时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 ZBJ3 VK
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 rrcwtLNbu
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ?+Q$#pb
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 6- ]h5L]
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
特邀专家介绍
Y\p$SN
f ;wc{qy 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
w;+ br 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要
+T2HE\ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
B+Z13;}B 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲
13a(FG 1. Essential Macleod软件介绍
VgMP^&/gZ 1.1 介绍
软件 q{E"pyt36R 1.2 创建一个简单的设计
PrSkHxm 1.3 绘图和制表来表示性能
4P%m>[ 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
xnbsg!`;7W 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
@rwU 1T33 1.6 特定设计的公式技术
DjwQ`MA 1.7 交互式绘图
{6O0.}q]& 2. 光学薄膜理论基础
FJT1i@N 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
ru{f]| 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
}lP 5GT2 3. 材料管理
Obo _YE 3.1 材料模型
ErDL^M-` 3.2 介质薄膜光学常数的提取
@Tr&`Hi 3.3 金属薄膜光学常数的提取
O R
#7" 3.4 基板光学常数的提取
(ua q<Cvg 4. 光学薄膜设计
优化方法
%hINpZMr 4.1 参考
波长与g
k|FSz#Y 4.2 四分之一规则
62kb2C 4.3 导纳与导纳图
{155b0 4.4 斜入射光学导纳
2+'|kt2 4.5 光学薄膜设计的进展
&g0g]G21*I 4.6 Macleod软件的设计与优化功能
RtC'v";6 4.6.1 优化目标设置
XlkGjjW#/J 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
ntGq"
o 4.6.3 膜层锁定和链接
.N"~zOV<# 5. Essential Macleod中各个模块的应用
(Z-l/)Q 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估
mW4%2fD[ 5.2 光通信用窄带滤光片模拟
t3b@P4c\ 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
`FJ|W6% 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟
*eUc.MX6x 5.5 如何在Function中编写脚本
i8~r 6. 光学薄膜系统案例
J :S'uxM 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等
Np2ci~"<. 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等
-$YJfQE6G 6.3 Stack应用范例说明
4o5i ."l 7. 薄膜性能分析
</s,pe79B 7.1 电场分布
t1ze-Ht; 7.2 公差与灵敏度分析
\c7>:DH 7.3 反演工程
\[#t<dD 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
o| D^`Z 8. 真空技术
4:1)~z 8.1 常用真空泵介绍
_k2w(ew? 8.2 真空密封和检漏
ZL_[4Y 9. 薄膜制备技术
'RTtE 9.1 常见薄膜制备技术
mqFq_UX/T 10. 薄膜制备工艺
'Kz9ygZy 10.1 薄膜制备工艺因素
r]LCvsVa 10.2 薄膜均匀性修正技术
o8z)nOTO; 10.3 光学薄膜监控技术
8S
U% 11. 激光薄膜
7[KCWJ 11.1 薄膜的损伤问题
v01#>,R 11.2 激光薄膜的制备流程
@`|)Ia< 11.3 激光薄膜的制备技术
E5UcZ7 12. 光学薄膜特性测量
t;47(U 12.1 薄膜
光谱测量
9y~"|t 12.2 薄膜光学常数测量
v0@)t&O 12.3 薄膜应力测量
R1%y]]*-P 12.4 薄膜损伤测量
Qn=$8!Qqa 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
(Uk,
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书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
#a,9B-X
内容简介
kMxjS^fr Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
'M/([|@ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
z"379b7cN 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
p2d\ZgWD=) #H5=a6E+q 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
^M[P-#X_ ^}>/n. % 目录
