[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 f"emH  

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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ~4YU  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 _G]f v'  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 3=(Gb  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 96Kv!  
1. Essential Macleod软件介绍 E:,V{&tLK  
1.1 介绍软件 tY=s
l_  
1.2 创建一个简单的设计 ]=T`8)_r)  
1.3 绘图和制表来表示性能 <1~5l~  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ~Dsz9 f  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 9/N=7<$  
1.6 特定设计的公式技术 }F'B!8n  
1.7 交互式绘图 A|!u`^p  
2. 光学薄膜理论基础 s>8;At-  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 iXl6XwWT%8  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 5(F @KeH>  
3. 材料管理 ]oy>kRnb {  
3.1 材料模型 z:C VzK,  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 x| jBn}  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 pJ*x[y  
3.4 基板光学常数的提取 0"q^`@sZ  
4. 光学薄膜设计优化方法 s&-m!|P  
4.1 参考波长与g a#i;*J  
4.2 四分之一规则 mx`C6G5  
4.3 导纳与导纳图 1t"  
4.4 斜入射光学导纳 E3bS Q  
4.5 光学薄膜设计的进展 rp*f)rJ  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 1_}*aQ  
4.6.1 优化目标设置 I"/p^@IX  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） 7aAT  
4.6.3 膜层锁定和链接 wBr$3:  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 D,FX&{TYU  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 G,+-}~$_  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 SF?Ublc!  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 :{za[,  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 NYS|fa  
5.5 如何在Function中编写脚本 Y/\y"a  
6. 光学薄膜系统案例 &p>VTD  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 7s#,.(s  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 SyHS9>  
6.3 Stack应用范例说明 e C\;n  
7. 薄膜性能分析 f=0U&~  
7.1 电场分布 >s3H_X3F  
7.2 公差与灵敏度分析 G&i<&.i  
7.3 反演工程 k@HV wK'y  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 7A!E~/nSC  
8. 真空技术 rkw^RW^  
8.1 常用真空泵介绍 6.X| .N  
8.2 真空密封和检漏 9d7`R'  
9. 薄膜制备技术 ]Puu: IG  
9.1 常见薄膜制备技术 gmG M[c\  
10. 薄膜制备工艺 G[34:J  
10.1 薄膜制备工艺因素 ')ZM# :G  
10.2 薄膜均匀性修正技术 tqdw y.  
10.3 光学薄膜监控技术 )n8(U%q$  
11. 激光薄膜 }u"iA^'Ot  
11.1 薄膜的损伤问题 FjUf|  
11.2 激光薄膜的制备流程 MfzSoxCb  
11.3 激光薄膜的制备技术 tPDd~fOk  
12. 光学薄膜特性测量 FdT@}  
12.1 薄膜光谱测量 :u}FF"j  
12.2 薄膜光学常数测量 :Iy4B+  
12.3 薄膜应力测量 *AEN  
12.4 薄膜损伤测量 &p/^A[  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 zT;F4_p3G-  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 p[kEFE,%  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 lPA:aHcj  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 .2y2Qm  
]xO`c  
u;{,,ct  
AQCU\E  
目录 v;!f  
Preface 1 ^zdZ"\x  
内容简介 2 Qyn~Vu43  
目录 i .W>LsEk  
1  引言 1 Yh=/?&*  
2  光学薄膜基础 2 <+0TN]?  
2.1  一般规则 2 } v#Tm  
2.2  正交入射规则 3 J<[Hwg  
2.3  斜入射规则 6 Tnw0S8M  
2.4  精确计算 7 Iu<RwB[#Q  
2.5  相干性 8 %<4ZU!2L  
2.6 参考文献 10 )vO?d~x|  
3  Essential Macleod的快速预览 10 _*(n2'2B  
4  Essential Macleod的特点 32 >5,nB<  
4.1  容量和局限性 33 :i;iSrKy  
4.2  程序在哪里？ 33 q-3,p.  
