[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 |<LW(,|A  
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 <!~NG3KW[>  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 WAGU|t#."  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 .[vYT.LE  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 va;fT+k=  
1. Essential Macleod软件介绍 K`kWfPwp  
1.1 介绍软件 i0
[mU,  
1.2 创建一个简单的设计 )AAPT7!U  
1.3 绘图和制表来表示性能 6 $+b2&V  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 F2$?[1^f  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） v <E#`4{  
1.6 特定设计的公式技术 }<H0CcG  
1.7 交互式绘图 PE2O$:b\  
2. 光学薄膜理论基础 K1-y[pS]E  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 `q?@ Ob&  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 o 0H.DeP  
3. 材料管理 Xxs0N_va&  
3.1 材料模型 #lx(F3  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 }9Awv#+  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ;VPYWss  
3.4 基板光学常数的提取 5f_1 dn  
4. 光学薄膜设计优化方法  *l-F  
4.1 参考波长与g @}A3ie'w  
4.2 四分之一规则 3>k?-%"  
4.3 导纳与导纳图 bU_P@GKB  
4.4 斜入射光学导纳 <
f@ A\  
4.5 光学薄膜设计的进展 !]!J"!xg*  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 lBOxB/`  
4.6.1 优化目标设置 &=v5M9GR]  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） 8"J6(KS  
4.6.3 膜层锁定和链接 Uy{ZK*c8i  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 (l:LG"sy\  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 wZ~eE'zx+  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 qUG)+~g`  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 6G?7>M  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 !FbW3p f  
5.5 如何在Function中编写脚本 ag"Nf-o/Y  
6. 光学薄膜系统案例 sm;\;MP*yH  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 -|/*S]6kK  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 m~vEandm  
6.3 Stack应用范例说明 !+ ??3-q  
7. 薄膜性能分析 C'fQ Z,r-v  
7.1 电场分布 OG2&=~hOz-  
7.2 公差与灵敏度分析 ?Yh
GW   
7.3 反演工程 lgh+\pj  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 8
7:V-*8  
8. 真空技术 WlnS.P\+E  
8.1 常用真空泵介绍 "$N 4S9U  
8.2 真空密封和检漏 oJVpJA0IA  
9. 薄膜制备技术 6g%~~hX
 
9.1 常见薄膜制备技术 k3r<']S^  
10. 薄膜制备工艺 -^= JKd&p  
10.1 薄膜制备工艺因素 <|4L+?_(&  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ~X1<x4P\  
10.3 光学薄膜监控技术 Ia*T*qJu  
11. 激光薄膜 ]Kp -2KW
  
11.1 薄膜的损伤问题 lX%e  
11.2 激光薄膜的制备流程 NLO&.Q]#  
11.3 激光薄膜的制备技术 cW\Y1=Gv|  
12. 光学薄膜特性测量 3+WostOx  
12.1 薄膜光谱测量 &W-1W99auE  
12.2 薄膜光学常数测量 6YYDp&nqEj  
12.3 薄膜应力测量 YC d  
12.4 薄膜损伤测量 9c=`Q5  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 (,2U?p  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 5q{ -RJ  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 ??=su.b  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 VyxX5Lrj  
E#mp
j~{-  
1F94e)M)"  
;&]oV`Ib  
目录 F}=O Mo:.  
