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    [培训]上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-09-25
    时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 :O+b4R+  
    授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ?[/,*Q%  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 uWtS83i  
    课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Dlf=N$BL7d  
    课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
    特邀专家介绍 d*(Bs $De  
    $<% nt  
    易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 {!Z_&i5  
    获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 PjZvLK@a9)  
    随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 !enz05VW6.  
    本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 by<@Zwtf  
    1. Essential Macleod软件介绍 Q R$sIu@%  
    1.1 介绍软件 *"sDaN0@R  
    1.2 创建一个简单的设计 A?k,}~  
    1.3 绘图和制表来表示性能 JU1; /3(  
    1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Zw 8b -_  
    1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) X&oy.Roo  
    1.6 特定设计的公式技术 WzbN=& C]h  
    1.7 交互式绘图 M]TVaN$v#  
    2. 光学薄膜理论基础 9}$dwl(  
    2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Prx s2 i 8  
    2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 tU/NwA"  
    3. 材料管理 f8jz49C  
    3.1 材料模型 6-}e-H  
    3.2 介质薄膜光学常数的提取 J$*["y`+  
    3.3 金属薄膜光学常数的提取 L\CM);y  
    3.4 基板光学常数的提取 Dx*oSP.qX  
    4. 光学薄膜设计优化方法 vUx$[/<  
    4.1 参考波长与g /M `y LI  
    4.2 四分之一规则 @_ ZW P  
    4.3 导纳与导纳图 6v)eM=   
    4.4 斜入射光学导纳 >Mw =}g@P  
    4.5 光学薄膜设计的进展 b=\3N3OX  
    4.6 Macleod软件的设计与优化功能 :Zo2@8@7  
    4.6.1 优化目标设置 QnLg P7Ft  
    4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) MtTHKp   
    4.6.3 膜层锁定和链接 `9{C/qB  
    5. Essential Macleod中各个模块的应用 k r^#B^  
    5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 0%j; yzQ<  
    5.2 光通信用窄带滤光片模拟 abP?Dj&  
    5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 48rYs}  
    5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ,.MG&O  
    5.5 如何在Function中编写脚本 vg1s5Y qk  
    6. 光学薄膜系统案例 )?y"NVc*  
    6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ^@"f%3  
    6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 z4:09!o_  
    6.3 Stack应用范例说明 2;r^~:  
    7. 薄膜性能分析 cty#@?"e  
    7.1 电场分布 jF85bb$  
    7.2 公差与灵敏度分析 S9055`v5  
    7.3 反演工程 Ps4A B#3  
    7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 qqre d>K  
    8. 真空技术 98nLj9  
    8.1 常用真空泵介绍 Q 5TyS8  
    8.2 真空密封和检漏 Mn;CG'FA  
    9. 薄膜制备技术 _Fy:3,(  
    9.1 常见薄膜制备技术 9 NSYrIQ"  
    10. 薄膜制备工艺 }gaKO 5  
    10.1 薄膜制备工艺因素 !&%bl  
    10.2 薄膜均匀性修正技术 o%Q2.  
    10.3 光学薄膜监控技术 RM$S|y{L  
    11. 激光薄膜 scwlW b<N  
    11.1 薄膜的损伤问题 B%;+8]  
    11.2 激光薄膜的制备流程 0k]N%!U  
    11.3 激光薄膜的制备技术 4yy yXj  
    12. 光学薄膜特性测量 ~,1X>N"  
    12.1 薄膜光谱测量 kIo?<=F8T  
    12.2 薄膜光学常数测量 ]HT>-Ba;{h  
    12.3 薄膜应力测量 o:ob1G[p%  
    12.4 薄膜损伤测量 Gl1$W=pR:  
    12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
    -8e tH&  
    有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系
    书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
    x9s`H)  
    内容简介 R_DQtLI  
    Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 C,.{y`s'  
    《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Mt0|`=64  
    薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 |8ZAE%/d  
    u{G6xuPWf  
    讯技科技股份有限公司
    2015年9月3日
    CcE TS}Q0C  
    EJY:C9W  
    目录 BtZm_SeA  
    Preface 1 cn{l %6K  
    内容简介 2 Q"uu&JC  
    目录 i B`Pi\1H6%  
    1  引言 1 {.W%m  
    2  光学薄膜基础 2 UQr+\ u  
    2.1  一般规则 2 yB[ LO( i  
    2.2  正交入射规则 3 cH ?]uu(  
    2.3  斜入射规则 6 <{j9|mt  
    2.4  精确计算 7 e@Y R/I8my  
    2.5  相干性 8 =z.AQe+   
    2.6 参考文献 10 'KG`{K$  
    3  Essential Macleod的快速预览 10 V4D&&0&n  
    4  Essential Macleod的特点 32 :{<HiJdp  
    4.1  容量和局限性 33 ^jA}*YP  
    4.2  程序在哪里? 33 a[De  
    4.3  数据文件 35 gUQCKNw  
    4.4  设计规则 35 ~.tu#Y?  
