[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 $4]4G=o  

图片:w800

i{r[zA]$  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 1TgD;qX  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 C *7x7|z  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 =$_kkVQ$  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 HYNpvK  
1. Essential Macleod软件介绍 .AF\[IQ  
1.1 介绍软件 _znpzr9H  
1.2 创建一个简单的设计 unr`.}A2>  
1.3 绘图和制表来表示性能 QO4eDSW  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 8w~X4A,  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ]hbrzvo  
1.6 特定设计的公式技术 T|5uywA|  
1.7 交互式绘图 cHnd gUW]  
2. 光学薄膜理论基础 SOS|3q_`  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 _iu^VK,}  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 V@`%k]k  
3. 材料管理 /K<>OyR?  
3.1 材料模型 k:&B b"  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ^j1iCL!  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 :S+Bu*OyH
 
3.4 基板光学常数的提取 NH'Q
MjL)  
4. 光学薄膜设计优化方法 ?VyiR40-Cx  
4.1 参考波长与g [6nN]U~Y  
4.2 四分之一规则 !]&+g'aC3  
4.3 导纳与导纳图 /@",5U#  
4.4 斜入射光学导纳 DyRU$U  
4.5 光学薄膜设计的进展 `Zci<  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Kw`}hSE>o  
4.6.1 优化目标设置 d;).| .}P  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） )ZfbM|  
4.6.3 膜层锁定和链接 Iz!]LW  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 |doG}C  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 )t$-/8  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 y!~ }7=  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 |sAl k,8s  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 6<YAoo  
5.5 如何在Function中编写脚本 9o
l&p>  
6. 光学薄膜系统案例 F2Mxcs*M  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 =V:Al   
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 7<LCX{Uw  
6.3 Stack应用范例说明 /7WdG)'  
7. 薄膜性能分析 }?9A:&  
7.1 电场分布 i8=+<d  
7.2 公差与灵敏度分析 3k:`7E.  
7.3 反演工程 12}!oS~_  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 OK \9`  
8. 真空技术 c']m5q39'  
8.1 常用真空泵介绍 +]e) :J  
8.2 真空密封和检漏 UDlM?r:f  
9. 薄膜制备技术 [u^~ND'  
9.1 常见薄膜制备技术 Pt/F$A{Cj  
10. 薄膜制备工艺 ^a7a_M  
10.1 薄膜制备工艺因素 PD-*rG `  
10.2 薄膜均匀性修正技术 WFvVu3  
10.3 光学薄膜监控技术 I-W,C&J>  
11. 激光薄膜 {wf5HA  
11.1 薄膜的损伤问题 k:z)Sw  
11.2 激光薄膜的制备流程 cEGR?4z  
11.3 激光薄膜的制备技术 jN/snU2\0  
12. 光学薄膜特性测量 Am >b7Z!  
12.1 薄膜光谱测量 K#R|GEwr  
12.2 薄膜光学常数测量 `X(H,Q}*;  
12.3 薄膜应力测量 /wi/i*;A  
12.4 薄膜损伤测量 $?DEO[p.  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 oW6b3Q/B  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 UXOf  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 !^Q4ZL,-  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 r<DPh5ReY  
6h1pPx7zU  
w3"%d~/[x  
EfX,0NqT  
目录 9T<k|b[6  
Preface 1
FaKZ|~Y e  
内容简介 2 RG_
6& A  
目录 i VL$?vI'  
1  引言 1 )g
k tI!  
2  光学薄膜基础 2 HE+
D]7^  
2.1  一般规则 2 'wo}1^V  
2.2  正交入射规则 3 `_
OB_F  
2.3  斜入射规则 6
Q>W
nSm5R  
2.4  精确计算 7 dA0o{[o=  
2.5  相干性 8 dlwOmO'Bm)  
2.6 参考文献 10 Xvxrz{  
3  Essential Macleod的快速预览 10 wNMA)S  
4  Essential Macleod的特点 32 4H`B]Zt7  
4.1  容量和局限性 33 zG<>-?q~'  
4.2  程序在哪里？ 33 m[hHaX  
4.3  数据文件 35 g+-^6UG  
4.4  设计规则 35 )+f"J$ah  
4.5  材料数据库和资料库 37 VgS2_TU  
4.5.1材料损失 38 ,W>-MPJn[8  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 [>lQiX  
4.5.2 材料库 41 8L*#zaSAf  
4.5.3导出材料数据 43 Gg%pU+'T  
4.6  常用单位 43 QfL8@W~e  
4.7  插值和外推法 46 5[P^O6'  
4.8  材料数据的平滑 50 jgBJs^JgYG  
4.9 更多光学常数模型 54 b2~5LZ  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Bd[H@oKru  
4.11 撤销和重做 56 4hW:c0  
4.12  设计文档 57 #_zj5B38E  
4.10.1  公式 58 )9+H[  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 +B4i,]lCx  
4.10.3  沉积密度 59 T^Hq 5Oy  
