[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 0`
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 NZyGC Vh@  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 rK\)  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 j5EZJ`  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 6DFF:wrm&  
1. Essential Macleod软件介绍 WD^!G;}  
1.1 介绍软件 !)(c_ uz  
1.2 创建一个简单的设计 vNhi5EU  
1.3 绘图和制表来表示性能 RG)!v6
  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 0DBA 'Cv  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） {i7Wp$ug  
1.6 特定设计的公式技术 \+cU}  
1.7 交互式绘图 %\ i 7  
2. 光学薄膜理论基础 \p-3P)U  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 lKMOsr
@l  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 WUM&Lq k"  
3. 材料管理 AAr[xoiYp  
3.1 材料模型 DJ)z~W2I*  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 W(oJ{R&m{  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 R`wL%I!?f  
3.4 基板光学常数的提取 VV*Z5U@b  
4. 光学薄膜设计优化方法 K{}U[@_tS  
4.1 参考波长与g o 26R]  
4.2 四分之一规则 R7o3X,-iwn  
4.3 导纳与导纳图 :3s5{s  
4.4 斜入射光学导纳 gJ_{V;R  
4.5 光学薄膜设计的进展 +ou ]|  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 UvSvgDMl  
4.6.1 优化目标设置 fAu^eS%>7  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） Lbka*@  
4.6.3 膜层锁定和链接 B>3joe}  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 tSVN}~1\  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 eC^UL5>%
 
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 hE
41$9?TJ  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ze<Lc/;X~  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 JC
~L!)f  
5.5 如何在Function中编写脚本 BitP?6KX  
6. 光学薄膜系统案例  :1q)l  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 )T1U!n?^x  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 [i18$q5D  
6.3 Stack应用范例说明 /Q4TQ\:  
7. 薄膜性能分析 8\?7k  
7.1 电场分布 sw.cw}1  
7.2 公差与灵敏度分析 ,9I %t%sb  
7.3 反演工程 U[EM<5@I  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 c/Fy1Lv\  
8. 真空技术 @)A)cBv#  
8.1 常用真空泵介绍 }Fd4; ]  
8.2 真空密封和检漏 y9cDPwi:b  
9. 薄膜制备技术 !o+Y"* /  
9.1 常见薄膜制备技术 @l)HX'z0d  
10. 薄膜制备工艺 3BuG_ild  
10.1 薄膜制备工艺因素 ~s@PP'!  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ^ lrq`1k  
10.3 光学薄膜监控技术 /;7\HZ$@/  
11. 激光薄膜 *f%uc  
11.1 薄膜的损伤问题 ,f@$a3}'Lx  
11.2 激光薄膜的制备流程 !}Sf?nP#  
11.3 激光薄膜的制备技术 %#xdD2oN  
12. 光学薄膜特性测量 :Ve>t
ZeW  
12.1 薄膜光谱测量 WaY_{
)x  
12.2 薄膜光学常数测量 4K_rL{s0U  
12.3 薄膜应力测量 _i_^s0J  
12.4 薄膜损伤测量 `0.<  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 P.L$qe>O  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 dWK; h  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 `SdvXn  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 YP*EDb?f  
xbbQ)sH&m  
&cnciEw1  
ldd|"[Ds  
目录 p
"A2N+  
Preface 1 kD&% 7Vz  
内容简介 2 ,$i2vGd  
目录 i S$ u`)BG):  
1  引言 1 sw<mmayN  
2  光学薄膜基础 2 o~Jce$X  
2.1  一般规则 2 mlq+Z#9  
2.2  正交入射规则 3 +#%#QL  
2.3  斜入射规则 6 ObK-<kGcB  
2.4  精确计算 7 %w+"MkH _  
2.5  相干性 8 x$:>W3?T=^  
2.6 参考文献 10 (x;Uy  
3  Essential Macleod的快速预览 10 0rM'VgB  
4  Essential Macleod的特点 32 &I8Q'  
4.1  容量和局限性 33 EW$.,%b1  
4.2  程序在哪里？ 33 <>=A6
 
4.3  数据文件 35
G@Ha t  
4.4  设计规则 35 0;Lt  
4.5  材料数据库和资料库 37 ZDMv8BP7  
4.5.1材料损失 38 =ttvC"4?  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 _ELuQ>zM]+  
4.5.2 材料库 41 iLQFce7d|&  
4.5.3导出材料数据 43 6j*L]Sc  
4.6  常用单位 43 YJBlF2uD  
4.7  插值和外推法 46 $<;!F=%8  
