[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 (e32oP"  

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WHr:M/qD  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 k;<F33v;Mh  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 AgWG4C=  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Yez  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 ]sqp^tQ`e  
1. Essential Macleod软件介绍 X=VaBy4#  
1.1 介绍软件 %htbEKWR  
1.2 创建一个简单的设计 d 1 O+qS  
1.3 绘图和制表来表示性能 _@Y17L.  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ^oEaE#I  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ig'4DmNC  
1.6 特定设计的公式技术 w!RJ8  
1.7 交互式绘图 5IP@_GV|  
2. 光学薄膜理论基础 .VkLF6  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ^ lG^.  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 YVO~0bX:  
3. 材料管理 \r}*<CRr6  
3.1 材料模型 LufZ,  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Mvk#$:8e  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 a61?G!]  
3.4 基板光学常数的提取 OKCX>'j:S  
4. 光学薄膜设计优化方法 /?C6oj1  
4.1 参考波长与g KvEZbf3f  
4.2 四分之一规则 Jh%k:TrBm  
4.3 导纳与导纳图 h}%yG{'/M=  
4.4 斜入射光学导纳 '~76Y9mv  
4.5 光学薄膜设计的进展 P#2;1ki>  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 pXe]hnY  
4.6.1 优化目标设置 NTSKmCvQG  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） %/wfYRp*  
4.6.3 膜层锁定和链接 yF1^/y!@  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 kN*\yH|  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Q?Uk%t\hwc  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Ec['k&*7,  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 @TnAO8Q>XD  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 _1?Fyu&<5  
5.5 如何在Function中编写脚本 dYhLk2  
6. 光学薄膜系统案例 7@i2Mz/eV  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 |y2cI,&  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 .w)T2(  
6.3 Stack应用范例说明 @_Ly^' "  
7. 薄膜性能分析 4?e7
s.9N  
7.1 电场分布 Xu\22/Co  
7.2 公差与灵敏度分析 Uf-`g>  
7.3 反演工程 JOx""R8T5  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 B9h>  
8. 真空技术 cWL7gv\|  
8.1 常用真空泵介绍 N+NS\Y5  
8.2 真空密封和检漏 5$f*fMd;  
9. 薄膜制备技术 W$Zc;KRz$0  
9.1 常见薄膜制备技术 _Y,d|!B#L  
10. 薄膜制备工艺 lb`2a3W/  
10.1 薄膜制备工艺因素 vM2\tL@"  
10.2 薄膜均匀性修正技术
>5-]Ur~  
10.3 光学薄膜监控技术 `!g XA.9Uv  
11. 激光薄膜 !yX4#J(  
11.1 薄膜的损伤问题 3mM.#2=@>  
11.2 激光薄膜的制备流程 Ci^tP~)&"  
11.3 激光薄膜的制备技术 '^.}5be&  
12. 光学薄膜特性测量 c9
5{Xy  
12.1 薄膜光谱测量 :n<<hR0d  
12.2 薄膜光学常数测量 ^k}jPc6  
12.3 薄膜应力测量 p uLQ_MNV  
12.4 薄膜损伤测量 )haHI)xR  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 c6)q(zz  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 &tE#1<k  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 )|@UY(VZ^  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 nLjo3yvV..  
lGP'OY"Q  
&za~=+  
ZX!u\O|w  
目录 H@xIAL  
Preface 1 YG6Kvc6T  
内容简介 2 o\YF_235  
目录 i &4O0}ax*Zm  
1  引言 1 &D~70N\L  
2  光学薄膜基础 2 Px))O&w{  
2.1  一般规则 2 hkL[hD  
2.2  正交入射规则 3 
,M&[c|  
2.3  斜入射规则 6 oLp:Z=  
2.4  精确计算 7 ?(CMm%(8  
2.5  相干性 8 ,HdFE|  
2.6 参考文献 10 K r&HT,>B  
3  Essential Macleod的快速预览 10 H A(e  
4  Essential Macleod的特点 32 Xpd^^  
4.1  容量和局限性 33 =1"8
ua  
4.2  程序在哪里？ 33 Y-WYQ{  
4.3  数据文件 35 l`R/
W
C  
4.4  设计规则 35 0oi =}lV  
4.5  材料数据库和资料库 37 xFY;aK  
4.5.1材料损失 38 &~7b-foCq  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 j@b4)t  
4.5.2 材料库 41 @"#W\m8
 
4.5.3导出材料数据 43 UC34AKm  
4.6  常用单位 43 w(9.{zF|vQ  
4.7  插值和外推法 46 uFT&r|  
4.8  材料数据的平滑 50 ]S~Z8T-[  
4.9 更多光学常数模型 54 ivbuS-f=r  
4.10  文档的一般编辑规则 55 f9g#pyH4  
4.11 撤销和重做 56 r='"X#CmV/  
4.12  设计文档 57 2|)3Ly9  
4.10.1  公式 58 !s]LWCX+|  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 n(b(H`1n  
4.10.3  沉积密度 59 /)PD+18  
4.10.4 平行和楔形介质 60 6 /Apdn1[  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 DT@6Q.  
