[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 ZfM(%rx  
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 |(N4ZmTm  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 2LGeRw  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 9Xo'U;J  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 pm$,B7Q`oO  
1. Essential Macleod软件介绍 
kKAK;JQ  
1.1 介绍软件 <^6|ZgR  
1.2 创建一个简单的设计 = q9>~E{}  
1.3 绘图和制表来表示性能 }&sF \b  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 !q=ej^(S  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） w]X~I/6g  
1.6 特定设计的公式技术 4]0|fi3}>  
1.7 交互式绘图 |K| c  
2. 光学薄膜理论基础 9Slx.
9f  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 b7Jk{x #u  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 5BR9f3}  
3. 材料管理 "& 'h\  
3.1 材料模型 ))V)]+  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 {%X /w'|  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 sYM3&ikyHI  
3.4 基板光学常数的提取 "f/lm 2<  
4. 光学薄膜设计优化方法 W(a31d  
4.1 参考波长与g jR`q  y<  
4.2 四分之一规则 }md[hiJ  
4.3 导纳与导纳图 0G ^73Z  
4.4 斜入射光学导纳 >Pj ?IE6  
4.5 光学薄膜设计的进展 H(9%SP@[c  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 <x@brXA  
4.6.1 优化目标设置 S"0<`{Gv  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） ukb2[mb*u  
4.6.3 膜层锁定和链接 'AU(WHf  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 8sjAr.iT.  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 I!3qb-.Q  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 :S'P lH  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 VCfa<hn  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ]8FSs/4  
5.5 如何在Function中编写脚本 XoEiW R  
6. 光学薄膜系统案例 T#%r\f,l0  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 DjUif "v  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 v MTWtc!6  
6.3 Stack应用范例说明 INqD(EG  
7. 薄膜性能分析 Wm\HZ9PN  
7.1 电场分布 19O /Q,9  
7.2 公差与灵敏度分析 ee}&~%  
7.3 反演工程 ,pL%,>R5  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 N@Pf\D  
8. 真空技术 },G6IuH%  
8.1 常用真空泵介绍 Bc3(xI'>J  
8.2 真空密封和检漏 %K[_;8  
9. 薄膜制备技术 7.7P>U  
9.1 常见薄膜制备技术 3p`*'j2R  
10. 薄膜制备工艺 k)j,~JH  
10.1 薄膜制备工艺因素 7\I,;swo  
10.2 薄膜均匀性修正技术  %~Vgz(/  
10.3 光学薄膜监控技术 gFlUMfKh  
11. 激光薄膜 <yzgZXxIaS  
11.1 薄膜的损伤问题 CUIT)mF:  
11.2 激光薄膜的制备流程 UkK`5p<D7  
11.3 激光薄膜的制备技术 ?IRp3H  
12. 光学薄膜特性测量 2k}~"!e1  
12.1 薄膜光谱测量 KY 085Fvs  
12.2 薄膜光学常数测量 =yo?]ZS  
12.3 薄膜应力测量 ~k>H4hV3  
12.4 薄膜损伤测量 /NRdBN  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 &`"Q*N2{  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 T=Q"|S]V  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 &L6xagR7M  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 i i&kfy  
&("HH"!  
W
$&{jr-p  
<NRW^#g<x  
目录  g=W1y  
Preface 1 vzDoF0Ts*p  
内容简介 2 aVTTpMY  
目录 i oAaUX
kQE  
1  引言 1 T^FeahA7;  
2  光学薄膜基础 2 ,pfHNK-u  
2.1  一般规则 2 7;0$UYDU*  
2.2  正交入射规则 3 <X]'":  
2.3  斜入射规则 6 ^f][;>c  
2.4  精确计算 7 Qb "\j  
2.5  相干性 8 ig G8L  
2.6 参考文献 10 EVs.'Xg<  
3  Essential Macleod的快速预览 10 {[B^~Y>Lr  
4  Essential Macleod的特点 32 ?+6w8j%\  
4.1  容量和局限性 33 c*F'x-TH  
4.2  程序在哪里？ 33 |ci1P[y  
4.3  数据文件 35 #a7 Wx}  
4.4  设计规则 35 mx\b6w7  
4.5  材料数据库和资料库 37 7O)j]eeoL  
4.5.1材料损失 38 NlLgXn!  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 OJX* :Q  
4.5.2 材料库 41 PeCU V6  
4.5.3导出材料数据 43 
QN!.~>  
4.6  常用单位 43 k)l*L1Y4:  
4.7  插值和外推法 46 >v1E;-ZA  
4.8  材料数据的平滑 50 MZ9{*y[z  
4.9 更多光学常数模型 54 U9N1)3/u  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ^)-* Ubzz  
4.11 撤销和重做 56 WEX6I16  
4.12  设计文档 57 E<=h6Ha  
4.10.1  公式 58 jGV+ ~a  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 H|Vq  
4.10.3  沉积密度 59 (y^[k {#  
4.10.4 平行和楔形介质 60 +[W_Jz  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 <$m=@@qg  
4.10.4  性能 61 #p<1@,  
4.10.5  保存设计和性能 64 4(2iR0N  
4.10.6  默认设计 64 [}p/pj=  
4.11  图表 64 X MkyX&y  
4.11.1  合并曲线图 67 i;+]Y  
4.11.2  自适应绘制 68 R.ZC|bPiD  
4.11.3  动态绘图 68 =lyP &u  
4.11.4  3D绘图 69 {~cG'S Y%  
4.12  导入和导出 73 # MpW\y
X  
4.12.1  剪贴板 73 'j6)5WL$  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 "l8
3O8 L  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 YGAB2`!U  
4.13  背景 77 oXKH,r  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =^nb-9.  