4.3  数据文件 35 ^Q)&lxlxpx  
4.4  设计规则 35 ^ +e5 M1U=  
4.5  材料数据库和资料库 37 :BIgrz"Jz  
4.5.1材料损失 38 f$\gm+&hXE  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 l!6^xMhYk  
4.5.2 材料库 41 #x)lN  
4.5.3导出材料数据 43 ;>#YOxPl  
4.6  常用单位 43 )U>JFgpI
W  
4.7  插值和外推法 46 HY (|31  
4.8  材料数据的平滑 50 e.8(tEqZ1  
4.9 更多光学常数模型 54 S"*M9*8  
4.10  文档的一般编辑规则 55 JYE[ 1M  
4.11 撤销和重做 56 3B{B6w}t&  
4.12  设计文档 57 2aROY2  
4.10.1  公式 58 3_AVJv ;N  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 +:JyXFu  
4.10.3  沉积密度 59 h[%t7qo=  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ;@I4[4ph}  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 I2U/\  
4.10.4  性能 61 F;I %9-R  
4.10.5  保存设计和性能 64 !R{
C  
4.10.6  默认设计 64 D7|=ev  
4.11  图表 64 vMDX  
4.11.1  合并曲线图 67 _trF/U<  
4.11.2  自适应绘制 68 85QVj] nr  
4.11.3  动态绘图 68 UK{6Rh ;  
4.11.4  3D绘图 69 dZSv=UY)  
4.12  导入和导出 73 R~=_,JUW  
4.12.1  剪贴板 73 =TTk5(m  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 38I.1p9  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 /FP;Hsw%  
4.13  背景 77 dIQxU  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 yA74Rxl*6  
4.15  生成Rugate 84 { S]"-x  
4.16  参考文献 91 
b.Yl0Y  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 x/Nh9hh"  
5.1  Jobs 92 =.*+c\  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 6/A#P$G  
5.3  输入材料 94 BtPUUy.  
5.4  设计数据文件夹 95 gj\'1(Ju  
5.5  默认设计 95 &}YJ"o[I  
6  细化和合成 97 ~E]ct F  
6.1  优化介绍 97 !9w;2Z]uum  
6.2  细化 (Refinement) 98 Jp'XZ]o\  
6.3  合成 (Synthesis) 100 \]@XY_21  
6.4  目标和评价函数 101 M/O4JZEqh  
6.4.1  目标输入 102 fj/sN HU  
6.4.2  目标 103 ?1DA  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Y,?!"  
6.5  层锁定和连接 104 =V)88@W  
6.6  细化技术 104 `{1&*4!  
6.6.1  单纯形 105 f3g#(1  
6.6.1.1 单纯形参数 106 C4Tn  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 {~Q9jg(A  
6.6.2.1 Optimac参数 108 

;8?i  
6.6.3  模拟退火算法 109 2l7Sbs7  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 BdK2I!mm  
6.6.4  共轭梯度 111 o@p(8=x  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 lphELPh  
6.6.5  拟牛顿法 112 2 /rDi  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 5tSR2gG#K,  
6.6.6  针合成 113 l'pu?TP{a  
6.6.6.1 针合成参数 114 G>3]A5  
6.6.7 差分进化 114 >z(AQ  
6.6.8非局部细化 115 )]\?Yyg]  
6.6.8.1非局部细化参数 115 5|4
=uoA<  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 } Fw/WD  
6.7.1 　细化 116 +PCsp'D d  
6.7.2　 合成 117 1l8kuwH  
6.8  参考文献 117 4 ^=qc99  
7  导纳图及其他工具 118 Ps0g  
7.1  简介 118 SkmLX@:(  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 rh8.kW-K_  
7.2.1  四分之一波长规则 119 tt|v opz  
7.2.2  导纳图 120 `]+-z+  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 [RZ}9`V  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 )Mtw
9[  
7.5  斜入射导纳图 141 x/7d!>#;  
7.6  对称周期 141 500qg({2]  
7.7  参考文献 142 R5y+bMZ  
8  典型的镀膜实例 143 dzK]F/L]  
8.1  单层抗反射薄膜 145 mt0ZD}E  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 .U66Uet>RX  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ?|&plf|  
8.4  W-膜层 148 \Mujx3Fmvx  
8.5  V-膜层 149 w6^X*tE  
8.6  V-膜层高折射基底 150 =:|fN3nJ2  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 1z4s1Y  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 |k # ~  
