[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 N g,j#  

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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 mc3"`+o  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 $!DpjN  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 11lsf/IP  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 Pc9H0\+Xk  
1. Essential Macleod软件介绍 _f{{( 7  
1.1 介绍软件 e(yh[7p=  
1.2 创建一个简单的设计 0$njMnB2l  
1.3 绘图和制表来表示性能 F[0]/  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 OJxl<Q=z  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 9FX-1,Jx  
1.6 特定设计的公式技术 <vP=zk  
1.7 交互式绘图 $8FUfJ1@  
2. 光学薄膜理论基础 /O9EQPm(  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 @
XVTU  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 cnLro  
3. 材料管理 Wjc'*QCPl  
3.1 材料模型 tVjsRnb{  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 d'2A,B~_*  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 (w{j6).3Dj  
3.4 基板光学常数的提取 y}H!c;  
4. 光学薄膜设计优化方法 qWw=8Bq  
4.1 参考波长与g wS*E(IAl  
4.2 四分之一规则 )X!,3Ca{43  
4.3 导纳与导纳图 (#
'>(t(4  
4.4 斜入射光学导纳 /
j^  
4.5 光学薄膜设计的进展 K%d&EYoW]  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 =QsYXK7Mn4  
4.6.1 优化目标设置 :pUtSs7p}  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） h$*!8=M  
4.6.3 膜层锁定和链接 [gB+C84%%  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 u&NV,6Fj2[  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Q20%"&Xp]  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 _g.{MT
Q  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 $u.z*b_yy  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 1"g<0 W  
5.5 如何在Function中编写脚本 iB{V^ksU  
6. 光学薄膜系统案例 a =QCp4^  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 #*}+J3/  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Q;u pau  
6.3 Stack应用范例说明 8_8l.!~  
7. 薄膜性能分析 4z? l  
7.1 电场分布 m2o0y++TjW  
7.2 公差与灵敏度分析 hQi2U  
7.3 反演工程 B3BN`mdn>  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 <qSC#[xu  
8. 真空技术 nlYNN/@"  
8.1 常用真空泵介绍 rKn~qVls  
8.2 真空密封和检漏 0mnw{fE8_  
9. 薄膜制备技术 pFXEu=$3  
9.1 常见薄膜制备技术 ;fJ.8C  
10. 薄膜制备工艺 (?c-iKGc  
10.1 薄膜制备工艺因素 ] @'!lhLi  
10.2 薄膜均匀性修正技术 q@qsp&0/  
10.3 光学薄膜监控技术 6-I'>\U~  
11. 激光薄膜 jF>[?L  
11.1 薄膜的损伤问题 : 'c&,oLY  
11.2 激光薄膜的制备流程 z}@7'_iJ  
11.3 激光薄膜的制备技术 `g,..Ns-r  
12. 光学薄膜特性测量 ~`/V(r;o  
12.1 薄膜光谱测量 #?E"x/$Y6  
12.2 薄膜光学常数测量 p[-O( 3Y  
12.3 薄膜应力测量 K;(mC<  
12.4 薄膜损伤测量 zTp"AuNHN  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 Th%zn2R B  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Kgv T"s.  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 <[v[ci  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 AdmC&!nH  
pI[uUu7O  
d1
*<Ll9K  
TV:9bn?r)  
目录 :U\tv[  
Preface 1 qLCR] _*  
内容简介 2 7 &\yj9  
目录 i y9;Yivr)  
1  引言 1 u!s2BC0}N  
2  光学薄膜基础 2 [Zrr)8A  
2.1  一般规则 2 ;`Z{7'^U  
2.2  正交入射规则 3 l.]xB,k  
2.3  斜入射规则 6 ~[ F`"  
2.4  精确计算 7 N;R^h? '  
2.5  相干性 8 *I+Q~4  
2.6 参考文献 10 LscGTs,  
3  Essential Macleod的快速预览 10 cS$_\65  
4  Essential Macleod的特点 32 W/ \g~=vo  
4.1  容量和局限性 33 0%B/,/PxD  
4.2  程序在哪里？ 33 9^x> 3Bo  
4.3  数据文件 35 :DNjhZ  
4.4  设计规则 35 vIvIfE  
4.5  材料数据库和资料库 37 k!^{eOM  