4.15  生成Rugate 84 Ky6.6Y<.|  
4.16  参考文献 91 l;u_4`1H  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ,gdf7&r  
5.1  Jobs 92 (t^&L  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 f[S$Gu4-  
5.3  输入材料 94 fDq`.ZW)s  
5.4  设计数据文件夹 95 4VPJv>^  
5.5  默认设计 95 V%kZ-P*  
6  细化和合成 97 IiX`l6L~W  
6.1  优化介绍 97 g)o?nAr  
6.2  细化 (Refinement) 98 I\8f`l  
6.3  合成 (Synthesis) 100 49/j9#hr  
6.4  目标和评价函数 101 R9dC$Y]\M  
6.4.1  目标输入 102 G{4~{{tI  
6.4.2  目标 103 [1Os.G2  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Yh^~4S?  
6.5  层锁定和连接 104 6[iuCMOZ  
6.6  细化技术 104 0u,
O
W  
6.6.1  单纯形 105 ,
[ogh  
6.6.1.1 单纯形参数 106 d-cK`pSB  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ^N{Lau  
6.6.2.1 Optimac参数 108 OfSy_#aEK  
6.6.3  模拟退火算法 109 x37pj)i/  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 R78=im7  
6.6.4  共轭梯度 111 x{Gdr51%  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 T3-8AUCK8?  
6.6.5  拟牛顿法 112 4^? J BpBZ  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 GQU9UXe  
6.6.6  针合成 113 MV+S.`R  
6.6.6.1 针合成参数 114 >_ )~
"Ra  
6.6.7 差分进化 114 hqPpRSv'  
6.6.8非局部细化 115 FN-j@
 
6.6.8.1非局部细化参数 115 #<^ngoOj  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 >Ei-Spy>Xl  
6.7.1 　细化 116 =|@%5&.P  
6.7.2　 合成 117 W
ix/Az  
6.8  参考文献 117 kO1.27D  
7  导纳图及其他工具 118 /MHml0u  
7.1  简介 118 f,e7;u z%  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Iy2KOv@a5  
7.2.1  四分之一波长规则 119 pO2Y'1*  
7.2.2  导纳图 120 d|nJp-%V  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 'Z<V(;W  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 3`W=rIMli  
7.5  斜入射导纳图 141 %Q)3*L  
7.6  对称周期 141 a0s6G3J+9  
7.7  参考文献 142 (3H'!P7|~  
8  典型的镀膜实例 143 . q=sC?D  
8.1  单层抗反射薄膜 145 M-  f)\`I  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Do&em8i z  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 6b-

j  
8.4  W-膜层 148 |.]:#)^X?  
8.5  V-膜层 149 3L;GfYr0  
8.6  V-膜层高折射基底 150 2J^jSgr50d  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 s@WF[S7D  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 [c{/0*  
8.9  四层抗反射薄膜 153 > @Ux8#  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ` 0YI?$G1  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ws{2 0  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 yNwYP%"y  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ddf#c,SQ  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 /& qN yo  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 h4j{44MT  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 h{&X`$  
8.17  1/4波长堆栈 162 N*k`'T  
8.18  陷波滤波器 163 FwdRM)1)  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 (TQx3DGq  
8.20  褶皱 165 hXvg<Rf  
8.21  消偏振分光器1 169 UR/lM,N;  
8.22  消偏振分光器2 171 "y%S.ipWG  
8.23  消偏振立体分光器 172 ^'UJ&UfX  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ,]OL[m  
8.25  立体偏振分束器1 174 %T.4Aj  
8.26  立方偏振分束器2 177 1T{A(<:o$  
8.27  相位延迟器 178 {x$h K98  
8.28  红外截止器 179 s'&/8RR  
8.29  21层长波带通滤波器 180 qqm7p ,j  
8.30  49层长波带通滤波器 181 sT.