8.9  四层抗反射薄膜 153 af:wg]g  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ~#doJ:^H3  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 R)%1GG4  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 v,\2$q/  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 DeMF<)#  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 g_2m["6*  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 _?5$S
T@5  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 1j_x51p  
8.17  1/4波长堆栈 162 !A.Kb74  
8.18  陷波滤波器 163 H%K,2/Nj  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Kn#3^>D  
8.20  褶皱 165 S`!MoIMsD  
8.21  消偏振分光器1 169 !PaDq+fB  
8.22  消偏振分光器2 171 =<_ei|ME  
8.23  消偏振立体分光器 172 33R_JM{  
8.24  消偏振截止滤光片 173 G)I lkA@  
8.25  立体偏振分束器1 174 <2\4eusk  
8.26  立方偏振分束器2 177 ?z:Xdx\l  
8.27  相位延迟器 178 rCwjy&SuU^  
8.28  红外截止器 179 ^'g1? F$_  
8.29  21层长波带通滤波器 180 X(b"b:j'  
8.30  49层长波带通滤波器 181 W|go*+`W%
 
8.31  55层短波带通滤波器 182 4_#yl9+  
8.32  47 红外截止器 183 v{R:F  
8.33  宽带通滤波器 184 [M^ur%H  
8.34  诱导透射滤波器 186 rC(-dJkV  
8.35  诱导透射滤波器2 188 P5:X7[  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 U9om}WKO  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 jY]hMQ/H  
8.35  增益平坦滤波器 193 WHV]H  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Hkc:B/6
 
8.39  啁啾反射镜2 198 { .z6J)?J2  
8.40  啁啾反射镜3 199 ;'\{T#5)  
8.41  带保护层的铝膜层 200 N"i'[!H%  
8.42  增加铝反射率膜 201 s}~'o!}W  
8.43  参考文献 202 _;
A?w8z  
9  多层膜 204 G1Qc\mp  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 hB
Sci|*f  
9.2  内部透过率 204 ` "Gd/  
9.3 内部透射率数据 205 'xO^2m+N;  
9.4  实例 206 =uZOpeviQ  
9.5  实例2 210 qR WWG&  
9.6  圆锥和带宽计算 212 D@Zb|EI%<  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 %N"9'g>  
10  光学薄膜的颜色 216 OVsZ
UmSG  
10.1  导言 216 va(ZGGS]N  
10.2  色彩 216 Ha~g8R&  
10.3  主波长和纯度 220 \#bk$R@  
10.4  色相和纯度 221 &ZjQa.-U>  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 DqLZc01>  
10.6 色差 226 Y)x(+#  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 =h~\nTN  
10.8  颜色渲染指数 234 1 :xN)M,s  
10.9  色差计算 235 );LkEXC_'  
10.10  参考文献 236 4XkSj9D~z  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 4= VAJ  
11.1  短脉冲 238 J!Kk7!^|  
11.2  群速度 239 k^|P8v+"D  
11.3  群速度色散 241 I2@pkVv3z  
11.4  啁啾(chirped) 245 NqsIMCl  
11.5  光学薄膜—相变 245 /4\!zPPj.  
11.6  群延迟和延迟色散 246
QyJ2P{z  
11.7  色度色散 246 y<|vcg8x  
11.8  色散补偿 249 S`LS/)  
11.9  空间光线偏移 256 ub
|tX 'o  
11.10  参考文献 258 w[>/(R7im  
12  公差与误差 260 Az_s"}G  
12.1  蒙特卡罗模型 260 MIcF"fB![  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ^]He]FW':G  
12.2.1  误差工具 267 Z4\$h1tl  
12.2.2  灵敏度工具 271 c}nXMA^^  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 giy4<   
12.2.2.2 灵敏度分布 275 +LwE=unS  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 mdu5aL  
12.3  参考文献 276 Kt,ENbF  
13  Runsheet 与Simulator 277 Qrt[MJ+#  
13.1  原理介绍 277 p]d3F^*i  
13.2  截止滤光片设计 277 VP4W~;UV|\  
14  光学常数提取 289 mQQ5>0^m  
14.1  介绍 289 jgLCs)=5hV  
14.2  电介质薄膜 289 ,q yp2Y7  
14.3  n 和k 的提取工具 295 90%alG1>y  
14.4  基底的参数提取 302 )'{:4MX  
14.5  金属的参数提取 306 MB,;HeP!  
14.6  不正确的模型 306 9JHu{r"M  
14.7  参考文献 311 kRBPl99  
15  反演工程 313 C7ZU)MEUd/  
15.1  随机性和系统性 313 ?]S!-6:  
15.2  常见的系统性问题 314 +zpmy3Q  
15.3  单层膜 314 pn6 e{  
15.4  多层膜 314 Vi~9[&.E\!  