4.10.4  性能 61
'%`Wy@  
4.10.5  保存设计和性能 64 !RnO{FL  
4.10.6  默认设计 64 2c <Qh=  
4.11  图表 64 @hiwq7[j  
4.11.1  合并曲线图 67 1;[\xqJ  
4.11.2  自适应绘制 68 gC#PqK~  
4.11.3  动态绘图 68 {7)D/WY5  
4.11.4  3D绘图 69 u5EHzoq  
4.12  导入和导出 73 d\dt}&S 5  
4.12.1  剪贴板 73 e1X*}OI  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 "}]1OL SV  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 lV-7bZ  
4.13  背景 77 (@dh"=Lt\  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 0=;jGh}|i  
4.15  生成Rugate 84 9psX"*s  
4.16  参考文献 91 S"UFT-N  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 V,($I'&/  
5.1  Jobs 92 S ;x;FU  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 Mrp'wF D  
5.3  输入材料 94 6v0^'}  
5.4  设计数据文件夹 95 $LZf&q:\]*  
5.5  默认设计 95 ]+W+8)f1M  
6  细化和合成 97 ;PJWd|3  
6.1  优化介绍 97 `av8|;  
6.2  细化 (Refinement) 98 RR><so%  
6.3  合成 (Synthesis) 100 m El*{]  
6.4  目标和评价函数 101 l/_3H\iM  
6.4.1  目标输入 102 uRQm.8b  
6.4.2  目标 103 5DfAL;o!  
6.4.3  特殊的评价函数 104 WJZW5 Xt  
6.5  层锁定和连接 104 AU}P`fT!  
6.6  细化技术 104 glh2CRUj  
6.6.1  单纯形 105 oq=D9  
6.6.1.1 单纯形参数 106 O k_I}X  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 [SgP1>M  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ]?xF'3#  
6.6.3  模拟退火算法 109 LKG],1n-  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 #JGy2Hk$^  
6.6.4  共轭梯度 111 l0g#&V--  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Wy,DA^\ef  
6.6.5  拟牛顿法 112 ]6</{b  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 @<\f[Znto  
6.6.6  针合成 113 fEdQR->  
6.6.6.1 针合成参数 114 @dcT8 YC  
6.6.7 差分进化 114 jcN84AaRFI  
6.6.8非局部细化 115 46*o_A,"  
6.6.8.1非局部细化参数 115 {!x
Pq%  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 Nm#VA.~  
6.7.1 　细化 116 __$IbF5  
6.7.2　 合成 117 X",fp  
6.8  参考文献 117 nbw&+dcJ8  
7  导纳图及其他工具 118 :KZI+  
7.1  简介 118  "=H7p3  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 /H@k;o  
7.2.1  四分之一波长规则 119 tsU.c"^n  
7.2.2  导纳图 120 s
'ntf  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 $# @G!  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 g||{Qmr=1  
7.5  斜入射导纳图 141 '@wYr|s4  
7.6  对称周期 141 =+97VO(w]G  
7.7  参考文献 142 e6k}-<W*q  
8  典型的镀膜实例 143 X^?<, Y)1.  
8.1  单层抗反射薄膜 145 G!oq ;<  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ];^A8?  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 6J6MR<5'  
8.4  W-膜层 148 ? 8S0  
8.5  V-膜层 149 N6$pOQ  
8.6  V-膜层高折射基底 150 6CLrP} u  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 d37l/I  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 E*7B5  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ME1lQ7E4B  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 HLAWx/c,j"  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ._-^58[  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 p(%7|'  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 -Uq I=#  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 Gk8"fs  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 5P -IZ8~$  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ]o_Z3xXUa  
8.17  1/4波长堆栈 162 K-)_1  
8.18  陷波滤波器 163 Vur$t^zE  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 cuBOE2vB.  