    4.5  材料数据库和资料库 37 B[h9epU]K  
    4.5.1材料损失 38 dno*Usx5d0  
    4.5.1材料数据库和导入材料 39 Atw^C+"vW&  
    4.5.2 材料库 41 =r8(9:F!  
    4.5.3导出材料数据 43 54&2SU$kx  
    4.6  常用单位 43 Joj8'  
    4.7  插值和外推法 46 /8R1$7  
    4.8  材料数据的平滑 50 '@bA_F(  
    4.9 更多光学常数模型 54 2{\Y<%.  
    4.10  文档的一般编辑规则 55 %yVZ|d*Q  
    4.11 撤销和重做 56 llJ)u!=5  
    4.12  设计文档 57 __[q`  
    4.10.1  公式 58 L3\{{QOA  
    4.10.2 更多关于膜层厚度 59 F9" K  
    4.10.3  沉积密度 59 q\<vCKI-^  
    4.10.4 平行和楔形介质 60 suwj1qYJ4  
    4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ~@bKQ>Xw  
    4.10.4  性能 61 ^4:= b  
    4.10.5  保存设计和性能 64 k:.c(_2M  
    4.10.6  默认设计 64 e2Dj%=`EU  
    4.11  图表 64 dewu@  
    4.11.1  合并曲线图 67 ]]4E)j8  
    4.11.2  自适应绘制 68 B~IOM  
    4.11.3  动态绘图 68 fA^O  
    4.11.4  3D绘图 69 R<)uvW_@  
    4.12  导入和导出 73 s zg1.&  
    4.12.1  剪贴板 73 Qt$Q/<8U  
    4.12.2  不通过剪贴板导入 76 I/l]Yv!  
    4.12.3  不通过剪贴板导出 76 tKs0]8tc  
    4.13  背景 77 S3m+(N"&  
    4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 $- L)>"  
    4.15  生成Rugate 84 K!X8KPo  
    4.16  参考文献 91 KpL82  
    5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 5+r#]^eQY-  
    5.1  Jobs 92 wpvaTHo  
    5.2  创建一个新Job(工作) 93 |^{ IHF\  
    5.3  输入材料 94 STMcMm3  
    5.4  设计数据文件夹 95 {+MMqJCa  
    5.5  默认设计 95 :?TV6M  
    6  细化和合成 97 ~zx-'sc?  
    6.1  优化介绍 97 C-7.Sa  
    6.2  细化 (Refinement) 98 M;OYh  
    6.3  合成 (Synthesis) 100 C~B^sG@;  
    6.4  目标和评价函数 101 q$K~BgFzpZ  
    6.4.1  目标输入 102 0M"E6z)9  
    6.4.2  目标 103 H>B:jJf  
    6.4.3  特殊的评价函数 104 x]:mc%4-Z  
    6.5  层锁定和连接 104 x;I*Ho  
    6.6  细化技术 104 UkUdpZ.[il  
    6.6.1  单纯形 105 k"6^gup(U  
    6.6.1.1 单纯形参数 106 C>HU G  
    6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 .d2s4q\  
    6.6.2.1 Optimac参数 108 g8C+j6uR0  
    6.6.3  模拟退火算法 109 BB-`=X~:m  
    6.6.3.1 模拟退火参数 109 rRMC< .=  
    6.6.4  共轭梯度 111 $]9d((u4  
    6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2Y,s58F  
    6.6.5  拟牛顿法 112 qxq ~9\My  
    6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 h*Ej}_  
    6.6.6  针合成 113 i^8Zp;O"f  
    6.6.6.1 针合成参数 114 #Jn_"cCRLx  
    6.6.7 差分进化 114 pq@ad\8  
    6.6.8非局部细化 115 X*b0qJ Z  
    6.6.8.1非局部细化参数 115 +XQ6KG&  
    6.7  我应该使用哪种技术? 116 -Fb/GZt|  
    6.7.1  细化 116 i9\Pks#l%  
    6.7.2  合成 117 R_lNC]b0  
    6.8  参考文献 117 7YsFe6D"  
    7  导纳图及其他工具 118 ^E9@L ??  
