[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 KGsS2  
w>-@h>Ln  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 k'O^HMAn!  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 \o-9~C\c*  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 a%\6L  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 )`,||sQ  
1. Essential Macleod软件介绍 BE,XiH;  
1.1 介绍软件 &(M][Uo{|'  
1.2 创建一个简单的设计 ~Mk{
2;x  
1.3 绘图和制表来表示性能 G]Rb{v,r  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 <( "M;C3y  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ug?gVK  
1.6 特定设计的公式技术  |tK
_Bn  
1.7 交互式绘图 M%(B6};J  
2. 光学薄膜理论基础 p~(+4uA  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 R/!lDv!  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 Jo%`N#jG   
3. 材料管理 %S$P<nKN5  
3.1 材料模型 #vwK6'z  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 54[#&T$S  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 a1^CpeG~  
3.4 基板光学常数的提取 Uc>kiWW  
4. 光学薄膜设计优化方法 #&v86  
4.1 参考波长与g '6^+|1  
4.2 四分之一规则 Z;=h=  
4.3 导纳与导纳图 Zv[D{  
4.4 斜入射光学导纳 +0,'B5 (E  
4.5 光学薄膜设计的进展 0.pZlv  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 U-F\3a;&  
4.6.1 优化目标设置 IP?15l w  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） @= E~`  
4.6.3 膜层锁定和链接 EC9bCd-z  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 v,T:V#f^  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 QoLp$1O(y  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 *lZ;kW(}p  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 a$=BX=  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 QR+xPY~  
5.5 如何在Function中编写脚本
n>t&l8g%g  
6. 光学薄膜系统案例 m!22t
pb  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 %fbV\@jDCX  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 <v=$A]K  
6.3 Stack应用范例说明 i2+r#Hw#5R  
7. 薄膜性能分析 \eF_Xk[  
7.1 电场分布 #}PQ !gZ  
7.2 公差与灵敏度分析 A&?8 rc  
7.3 反演工程 5taR[ukM  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 R"wBDWs  
8. 真空技术 uOQ!av2"Rf  
8.1 常用真空泵介绍 *|gY7Av*  
8.2 真空密封和检漏 7`s* {  
9. 薄膜制备技术 f 7R
/i  
9.1 常见薄膜制备技术 ]iU8n (5f  
10. 薄膜制备工艺 Fe[)-_%G  
10.1 薄膜制备工艺因素 T\ *#9a  
10.2 薄膜均匀性修正技术 uI9eUO  
10.3 光学薄膜监控技术 #r|qitL3  
11. 激光薄膜 bIXudE[8zq  
11.1 薄膜的损伤问题 6N49q-.Lg  
11.2 激光薄膜的制备流程 X!b+Dk  
11.3 激光薄膜的制备技术 t
)kc`3i<A  
12. 光学薄膜特性测量 40e(p/Qka  
12.1 薄膜光谱测量 (jyT9'*wAT  
12.2 薄膜光学常数测量 JpRn)e'Z  
12.3 薄膜应力测量 @Ojbu@A  
12.4 薄膜损伤测量 {gC?kp  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 c$.Zg=  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 2jVvK"C  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 U#iGR5&^3  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 4-CGe  
}>5R9  
bJ"}-s+Dx  
.9u0WP95  
目录 9xN`  
Preface 1 *g*~+B :  
内容简介 2
,Y&7` m  
目录 i Zg*XbX  
1  引言 1 S.z
Y0  
2  光学薄膜基础 2 XtZeT~/7RT  
2.1  一般规则 2 8I}
ATc  
2.2  正交入射规则 3 .rwa=IW  
2.3  斜入射规则 6 {'-^CoR  
2.4  精确计算 7 S`Xx('!/|  
2.5  相干性 8 b$
eN]L  
2.6 参考文献 10 ~eyZH8&  
3  Essential Macleod的快速预览 10 j5gL67B  
4  Essential Macleod的特点 32 >1qum'  
4.1  容量和局限性 33 e#AmtheZR  
4.2  程序在哪里？ 33 +h)1NX;o1  
4.3  数据文件 35 .MS41 E!  
4.4  设计规则 35 J'E?Z0  
4.5  材料数据库和资料库 37 ?$Dc>  
4.5.1材料损失 38 y&W3CW\:  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 +gyGA/5:d$  
4.5.2 材料库 41 z41v5rB4  
4.5.3导出材料数据 43
/M@[ 8  
4.6  常用单位 43 +MtxS l  
4.7  插值和外推法 46 JA$RY  
4.8  材料数据的平滑 50 ;0
4< 9i  
4.9 更多光学常数模型 54 w.(?