8.20  褶皱 165 /P5w}n  
8.21  消偏振分光器1 169 22`W*e@6h  
8.22  消偏振分光器2 171 g[44YrRD  
8.23  消偏振立体分光器 172 II)\rVP5  
8.24  消偏振截止滤光片 173 -$?xR](f  
8.25  立体偏振分束器1 174 U'UV=:/-  
8.26  立方偏振分束器2 177 ^T)HRT-k  
8.27  相位延迟器 178 d%81}4f:  
8.28  红外截止器 179 O!lZ%j@%  
8.29  21层长波带通滤波器 180 r{$ip"f  
8.30  49层长波带通滤波器 181 iT%aAVs  
8.31  55层短波带通滤波器 182 @ _U]U  
8.32  47 红外截止器 183 4VSlgoz  
8.33  宽带通滤波器 184 ?7@B$OlU  
8.34  诱导透射滤波器 186 _,=A\C_b@  
8.35  诱导透射滤波器2 188 8V;@yzIha  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 XN5EZ#
  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 kUmrJBh$  
8.35  增益平坦滤波器 193 OlK3xdg7  
8.38  啁啾反射镜 1 196 hewX)  
8.39  啁啾反射镜2 198 cTHSPr?<  
8.40  啁啾反射镜3 199 b>hNkVI  
8.41  带保护层的铝膜层 200 -f#0$Z/0  
8.42  增加铝反射率膜 201 x:88
E78  
8.43  参考文献 202 ~_QZiuq&  
9  多层膜 204 M3odyO(  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 'LpJ:Th  
9.2  内部透过率 204 ~jH@3\ ?-  
9.3 内部透射率数据 205 '~VKH}b  
9.4  实例 206 "2i{ L '  
9.5  实例2 210 2^bq4c4
J  
9.6  圆锥和带宽计算 212 EQSOEf[
 
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 :`2<SF^0O  
10  光学薄膜的颜色 216 ';hU&D;s  
10.1  导言 216 II3)Cz}xRG  
10.2  色彩 216 =zDU!< U  
10.3  主波长和纯度 220 \-0@9E<D  
10.4  色相和纯度 221 -/ ;y*mP  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 C$vKRg\o  
10.6 色差 226 &
1p\.Y  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 9AD`,]b  
10.8  颜色渲染指数 234 6b~Zv$5^Y-  
10.9  色差计算 235 NEa:  
10.10  参考文献 236 y{,HpPp#o  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 7"2L|fG  
11.1  短脉冲 238 x9Y1v1!5Pu  
11.2  群速度 239 ,aeQXI#@  
11.3  群速度色散 241 01g=Cg  
11.4  啁啾(chirped) 245 dFS>uIT7X  
11.5  光学薄膜—相变 245 5B#q/d1/a  
11.6  群延迟和延迟色散 246 i6?,2\K  
11.7  色度色散 246 l
)[\TD  
11.8  色散补偿 249 jGl8y!aM  
11.9  空间光线偏移 256 {E-.W"t4  
11.10  参考文献 258 8i!AJF9IQ}  
12  公差与误差 260 k__iJsk  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Zk4Hs%n  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 %@#+Xpa+  
12.2.1  误差工具 267 n0F.Um  
12.2.2  灵敏度工具 271 cjAKc|NJ  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 k"\%x=#  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 nDuf<mw  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 J(JsfU4  
12.3  参考文献 276 )Fx
"S.Ok  
13  Runsheet 与Simulator 277 MGze IrV  
13.1  原理介绍 277 59!yz'feF  
13.2  截止滤光片设计 277 1j0OV9-|  
14  光学常数提取 289 T]-yTsto  
14.1  介绍 289 [Oen{c
9A  
14.2  电介质薄膜 289 Se<]g$eK?5  
14.3  n 和k 的提取工具 295 XTEC0s"F  
14.4  基底的参数提取 302 .) uUpY%K^  
14.5  金属的参数提取 306 "X0"
=1R~  
14.6  不正确的模型 306 lffp\v{w  
14.7  参考文献 311 7[h_"@_A7  
15  反演工程 313 T6m#sVq  
15.1  随机性和系统性 313 L9Sd4L_e  
15.2  常见的系统性问题 314 [ -
"o5!0<  
15.3  单层膜 314 d~F`q7F'?]  