>n$!< Preface 1
tcL2J . 内容简介 2
(E!!pz 目录 i
{exrwnIZj 1 引言 1
ai^|N.! 2 光学薄膜基础 2
)^/0cQcJ 2.1 一般规则 2
]J@/p:S> 2.2 正交入射规则 3
ngUHkpYS5 2.3 斜入射规则 6
|y1;&< 2.4 精确计算 7
K2ewucn 2.5 相干性 8
1;wb(DN*c 2.6 参考文献 10
!'W- 6f 3 Essential Macleod的快速预览 10
9UD
@MA 4 Essential Macleod的特点 32
+jV_Wz 4.1 容量和局限性 33
bd \=h1 4.2 程序在哪里? 33
lG"H4Aa> 4.3 数据文件 35
LwdV3 vb# 4.4 设计规则 35
-cfx2;68 4.5 材料数据库和
资料库 37
s<7XxQ 4.5.1材料损失 38
FpVV4D 4.5.1材料数据库和导入材料 39
oNYZIk: 4.5.2 材料库 41
h?j_Ry 4.5.3导出材料数据 43
y0IK,W'&? 4.6 常用单位 43
fN[8N$1- 4.7 插值和外推法 46
!7 _\P7M 4.8 材料数据的平滑 50
MCnN^ 4.9 更多光学常数模型 54
OhwF )p= 4.10 文档的一般编辑规则 55
lLiQ ;@ 4.11 撤销和重做 56
nSS=%,? 4.12 设计文档 57
BD*G1k_q 4.10.1 公式 58
)=_ycf^MC 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
LmLGki$w 4.10.3 沉积密度 59
]gP5f @` 4.10.4 平行和楔形介质 60
JN[0L: 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
PT]GJ<K/ 4.10.4 性能 61
I}.i@d'O 4.10.5 保存设计和性能 64
k-jahm4 4.10.6 默认设计 64
o`? zF+M0 4.11 图表 64
E zT`,#b 4.11.1 合并曲线图 67
;l!`C' :' 4.11.2 自适应绘制 68
GozPvR^/ 4.11.3 动态绘图 68
>^SEWZ_[ 4.11.4 3D绘图 69
qX6D1X1_ 4.12 导入和导出 73
\}dyS8 4.12.1 剪贴板 73
92[a;a 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
VmvQvQ/9R 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
6/Y1 wu 4.13 背景 77
G|4^_`- 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
4Z5#F]OA7 4.15 生成Rugate 84
};katqzEg 4.16 参考文献 91
O4|2|sA 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
q|dH~BK 5.1 Jobs 92
`_qK&&s 5.2 创建一个新Job(工作) 93
1r9 f[j~ 5.3 输入材料 94
9-lEt l% 5.4 设计数据文件夹 95
aV|9H 5.5 默认设计 95
a.kbov( 6 细化和合成 97
`f`TS#V 6.1 优化介绍 97
2QUx&u: 6.2 细化 (Refinement) 98
97`WMs 6.3 合成 (Synthesis) 100
pv# 2]v 6.4 目标和评价函数 101
x` /)g( 6.4.1 目标输入 102
AEg(m<t 6.4.2 目标 103
WUoOGbA ` 6.4.3 特殊的评价函数 104
K1q+~4>\| 6.5 层锁定和连接 104
P+(i^=S 6.6 细化技术 104
7y<1LQ;} 6.6.1 单纯形 105
X.#oEmA,P 6.6.1.1 单纯形
参数 106
@;^Y7po6u 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
YT-=;uK^S 6.6.2.1 Optimac参数 108
MC!ZX)mF 6.6.3 模拟退火算法 109
~[W#/kd1n 6.6.3.1 模拟退火参数 109
ALT^8c&K 6.6.4 共轭梯度 111
QMp rv*i 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
4IsG=7 6.6.5 拟牛顿法 112
Sycw %k 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
<+U|dX 6.6.6 针合成 113
Ew,T 5GG 6.6.6.1 针合成参数 114
U@-2Q= 6.6.7 差分进化 114
[kB
` 6.6.8非局部细化 115
'Pd(\$ZY 6.6.8.1非局部细化参数 115
;_"U "?h_J 6.7 我应该使用哪种技术? 116
!@L=;1, 6.7.1 细化 116
R: Z_g!h 6.7.2 合成 117
jAhP>
t: 6.8 参考文献 117
4^Rd{'mt 7 导纳图及其他工具 118
(-^bj 7.1 简介 118
-n))*.V 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
h5~n 1qX 7.2.1 四分之一波长规则 119
?=On%bh 7.2.2 导纳图 120
3Qn!y\# 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
HSz"
tN 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
2U$"=:Cf 7.5 斜入射导纳图 141
LR&_2e^[ 7.6 对称周期 141
D4Nu8Wr$ 7.7 参考文献 142
{^ec(EsO# 8 典型的镀膜实例 143
-4 Ux,9& 8.1 单层抗反射薄膜 145
"&o,yd% 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