15.5  含义 319 h"S+8Y:1{k  
15.6  反演工程实例 319 &e\A v.n@-  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 $ctY#:;pV{  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 /cBQE=]6  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ~Co7%e V  
16.1  光学性质的热致偏移 329 LPgP;%ohO/  
16.2  应力工具 335 'kW'e  
16.3  均匀性误差 339 b??k|q  
16.3.1  圆锥工具 339 q9j9"M'  
16.3.2  波前问题 341 (,<
ti):  
16.4  参考文献 343 gt3;Xi  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 vb{+yEa  
17.1  引言 345 M2ig iR  
17.2  操作数 345 SSANt?\Z<  
18  如何在Function中编写脚本 351 u 89u#gCAC  
18.1  简介 351 2nOoG/6 E  
18.2  什么是脚本？ 351 pb~&gliW  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 &Y
2mLPB  
18.4  基础 352 f!}c0nb  
18.4.1  Classes（类别） 352 iP1u u  
18.4.2  对象 352 bdiyS.a-  
18.4.3  信息（Messages） 352 <$s G]l!\  
18.4.4  属性 352 %?l
PS  
18.4.5  方法 353 p&=F:-  
18.4.6  变量声明 353 |
9)Q =(  
18.5  创建对象 354 ,4ftQJ  
18.5.1  创建对象函数 355 |[x) %5F  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 QKYGeT7&Y'  
18.5.3 丢弃对象 356 NQ$tQ
#chd  
18.5.4  总结 356 B$b'bw.  
18.6  脚本中的表格 357 OiAi{ 71  
18.6.1  方法1 357 t@-:e^ v  
18.6.2  方法2 357 6KmF 9  
18.7 2D Plots in Scripts 358 .$>?2|gRv  
18.8 3D Plots in Scripts 359 #2c-@),  
18.9  注释 360 5B{O!SNd  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 apk06"/  
18.11  一个更高级的脚本 362 h3.wR]ut  
18.12  <esc>键 364 j;fmmV@  
18.13 包含文件 365 /U[Y w)  
18.14  脚本被优化调用 366 94L P )n  
18.15  脚本中的对话框 368 7\aLK#
 
18.15.1  介绍 368 v7VJVLH,I7  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 UA3
%I8gu_  
18.15.3  输入框函数 370 @p jah(i`  
18.15.4  自定义对话框 371 7>EjP&l  
18.15.5  对话框编辑器 371 =V:rO;qX+@  
18.15.6  控制对话框 377 ,R$n I*mf_  
18.15.7  更高级的对话框 380 W`]
,  
18.16 Types语句 384 V|vU17Cgy  
18.17 打开文件 385 d[z+/L  
18.18 Bags 387 hqVx%4s*J  
18.13  进一步研究 388 v4
sc  
19  vStack 389 M?5[#0"&V  
19.1  vStack基本原理 389 6.|f iQs]  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 j3F[C:-zY  
19.3  五棱镜 393 JMN1+:7i  
19.4 光束距离 396 8}m]XO  
19.5 误差 399 b9HE #*d,  
19.6  二向分色棱镜 399 @=)_P
G  
19.7  偏振泄漏 404 D.|h0gU  
19.8  波前误差—相位 405 &;7\/m*W1  
19.9  其它计算参数 405 d|5u<f5  
20  报表生成器 406 |r5|IA  
20.1  入门 406 ]SpUD  
20.2  指令(Instructions) 406 67 >*AL  
20.3  页面布局指令 406 )RlaVAtM  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Gk2\B]
{  
20.5  表格中的常见参数 408 BuI&kU,WY  
20.6  迭代指令 408 tsq]QTA*  
20.7  报表模版 408 Gs2.}lz  
20.8  开始设计一个报表模版 409 E,5jY  
21  一个新的project 413 JI5?, )-St  
21.1  创建一个新Job 414 oQ@X}6B%S  
21.2  默认设计 415 ]t]s/;9]K  
21.3  薄膜设计 416 &ZFsK c#  
21.4  误差的灵敏度计算 420 rixNz@p'%  
21.5  显色指数计算 422 }NDw3{zn  
21.6  电场分布 424 +2`RvQN  
后记 426 ihKnZcI$i  
hRSRz5 J}  
j&)+qTV  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 "y/GK1C  
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《Essential Macleod中文手册》 {PGNPxUbe  
E N%cjvE  
目  录 T<~NB5&f  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 MsCY5g  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 XX~~SvSM  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 [2.uwn]i  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 )Z0pU\  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ]~CGzV  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 /og2+!  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 v"
6q!  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Lllyx20U  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 
U,Nf&g  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 OOs Y{8xM  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 PoY+Y3  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 i3s-l8\\z  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ` :Am#"j]}  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 nRN&
u4  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 YY{S0jnhF  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 zS18Kl  
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价  格：400元