Preface 1 =FXq=x%9+  
内容简介 2 P(Q}r7F~(  
目录 i =fy'w3m  
1  引言 1 F]`_akE  
2  光学薄膜基础 2 zr[|~-  
2.1  一般规则 2 $h8,QPy  
2.2  正交入射规则 3 s f<NC>
-  
2.3  斜入射规则 6 0;x<0P  
2.4  精确计算 7 xY1@Ja  
2.5  相干性 8 Tlz~o[`&  
2.6 参考文献 10 pJ H@v &a  
3  Essential Macleod的快速预览 10 `NARJ9M   
4  Essential Macleod的特点 32 zc%HBZ3p  
4.1  容量和局限性 33 SoL"M[O  
4.2  程序在哪里？ 33 m15> ^i^W  
4.3  数据文件 35 p#tbN5i[{7  
4.4  设计规则 35 #tlhH\Pr[  
4.5  材料数据库和资料库 37 qq[Enf|/y  
4.5.1材料损失 38 QVPJ$~x  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 fIm=^}?fwK  
4.5.2 材料库 41 R)BH:wg"  
4.5.3导出材料数据 43 d m$iiRY  
4.6  常用单位 43 QDJe:\n  
4.7  插值和外推法 46 H4JwgQ  
4.8  材料数据的平滑 50 ^?o>(K  
4.9 更多光学常数模型 54 WS1$cAD2N  
4.10  文档的一般编辑规则 55 @s
LB _f  
4.11 撤销和重做 56 \:`-"Ou(*  
4.12  设计文档 57 ()%;s2>F  
4.10.1  公式 58 Xo~kB)|,  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 I<LIw8LI  
4.10.3  沉积密度 59 g%T`6dvT  
4.10.4 平行和楔形介质 60 WTQd}f  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 o&U/e\zy  
4.10.4  性能 61 F
@Cxjz  
4.10.5  保存设计和性能 64 SbN.z  
4.10.6  默认设计 64 1n )&%r  
4.11  图表 64 NM&R\GI  
4.11.1  合并曲线图 67 OZi4S3k  
4.11.2  自适应绘制 68 ]8ob`F`m,  
4.11.3  动态绘图 68 Wc!.
{2  
4.11.4  3D绘图 69 >`u/#mrd  
4.12  导入和导出 73 &Y|AX2KUC  
4.12.1  剪贴板 73 dn|OY.`|  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 %E`=c]!  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 w]=c^@t_  
4.13  背景 77 hxx`f-#=  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 A<<Bm M.%  
4.15  生成Rugate 84 `w/b];e1)  
4.16  参考文献 91 %8~g#Z  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 7=[/J*-m  
5.1  Jobs 92 DS6g_SS3  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 40R7@Vaf  
5.3  输入材料 94 6T ,'Oz  
5.4  设计数据文件夹 95 &
& E
)  
5.5  默认设计 95 $J)2E g  
6  细化和合成 97 w@&(=C  
6.1  优化介绍 97 1OW#_
4w/  
6.2  细化 (Refinement) 98 ~k780  
6.3  合成 (Synthesis) 100 lko k2  
6.4  目标和评价函数 101 4&+lc*  
6.4.1  目标输入 102 T@\%h8@~]  
6.4.2  目标 103 nZ8f}R!f:  
6.4.3  特殊的评价函数 104 QPJz~;V2  
6.5  层锁定和连接 104 9>hK4&m^  
6.6  细化技术 104 2r>I,T
NHl  
6.6.1  单纯形 105 $V2.@X  
6.6.1.1 单纯形参数 106 .YxcXe3#  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Spt;m0W90  
6.6.2.1 Optimac参数 108 X82
12[7  
6.6.3  模拟退火算法 109 +N:=|u.g  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 "=vH,_"Ql  
6.6.4  共轭梯度 111 kli)
6R<  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ^P}c0}^  
6.6.5  拟牛顿法 112 1@{qPmf^  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112  _)=eE  
6.6.6  针合成 113 .l}oxWWoS  
6.6.6.1 针合成参数 114 .rs\%M|X  
6.6.7 差分进化 114 ry!0~ir  
6.6.8非局部细化 115 >^ijj`{d  
6.6.8.1非局部细化参数 115 z`KP }-  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 6P U]I+  
6.7.1 　细化 116 FCA]zR1  
6.7.2　 合成 117 35PIfqm  
6.8  参考文献 117 t'im\_$F  
7  导纳图及其他工具 118 Z@ZSn0  
7.1  简介 118 3KN>t)A#  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 :Wl`8p4]  
7.2.1  四分之一波长规则 119 2V)qnMxAZJ  
7.2.2  导纳图 120 {&d )O  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 6UnWtLE  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 UhVJ!NrT  
7.5  斜入射导纳图 141 fs;pX/:FR  
7.6  对称周期 141 ePxwN?  
7.7  参考文献 142 UTph(U#  
8  典型的镀膜实例 143 XYdr~/[HPy  
8.1  单层抗反射薄膜 145 X>kW)c4{b  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 *>8Y/3Y\B  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 a0=>@?  