E3l*8F%<3 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
E`;;&V q- 8.4 W-膜层 148
3vic(^Qh 8.5 V-膜层 149
~^US/" 8.6 V-膜层高折射基底 150
v}(6 <wnnS 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
KtN&,C )lJ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
-1%OlKC 8.9 四层抗反射薄膜 153
+pmu2}E.3 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
[0@`wZ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
grom\ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
URTzX
2'[ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
>,5i60Q 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
.qD@
Y3- 8.15十五层宽带抗反射膜 159
\OwpD,' 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
N/F$bv 8.17 1/4波长堆栈 162
%V_-%/3Z 8.18 陷波滤波器 163
#5ax^p2*~ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
}SfbCa)UO 8.20 褶皱 165
bud&R4+ 8.21 消偏振分光器1 169
't (O$ 8.22 消偏振分光器2 171
O1y|v[-BW 8.23 消偏振立体分光器 172
|\9TvN^$` 8.24 消偏振截止滤光片 173
_t>"5s&i 8.25 立体偏振分束器1 174
<=um1P3X 8.26 立方偏振分束器2 177
V%ii3 8.27 相位延迟器 178
7}o/: 8.28 红外截止器 179
dJuD|9R 8.29 21层长波带通滤波器 180
C*kK)6v` 8.30 49层长波带通滤波器 181
3'I^lc 8.31 55层短波带通滤波器 182
MXp3g@Cz 8.32 47 红外截止器 183
Nh!_l 8.33 宽带通滤波器 184
RYR-K^;R 8.34 诱导透射滤波器 186
GHc/Zc"iX 8.35 诱导透射滤波器2 188
LDj<?' 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190
hsNWqk qys 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192
%j,iAUE< 8.35 增益平坦滤波器 193
jA(vTR.` 8.38 啁啾反射镜 1 196
|`O5Xs1{B 8.39 啁啾反射镜2 198
hvV_xD8| 8.40 啁啾反射镜3 199
:z"!kzdJ 8.41 带保护层的铝膜层 200
L=!of{4Z(} 8.42 增加铝反射率膜 201
YlK7;yrq( 8.43 参考文献 202
7L(eh7 9 多层膜 204
p.JXSn 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204
cNK)5-
U 9.2 内部透过率 204
@4+#Xd7" 9.3 内部透射率数据 205
{,$rkwW 9.4 实例 206
P Ru&3BP 9.5 实例2 210
-yH,5vD 9.6 圆锥和带宽计算 212
@tUoD>f 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214
^q[gxuL_ 10 光学薄膜的颜色 216
B{6<;u)[ 10.1 导言 216
QV|>4 ^1D 10.2 色彩 216
_r Y,}\ 10.3 主波长和纯度 220
M!m?#xz'c 10.4 色相和纯度 221
-.I4-6~ 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222
R`'1t3p0i 10.6 色差 226
%Q"(/jm? 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227
v1G"3fy9 10.8 颜色渲染指数 234
W#F Q,+0) 10.9 色差计算 235
XFwLz 10.10 参考文献 236
S7iDTG_@t 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
[j,txe?n 11.1 短脉冲 238
r|<DqTc6l 11.2 群速度 239
k) \gWPH 11.3 群速度色散 241
(#\pQ51 11.4 啁啾(chirped) 245
48D?'lW % 11.5 光学薄膜—相变 245
*<4Em{rZ5 11.6 群延迟和延迟色散 246
9i$NhfOe 11.7 色度色散 246
5N7H{vT_ 11.8 色散补偿 249
Qt>>$3]!! 11.9 空间
光线偏移 256
MHj,<|8Q 11.10 参考文献 258
n`7f"'/: 12 公差与误差 260
u eb-2[= 12.1 蒙特卡罗模型 260
afEF]i 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267
NaUr!s 12.2.1 误差工具 267
,yMU@Vg 12.2.2 灵敏度工具 271
A#h /B+ 12.2.2.1 独立灵敏度 271
9]'&RyH=# 12.2.2.2 灵敏度分布 275
R*pC.QiB~ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276
]B\H~Kn 12.3 参考文献 276
=duks\)O 13 Runsheet 与Simulator 277
T?