    7.1  简介 118 (C!fIRY  
    7.2  薄膜作为导纳的变换 118 xKxWtZ0  
    7.2.1  四分之一波长规则 119 PW}Yts7p  
    7.2.2  导纳图 120 L%"&_v#a^  
    7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 `VHm,g2  
    7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ' =oV  
    7.5  斜入射导纳图 141 Jyd%!v  
    7.6  对称周期 141 d{0>R{uac  
    7.7  参考文献 142 Ys\l[$_`*  
    8  典型的镀膜实例 143 7Kn=[2J5k'  
    8.1  单层抗反射薄膜 145 L Nj|t)Ov  
    8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 3vy5JTCz~  
    8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @sVBG']p  
    8.4  W-膜层 148 h7g9:10  
    8.5  V-膜层 149 <#c2Hg%jh  
    8.6  V-膜层高折射基底 150 Z*JZ Ubo-Q  
    8.7  V-膜层高折射率基底b 151 o;"!#Z 1SJ  
    8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 @x)z" )>  
    8.9  四层抗反射薄膜 153 Dhq7qz  
    8.10  Reichert抗反射薄膜 154 %o5GD  
    8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 7n#0eska,  
    8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 1j}o. 0\  
    8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 VRD2e ,K  
    8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 $u>^A<TBN  
    8.15十五层宽带抗反射膜 159 e Q0bx&  
    8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 &fW;;>  
    8.17  1/4波长堆栈 162 [}FP_Su$6  
    8.18  陷波滤波器 163 Jg7IGU(dct  
    8.19 厚度调制陷波滤波器 164  ?9AByg  
    8.20  褶皱 165 'Y[\[]3[8  
    8.21  消偏振分光器1 169 eM8u ;i  
    8.22  消偏振分光器2 171 pnf3YuB  
    8.23  消偏振立体分光器 172 WC`<N4g|  
    8.24  消偏振截止滤光片 173 A M# '(k(  
    8.25  立体偏振分束器1 174 F7mzBrz  
    8.26  立方偏振分束器2 177 ?Hq`*I?b9  
    8.27  相位延迟器 178 :kgwKuhL  
    8.28  红外截止器 179 JBuorc  
    8.29  21层长波带通滤波器 180 y1P?A]v  
    8.30  49层长波带通滤波器 181 B [03,zVf  
    8.31  55层短波带通滤波器 182 ?vvjwys@  
    8.32  47 红外截止器 183 <;= X7l+  
    8.33  宽带通滤波器 184 T1D7H~ \lG  
    8.34  诱导透射滤波器 186 K2NnA  
    8.35  诱导透射滤波器2 188 puDy&T  
    8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 iHTxD1 D+H  
    8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 <>p\9rVp*^  
    8.35  增益平坦滤波器 193 Q5baY\"9^  
    8.38  啁啾反射镜 1 196 GAQVeL1  
    8.39  啁啾反射镜2 198 l'c|I &Y]  
    8.40  啁啾反射镜3 199 7kleBDDT  
    8.41  带保护层的铝膜层 200 .0Cpqn,[  
    8.42  增加铝反射率膜 201 ^M8\ 3G  
    8.43  参考文献 202 +i{&"o4}  
    9  多层膜 204 9-9`;Z  
    9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 7HFw*;  
    9.2  内部透过率 204 )KkA<O}f  
    9.3 内部透射率数据 205 sA:0b5_a  
    9.4  实例 206 Z#d_<e?  
