7.3 反演工程 O~D]C  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 Z=zD~ka  
8. 真空技术 37 d-!  
8.1 常用真空泵介绍 )}
i|)^J  
8.2 真空密封和检漏 k`NXYf:  
9. 薄膜制备技术 xew s~74L  
9.1 常见薄膜制备技术 A75z/O{  
10. 薄膜制备工艺 e~PAi8B5  
10.1 薄膜制备工艺因素 kS
<9cy[O  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ,nSapmg  
10.3 光学薄膜监控技术 {)PgN  
11. 激光薄膜 -~ H?R  
11.1 薄膜的损伤问题 i^}ib RQbN  
11.2 激光薄膜的制备流程 C(&3L[  
11.3 激光薄膜的制备技术 9F2MCqvcm  
12. 光学薄膜特性测量 ]:svR@E  
12.1 薄膜光谱测量 g]jCR*]  
12.2 薄膜光学常数测量 1)
J' pDa  
12.3 薄膜应力测量 R/jHH{T3  
12.4 薄膜损伤测量 q" @%WK  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 ~RRS{\,  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 mO&zE;/[  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 Vu;z|L  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 ,L
-G-V+  
0`Y"xN`'i  
fF.sT7Az+  
`ZGKM>q`  
目录 nHl{'|~  
Preface 1 zszx~LSvIT  
内容简介 2 mOntc6&]  
目录 i !'*1;OQ  
1  引言 1 [WO>}rGw4  
2  光学薄膜基础 2 +
u;RFY^  
2.1  一般规则 2 ?JMy  
2.2  正交入射规则 3 &VTO9d  
2.3  斜入射规则 6 #Q$+AdY|  
2.4  精确计算 7 =`.OKUAn  
2.5  相干性 8 A>%mJ3M  
2.6 参考文献 10 Le*gdoW.  
3  Essential Macleod的快速预览 10 hE;BT>_dn  
4  Essential Macleod的特点 32 w3jcit|  
4.1  容量和局限性 33 b=XHE1^rM  
4.2  程序在哪里？ 33 ]}L tf,9  
4.3  数据文件 35 WB3YN+Xl3  
4.4  设计规则 35 RLbo  
4.5  材料数据库和资料库 37 |Q$9I#rv  
4.5.1材料损失 38 rkn'1M
&u  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ,D2nUk  
4.5.2 材料库 41 $lb$<  
4.5.3导出材料数据 43 KN".0WU  
4.6  常用单位 43 2X6L'!=  
4.7  插值和外推法 46 mT,#"k8  
4.8  材料数据的平滑 50 BVu{To:g  
4.9 更多光学常数模型 54 N1Dr'aw*  
4.10  文档的一般编辑规则 55 J }|6m9k!  
4.11 撤销和重做 56 eDY)i9"W  
4.12  设计文档 57 jbp?6GW  
4.10.1  公式 58 k1~? }+<e  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 !7Nz_d~n  
4.10.3  沉积密度 59 a([8r- zP  
4.10.4 平行和楔形介质 60 Zu|qN*N4  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 3|=L1Pw#  
4.10.4  性能 61 <jG[ z69)  
4.10.5  保存设计和性能 64 r*{`_G=1  
4.10.6  默认设计 64 =)nJ'}x  
4.11  图表 64 yZc#@R[0  
4.11.1  合并曲线图 67 >J/8lS{#  
4.11.2  自适应绘制 68 .zsYV
tK  
4.11.3  动态绘图 68 w+iIay  
4.11.4  3D绘图 69 Z31a4O  
4.12  导入和导出 73 <aQ5chf7  
4.12.1  剪贴板 73 Wv]ODEd  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 fPq)Lx1'  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ~8U0(n:^  
4.13  背景 77 l<:\w.Gl  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 v(=E R%  
4.15  生成Rugate 84 =Y5_@}\0  
4.16  参考文献 91 {!^0j{T  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ^/~C\ (  
5.1  Jobs 92 z@v2t>@3k  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 ^Vg-fO]V  
5.3  输入材料 94 vrIWw?/z?  