4.10.4 平行和楔形介质 60 0kaMYV?  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 3vEwui-5  
4.10.4  性能 61 4r9AUmJqw  
4.10.5  保存设计和性能 64 E/_n}$Z  
4.10.6  默认设计 64 Hh%|}*f_,  
4.11  图表 64 aQV?}  
4.11.1  合并曲线图 67 tNxKpA |F  
4.11.2  自适应绘制 68 TtgsM}Fm  
4.11.3  动态绘图 68 ;s5JYR  
4.11.4  3D绘图 69 f_IsY+@  
4.12  导入和导出 73 %/RT}CBBsW  
4.12.1  剪贴板 73 i$H9~tPs  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 `r0MQkk  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 8>DX :`  
4.13  背景 77 isz-MP$:K5  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 MFqb_q+  
4.15  生成Rugate 84 L"( {6H  
4.16  参考文献 91 /=KE
M gI?  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 4"Mq]_D  
5.1  Jobs 92 t5EYu*  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 mA5sK?W  
5.3  输入材料 94 COA>y?  
5.4  设计数据文件夹 95 hdYd2 j  
5.5  默认设计 95 SI7r`'7A'  
6  细化和合成 97 \sS0@gnDI  
6.1  优化介绍 97 KqXPxp^_Al  
6.2  细化 (Refinement) 98 ?F|F~A8dr  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ex|h&Vma2V  
6.4  目标和评价函数 101 ne=C
N!=  
6.4.1  目标输入 102 ~FnY'F<35  
6.4.2  目标 103 E+Dcw  
6.4.3  特殊的评价函数 104 u3IhB8'  
6.5  层锁定和连接 104 tQ`|MO&o  
6.6  细化技术 104
KR>o 2  
6.6.1  单纯形 105  Bm&6  
6.6.1.1 单纯形参数 106 &cy<"y  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 "FLiSz%ME  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ccy q~  
6.6.3  模拟退火算法 109 o RK:{?Y  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ZN!<!"~  
6.6.4  共轭梯度 111 Uf~5Fc1d =  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 l_P90zm39!  
6.6.5  拟牛顿法 112 f
iLlOr%r  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 5)ooE  
6.6.6  针合成 113 2FR5RG oD  
6.6.6.1 针合成参数 114 2Vxx  
6.6.7 差分进化 114 9yj'->dL  
6.6.8非局部细化 115 ^t,haO4  
6.6.8.1非局部细化参数 115 ,Eo\(j2F.  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 )oZ2,]us!  
6.7.1 　细化 116 }bnodb^.7  
6.7.2　 合成 117 /b410NP5  
6.8  参考文献 117 -f"{%<Q  
7  导纳图及其他工具 118 J{$c|  
7.1  简介 118 6u{%jSA>D\  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Ka$lNL3<j  
7.2.1  四分之一波长规则 119 NdC5w-WY  
7.2.2  导纳图 120 &5hs W1`  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 xggF:El3{  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 C4gzg  
7.5  斜入射导纳图 141 CaV)F3   
7.6  对称周期 141 xxOhGA)  
7.7  参考文献 142 ]N:Wt2   
8  典型的镀膜实例 143 Pxgul7  
8.1  单层抗反射薄膜 145 8( bK\-b  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 `k(m2k?  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 hbs /S  
8.4  W-膜层 148 `)TgGny01  
8.5  V-膜层 149 g-cg3Vso  
8.6  V-膜层高折射基底 150 -0<ZN(?|  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 6Y9<| .  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 <|hrmwk|  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ^grDP*;W  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 2%)~E50U  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 @[{5{ y  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Y[W]YPs  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 :c(#03w*C  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 LVdtI  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 G^#?~  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 8tzL.P^  
8.17  1/4波长堆栈 162 {a(<E8-^  
8.18  陷波滤波器 163 {,= hIXo>  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ruy?#rk  
8.20  褶皱 165 :N'  
8.21  消偏振分光器1 169 >S%}HSPKq  
8.22  消偏振分光器2 171 Bf" ZmG9  
8.23  消偏振立体分光器 172 7H4kj7UK  
8.24  消偏振截止滤光片 173 vgi`.hk  
8.25  立体偏振分束器1 174 ^cuH\&&7  
8.26  立方偏振分束器2 177 +^*b]"[  
8.27  相位延迟器 178 ~w(A3I.  
8.28  红外截止器 179 & d* bQv$  
8.29  21层长波带通滤波器 180 S(0JBGC  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ^}lL@Bd|  
8.31  55层短波带通滤波器 182 u\km_e
  