4.8  材料数据的平滑 50 x;Qs_"t];3  
4.9 更多光学常数模型 54 pD^7ZE6  
4.10  文档的一般编辑规则 55 BHmmvbM#Qm  
4.11 撤销和重做 56 .b.pyVk  
4.12  设计文档 57  fP+RuZ  
4.10.1  公式 58 bl8zcpdL  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 29a~B<e7s  
4.10.3  沉积密度 59 P
tt  
4.10.4 平行和楔形介质 60 47S1mxur  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 A_h|f5  
4.10.4  性能 61 2O|jVGap5x  
4.10.5  保存设计和性能 64 {RG4m{#9  
4.10.6  默认设计 64 ((& y:{?G  
4.11  图表 64 ElFiR;  
4.11.1  合并曲线图 67 V/p+Xv(Zt  
4.11.2  自适应绘制 68 .|$:%"O&X  
4.11.3  动态绘图 68 o|Q:am'H  
4.11.4  3D绘图 69 &c?q#-^)\+  
4.12  导入和导出 73 j{8;5 ?x  
4.12.1  剪贴板 73 w^{qut.  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 pr;n~E 'kq  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 4q9+a7@  
4.13  背景 77 ;u:A:Y4V  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ^bD)Tg5K  
4.15  生成Rugate 84 e
8Ul^]  
4.16  参考文献 91 cDkq@H:  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92  $,b1`*  
5.1  Jobs 92 'P AIh*qA  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 M0jC:*D`"  
5.3  输入材料 94 P
Z#\O  
5.4  设计数据文件夹 95 *KMW6dg;  
5.5  默认设计 95 c @U\d<{w  
6  细化和合成 97 k},@2#W]  
6.1  优化介绍 97 .eBo:4T!d  
6.2  细化 (Refinement) 98 !iNN6-v%  
6.3  合成 (Synthesis) 100 [Sj _=  
6.4  目标和评价函数 101 #<$pl]>}t  
6.4.1  目标输入 102 >'eY/>n{  
6.4.2  目标 103 a^#\"c  
6.4.3  特殊的评价函数 104 -`f 1l8LD2  
6.5  层锁定和连接 104 s%bm1$}  
6.6  细化技术 104 MvCB|N"qy  
6.6.1  单纯形 105 h^B~Fv>~  
6.6.1.1 单纯形参数 106 -XJXl
}M.  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 No\3kRB4bi  
6.6.2.1 Optimac参数 108 n<)gS7  
6.6.3  模拟退火算法 109 G5oBe6\C  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 > w-fsL  
6.6.4  共轭梯度 111 oCxh[U@*D  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <MQTOz oj  
6.6.5  拟牛顿法 112 >D\jyd$wh&  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 .or1*-B K  
6.6.6  针合成 113 FQlYCb  
6.6.6.1 针合成参数 114 >;sz(F3)  
6.6.7 差分进化 114 C j4ED  
6.6.8非局部细化 115 ZZ? KD\S5  
6.6.8.1非局部细化参数 115 {Mv$~T|e7  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 WC7ltw2  
6.7.1 　细化 116 dzbFUDJ  
6.7.2　 合成 117 mNQ~9OJ1  
6.8  参考文献 117 -"CXBKHb  
7  导纳图及其他工具 118 FJ+n- \  
7.1  简介 118 WSsX*L  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 {<P{
uH\l  
7.2.1  四分之一波长规则 119 XU*4MU^'  
7.2.2  导纳图 120 v =]!Po&Q-  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
Puq  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 :z^,>So:  
7.5  斜入射导纳图 141 z+5%.^Re  
7.6  对称周期 141 my}l?S[2d@  
7.7  参考文献 142 Z.%0yS_T  
8  典型的镀膜实例 143 KW@][*\uC  
8.1  单层抗反射薄膜 145 C}=9m A  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 NY3/mS3w  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 VprrklZ  
8.4  W-膜层 148 khb/"VYd  
8.5  V-膜层 149 =K;M\_k%y  
8.6  V-膜层高折射基底 150 qa>H@`P  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 GlOSCJZ  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 0% zy 6{  
8.9  四层抗反射薄膜 153 kQ99{lH,5  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 dr gCr:Gf  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 A|`mIma#  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 T(z/Jm3  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 2{9%E6%#  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 o:
c
:hSV  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 C~X"ZW:d[  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ^|lw~F  