5.4  设计数据文件夹 95 JC iB;!y  
5.5  默认设计 95 8~AL+*hn  
6  细化和合成 97 v(p<88.!m  
6.1  优化介绍 97 ~W-5-Nl{s  
6.2  细化 (Refinement) 98 F8|m i`f-  
6.3  合成 (Synthesis) 100 {Mc;B9W  
6.4  目标和评价函数 101 UmG|_7  
6.4.1  目标输入 102 CIj7'V  
6.4.2  目标 103 'cA(-ghY/E  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Hz j%G>  
6.5  层锁定和连接 104 395`Wkv  
6.6  细化技术 104 p
j Md  
6.6.1  单纯形 105 ,,]<f*N  
6.6.1.1 单纯形参数 106 pd-I^Q3-  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ATjE8!gO!  
6.6.2.1 Optimac参数 108 d&naJ)IoF)  
6.6.3  模拟退火算法 109 q^h/64F  
6.6.3.1　模拟退火参数 109  vURgR  
6.6.4  共轭梯度 111 .mplML0oW  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 _pxurq{  
6.6.5  拟牛顿法 112 \LM.>vJ  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 ^O,r8K{1n  
6.6.6  针合成 113 Sl'{rol'  
6.6.6.1 针合成参数 114 CW -[c  
6.6.7 差分进化 114 G\K!7k`)!  
6.6.8非局部细化 115 ]I\9S{?  
6.6.8.1非局部细化参数 115 cp6I]#X  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 d6)+d9?<  
6.7.1 　细化 116 t\-|J SZ  
6.7.2　 合成 117 *W2o$_Hs  
6.8  参考文献 117 mDO! o  
7  导纳图及其他工具 118 U:bnX51D4  
7.1  简介 118 QW_BT^d"  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 a\}` f=T  
7.2.1  四分之一波长规则 119 C8D`:k  
7.2.2  导纳图 120 !C ZFbz~:  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 gt\kTn."  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 Hyi'z
1  
7.5  斜入射导纳图 141 /@&#U bN\  
7.6  对称周期 141 F
?t;
bV  
7.7  参考文献 142 0~ o,^AW  
8  典型的镀膜实例 143 1u"#rC>7.4  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ~_ u3_d.  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 jZ''0Lclpc  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 !|8"}ZF  
8.4  W-膜层 148 IyAD>Q^  
8.5  V-膜层 149 Mbn;~tY>  
8.6  V-膜层高折射基底 150 M0$E_*  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 U$;UW3-  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ,&L}^Up  
8.9  四层抗反射薄膜 153 28vQ  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 jB`:(5%RO  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 fk!9` p'  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 r"|.`$:B  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 UG[r /w5(F  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 k8r1)B4ab  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ]CPF7Hf  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 mF4y0r0  
8.17  1/4波长堆栈 162 O{0it6  
8.18  陷波滤波器 163 >`p?
CE  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164
d{"@<0i?  