4.5.1材料损失 38 =%7-ZH9  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 H+#FSdy#  
4.5.2 材料库 41 ^pS~Z~[d/  
4.5.3导出材料数据 43 TrNF=
x>  
4.6  常用单位 43 yVfC-Z  
4.7  插值和外推法 46 TzZq(?V  
4.8  材料数据的平滑 50 ni<(K 0~  
4.9 更多光学常数模型 54 [WJ+h~~ o  
4.10  文档的一般编辑规则 55 FwK]$4*  
4.11 撤销和重做 56 ,+VGSd  
4.12  设计文档 57 0_/[k*Re  
4.10.1  公式 58 >~f]_puT  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 TvM~y\s  
4.10.3  沉积密度 59 "tZe>>I  
4.10.4 平行和楔形介质 60 m'U0'}Ld};  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 +t.b` U`-  
4.10.4  性能 61 IBGrt^$M  
4.10.5  保存设计和性能 64 h1RSVp+?n  
4.10.6  默认设计 64 54,er$$V  
4.11  图表 64 / 1RpM]d  
4.11.1  合并曲线图 67 jdN`mosJ  
4.11.2  自适应绘制 68 =wJX0A|  
4.11.3  动态绘图 68 F@t3!bj9  
4.11.4  3D绘图 69 ,6/V"kqIP  
4.12  导入和导出 73 #4:?gfIj  
4.12.1  剪贴板 73 Sdo-nt  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 s"|Pdc4  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 LeQjvW9y  
4.13  背景 77 x;S @bY  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 #_1`)VS  
4.15  生成Rugate 84 ~u{uZ(~
  
4.16  参考文献 91 OI*H,Z"  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 t
1".0  
5.1  Jobs 92 NbobliC=  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 "%_+-C<L4  
5.3  输入材料 94 e.C)jv6qr  
5.4  设计数据文件夹 95 (Z*!#}z`  
5.5  默认设计 95 _!6jR5&r,  
6  细化和合成 97 J,hCvm  
6.1  优化介绍 97 EnR}IY&sI  
6.2  细化 (Refinement) 98 R-:2HRaA  
6.3  合成 (Synthesis) 100 {ax:RUQxy  
6.4  目标和评价函数 101 b}f~il  
6.4.1  目标输入 102 Dv"9qk  
6.4.2  目标 103 ]d]]'Hk  
6.4.3  特殊的评价函数 104 j.Hf/vi`z  
6.5  层锁定和连接 104 "g|#B4'e  
6.6  细化技术 104 #R"*c hLV  
6.6.1  单纯形 105 }6#  
6.6.1.1 单纯形参数 106 zda 3 ,U2o  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 3mgD(,(^  
6.6.2.1 Optimac参数 108 F847pyOJnf  
6.6.3  模拟退火算法 109 @- xjfC\d  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 %4H%?4  
6.6.4  共轭梯度 111 8Wx=p#_  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111  DrR@n~  
6.6.5  拟牛顿法 112 ,2q-D&)\Z  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 L#J1b!D&<6  
6.6.6  针合成 113 Za9qjBH   
6.6.6.1 针合成参数 114 uYN`:b8  
6.6.7 差分进化 114 *T/']t  
6.6.8非局部细化 115 Z~CjA%l  
6.6.8.1非局部细化参数 115 ~a:  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 D^O@'zP=At  
6.7.1 　细化 116 u[YGm:}  
6.7.2　 合成 117 /7kC<  
6.8  参考文献 117 TDh5lI
 
7  导纳图及其他工具 118 e= AKD#  
7.1  简介 118 XwmL.Gg:]7  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 3n _htgcv  
7.2.1  四分之一波长规则 119 @5FQX  
7.2.2  导纳图 120 Xhm c6?  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 *pq\MiD/  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 a9gLg &  
7.5  斜入射导纳图 141 ]DcFySyv  
7.6  对称周期 141 vzM^$V  
7.7  参考文献 142 C_Dn{  
8  典型的镀膜实例 143 wT@og|M  
8.1  单层抗反射薄膜 145 &8H'eAA  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 uFE)17E  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 n S=W1zf  
8.4  W-膜层 148 \D4:Nt#  
8.5  V-膜层 149 Hka2  
8.6  V-膜层高折射基底 150 _/|\aqF.  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 @]j1:PN-  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 +[VXs~I q  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ^W^OfY  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ;pAK_>
 