:"Pj$  
8.31  55层短波带通滤波器 182 }RGp)OFY&  
8.32  47 红外截止器 183 KUr}?sdz  
8.33  宽带通滤波器 184 xB1Oh+@i  
8.34  诱导透射滤波器 186 Ha U6`IP  
8.35  诱导透射滤波器2 188 l9U^[;D  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 s^ t1T&  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 +1K9R\  
8.35  增益平坦滤波器 193 Ab]`*h\U  
8.38  啁啾反射镜 1 196 a0vg%Z@!  
8.39  啁啾反射镜2 198 $1Lm=2;U  
8.40  啁啾反射镜3 199 OygR5s +  
8.41  带保护层的铝膜层 200 07zbx6:t  
8.42  增加铝反射率膜 201 g$++\%k&  
8.43  参考文献 202 piZ0KA"  
9  多层膜 204 ebbC`eFD  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 a88(,:t  
9.2  内部透过率 204 -ejH%CT  
9.3 内部透射率数据 205 hFDY2Cp]D  
9.4  实例 206 63ig!-9F  
9.5  实例2 210 {X=gjQ9  
9.6  圆锥和带宽计算 212 "V|1w>s  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 [LwmzmV+F  
10  光学薄膜的颜色 216 IF<?TYy=3B  
10.1  导言 216 xt! DS0|*Y  
10.2  色彩 216 *vx!twu1o  
10.3  主波长和纯度 220 8vhg{L..  
10.4  色相和纯度 221 TFX*kk&R  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ])dq4\Bw  
10.6 色差 226 J|DID+M  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 JEF2fro:Z  
10.8  颜色渲染指数 234 5jj
<sj!S  
10.9  色差计算 235 .%{3#\  
10.10  参考文献 236 0]tr&BLl*  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <&n\)R4C1  
11.1  短脉冲 238 gbP]!d:I  
11.2  群速度 239 p[E}:kak_-  
11.3  群速度色散 241 lyBae?%&  
11.4  啁啾(chirped) 245 D^(Nijl9U  
11.5  光学薄膜—相变 245 }L.xt88  
11.6  群延迟和延迟色散 246 B~/:["zTh&  
11.7  色度色散 246 beLT4~Z=  
11.8  色散补偿 249 MHs2UN  
11.9  空间光线偏移 256 dgLE/r?  
11.10  参考文献 258 +tbG^w%  
12  公差与误差 260 w1Z9@*C!  
12.1  蒙特卡罗模型 260 qpo3b7(N  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 2}Ga  
12.2.1  误差工具 267 I]HrtI  
12.2.2  灵敏度工具 271 t'msgC6=>u  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 OH2Xxr[bQ  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 N5>ioJj  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 D
0'L  
12.3  参考文献 276 0n5{Wr$  
13  Runsheet 与Simulator 277 :'*;>P .(  
13.1  原理介绍 277 jf_xm=n  
13.2  截止滤光片设计 277 uJQ#l\t  
14  光学常数提取 289 sW'SR  
14.1  介绍 289 -O.q$D=as  
14.2  电介质薄膜 289 idWYpU>gC  
14.3  n 和k 的提取工具 295 {+CW_ce  
14.4  基底的参数提取 302 Eiqx1ZM  
14.5  金属的参数提取 306 5Jo><P a  
14.6  不正确的模型 306 Nj8 `<Sl  
14.7  参考文献 311 "~ 1:7{k  
15  反演工程 313 K-%x]Fp=  
15.1  随机性和系统性 313 [,A*nU$  
15.2  常见的系统性问题 314 A4Dj4n0  
15.3  单层膜 314 )%8;C]G;  
15.4  多层膜 314 PuKT0*_ 7  
15.5  含义 319 ,>

H(l$n  
15.6  反演工程实例 319 pLB~{5u>;-  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 cg16|  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 lX^yd5M&f  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 J$'Q3k  
16.1  光学性质的热致偏移 329 T$ <l<.Qd  
16.2  应力工具 335 jNKu5"HB  
16.3  均匀性误差 339 ~RlsgtX"  
16.3.1  圆锥工具 339 XH9Y|FX%#  
16.3.2  波前问题 341 b
`?$;5  
16.4  参考文献 343 }$6;g-|HX  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345
TvV_Tz4e  
17.1  引言 345 /oA=6N#j  
17.2  操作数 345 (o+(YV^  
18  如何在Function中编写脚本 351 74Fv9  
18.1  简介 351 du,mbTQib  
18.2  什么是脚本？ 351 2~yYwX  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 <1r#hFUUL  
18.4  基础 352 {bQi z  
18.4.1  Classes（类别） 352 ${(c`X  
18.4.2  对象 352 x
vx5@lx  