8.20  褶皱 165 <W+9h0c  
8.21  消偏振分光器1 169 u60RuP&  
8.22  消偏振分光器2 171 >dgz/n?:v  
8.23  消偏振立体分光器 172 Hg$7[um  
8.24  消偏振截止滤光片 173 v0?SN>fZ  
8.25  立体偏振分束器1 174 =2}V=E/85  
8.26  立方偏振分束器2 177 8H|ac[hXK2  
8.27  相位延迟器 178 JKy~'>Q  
8.28  红外截止器 179 6OoOkN
WF  
8.29  21层长波带通滤波器 180 *F!1xyg  
8.30  49层长波带通滤波器 181 _07$TC1  
8.31  55层短波带通滤波器 182 I?^(j;QpS  
8.32  47 红外截止器 183 ci/qm\JI<<  
8.33  宽带通滤波器 184 7iyx_gyo  
8.34  诱导透射滤波器 186 a&UzIFdB  
8.35  诱导透射滤波器2 188 !qU
1RdZ  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 pRd'\+  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 =3`|D0E  
8.35  增益平坦滤波器 193 K$w;|UJc  
8.38  啁啾反射镜 1 196 XMdCQ=  
8.39  啁啾反射镜2 198 _GrifGU\  
8.40  啁啾反射镜3 199 %ZX9YuXQ  
8.41  带保护层的铝膜层 200 0a bQY  
8.42  增加铝反射率膜 201 PQa0m)H@  
8.43  参考文献 202 OzwJ 52  
9  多层膜 204 Hp>L}5 y[  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 C!ch !E#  
9.2  内部透过率 204 WdlGnFAWh  
9.3 内部透射率数据 205 !0vLSF=  
9.4  实例 206 bE{

YK  
9.5  实例2 210 MTKNIv|  
9.6  圆锥和带宽计算 212 P$Oj3HD LM  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 -e_op'`  
10  光学薄膜的颜色 216 W6_rSVm  
10.1  导言 216 v$w}UC%uf  
10.2  色彩 216 iJZNSRQJ}r  
10.3  主波长和纯度 220 5-y*]:g(  
10.4  色相和纯度 221 +I3O/=)  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ?
c+$9  
10.6 色差 226 |:.Uw\z5'  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 `*BV@  
10.8  颜色渲染指数 234 R PoBF~>  
10.9  色差计算 235 qDYNY`  
10.10  参考文献 236 _>rM[\|X  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ' QMcQvU  
11.1  短脉冲 238 =5Nh}o(l?  
11.2  群速度 239 }WaZ+Mdg\  
11.3  群速度色散 241 9x|`XAB  
11.4  啁啾(chirped) 245 UoKVl-  
11.5  光学薄膜—相变 245 [0aC]XQZ  
11.6  群延迟和延迟色散 246 )Jdku}Pf  
11.7  色度色散 246 ZWo~!Z[Y  
11.8  色散补偿 249 GZ,MC?W  
11.9  空间光线偏移 256 _> x}MW+  
11.10  参考文献 258 #o7)eKeQ  
12  公差与误差 260 m#Z&05^  
12.1  蒙特卡罗模型 260 2QM{e!9  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 {-8Nq`w  
12.2.1  误差工具 267 %ut8/T  
12.2.2  灵敏度工具 271 #QIY+muN  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 C\~}ySQc.e  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 6h2keyod  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 J?yasjjgP  
12.3  参考文献 276 {it}\[3  
13  Runsheet 与Simulator 277 xPPA8~Dm*  
13.1  原理介绍 277 u!5q)>Wt(  
13.2  截止滤光片设计 277 MP)Prl>  
14  光学常数提取 289 x,.=VB  
14.1  介绍 289 #v<`|_  
14.2  电介质薄膜 289 $ P5K  
14.3  n 和k 的提取工具 295 K) fKL   
14.4  基底的参数提取 302 4=/jh:h  
14.5  金属的参数提取 306 8FMxn{k2  
14.6  不正确的模型 306 *DC/O( 0  
14.7  参考文献 311 .P aDR |!  
15  反演工程 313 6p*X8j3pW  
15.1  随机性和系统性 313 _:=\h5}8  
15.2  常见的系统性问题 314 ,]7ouH$H}
 
15.3  单层膜 314 `Wg"m~l$N  
15.4  多层膜 314 0NGth(2  
15.5  含义 319 U4fv$gV  
15.6  反演工程实例 319 dk nM|  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 J8p;1-C"  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 *$BUow/>  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 G}g;<,g~  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Um{) ?1  
16.2  应力工具 335 2[ofz}k]r)  
16.3  均匀性误差 339 R6od{#5H$  
16.3.1  圆锥工具 339 "aF2:E'  
16.3.2  波前问题 341 gac31,gH  
16.4  参考文献 343 QK[^G6TI  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 ^tGAJ_b79  
17.1  引言 345 cZ|*Zpk  
17.2  操作数 345 $cHU,  
18  如何在Function中编写脚本 351 KR?aL:RYb  
18.1  简介 351 <O0tg[ub  
18.2  什么是脚本？ 351 el*|@#k}  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 -0kMh.JYR  
18.4  基础 352 hmGlGc,lf  
18.4.1  Classes（类别） 352 oo\^}jb  
18.4.2  对象 352 N,-C+r5}<4  
18.4.3  信息（Messages） 352 ,"is%O.  