8.17  1/4波长堆栈 162 0..]c-V(G  
8.18  陷波滤波器 163 x>GxyVE  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 v/GZByco>  
8.20  褶皱 165 18WJ*q7:  
8.21  消偏振分光器1 169 DEQ7u`6  
8.22  消偏振分光器2 171  V$fn$=  
8.23  消偏振立体分光器 172 hkDe
w0k  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ?BnX<dbi&  
8.25  立体偏振分束器1 174 QIC? `hk1  
8.26  立方偏振分束器2 177 Zq"  
8.27  相位延迟器 178 MWI7u7{  
8.28  红外截止器 179 yfZYGhPN(
 
8.29  21层长波带通滤波器 180 y4N2gBTKu  
8.30  49层长波带通滤波器 181
nU,~*Us  
8.31  55层短波带通滤波器 182 !-~sxa280r  
8.32  47 红外截止器 183 y7T<Auue`  
8.33  宽带通滤波器 184 VLcwBdo  
8.34  诱导透射滤波器 186 +GL[uxe"  
8.35  诱导透射滤波器2 188 1'!%$D  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 ^D?{[L
Bc  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 Nz%Yi?AF  
8.35  增益平坦滤波器 193 )
?<V-,D  
8.38  啁啾反射镜 1 196 .OZ\s%h;  
8.39  啁啾反射镜2 198 i'3)5  
8.40  啁啾反射镜3 199 <AN5>:k[pM  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ^ pNA_s!S  
8.42  增加铝反射率膜 201 -u^f;4|u  
8.43  参考文献 202 ^IqD^(Kb  
9  多层膜 204 M&}_3  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 
\ch4c9  
9.2  内部透过率 204 xp 
F(de  
9.3 内部透射率数据 205 
3XIL; 5  
9.4  实例 206 C#@-uo2  
9.5  实例2 210 ^[.Z~>3!\q  
9.6  圆锥和带宽计算 212 u,JUMH]@  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 6
T6UIq  
10  光学薄膜的颜色 216 !,OY{='  
10.1  导言 216 p?O6|q  
10.2  色彩 216 JOo+RA5d  
10.3  主波长和纯度 220 m1DrT>oN'  
10.4  色相和纯度 221 *YP:-  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 P-\65]`C  
10.6 色差 226 q"u,r6ED  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 TGZr [  
10.8  颜色渲染指数 234 V
)c.AX5  
10.9  色差计算 235 Qov*xRO6  
10.10  参考文献 236 %+oV-o\ #A  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 XB<Q A>dLh  
11.1  短脉冲 238 TU^s!Tj  
11.2  群速度 239 $msf~M*  
11.3  群速度色散 241  @7J;}9E  
11.4  啁啾(chirped) 245 ]<k+a-Tt  
11.5  光学薄膜—相变 245 BeFXC5-qat  
11.6  群延迟和延迟色散 246 _xGC0f (  
11.7  色度色散 246 :8U@KABH@h  
11.8  色散补偿 249 xTy)qN]P  
11.9  空间光线偏移 256 = ,c!V  
11.10  参考文献 258 xiO10:L4  
12  公差与误差 260 Q6r7UM  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Yb?(Q%  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 LJOJ2x  
12.2.1  误差工具 267 ]Cp`qayct  
12.2.2  灵敏度工具 271 a*qc
  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 zYEb#*Kar  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 &%4A3.qE  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 EMf"rGXu(  
12.3  参考文献 276 Hv</Xam  
13  Runsheet 与Simulator 277 w|:
ev_c|  
13.1  原理介绍 277 LZ8xh  
13.2  截止滤光片设计 277 a6'T]DW0W  
14  光学常数提取 289 7)*QX,4C  
14.1  介绍 289 PoZxT-U  
14.2  电介质薄膜 289 FO)`&s"&2  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ;FnS=Z  
14.4  基底的参数提取 302 Hm]\.ZEy  
14.5  金属的参数提取 306 Bkdt[qDn5P  
14.6  不正确的模型 306 _.xicov  
14.7  参考文献 311 %JuT'7VB  
15  反演工程 313 [fg-"-+:M  
15.1  随机性和系统性 313 Y{<SD-ibZ$  
15.2  常见的系统性问题 314 Nuaq{cl  
15.3  单层膜 314 f`-UC_(;  
15.4  多层膜 314 +THK Jn!>  
15.5  含义 319 O5ZR{f&  
15.6  反演工程实例 319 sV`p3L8pl  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 :`Xg0J+P  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 0F<$Zbe2B  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 mA4]c   
16.1  光学性质的热致偏移 329 fz<GPw  
16.2  应力工具 335 Hu"TEhW(2  
16.3  均匀性误差 339  uE'Kk8  
16.3.1  圆锥工具 339 R T/)<RT9  
16.3.2  波前问题 341 lbC9^~T+  
16.4  参考文献 343 _*n 4W^8  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 (f   