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 V88p;K$+  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 eFgA 8kY)  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 occ7zcA  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 G\i
9:7 `  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Tk
}]Gev  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ^('wy};  
8.17  1/4波长堆栈 162 dN q$}  
8.18  陷波滤波器 163 & 21%zPm  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 # d  
8.20  褶皱 165 Xvu(vA  
8.21  消偏振分光器1 169 3`g^  
8.22  消偏振分光器2 171 *@5@,=d  
8.23  消偏振立体分光器 172 <)9y{J}s:  
8.24  消偏振截止滤光片 173 6Mf0`K  
8.25  立体偏振分束器1 174 1zv'.uu.,  
8.26  立方偏振分束器2 177 0kh6@y3  
8.27  相位延迟器 178 4s-!7  
8.28  红外截止器 179 la!~\wpa  
8.29  21层长波带通滤波器 180 nlP;nlW  
8.30  49层长波带通滤波器 181 @JMiO^  
8.31  55层短波带通滤波器 182 3fj4%P"  
8.32  47 红外截止器 183 U
i~>SN>s  
8.33  宽带通滤波器 184 54T`OE =  
8.34  诱导透射滤波器 186 !L(^(;$Kgr  
8.35  诱导透射滤波器2 188 (QEG4&9  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 @ Y+oiB~Y  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ^qs $v06  
8.35  增益平坦滤波器 193 SUiOJ[5,  
8.38  啁啾反射镜 1 196 D*jM1w_`  
8.39  啁啾反射镜2 198 )9g2D`a4  
8.40  啁啾反射镜3 199 X?O[r3<  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Wr 4,YQM  
8.42  增加铝反射率膜 201 /uc>@!F  
8.43  参考文献 202 I7onX,U+  
9  多层膜 204 {: /}NpA$  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Txu/{M,  
9.2  内部透过率 204 $Sq:q0  
9.3 内部透射率数据 205 !$JT e  
9.4  实例 206 kiEa<-]  
9.5  实例2 210 HMXE$d=[  
9.6  圆锥和带宽计算 212 -7ep{p-  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 5pX6t  
10  光学薄膜的颜色 216 {}9a6.V;}  
10.1  导言 216 YK_7ip.a[  
10.2  色彩 216 =_CzH(=f#  
10.3  主波长和纯度 220 %9"H  
10.4  色相和纯度 221 /ZX}Nc g  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 hN_]6,<\  
10.6 色差 226 OUnA;_  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 4W75T2q#  
10.8  颜色渲染指数 234 F9^S"qv$  
10.9  色差计算 235 E.h*g8bXe  
10.10  参考文献 236 F,kZU$  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
a?1Wq  
11.1  短脉冲 238 KNl$3
nX  
11.2  群速度 239 W?&%x(6M  
11.3  群速度色散 241 P \I|,  
11.4  啁啾(chirped) 245 ]Ljf?tk  
11.5  光学薄膜—相变 245 UKGPtKE<  
11.6  群延迟和延迟色散 246 F4QVAOM]U  
11.7  色度色散 246 '/p4O2b,  
11.8  色散补偿 249 Wwo0%<2y  
11.9  空间光线偏移 256 PT ~D",k  
11.10  参考文献 258  7GGUV  
12  公差与误差 260 4+n\k  
12.1  蒙特卡罗模型 260 _c07}aQ ],  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 TeQV?ZQ#}  
12.2.1  误差工具 267 \U0Q<ot/7  
12.2.2  灵敏度工具 271 Jm@oDME_E  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 l (o~-i\M  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 U$g?!Yl0  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 /Oono6j  
12.3  参考文献 276 z:O8Ls^\T  
13  Runsheet 与Simulator 277 l;U?Z'n  
13.1  原理介绍 277 ZCw]m#lS  
13.2  截止滤光片设计 277 3|7QUld  
14  光学常数提取 289 3`HV(5U[  
14.1  介绍 289 }H4RR}g  
14.2  电介质薄膜 289 {g6%(X\r.r  
14.3  n 和k 的提取工具 295 \
e_O4  
14.4  基底的参数提取 302 jIyQ]:*p  
14.5  金属的参数提取 306 _F{C\}  
14.6  不正确的模型 306 2%1hdA<  
14.7  参考文献 311 [Q
TV9  
15  反演工程 313 ?2a$*(  
15.1  随机性和系统性 313 V&i;\
9  
15.2  常见的系统性问题 314 GbyJ:  
15.3  单层膜 314 Efe 7gE'  
15.4  多层膜 314 5;?yCWc  
15.5  含义 319 y(Td/rY.  
