[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 f<uLbJ6  
zbx,qctYo$  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 XkCbdb  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要  qeBfE  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 QSAz:Yvf|  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 mNKe,H0  
1. Essential Macleod软件介绍 @YU}0&  
1.1 介绍软件 4B<D.i ;}  
1.2 创建一个简单的设计 xI<Dc*G  
1.3 绘图和制表来表示性能 ToCB*GlL  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 st|$Fu  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） IJs*zzR  
1.6 特定设计的公式技术 _V1O =iu-  
1.7 交互式绘图 37a"<  
2. 光学薄膜理论基础 R5r )01  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 \QBODJ1  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 Z%N{Y x(  
3. 材料管理 ub{<m^|)  
3.1 材料模型 pYI`5B4  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 d&wg\"E  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 [O&2!x  
3.4 基板光学常数的提取 zr\I1v]?1#  
4. 光学薄膜设计优化方法 6*S|$lo9B  
4.1 参考波长与g x{Gb4=?l  
4.2 四分之一规则 =KmjCz:  
4.3 导纳与导纳图 ;f^.7|
 
4.4 斜入射光学导纳 )j4]Y dJ  
4.5 光学薄膜设计的进展 VZ}^1e  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 >9Fs)R]P  
4.6.1 优化目标设置 ?c+_}ja,  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） H-nk\ K<|  
4.6.3 膜层锁定和链接 6;l{9cRgc  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 SM@l4GH  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ]N:SB  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ?2 u_E "  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ?M;2H{KG:  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 AVOzx00U  
5.5 如何在Function中编写脚本 f%an<>j^w  
6. 光学薄膜系统案例 bkceR>h%  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 8,a&i:C  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 9 @!Og(l  
6.3 Stack应用范例说明 "k)( ,  
7. 薄膜性能分析 xA`Q4"[I  
7.1 电场分布 =mn)].Wg  
7.2 公差与灵敏度分析 bDeHU$  
7.3 反演工程 zKx?cEpE  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 g*N~r['dZ  
8. 真空技术 %Fa/82:- "  
8.1 常用真空泵介绍 ]sd|u[:k  
8.2 真空密封和检漏 0 oEw1!cY  
9. 薄膜制备技术 !qV{OXdrB
 
9.1 常见薄膜制备技术 6A
Lf`:  
10. 薄膜制备工艺 up=4B  
10.1 薄膜制备工艺因素 ZC_b`q<  
10.2 薄膜均匀性修正技术 <dV|N$WV  
10.3 光学薄膜监控技术 _.' j'j%  
11. 激光薄膜 ~x)Awdlu  
11.1 薄膜的损伤问题 \wCj$-;Jt  
11.2 激光薄膜的制备流程 1/jJ;}  
11.3 激光薄膜的制备技术 y5kqnibh@  
12. 光学薄膜特性测量 ecA
:y!N  
12.1 薄膜光谱测量 +6B(LPxgP  
12.2 薄膜光学常数测量 qx18A  
12.3 薄膜应力测量 NN\% X3ri"  
12.4 薄膜损伤测量 Dq)V]
Zx  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 I+kGEHO}  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ]!d #2(  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 X-|`|>3E  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 ` Xhj7%>  
_k\*4K8L  
(x@|6Sb  
RI!!?hYm  
目录 R(74Px,/  
Preface 1 2oXsPrtZ  
内容简介 2 gGxgU$`#c  
目录 i ZF_*h`B  
1  引言 1 e4b`C>>  
2  光学薄膜基础 2 4`o_r%   
2.1  一般规则 2 EA7 8&  
2.2  正交入射规则 3 `{c %d  
2.3  斜入射规则 6 S;kI\;  
2.4  精确计算 7 w=vK{h#8  
2.5  相干性 8 1&ukKy,[  
2.6 参考文献 10 ( MWh|kp  
3  Essential Macleod的快速预览 10 .}&bE1  
4  Essential Macleod的特点 32 3V?JX5X\  
4.1  容量和局限性 33 &p8b4y_  
4.2  程序在哪里？ 33 3Wa^:8N  
4.3  数据文件 35 `Xc~'zG  
4.4  设计规则 35 )[|TxXz d  
4.5  材料数据库和资料库 37 7;:R\d6iL  
4.5.1材料损失 38 ^q-]."W]t~  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 o9(:m   
4.5.2 材料库 41 0k>bsn/j  
4.5.3导出材料数据 43 {u{n b3/jl  
4.6  常用单位 43 bX6eNk-L  
4.7  插值和外推法 46 wb~#=6Y  
4.8  材料数据的平滑 50 L9M0vkgri  
4.9 更多光学常数模型 54 yDg`9q.ckm  
4.10  文档的一般编辑规则 55 [G>8N5@*  
4.11 撤销和重做 56 L:nZ_O;  
4.12  设计文档 57 ekND>Qjj  
4.10.1  公式 58 VI: !#  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 S@*
lI2  
4.10.3  沉积密度 59 Eyv%"+>  
4.10.4 平行和楔形介质 60 @W[`^jfQ  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 HJ?p,V q5_  
4.10.4  性能 61 w[}5qAI5*f  
4.10.5  保存设计和性能 64 15U]/?jv8  
4.10.6  默认设计 64 Clr~:2g\  
4.11  图表 64 -L%tiz`_  
4.11.1  合并曲线图 67 T}d%XMXq  
4.11.2  自适应绘制 68 -7,xjn  
4.11.3  动态绘图 68 @xIKYJyU  
4.11.4  3D绘图 69 hC2@Gq  
4.12  导入和导出 73 2L Kpwz?  