17.1  引言 345 sfs2kiH  
17.2  操作数 345 HAAU2A9B2  
18  如何在Function中编写脚本 351 y>]Yq-  
18.1  简介 351 "B0I$`~wu  
18.2  什么是脚本？ 351 c:2LG_mQ  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 0?=a$0_C  
18.4  基础 352 m:c .dei5  
18.4.1  Classes（类别） 352 t>eeOWk3  
18.4.2  对象 352 0lS=-am  
18.4.3  信息（Messages） 352 40
%<E  
18.4.4  属性 352 `{xKU8j^  
18.4.5  方法 353 U&gI_z[  
18.4.6  变量声明 353 (1Klj+"p%  
18.5  创建对象 354 F_~A8y  
18.5.1  创建对象函数 355 .DHQJ|J-1  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 $J*lD-h-  
18.5.3 丢弃对象 356 Uwg*kJ3H  
18.5.4  总结 356 =$uSa7t#  
18.6  脚本中的表格 357 =a(]@8$!1  
18.6.1  方法1 357 2!GyQ@&[W  
18.6.2  方法2 357 ) h=[7
}|  
18.7 2D Plots in Scripts 358 VTK +aI  
18.8 3D Plots in Scripts 359 j{Sbf04  
18.9  注释 360 wS+j^ ;"  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 Gq{);fq  
18.11  一个更高级的脚本 362 B4x@{rtER  
18.12  <esc>键 364 Uac.8wQh  
18.13 包含文件 365 a'?V:3 ]  
18.14  脚本被优化调用 366 WZcAwYB  
18.15  脚本中的对话框 368 UP*5M  
18.15.1  介绍 368 #^xj"}o@  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 )jm!^m  
18.15.3  输入框函数 370 
H Yw7*  
18.15.4  自定义对话框 371 \%QA)T%  
18.15.5  对话框编辑器 371 +$#ytvDy  
18.15.6  控制对话框 377 3Hf_!C=g  
18.15.7  更高级的对话框 380 @Wa,  
18.16 Types语句 384 d?)Ic1][  
18.17 打开文件 385 9}'92  
18.18 Bags 387 c6tH'oV  
18.13  进一步研究 388 83_vo0@<6  
19  vStack 389 ~{l @
  
19.1  vStack基本原理 389 
9EWw  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 oT"7O5v  
19.3  五棱镜 393 R6\|:mI,$  
19.4 光束距离 396 A5RM&y  
19.5 误差 399 6yd?xeD  
19.6  二向分色棱镜 399 p:3 V-$4X  
19.7  偏振泄漏 404 Qb'Q4@.  
19.8  波前误差—相位 405 ;OSEMgB1  
19.9  其它计算参数 405 >9t+lr1   
20  报表生成器 406 u^( s0q  
20.1  入门 406 JN3&(t  
20.2  指令(Instructions) 406 Xr{ r&Rl  
20.3  页面布局指令 406 lF~!F<^9  
20.4  常见的参数图和三维图 407 5W(`lgVs,  
20.5  表格中的常见参数 408 4{LKT^(!f  
20.6  迭代指令 408 o&Y R\BI/  
20.7  报表模版 408 Q; BD|95nl  
20.8  开始设计一个报表模版 409 "=yz
}~,  
21  一个新的project 413 ?~/_&=NSx  
21.1  创建一个新Job 414 CgK
FI  
21.2  默认设计 415 JsDT  
21.3  薄膜设计 416 _C@<*L=Q  
21.4  误差的灵敏度计算 420 cQ(,M  
21.5  显色指数计算 422 bpdluWS+)  
21.6  电场分布 424 LknV47vd  
后记 426 SbH} cu8  
kg^5D3!2{Q  
<"nF`'olV  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 @*iT%p_L  
3]67U}`  
《Essential Macleod中文手册》 + De-U.  
Wt!8.d}=  
目  录 :a_MT  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 vWjHHw  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 @^nE^;  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ;R^=($X  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 /~P4<1  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 N\85fPSMG|  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 56H~MnX  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 wc?YzXP+  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 f9^MLb6)  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 na3lbwq  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ,AG k4]  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 (VBO1f  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 !XO"lS  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 spTI
hZ  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 GSVLZF'+  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 G@rV9  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 7e6; |?  
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