    9.5  实例2 210 g(|p/%H  
    9.6  圆锥和带宽计算 212 *pj&^W?  
    9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 4 uD!-1LT@  
    10  光学薄膜的颜色 216 XYf;72*  
    10.1  导言 216 Ktg6*L/  
    10.2  色彩 216 !Il<'+ ^  
    10.3  主波长和纯度 220 n&k1'KL&  
    10.4  色相和纯度 221 5q@o,d  
    10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 i $#bg^  
    10.6 色差 226 3]/w3|y  
    10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ,f4Hl%T;  
    10.8  颜色渲染指数 234 ?2QssfB  
    10.9  色差计算 235 vA"yy"B+ V  
    10.10  参考文献 236 cy%^P^M  
    11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 9qW^@5 m  
    11.1  短脉冲 238 -&%#R_RV  
    11.2  群速度 239 & Z*&&  
    11.3  群速度色散 241 3<#4  
    11.4  啁啾(chirped) 245 N(6|TE2  
    11.5  光学薄膜—相变 245 nQb{/ TqC'  
    11.6  群延迟和延迟色散 246 3/P2&m  
    11.7  色度色散 246 ps^Z)x`GV  
    11.8  色散补偿 249 t d-EB&i\  
    11.9  空间光线偏移 256 k oZqoP  
    11.10  参考文献 258 8.F]&D0p8  
    12  公差与误差 260  E*i <P  
    12.1  蒙特卡罗模型 260 ,accw}G  
    12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 vaS/WEY  
    12.2.1  误差工具 267 BPwFcT)i!(  
    12.2.2  灵敏度工具 271 -"#;U`.oh7  
    12.2.2.1 独立灵敏度 271 cea%M3  
    12.2.2.2 灵敏度分布 275 ['e8Xz0  
    12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 _T)dmhG  
    12.3  参考文献 276 >ouHR*  
    13  Runsheet 与Simulator 277 ]FL=E3U  
    13.1  原理介绍 277 7J.alV4`/  
    13.2  截止滤光片设计 277 CZuV{Oh}?  
    14  光学常数提取 289 Ws{2+G~  
    14.1  介绍 289 Tz:mj  
    14.2  电介质薄膜 289 u#ag|b/C:  
    14.3  n 和k 的提取工具 295 oX8e}  
    14.4  基底的参数提取 302 cEhwv0f!qS  
    14.5  金属的参数提取 306 ?1JS*LQ$  
    14.6  不正确的模型 306 ,=.&  
    14.7  参考文献 311 VMe~aUd  
    15  反演工程 313 &Vd,{JU  
    15.1  随机性和系统性 313 i9 8T+{4  
    15.2  常见的系统性问题 314 2 <y!3OeN  
    15.3  单层膜 314 ZEiW\ V  
    15.4  多层膜 314 @Q 8E)k@  
    15.5  含义 319 [f!sBJ!  
    15.6  反演工程实例 319 ]SA]{id+  
    15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ckHHD|  
    15.6.2 反演工程提取折射率 327 ^/h,C^/;  
    16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 t H`!?  