O;  
4.10  文档的一般编辑规则 55 >|pN4FS  
4.11 撤销和重做 56 ja4zLf(<  
4.12  设计文档 57 0iV~MQZ(  
4.10.1  公式 58 %,+&Kl I  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 U;=1v:~d  
4.10.3  沉积密度 59 _7;D0l  
4.10.4 平行和楔形介质 60 4 'DEdx,&f  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Ie[DTy  
4.10.4  性能 61 z+K1[1SM  
4.10.5  保存设计和性能 64 !A:d9 k  
4.10.6  默认设计 64 }OqP`B  
4.11  图表 64 h-]c   
4.11.1  合并曲线图 67 XFv^jSF  
4.11.2  自适应绘制 68 uE}$ZBiq  
4.11.3  动态绘图 68 q $=[v  
4.11.4  3D绘图 69 wg4Ol*y'  
4.12  导入和导出 73 )~CNh5z6Y  
4.12.1  剪贴板 73 o;u~Yg  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 "vfpG7CG  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 AqT}^f
S  
4.13  背景 77 PVSz%"
 
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 MnP+L'|  
4.15  生成Rugate 84 7$v_#ZE.H  
4.16  参考文献 91 &Z(6i}f,Gp  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 WIN3*z7oW  
5.1  Jobs 92 A*{CT>  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 2;x+#D8  
5.3  输入材料 94 .;)V;!   
5.4  设计数据文件夹 95 eVzZfB-=4}  
5.5  默认设计 95 /@1pm/>ZaN  
6  细化和合成 97 LvMA('4  
6.1  优化介绍 97 Ab8Ke|fA  
6.2  细化 (Refinement) 98 P9x':I$  
6.3  合成 (Synthesis) 100 v\+`n^
=  
6.4  目标和评价函数 101 !xU[BCbfYV  
6.4.1  目标输入 102 qJJ},4}  
6.4.2  目标 103 A@eR~Kp ^  
6.4.3  特殊的评价函数 104 +(Jh$b_  
6.5  层锁定和连接 104 T@Z-;
^aV  
6.6  细化技术 104 xkQT#K=i  
6.6.1  单纯形 105 =imJ0V~RW  
6.6.1.1 单纯形参数 106 pjma<^|F  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Fw8b^ew  
6.6.2.1 Optimac参数 108 }lP`3e  
6.6.3  模拟退火算法 109 $WO{!R  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 @SI,V8i  
6.6.4  共轭梯度 111 2$'bOo
 
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 L^=G(op*  
6.6.5  拟牛顿法 112 o?^Rw*u0/  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 O"#/>hmv-  
6.6.6  针合成 113 6#Rco%07zI  
6.6.6.1 针合成参数 114 +p$lVnAt  
6.6.7 差分进化 114 %a]Imsm  
6.6.8非局部细化 115 *-S?bv,T'  
6.6.8.1非局部细化参数 115 CaVVlL  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 TiR00#b  
6.7.1 　细化 116 j_h0hm]  
6.7.2　 合成 117 TuC  
6.8  参考文献 117 tns4e\  
7  导纳图及其他工具 118 czsnPmNEI  
7.1  简介 118 &UNQ4-s  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ?Iu=os>*  
7.2.1  四分之一波长规则 119 '.jYu7   
7.2.2  导纳图 120 <`?%Cz AO  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 _T_} k:&X  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 y8Rq2jI;(e  
7.5  斜入射导纳图 141 Y ` Z,52  
7.6  对称周期 141 nX\mCO4T  
7.7  参考文献 142 R:rols"QM  
8  典型的镀膜实例 143 X]o"vx%C  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ]<K"`q2  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 pK ^$^*#  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Mcq!QaO}&  
8.4  W-膜层 148 [NV/*>"j&  
8.5  V-膜层 149 //RD$e?h~  
8.6  V-膜层高折射基底 150 *U$%mZS]1  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 8c>xgFWp9  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 S~R[*Gk_uT  
8.9  四层抗反射薄膜 153 5#y_EpL"  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 =\mJ5v"hA  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 $R+rB;=a
!  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ?6HnN0A)  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 Dy:r)\KX  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 qlnA7cK!  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 $/$Hi U`.  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 :^-\KE`3  
8.17  1/4波长堆栈 162 2H`>Kj  
8.18  陷波滤波器 163 xu{VU^'Y  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ,LC(Ax'.F  
8.20  褶皱 165 :F9Oj1lM%  
8.21  消偏振分光器1 169 \#I
Kirf?  