4.12.1  剪贴板 73
I!>pHF
4  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 zO)A_s.6K  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 mj:X'BVA  
4.13  背景 77 -XBD WV  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =$xxkc.~G  
4.15  生成Rugate 84 +NWhvs  
4.16  参考文献 91 vncLB&@7  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Q
{-T;T  
5.1  Jobs 92 8 :B(}Y4K  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 &v9*D`7L  
5.3  输入材料 94 uv,&/,;S  
5.4  设计数据文件夹 95 kEiWE|  
5.5  默认设计 95 _]zm02|  
6  细化和合成 97 6/
e+=W2  
6.1  优化介绍 97 ;U$Fz~rJ  
6.2  细化 (Refinement) 98 F
bO\#p s  
6.3  合成 (Synthesis) 100 s[6y|{&ze  
6.4  目标和评价函数 101 }\Kki  
6.4.1  目标输入 102 Jd#g"a>zZ  
6.4.2  目标 103 #fdQ\)#q>  
6.4.3  特殊的评价函数 104 N~Zcrt_D  
6.5  层锁定和连接 104 vU|=" #  
6.6  细化技术 104 h2~b%|Pv  
6.6.1  单纯形 105 t$+[(}@+  
6.6.1.1 单纯形参数 106 4'EC(NR7N  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 *O6q=yg;K:  
6.6.2.1 Optimac参数 108 N;N,5rxV  
6.6.3  模拟退火算法 109 93I.Wp_{  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 K`%{(^}.  
6.6.4  共轭梯度 111 mtfEK3?2*  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ]1YyP  
6.6.5  拟牛顿法 112 Qn0 1ig  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 Sy\ec{$+V]  
6.6.6  针合成 113 >Vp#  
6.6.6.1 针合成参数 114 DVC<P}/  
6.6.7 差分进化 114 BuwJR Ql.  
6.6.8非局部细化 115 y*K]z  
6.6.8.1非局部细化参数 115 j\SvfZ0"  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 ;<^t)8E  
6.7.1 　细化 116 ]CLt Km  
6.7.2　 合成 117 En&`m  
6.8  参考文献 117 \M(#FS  
7  导纳图及其他工具 118 *Y"j 0Yob  
7.1  简介 118 #\DKU@|h  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 vfnVN@ 5  
7.2.1  四分之一波长规则 119 FH Hi/yh  
7.2.2  导纳图 120 BBkYc:B=SA  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 #21t8  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 #0*OkZMt  
7.5  斜入射导纳图 141 znVao %b  
7.6  对称周期 141 g+ZQ6Hz  
7.7  参考文献 142
s}m.r5  
8  典型的镀膜实例 143 j=>:{`*c  
8.1  单层抗反射薄膜 145 #}y(D{zc  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 @-d0~.S  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 7|vB\[s  
8.4  W-膜层 148 )wFr%wNe  
8.5  V-膜层 149 (bT3 r_  
8.6  V-膜层高折射基底 150 fG{ 9doUD  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Kb&V!#o)  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 NvJV</l6A  
8.9  四层抗反射薄膜 153 I{ ryD -!  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 T#EFXHPr  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 {6*#3m Kk  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 M0L&~p_F  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 53Yxz3v  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 uSN"vpc4D  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 $6h*lT<  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 pu9^e4B9  
8.17  1/4波长堆栈 162 19c@`?  