,P*l 13.1 原理介绍 277
1=}qBR#scY 13.2 截止滤光片设计 277
"hz\Z0zg2 14 光学常数提取 289
%b2oiKSBx? 14.1 介绍 289
px''.8 14.2 电介质薄膜 289
wNJzwC&iQ 14.3 n 和k 的提取工具 295
s,]%dG! 14.4 基底的参数提取 302
x *XH]&V 14.5 金属的参数提取 306
t~7V{ xk 14.6 不正确的模型 306
_banp0ywS 14.7 参考文献 311
DPn=n9n2 15 反演工程 313
25y6a|` 15.1 随机性和系统性 313
e 8\;t"D 15.2 常见的系统性问题 314
Ard]147 15.3 单层膜 314
oFsM6+\/S 15.4 多层膜 314
|J5 =J 15.5 含义 319
WCJxu}! 15.6 反演工程实例 319
vdDludEv 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320
;
0v>Rfa 15.6.2 反演工程提取折射率 327
$:s`4N^ 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329
\00DqL(Oj` 16.1 光学性质的热致偏移 329
6.1)IQkO 16.2 应力工具 335
a,t``'c; 16.3 均匀性误差 339
t(!r8!c
u} 16.3.1 圆锥工具 339
YGvUwj'2a 16.3.2 波前问题 341
^D^JzEy'?C 16.4 参考文献 343
%(/!ljh_ 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345
w~R`D 17.1 引言 345
Ter:sge7 17.2 操作数 345
yF._*9Q3hK 18 如何在Function中编写脚本 351
Os%n{_#8 18.1 简介 351
-f1k0QwL 18.2 什么是脚本? 351
?L)
!pP] 18.3 Function中脚本和操作数对比 351
;TiUpg</_3 18.4 基础 352
{:nQl} 18.4.1 Classes(类别) 352
-Ng'<7 18.4.2 对象 352
hg@}@Wq\) 18.4.3 信息(Messages) 352
,B}I?vN. 18.4.4 属性 352
[P4$Khu$ 18.4.5 方法 353
NSAF4e 18.4.6 变量声明 353
)jrT6x^IB 18.5 创建对象 354
{Rq1HH 18.5.1 创建对象函数 355
Uggw -sRU 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355
HL3XyP7 18.5.3 丢弃对象 356
1k%k`[VC 18.5.4 总结 356
0H_!Kg 18.6 脚本中的表格 357
<+#oBN 18.6.1 方法1 357
%?C8mA'w 18.6.2 方法2 357
o_M.EZO 18.7 2D Plots in Scripts 358
?jQ](i& 18.8 3D Plots in Scripts 359
^i)hm 18.9 注释 360
i`(^[h
?; 18.10 脚本管理器调用Scripts 360
s pLZ2]A 18.11 一个更高级的脚本 362
"<+ih0Ma 18.12 <esc>键 364
X@)z80 18.13 包含文件 365
j VgFZ, 18.14 脚本被优化调用 366
`i
+g{kE2M 18.15 脚本中的对话框 368
#3=P4FUz. 18.15.1 介绍 368
x]mxD|?f 18.15.2 消息框-MsgBox 368
AGP("U'u 18.15.3 输入框函数 370
^I6^g 18.15.4 自定义对话框 371
pg+[y<B 18.15.5 对话框编辑器 371
{yU+)t(. 18.15.6 控制对话框 377
f&,{XZ 18.15.7 更高级的对话框 380
O#EV5FeF. 18.16 Types语句 384
e,_-Je 18.17 打开文件 385
Fk;oE'"D 18.18 Bags 387
DD9 ?V}Yx 18.13 进一步研究 388
Syp"L;H8Em 19 vStack 389
RyB~Lm`ZK% 19.1 vStack基本原理 389
^04Q %, 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391
g42)7
19.3 五棱镜 393
,fIe&zq 19.4 光束距离 396
gk BdR + 19.5 误差 399
w6dFb6~R 19.6 二向分色棱镜 399
[
=x s4= 19.7 偏振泄漏 404
v4miU;|\ 19.8 波前误差—相位 405
C${S^v 19.9 其它计算参数 405
E@05e 20 报表生成器 406
mV73
\P6K 20.1 入门 406
tj]9~eJ- 20.2 指令(Instructions) 406
Xd E`d. 20.3 页面布局指令 406
ik|-L8 20.4 常见的参数图和三维图 407
-7uwOr 20.5 表格中的常见参数 408
m@`8A 20.6 迭代指令 408
l JP1XzN_ 20.7 报表模版 408
O|A_PyW 20.8 开始设计一个报表模版 409
]9=h%5Ji> 21 一个新的project 413
@pI5lh 21.1 创建一个新Job 414
:f5s4N 21.2 默认设计 415
`dMqe\o%! 21.3 薄膜设计 416
p47S^gW 21.4 误差的灵敏度计算 420
%B5r"=oO 21.5 显色指数计算 422
c H-@V< 21.6 电场分布 424
dUgrKDNyA 后记 426
}u+a<:pkK uJR%0 E7! 8By,#T". 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》
.I VlEG0 ``,k5!a66\ 《Essential Macleod中文手册》
^[Ua46/" m dLsn\m> 目 录
(\"k&O{ ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析
be5,U\&z 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3
"xMD,}+5$$ 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17
&bqT/H18 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44
yq_LW>|Z 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100
MC0TaP 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111
"x941} 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120
N$Y " c* 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167
.*$OQA 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200
jEc|]E 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213
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