8.22  消偏振分光器2 171 K=r~+4F  
8.23  消偏振立体分光器 172 qJ .XI   
8.24  消偏振截止滤光片 173 qz.l  
8.25  立体偏振分束器1 174 l%p,m[  
8.26  立方偏振分束器2 177 CNhLp#  
8.27  相位延迟器 178 3w"_Onwk  
8.28  红外截止器 179 i|xz  
8.29  21层长波带通滤波器 180 bnPhhsR  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ,gM:s}l!dJ  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Cs\jPh;"  
8.32  47 红外截止器 183 yb)qg]2  
8.33  宽带通滤波器 184 "rfBYl`  
8.34  诱导透射滤波器 186 uvw1 _j?  
8.35  诱导透射滤波器2 188 4eF{Y^  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 {;6a_L@q;|  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 3_.%NgES|  
8.35  增益平坦滤波器 193 L}'^FqO[IW  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ( uG;Q  
8.39  啁啾反射镜2 198 fn.;C  
8.40  啁啾反射镜3 199 $My~sN8  
8.41  带保护层的铝膜层 200 `~=NBN=tiL  
8.42  增加铝反射率膜 201 SBdd_Fn  
8.43  参考文献 202 f0R+Mz8{  
9  多层膜 204 `C$QR 8  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 EWY'E;0@5  
9.2  内部透过率 204 jc\y{I\  
9.3 内部透射率数据 205 Rg+#
(y  
9.4  实例 206 1Dhu5h
t  
9.5  实例2 210 %|1s9?h7\  
9.6  圆锥和带宽计算 212 JT~Dr KI_  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 \ H#"  
10  光学薄膜的颜色 216 _Vf>>tuW  
10.1  导言 216 vp9wRGd  
10.2  色彩 216 .g?D3$|K  
10.3  主波长和纯度 220 =''b`T$  
10.4  色相和纯度 221 `M(st%@n  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 h%NM%;"H/  
10.6 色差 226 u^#e7u  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 iq^;csyKb  
10.8  颜色渲染指数 234 p L^3*B.Nr  
10.9  色差计算 235 #{^qBP
[  
10.10  参考文献 236 uBn35%  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 M{jq6c  
11.1  短脉冲 238 \=`jo$S  
11.2  群速度 239 ,oPxt  
11.3  群速度色散 241 pf+VYZ#)  
11.4  啁啾(chirped) 245 4sW~7:vU  
11.5  光学薄膜—相变 245 bI_MF/r''  
11.6  群延迟和延迟色散 246 s:(z;cj/  
11.7  色度色散 246 ;>;it5 l=  
11.8  色散补偿 249 @K}h4Yok  
11.9  空间光线偏移 256 EJQT\c  
11.10  参考文献 258 ;*ULrX4[  
12  公差与误差 260 K5t.
OAA:  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ]0MuXiR  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 qZ +K4H  
12.2.1  误差工具 267 8?x:PkK  
12.2.2  灵敏度工具 271 ?Zk;NL9  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 RCxwiZaf33  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ):}A Quy]  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 e&Q w\Ze  
12.3  参考文献 276 <"xqt7f  
13  Runsheet 与Simulator 277 m~fDDQs  
13.1  原理介绍 277 c@)?V>oe  
13.2  截止滤光片设计 277 u8`S*i/)m  
14  光学常数提取 289 8V9OMOt!  
14.1  介绍 289 412E7   
14.2  电介质薄膜 289 zMBGpqdP  
14.3  n 和k 的提取工具 295 z|Yt|W  
14.4  基底的参数提取 302 ;sqxFF@  
14.5  金属的参数提取 306 bR~5 :A^  
14.6  不正确的模型 306 [9:";JSl"Y  
14.7  参考文献 311 q">}3`
k  
15  反演工程 313 o~q.j_Sa  
15.1  随机性和系统性 313 yF%e)6  
15.2  常见的系统性问题 314 )0"T?Ivp]  
15.3  单层膜 314 }UQ,B  
15.4  多层膜 314 K[ S>EITr  
15.5  含义 319 0vBQzM Q  
15.6  反演工程实例 319 X8?@Y@  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 v&3"(fp
 
15.6.2 反演工程提取折射率 327 JnIG;/  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 :XPat93w  
16.1  光学性质的热致偏移 329 V@TA~'$|  
16.2  应力工具 335 o_[~{@RoR  
16.3  均匀性误差 339 2Vu?Y
 
16.3.1  圆锥工具 339 {fX~%%c"  
16.3.2  波前问题 341 `Mcg&Mi~  
16.4  参考文献 343 f5l\3oL  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 C8)Paop$  
17.1  引言 345 %}Y&qT?  