18.4.3  信息（Messages） 352 dD%Sbb  
18.4.4  属性 352 "pQFIV,  
18.4.5  方法 353 ^T(v4'7  
18.4.6  变量声明 353 xqP DL9
\  
18.5  创建对象 354 O+8]y4%5  
18.5.1  创建对象函数 355 \6]Uj+  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 o75Hit  
18.5.3 丢弃对象 356 ]+C;C  
18.5.4  总结 356 T7F)'Mx<  
18.6  脚本中的表格 357 =6PTT$,
 
18.6.1  方法1 357 58TH|Rj+I  
18.6.2  方法2 357 0rnne L  
18.7 2D Plots in Scripts 358 yeI((2L@E2  
18.8 3D Plots in Scripts 359 fdU`+[_  
18.9  注释 360 /UwB6s(  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 l1<]pdLTR  
18.11  一个更高级的脚本 362 mmN!=mf*  
18.12  <esc>键 364 W3AtO  
18.13 包含文件 365 _
9y  
18.14  脚本被优化调用 366 6p=OM=R  
18.15  脚本中的对话框 368 1rnbUE  
18.15.1  介绍 368 =g]Ln)jc  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 M/!5r  
18.15.3  输入框函数 370 Xs,[Z2_iq  
18.15.4  自定义对话框 371 `>kHJI4  
18.15.5  对话框编辑器 371 #2dd`F8  
18.15.6  控制对话框 377 Ptj,9bf<\  
18.15.7  更高级的对话框 380 Ub>Pl,~'  
18.16 Types语句 384 zO@7V>2  
18.17 打开文件 385 &]d-R  
18.18 Bags 387 **RW 9F
U  
18.13  进一步研究 388 F.N4Q'2Z  
19  vStack 389 @<n8?"{5S  
19.1  vStack基本原理 389 ;+86q"&n  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ;%#.d$cU  
19.3  五棱镜 393 ,PmQ}1kGW  
19.4 光束距离 396 MQ~OG9.  
19.5 误差 399 HB/q v IzB  
19.6  二向分色棱镜 399 ap 5D6y+  
19.7  偏振泄漏 404 A2C|YmHk  
19.8  波前误差—相位 405 3#d?  
19.9  其它计算参数 405 PO$ OXw  
20  报表生成器 406 '4T]=s~N  
20.1  入门 406 }3^b1D>2O  
20.2  指令(Instructions) 406 MfJs?N0  
20.3  页面布局指令 406 <'Ppu  
20.4  常见的参数图和三维图 407 -Hx._I$l  
20.5  表格中的常见参数 408 vt(A?$j|A  
20.6  迭代指令 408 $qvk9 B0E  
20.7  报表模版 408 Xp_3EQl  
20.8  开始设计一个报表模版 409 X+R?>xq{=h  
21  一个新的project 413 :!fP~(R'm  
21.1  创建一个新Job 414 2D?V0>
/  
21.2  默认设计 415 $y2"Q,n+  
21.3  薄膜设计 416 Nt>wzPd)  
21.4  误差的灵敏度计算 420 JA")L0a_  
21.5  显色指数计算 422 YtQsSU  
21.6  电场分布 424 rM{3
]v{~  
后记 426 z?b[ 6DLV;  
y4^w8'%MC  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 *[@k=!73  
J&vmW}&  
《Essential Macleod中文手册》 ! u4'1jd[d  
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目  录 0E
A<ip  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 RD$"ft
]Vc  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 XBTtfl &  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 j/C.='?%  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 >$%rsc}^  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 BLno/JK0}  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 .b3cn  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 vvsQf
%  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ;$0)k(c9  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 H&yK{0H  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 & rsNB:!  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 f{[]m(X;  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 D:r+3w:l]  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 qYwEPGa\  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Zn-F!Lsv  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ;:^^Qfp  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 s={jwI50  
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价  格：400元