8.18  陷波滤波器 163 A]o4Mf0>I  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 3[d>&xk@$  
8.20  褶皱 165 1J{fXh  
8.21  消偏振分光器1 169 0[xpEiDx  
8.22  消偏振分光器2 171 &|9.}Z8U  
8.23  消偏振立体分光器 172 /_t|Dry015  
8.24  消偏振截止滤光片 173 \X|sU:g  
8.25  立体偏振分束器1 174 tfYB_N  
8.26  立方偏振分束器2 177 ; s|w{.<:  
8.27  相位延迟器 178 [AS}
RV  
8.28  红外截止器 179 8Pmdk1 ~  
8.29  21层长波带通滤波器 180 (R*j|HAw`X  
8.30  49层长波带通滤波器 181 !'G
~k+  
8.31  55层短波带通滤波器 182 w1`QIv  
8.32  47 红外截止器 183 v^N`IJq  
8.33  宽带通滤波器 184 6N~q`;p0  
8.34  诱导透射滤波器 186 f>polxB%N  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ;65D  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 ?o*I9[Z)  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 PuL<^aJ  
8.35  增益平坦滤波器 193 e6E?t[hEeS  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ;_O)p,p  
8.39  啁啾反射镜2 198 vLT0ETHg6  
8.40  啁啾反射镜3 199 0w=R_C)
s  
8.41  带保护层的铝膜层 200 b2C`g]ibQ  
8.42  增加铝反射率膜 201 lg$zGa?  
8.43  参考文献 202 % 0T+t.  
9  多层膜 204 F$V/K&&W  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 i-" p)2d=#  
9.2  内部透过率 204 !w39FfU{  
9.3 内部透射率数据 205 LWfqEL -  
9.4  实例 206 -0C@hM,wm  
9.5  实例2 210 k*mt4~KLT8  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Yg9
joNBh  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 3Ot~!AlR  
10  光学薄膜的颜色 216 ?jx1R^  
10.1  导言 216 QDx$==Fo  
10.2  色彩 216 qS|\JG  
10.3  主波长和纯度 220 ntVS:F
 
10.4  色相和纯度 221 P{Lf5V9# <  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 zfA GtT<  
10.6 色差 226 "N?+VkZEv  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 5=|hC3h  
10.8  颜色渲染指数 234 b^0}}12  
10.9  色差计算 235 "A$!, PX6  
10.10  参考文献 236 *)M49a*UD  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ar9]"s+'  
11.1  短脉冲 238 6!'3oN{  
11.2  群速度 239 9h4({EE2t  
11.3  群速度色散 241 _tTNG2  
11.4  啁啾(chirped) 245 9
H-|FNz?c  
11.5  光学薄膜—相变 245 VHJM*&5  
11.6  群延迟和延迟色散 246 2;a(8^n  
11.7  色度色散 246 a`[uNgDO  
11.8  色散补偿 249 %w7u]-tR  
11.9  空间光线偏移 256 KGH/^!u+R  
11.10  参考文献 258 &|3 $!S  
12  公差与误差 260 nw>8GivO  
12.1  蒙特卡罗模型 260 npJt3 Y_I  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 J &pO%Q=b  
12.2.1  误差工具 267 FKNMtp[`  
12.2.2  灵敏度工具 271 8_<4-<}P:  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ?=m?jNa;nC  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 WmY``  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 mGp.3{j  
12.3  参考文献 276 R}^~^#  
13  Runsheet 与Simulator 277 %LVm3e9  
13.1  原理介绍 277 s<qe,'Y  
13.2  截止滤光片设计 277 $,+O9
Et  
14  光学常数提取 289 r\qj!  
14.1  介绍 289 V-<GT?  