15.6  反演工程实例 319 ^Cmyx
3O^  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 0:+E-^X  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 zDp2g)  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 J,G lIv.A  
16.1  光学性质的热致偏移 329 8t`?#8D}  
16.2  应力工具 335 B!yr!DW
v  
16.3  均匀性误差 339 -&f$GUTJ  
16.3.1  圆锥工具 339 (hsl~Jf  
16.3.2  波前问题 341
^aQ
"E9  
16.4  参考文献 343 ijcm2FJcG  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 c,22*.V/  
17.1  引言 345 +p^u^a  
17.2  操作数 345 V :eD]zq5  
18  如何在Function中编写脚本 351 -di o5a  
18.1  简介 351 YqG7h,F  
18.2  什么是脚本？ 351 5x
de;  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 d _ e WcI  
18.4  基础 352 f::Dx1VcX  
18.4.1  Classes（类别） 352 ,Q,^3*HX9}  
18.4.2  对象 352 *I'yH8F
cn  
18.4.3  信息（Messages） 352 E4!Fupkpf  
18.4.4  属性 352 Al'3?  
18.4.5  方法 353 P2!C|SLK  
18.4.6  变量声明 353 ~ 1pr~  
18.5  创建对象 354 yVc(`,tZ(  
18.5.1  创建对象函数 355 t5zKW _J7  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 +V+a4lU14  
18.5.3 丢弃对象 356 bcR_E5x$  
18.5.4  总结 356 ':W[
A  
18.6  脚本中的表格 357 *A< 5*Db:F  
18.6.1  方法1 357 r>\bW)e  
18.6.2  方法2 357 +#By*;BJ  
18.7 2D Plots in Scripts 358 . .-hAH  
18.8 3D Plots in Scripts 359 :4s1CC+@\  
18.9  注释 360 :EH=_"  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 eFAnFJ][L  
18.11  一个更高级的脚本 362 7.T?#;'3  
18.12  <esc>键 364 HThcn1u~^b  
18.13 包含文件 365 2oU_2P  
18.14  脚本被优化调用 366 $N\Ja*g  
18.15  脚本中的对话框 368 .2pK.$.  
18.15.1  介绍 368 7|D+Ihy;  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 -+5>|N#  
18.15.3  输入框函数 370 s(^mZ -i  
18.15.4  自定义对话框 371 j4b4!^fV  
18.15.5  对话框编辑器 371 &R siVBA  
18.15.6  控制对话框 377 [V!tVDs&'o  
18.15.7  更高级的对话框 380 S$k&vc(0  
18.16 Types语句 384 Wf<LR3  
18.17 打开文件 385 !+njS  
18.18 Bags 387 >MK98(F  
18.13  进一步研究 388 ]{kPrey  
19  vStack 389 
8[>zG
2  
19.1  vStack基本原理 389 6Iw\c  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ,PZ ge  
19.3  五棱镜 393 yBRC*0+Vy  
19.4 光束距离 396 r
bQR,Nf2x  
19.5 误差 399 <1pEwI~  
19.6  二向分色棱镜 399 J=L5=G7(  
19.7  偏振泄漏 404 kR9-8I{J  
19.8  波前误差—相位 405 KU;9}!#  
19.9  其它计算参数 405 +>9Q/E  
20  报表生成器 406 ^J d r>@  
20.1  入门 406 WKU=.sY  
20.2  指令(Instructions) 406 iO[<1?  
20.3  页面布局指令 406 p8Q1-T3v  
20.4  常见的参数图和三维图 407 vI]N^j2%  
20.5  表格中的常见参数 408 }-fl$j?9E  
20.6  迭代指令 408 80;(Gt@<"  
20.7  报表模版 408 &OBkevg  
20.8  开始设计一个报表模版 409 Kg$Mx  
21  一个新的project 413 - YV>j  
21.1  创建一个新Job 414 ETLD$=iS  
21.2  默认设计 415 c(%|: P^  
21.3  薄膜设计 416
ipILG4  
21.4  误差的灵敏度计算 420 1.X@;  
21.5  显色指数计算 422 xKC[=E>z  
21.6  电场分布 424 qCO/?kW  
后记 426 d[35d J7F  
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$A`VYJtt#  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 NCx%L-GPi  
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《Essential Macleod中文手册》 &=Wlaa/,&  
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目  录 *4Izy14e  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 :@)>r9N  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 1QJL .  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 r9lR|\Ax2U  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 3Y~>qGQwh  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 iIogx8[  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 _?OG1t!  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 '=6\v!  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 j+(I"h3  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 63A.@mL  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 hL5|69E  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 * H9 8Du  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284
`p7=t)5k  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 N36_C;K-z  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 |W\(kb+  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 u4_9)P`]0  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 d M-%{  
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价  格：400元