18.4.4  属性 352 //BJaWq  
18.4.5  方法 353 l`zhKj  
18.4.6  变量声明 353 3 0[Xkz  
18.5  创建对象 354 M$%ON>Kq  
18.5.1  创建对象函数 355 6E-eD\?I&  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 v#&;z_I+  
18.5.3 丢弃对象 356 ~6n|GxR.[  
18.5.4  总结 356 7HH@7vpJ^  
18.6  脚本中的表格 357 @i!+Z  
18.6.1  方法1 357 pI-Qq%Nwt  
18.6.2  方法2 357 -Yse^(^"s  
18.7 2D Plots in Scripts 358 XjN=UhC  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Z9$pY=8^?  
18.9  注释 360 JI]Lz1i  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ]pBEoktp  
18.11  一个更高级的脚本 362 NMK$$0U  
18.12  <esc>键 364 LF!KP  
18.13 包含文件 365 S/)),~`4  
18.14  脚本被优化调用 366 $I*}AUp v?  
18.15  脚本中的对话框 368
X}(X\rp  
18.15.1  介绍 368 "$farDDoF  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ;&=CZ6vH  
18.15.3  输入框函数 370 -d'FKOD  
18.15.4  自定义对话框 371 STjb2t,a  
18.15.5  对话框编辑器 371 !7I07~&1  
18.15.6  控制对话框 377 "zJxWXI  
18.15.7  更高级的对话框 380 8%m\J:eR  
18.16 Types语句 384 aUZ?Ue9l>2  
18.17 打开文件 385 ,+`r2}N \/  
18.18 Bags 387 /kG?I_z  
18.13  进一步研究 388 iXo;e  
19  vStack 389 pP":,8Q{  
19.1  vStack基本原理 389 i /[{xRXiR  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 i*N2@Z[  
19.3  五棱镜 393 'uL$j
=vB  
19.4 光束距离 396 1/?Wa  
19.5 误差 399 WLXt@dK*u  
19.6  二向分色棱镜 399 f\= @jV  
19.7  偏振泄漏 404 ,H"}Rw
 
19.8  波前误差—相位 405 ##Pzc~xSn  
19.9  其它计算参数 405 P_0X+Tz  
20  报表生成器 406 ffL]_E  
20.1  入门 406 &%j`WF4p  
20.2  指令(Instructions) 406 O713'i  
20.3  页面布局指令 406 A4@z+ebb l  
20.4  常见的参数图和三维图 407 {z_cczJ-  
20.5  表格中的常见参数 408 L]z8'n,  
20.6  迭代指令 408 rhPv{6Z|7  
20.7  报表模版 408 98R/^\  
20.8  开始设计一个报表模版 409 02;'"EmP$  
21  一个新的project 413 _VdJFjY?zc  
21.1  创建一个新Job 414 IrCl\HQN  
21.2  默认设计 415 ,^c-}`!K  
21.3  薄膜设计 416 vzI>:Bf  
21.4  误差的灵敏度计算 420 (Ud"+a  
21.5  显色指数计算 422 c{1)-&W  
21.6  电场分布 424 h\@X!Z,  
后记 426 v1yB  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 paV1o>_Rd  
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《Essential Macleod中文手册》 dLH@,EKl)  
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目  录 #]c
_2V  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 v2]N5  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 /7Sg/d%c  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 8v4krz<Iq  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 I_8 n>\u  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 h& 4#5{=  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ,/p+#|>C=  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ^^ix4[1$Z  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Z<d=v3q  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 W7|nc,i0\  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Z:h'kgG&  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 *^[6uaa
 
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 q/*veL  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 6bj77CoB  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 zwQ#Yvd  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ]]r;}$  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 $ZyOBxI  
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价  格：400元