8.32  47 红外截止器 183 rw?wlBEG%  
8.33  宽带通滤波器 184 .ZM0cwF  
8.34  诱导透射滤波器 186 1[\I9dv2  
8.35  诱导透射滤波器2 188 WN o+%  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 JvS ~.g1  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 _B\87e  
8.35  增益平坦滤波器 193 5Hs!s+  
8.38  啁啾反射镜 1 196 3M>y.MS  
8.39  啁啾反射镜2 198 ){w!<Lb  
8.40  啁啾反射镜3 199 y8]vl;88yY  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ~eUv.I/  
8.42  增加铝反射率膜 201 Pt'=_^Io  
8.43  参考文献 202 lo36b zbT  
9  多层膜 204 M`xI N~  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 p$<){,R  
9.2  内部透过率 204 {fMo#`9=  
9.3 内部透射率数据 205 |WW'qg]Uu  
9.4  实例 206 Gi&/`vm  
9.5  实例2 210 =q[ynZ8O\w  
9.6  圆锥和带宽计算 212 jI$7vmO  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 N5b&tJbM0  
10  光学薄膜的颜色 216 eGo$F2C6E  
10.1  导言 216 U[:Js@uH_  
10.2  色彩 216 ZT+{8,  
10.3  主波长和纯度 220 WrR8TYq9D]  
10.4  色相和纯度 221 >Fc=F#tA9  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 H-8_&E?6m  
10.6 色差 226 iu{QHjZK(  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 RI BB*  
10.8  颜色渲染指数 234 d!"gb,ec  
10.9  色差计算 235 lT'V=,Y t  
10.10  参考文献 236 u3HaWf3  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 $[b1_Db  
11.1  短脉冲 238 yaAg!mW  
11.2  群速度 239 #?~G\Ux0/  
11.3  群速度色散 241 q\Z9.T+Qo  
11.4  啁啾(chirped) 245 Vb?_RE_H  
11.5  光学薄膜—相变 245 OO;I^`Yn  
11.6  群延迟和延迟色散 246 >jc17BJq
 
11.7  色度色散 246 e(9K.3@{  
11.8  色散补偿 249 c43&[xPLz  
11.9  空间光线偏移 256 ,;yaYF6|/  
11.10  参考文献 258 Gn<e&|4>i}  
12  公差与误差 260 &cf_?4  
12.1  蒙特卡罗模型 260 f1t?<=3Ek<  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Q|Nw @7$`  
12.2.1  误差工具 267 TaZlfe5z  
12.2.2  灵敏度工具 271 I2?
g'tz  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 Dj w#{WR  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 bWzUWLa  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ShOB"
J-  
12.3  参考文献 276 o|V=3y Ok  
13  Runsheet 与Simulator 277 ;$UB@)7%  
13.1  原理介绍 277 {tnhP^C3>  
13.2  截止滤光片设计 277 Rtai?  
14  光学常数提取 289 mm N$\2  
14.1  介绍 289 u)l[*";S  
14.2  电介质薄膜 289 (-{.T  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Zy6>i2f4f  
14.4  基底的参数提取 302 ))J#t{X/8v  
14.5  金属的参数提取 306 #twl  
14.6  不正确的模型 306 'zuA3$SR  
14.7  参考文献 311 QW&@>i  
15  反演工程 313 ET|4a(x  
15.1  随机性和系统性 313 5 Praj  
15.2  常见的系统性问题 314 weIlWxy  
15.3  单层膜 314 {!"lHM%  
15.4  多层膜 314 Na`vw  
15.5  含义 319 q_:B=w+bC  
15.6  反演工程实例 319 wE_#b\$=b  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 9>d~g
!u=  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 q)]S:$?BT  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 1@`mpm#Y  
16.1  光学性质的热致偏移 329 1VG7[#Zy  
16.2  应力工具 335 M532>+A]Za  
16.3  均匀性误差 339 <2PO3w?Z  
16.3.1  圆锥工具 339 bd`}2vr  
16.3.2  波前问题 341 T2k# "zD  
16.4  参考文献 343 6CzN[R}  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 QkY;O
<Y_  
17.1  引言 345 wdEQB-d
A  
17.2  操作数 345 mQ:5(]v  
18  如何在Function中编写脚本 351 PL
7_j  
18.1  简介 351 vrXNa8,L  
18.2  什么是脚本？ 351 lLuAgds`  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 C-V
kXk  
18.4  基础 352 ~)!vhdBe  
18.4.1  Classes（类别） 352 CSIsi]H  
18.4.2  对象 352 h?&S*)1  
18.4.3  信息（Messages） 352 5i&+.?(Z=  
18.4.4  属性 352 }U$p[Gi<  
18.4.5  方法 353  Tv~Ys#  
18.4.6  变量声明 353 3HB(rTw  
18.5  创建对象 354 uJ%XF*>_D  
18.5.1  创建对象函数 355 x5!lnN,#  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 M!]g36h[  
18.5.3 丢弃对象 356 :JG2xtn  
18.5.4  总结 356 Rm=[Sj84  
18.6  脚本中的表格 357 1&JB@F9
!  
18.6.1  方法1 357 qISzn04  
18.6.2  方法2 357 `xu/|})KI  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Ec|5'Kz]  
18.8 3D Plots in Scripts 359 WJw %[_W  
18.9  注释 360 98t|G5  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 AO^c=^  
18.11  一个更高级的脚本 362 !8OUH6{2  
18.12  <esc>键 364 9rQw~B<S  
18.13 包含文件 365 Ck^jgB.7  
18.14  脚本被优化调用 366 -hpMd/F
 