17.2  操作数 345 a1u4v/Qu9  
18  如何在Function中编写脚本 351 1uR@ZK  
18.1  简介 351 {?EmO+![}  
18.2  什么是脚本？ 351 ; C(5lD&\5  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ]` A*7  
18.4  基础 352 +>Gw)|oX  
18.4.1  Classes（类别） 352 >K1e=SY  
18.4.2  对象 352 -yg;,nCg  
18.4.3  信息（Messages） 352 M"u=)CT  
18.4.4  属性 352 oIIi_yc  
18.4.5  方法 353 ,Mi'NO  
18.4.6  变量声明 353 BI<9xl]a  
18.5  创建对象 354 1/qD5 *`Y  
18.5.1  创建对象函数 355 burSb:JF  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 aI`d  
18.5.3 丢弃对象 356 -vk/z+-^!  
18.5.4  总结 356 0Js5 ' 9}H  
18.6  脚本中的表格 357 gTB|IcOs  
18.6.1  方法1 357 Tyb'p9  
18.6.2  方法2 357 QtWe,+WWV  
18.7 2D Plots in Scripts 358 \F\7*=xk  
18.8 3D Plots in Scripts 359 /h`gQyGuY  
18.9  注释 360 SMRCG"3qwA  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 g2'K3e?.%  
18.11  一个更高级的脚本 362 !8W0XUqh+  
18.12  <esc>键 364 7^UY%t  
18.13 包含文件 365 W[]|Uu/%  
18.14  脚本被优化调用 366 =?wDQ:  
18.15  脚本中的对话框 368 >1]hR)Ip  
18.15.1  介绍 368 AeN:wOm  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 nmE H/a  
18.15.3  输入框函数 370 0/
fZDQH  
18.15.4  自定义对话框 371 XpK  Y#  
18.15.5  对话框编辑器 371 wN/v-^2  
18.15.6  控制对话框 377 uGW#z_{(n  
18.15.7  更高级的对话框 380 B,Tv9(sv  
18.16 Types语句 384 I69Z'}+qz  
18.17 打开文件 385 MTgf.  
18.18 Bags 387 D+jvF  
18.13  进一步研究 388 wc"~8Ah  
19  vStack 389 ?A r}QN  
19.1  vStack基本原理 389 Az#kE.8b*A  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 /7,@q?v  
19.3  五棱镜 393 ?@`5^7*  
19.4 光束距离 396 Nt?=0X|M  
19.5 误差 399 ;4/ n~  
19.6  二向分色棱镜 399 9(vp`Z8B4  
19.7  偏振泄漏 404 +ek6}f
#  
19.8  波前误差—相位 405 %(POC=b#[  
19.9  其它计算参数 405 YZnFU( j  
20  报表生成器 406 p?P.BU\CR  
20.1  入门 406  w+5OI9  
20.2  指令(Instructions) 406 AxTFVot  
20.3  页面布局指令 406 l^}5PHLd  
20.4  常见的参数图和三维图 407 r~fnK%|  
20.5  表格中的常见参数 408 O~x{p,s U  
20.6  迭代指令 408 w Bm4~~_  
20.7  报表模版 408 rd[mC[ r  
20.8  开始设计一个报表模版 409 \Ov~ t  
21  一个新的project 413 IEJ)Q$GI#  
21.1  创建一个新Job 414 'X/:TOk{W  
21.2  默认设计 415 gf4Hq&Rf  
21.3  薄膜设计 416 dpt P(H  
21.4  误差的灵敏度计算 420 J<Ki;_
=I  
21.5  显色指数计算 422 pjSM7PhQ  
21.6  电场分布 424 &f?JtpB  
后记 426 P#8lO%;  
Y(K`3?A  
Py+ B 2G|  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 a8k`Wog  
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《Essential Macleod中文手册》 j"zW0g!S  
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目  录 `(O#$n  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Olt;^>MQ  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 7.n\a@I/  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 "EWq{l_I5$  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 61HJ%  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 NPa4I7`A  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Eb29tq  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 X;vUz  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 XZ8]se"C  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 j^f54Ky.  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 37M,Os1(  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 !I91kJt7  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 (g
cy3BX;  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Y[>`#RhP  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 hW;n^\lF#e  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 "uyr@u0b  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ZR{YpLFQ  
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价  格：400元