15.4  多层膜 314 tvXoF;Yq  
15.5  含义 319 nwswy]e8/  
15.6  反演工程实例 319 TPo%zZo  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 O4RNt,?l  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 '{dduHo  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 =y-L'z&r  
16.1  光学性质的热致偏移 329 IhnHNY]<g  
16.2  应力工具 335 wmKM:`&[5  
16.3  均匀性误差 339 ZycV?ob8}  
16.3.1  圆锥工具 339 Z?X0:WK  
16.3.2  波前问题 341 1c_gh12  
16.4  参考文献 343 Ri4t/H  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 N`XJA-
DE  
17.1  引言 345 nv&uhu/q  
17.2  操作数 345 |$"2R3  
18  如何在Function中编写脚本 351 i)9}+M5  
18.1  简介 351 o#3?")>|  
18.2  什么是脚本？ 351 uT'_}cw  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 F}3<q   
18.4  基础 352 ^,u0kMG5l  
18.4.1  Classes（类别） 352 ALvj)I`Al  
18.4.2  对象 352 AzAD76iNv  
18.4.3  信息（Messages） 352 ?&;d#z*4  
18.4.4  属性 352 J$6h%Eyo  
18.4.5  方法 353 w}+#w8hu  
18.4.6  变量声明 353 S^q)DuF5!  
18.5  创建对象 354 7'u<)V  
18.5.1  创建对象函数 355 L#sw@UCK  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 <X[TjP  
18.5.3 丢弃对象 356 y_O[r1MF  
18.5.4  总结 356 Dy6uWv,P  
18.6  脚本中的表格 357 (t&]u7Atr  
18.6.1  方法1 357 Y.` {]rC  
18.6.2  方法2 357 )006\W|t9  
18.7 2D Plots in Scripts 358 OQzJRu)mF#  
18.8 3D Plots in Scripts 359 }s)MDq9  
18.9  注释 360 +Qy*s1fit  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ",/3P
T  
18.11  一个更高级的脚本 362 5`qt82Qm  
18.12  <esc>键 364 #oRm-yDr  
18.13 包含文件 365 H.-jBFt}  
18.14  脚本被优化调用 366 lv -z[  
18.15  脚本中的对话框 368 3TUW+#[Gu  
18.15.1  介绍 368 i9Fg  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 .5Y%I;~v  
18.15.3  输入框函数 370 bwh7.lDAl  
18.15.4  自定义对话框 371 n]M1'yU  
18.15.5  对话框编辑器 371 |GuIp8~  
18.15.6  控制对话框 377 Jf\lnJTyU8  
18.15.7  更高级的对话框 380 +mRFHZG  
18.16 Types语句 384 Bz}Dgbb  
18.17 打开文件 385 lfjY45
=  
18.18 Bags 387 *M5: \+  
18.13  进一步研究 388 { 3``To$  
19  vStack 389 !0ly1T 9  
19.1  vStack基本原理 389 ;>^oe:@  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 TU ]Ed*'&  
19.3  五棱镜 393 {\-rZb==F2  
19.4 光束距离 396 B;9"=0  
19.5 误差 399 qz7:jq3N-{  
19.6  二向分色棱镜 399 rfqw/o  
19.7  偏振泄漏 404 n}==
 
19.8  波前误差—相位 405 ,h21 h?6  
19.9  其它计算参数 405 _^4\z*x  
20  报表生成器 406 0_yE74i  
20.1  入门 406 8 vNgePn  
20.2  指令(Instructions) 406 5,=Yi$x  
20.3  页面布局指令 406 #PnuR2s7.  
20.4  常见的参数图和三维图 407 7q bGA K  
20.5  表格中的常见参数 408 O+;0|4V%  
20.6  迭代指令 408 =ark?<E  
20.7  报表模版 408 hW*2Le!I  
20.8  开始设计一个报表模版 409 &tY3nr  
21  一个新的project 413 wu?ahNb.`Y  
21.1  创建一个新Job 414 HZMs],GX  
21.2  默认设计 415 9xWC<i  
21.3  薄膜设计 416 97:1L4w.(  
21.4  误差的灵敏度计算 420 d q=>-^o  
21.5  显色指数计算 422 _'&N0
1  
21.6  电场分布 424 PoMkFG6  
后记 426 M0!;{1  
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6cof Zc$  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 }*Qd]\fy  
A.7:.5Cx'  
《Essential Macleod中文手册》 EM/NT/  
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目  录 h}xUZ:  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 A7U
'>r_.  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 {9TWPB/>  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ^}; 4r  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Lm+!/e  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 BqZ^I eC$  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 T=cSTS!P;q  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ln.kEhQ3B  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 GF~^-5  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 *Yv"lB8  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 !- f>*|@  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 PpMZ-f@  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 8>x.zO_.c>  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Z+ubc"MVb  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 >4TJH lB}8  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 *ggTTHy
 
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 T#Pz_ hAu  
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价  格：400元