    16.1  光学性质的热致偏移 329 9|jk=`4UK  
    16.2  应力工具 335 I&,gCZ#  
    16.3  均匀性误差 339 )`, Bt  
    16.3.1  圆锥工具 339 %ZDo;l+<F6  
    16.3.2  波前问题 341 `%SFu  
    16.4  参考文献 343 y 4j0nF  
    17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 \=P+]9  
    17.1  引言 345 oj/,vO:QT  
    17.2  操作数 345 1O"7%Pvw  
    18  如何在Function中编写脚本 351 MdV-;uf  
    18.1  简介 351 &!x!j ,nT  
    18.2  什么是脚本? 351 \#?n'qyj  
    18.3  Function中脚本和操作数对比 351 9TuE.  
    18.4  基础 352 p(g0+.?`~  
    18.4.1  Classes(类别) 352 -Jr6aai3+  
    18.4.2  对象 352 p(-f$Q(  
    18.4.3  信息(Messages) 352 Vv8e"S  
    18.4.4  属性 352 p~vq1D6  
    18.4.5  方法 353 cy%JJ)sf  
    18.4.6  变量声明 353 @*`9!K%  
    18.5  创建对象 354 aY&He~  
    18.5.1  创建对象函数 355 Q ;V `  
    18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 EZlcpCS  
    18.5.3 丢弃对象 356 _BHR ?I[w  
    18.5.4  总结 356 Ou/JN+2A  
    18.6  脚本中的表格 357 ~M7 J{hK  
    18.6.1  方法1 357 + KGZk?%  
    18.6.2  方法2 357 zkHwoAD;t8  
    18.7 2D Plots in Scripts 358 k GR5!8$z  
    18.8 3D Plots in Scripts 359 V4@ HIM  
    18.9  注释 360 {ULyB$\-  
    18.10  脚本管理器调用Scripts 360 2mg4*Ys  
    18.11  一个更高级的脚本 362 1iyd{r7|  
    18.12  <esc>键 364 %%5K%z,R#  
    18.13 包含文件 365 Xk8+  
    18.14  脚本被优化调用 366 MY1s  
    18.15  脚本中的对话框 368 c 4xh  
    18.15.1  介绍 368 qw={gZ  
    18.15.2  消息框-MsgBox 368 9)N/J\b  
    18.15.3  输入框函数 370 iU]py  
    18.15.4  自定义对话框 371 yyCx;  
    18.15.5  对话框编辑器 371 9U$n;uA  
    18.15.6  控制对话框 377 A& u"NgJ  
    18.15.7  更高级的对话框 380 j[2?}?  
    18.16 Types语句 384 l8rBp87Q  
    18.17 打开文件 385 *E lR  
    18.18 Bags 387 YbjeM6#E  
    18.13  进一步研究 388 "9mJ$us  
    19  vStack 389 s"G;rcS}#  
    19.1  vStack基本原理 389 KFd !wZ @e  
    19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 =I. b2e 1z  
    19.3  五棱镜 393 :wtr{,9rZ  
    19.4 光束距离 396 'oNY4.[  
    19.5 误差 399 5[NF  
    19.6  二向分色棱镜 399 $$QbcnOf$  
    19.7  偏振泄漏 404 PgZeDUPP  
    19.8  波前误差—相位 405 =73""ry  
    19.9  其它计算参数 405 9*wS}A&Jh  
    20  报表生成器 406 rWk4)+Tk  
    20.1  入门 406 -OY[x|0  
    20.2  指令(Instructions) 406 E5@U~|V[  
    20.3  页面布局指令 406 eF)vx{s  
    20.4  常见的参数图和三维图 407 tS!|#h-J  
    20.5  表格中的常见参数 408 &Xw{%Rg  
    20.6  迭代指令 408 >:7W.QLRU  
    20.7  报表模版 408 96M?tTa  
    20.8  开始设计一个报表模版 409 ^3`CP4DT  
    21  一个新的project 413 U-+%e:v  
    21.1  创建一个新Job 414 } ti+tM*  
    21.2  默认设计 415 M`{x*qR  
    21.3  薄膜设计 416 zSs5F_  
    21.4  误差的灵敏度计算 420 )<W6cDx'H+  
    21.5  显色指数计算 422 &}sC8,Sr  
    21.6  电场分布 424 2x3'm  
    后记 426 &Z Ja}5k!r  
    erG@8CG  
    GS1Vcav<  
    书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 f?xc-lX5R  
    JUBihw4  
    《Essential Macleod中文手册》
    hN% h.;s  
    mG;Gt=4  
    目  录 K.CwtUt`54  
    ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 TM_ MJp  
    第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 GUUVE@Z  
    第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 >C|/%$kk:f  
    第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 5$SO  
    第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 QC+oSb!!?  
    第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 cZn B 2T?  
    第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 r +X%0@K  
    第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ]F&<{\:_}  
    第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 0:<dj:%M  
    第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 \A-w,]9^V  
    第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 P<@Yux#  
    第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 3W*O%9t7  
    第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 pfCNFF*"  
    第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 dL9QYIfP  
    第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 x@EEMO1_"  
    第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 71GLqn?  
    neC]\B[Xm  
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    只看该作者 1楼 发表于: 2023-10-11
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