14.2  电介质薄膜 289 h$4Hw+Yxs]  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Zjbc3M5  
14.4  基底的参数提取 302 wiz$fj  
14.5  金属的参数提取 306 R" ;xvo*  
14.6  不正确的模型 306 P"B0_EuR<T  
14.7  参考文献 311 Tb3J9q+ya  
15  反演工程 313 S S2FTb-m  
15.1  随机性和系统性 313 ~HOy:1QhE=  
15.2  常见的系统性问题 314 Zt.'K(]2h  
15.3  单层膜 314 DxUKUE  
15.4  多层膜 314 _%5Ro6  
15.5  含义 319 sZx/Ee   
15.6  反演工程实例 319 B!vmQR*1  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 =-IbS}3  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 C(
00<~JC  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 e,t(q(L  
16.1  光学性质的热致偏移 329 U2bjFLd"  
16.2  应力工具 335 +=O5YR!{  
16.3  均匀性误差 339
MyT q  
16.3.1  圆锥工具 339 "jG}B.l=,  
16.3.2  波前问题 341 bbrXgQ`s+w  
16.4  参考文献 343 -$\+' \  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 ,%uo6%  
17.1  引言 345 u(fm@+$^  
17.2  操作数 345 W[Ls|<Q  
18  如何在Function中编写脚本 351 N<~t3/Nm  
18.1  简介 351  -i0~]*  
18.2  什么是脚本？ 351 q@[QjGj@  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 z^'gx@YD*v  
18.4  基础 352 Z'"tB/=W  
18.4.1  Classes（类别） 352 !\7!3$w'8,  
18.4.2  对象 352 :Zlwp6  
18.4.3  信息（Messages） 352 "wNJ  
18.4.4  属性 352 Wf|Q$MHos  
18.4.5  方法 353 u6AA4(  
18.4.6  变量声明 353 ~_/(t'9  
18.5  创建对象 354 8fl`r~bqZ  
18.5.1  创建对象函数 355 LDPUD'  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 MF5[lK9e  
18.5.3 丢弃对象 356 |y
(Q  
18.5.4  总结 356 %J+E/  
18.6  脚本中的表格 357 <g"{Wv: h  
18.6.1  方法1 357 >CHrg]9  
18.6.2  方法2 357 sS*3=Yh  
18.7 2D Plots in Scripts 358 hb}+A=A=+  
18.8 3D Plots in Scripts 359 aDU<wxnSvO  
18.9  注释 360 =vX/{C  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ~"nxE  
18.11  一个更高级的脚本 362 N sXHO  
18.12  <esc>键 364 Q+[n91ey**  
18.13 包含文件 365 RoPRQCE  
18.14  脚本被优化调用 366 jIJ~QpNE  
18.15  脚本中的对话框 368 AE[b},-[  
18.15.1  介绍 368 _852H$H\  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 JMC. w!  
18.15.3  输入框函数 370 ;ub;lh3  
18.15.4  自定义对话框 371 HiZ*+T.B  
18.15.5  对话框编辑器 371 ItNz}4o|d  
18.15.6  控制对话框 377 QIG$z?  
18.15.7  更高级的对话框 380 T&6l$1J  
18.16 Types语句 384 H?yK~bGQ  
18.17 打开文件 385 ofm#'7P 0  
18.18 Bags 387 Tp/6,EE  
18.13  进一步研究 388 9jM}~XvV  
19  vStack 389 C5o#i*|  
19.1  vStack基本原理 389 ekWD5,G  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 5?{r  
19.3  五棱镜 393 ;U/&I3dzV  
19.4 光束距离 396 ztcp/1jIvS  
19.5 误差 399 )_YX DU  
19.6  二向分色棱镜 399 ]d$8f  
19.7  偏振泄漏 404 I|qo+u)  
19.8  波前误差—相位 405 T
(id^
w  
19.9  其它计算参数 405 oB(?_No7  
20  报表生成器 406 u^^[Q2LDU}  
20.1  入门 406 "L IF.)  
20.2  指令(Instructions) 406 =^M/{51j  
20.3  页面布局指令 406 DX#Nf""Pw  
20.4  常见的参数图和三维图 407 0CnOL!3.I  
20.5  表格中的常见参数 408 p|U?86t  
20.6  迭代指令 408 +}Dw3;W}m  
20.7  报表模版 408 YvaK0p0Z  
20.8  开始设计一个报表模版 409 'OITI TM  
21  一个新的project 413 3dg1DR;  
21.1  创建一个新Job 414 .s?L^Z^  
21.2  默认设计 415 _>&X\`D  
21.3  薄膜设计 416 =W(Q34  
21.4  误差的灵敏度计算 420 - YEZ]:"  
21.5  显色指数计算 422 8V'~UzK  
21.6  电场分布 424 8'HEms  
后记 426 BtkOnbz8X  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 YL!P0o13r  
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《Essential Macleod中文手册》 [_BP)e  
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目  录 Q*D;U[  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 lU8l}Ndz"  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 4>wP7`/+y  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 IPS4C[v  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Y
`~Ut:fZ  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 0{
5w 6  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 X]ipI$'+C  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 (>LF(ll  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Amtq"<h9a  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Cwv9 a^  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 \[;0KV_  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 cn3#R.G~  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 /J]5H  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 nGC/R&  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 7y.kQI?3  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ld[I}88$  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 z0d.J1VW  
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价  格：400元