18.15  脚本中的对话框 368 C-L["O0[  
18.15.1  介绍 368 (Qz| N  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 I=wA)Bli1p  
18.15.3  输入框函数 370 ? Eh)JJt  
18.15.4  自定义对话框 371 EyPF'|Qtn  
18.15.5  对话框编辑器 371 j{;IiVHnR  
18.15.6  控制对话框 377 GbbD)  
18.15.7  更高级的对话框 380 9N{"ob Z  
18.16 Types语句 384 _;`g*Kx  
18.17 打开文件 385 ^1w*$5YI  
18.18 Bags 387 D*o[a#2_  
18.13  进一步研究 388 )w!*6<  
19  vStack 389 zu|=1C#5h  
19.1  vStack基本原理 389 ~:lN("9OI  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 BX6]d:S  
19.3  五棱镜 393 "ku ?A^f  
19.4 光束距离 396 P*sb@y>}O  
19.5 误差 399 PEHaH"|([=  
19.6  二向分色棱镜 399 tD !$!\`O  
19.7  偏振泄漏 404 <)$b=z  
19.8  波前误差—相位 405 Xw[|$#QKM  
19.9  其它计算参数 405 qox31pnS  
20  报表生成器 406 9<S
};I;  
20.1  入门 406 ]NgEN  
20.2  指令(Instructions) 406 ~V<62"G  
20.3  页面布局指令 406 NKS-G2Y<P  
20.4  常见的参数图和三维图 407 f1UG
DC<p9  
20.5  表格中的常见参数 408 >\c"U1%E  
20.6  迭代指令 408 dGBVkb4]T  
20.7  报表模版 408 7e D<(  
20.8  开始设计一个报表模版 409 h$eVhN&Vv  
21  一个新的project 413
CNF3".a  
21.1  创建一个新Job 414 4w-P%-4  
21.2  默认设计 415 nXnO]wXC  
21.3  薄膜设计 416 13e @  
21.4  误差的灵敏度计算 420 5(sWV:_2  
21.5  显色指数计算 422 iH"
"dtO  
21.6  电场分布 424
dY%>C75O  
后记 426 Mee+bp  
vD*9b.*  
+HOHu*D  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 b#[7A  
m6=Jp<  
《Essential Macleod中文手册》 5Myp#!|x:  
51lN,VVD  
目  录 )w3HC($g  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 %;{Ro)03  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 j? P=}_Ru  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 EZvf\s>LT  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 C%y!)v_x  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 T=n)ea A  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 *nh.&Mv|  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 RY]Vo8  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 t*'U|K4L/  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 R8<'m
 
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 4q7hL  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 $-:j'e:j  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 '6&a8&:  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ~9KxvQzt  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Y]R;>E5o|  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 M:? :EJ  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 j >wT-s  
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价  格：400元