8.4  W-膜层 148 &&K"3"um  
8.5  V-膜层 149 #8;#)q_[u  
8.6  V-膜层高折射基底 150 +L\bg|;  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Y4)v>&H  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 cLyed3uU  
8.9  四层抗反射薄膜 153 wS}Rl}#Oh?  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 6 ~d\+aV  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Zq\Vq:MX  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ]#t5e>o|  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ST7Xgma-  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 I^itlQ  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 [y(AdZ0*  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 UVj1nom   
8.17  1/4波长堆栈 162 jO6yZt  
8.18  陷波滤波器 163 ZKco  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 VH2/  
8.20  褶皱 165 f$p7L.d<  
8.21  消偏振分光器1 169 kRH;c,E@  
8.22  消偏振分光器2 171 FErKr)  
8.23  消偏振立体分光器 172 ztHEXM.  
8.24  消偏振截止滤光片 173 >J>|+W  
8.25  立体偏振分束器1 174 =V*4&OU  
8.26  立方偏振分束器2 177 {u_2L_  
8.27  相位延迟器 178 |?Bb{Es  
8.28  红外截止器 179 vg ^&j0  
8.29  21层长波带通滤波器 180 W9%B9~\G;+  
8.30  49层长波带通滤波器 181 9d1 Gu"  
8.31  55层短波带通滤波器 182 o dTg.m  
8.32  47 红外截止器 183  &j_:VP  
8.33  宽带通滤波器 184 |cd=7[B  
8.34  诱导透射滤波器 186 /!HFi>  
8.35  诱导透射滤波器2 188 T^XU5qgN  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 kFo&!  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 h(H b+7g  
8.35  增益平坦滤波器 193 Y%A KN  
8.38  啁啾反射镜 1 196 SF?s^  
8.39  啁啾反射镜2 198 oq3{q  
8.40  啁啾反射镜3 199 `.F+T)
G  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Oxq} dX7S  
8.42  增加铝反射率膜 201 4[^lE?+  
8.43  参考文献 202
;)gNe:Q  
9  多层膜 204 ?~#{3b  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Zk#?.z}  
9.2  内部透过率 204 h&$,mbEoI  
9.3 内部透射率数据 205 [tY+P7j9)  
9.4  实例 206 iz pFl@WS  
9.5  实例2 210 96.Vm*/7  
9.6  圆锥和带宽计算 212 .vJt&@NO  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 s#2<^6  
10  光学薄膜的颜色 216 $,L,VYN  
10.1  导言 216 At=l>  
10.2  色彩 216 Y\1XKAfB  
10.3  主波长和纯度 220 Vuu_Sd  
10.4  色相和纯度 221 %V&I${z  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ;V"(! 'd  
10.6 色差 226 2lm{:tS  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 #ZS8}X*S  
10.8  颜色渲染指数 234 I}{Xv#@o  
10.9  色差计算 235 !ii'hwFm$  
10.10  参考文献 236 Up|>)WFw"  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 q\gvX 76a  
11.1  短脉冲 238 Z/>0P*
F  
11.2  群速度 239 j*05!j<'  
11.3  群速度色散 241 oy!Dm4F  
11.4  啁啾(chirped) 245 \r+8}8  
11.5  光学薄膜—相变 245 2r~&+0sBP  
11.6  群延迟和延迟色散 246 SXI3y  
11.7  色度色散 246 Ap[}[:U  
11.8  色散补偿 249 Jxy94y*  
11.9  空间光线偏移 256 ;r}>1LhN  
11.10  参考文献 258 A"8"e*  
12  公差与误差 260 OK"B`*  
12.1  蒙特卡罗模型 260 rJ UXA<:2  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Q]]5\C.  
12.2.1  误差工具 267 u/8urxpy  
12.2.2  灵敏度工具 271 _hb@O2f  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 \dIQhF%%2  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 /2\%X`]<  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 zz+p6`   
12.3  参考文献 276 z nc'  
13  Runsheet 与Simulator 277 w 9mi2=  
13.1  原理介绍 277 -n`igC  
13.2  截止滤光片设计 277 [# '38  
14  光学常数提取 289 `/z6Q"  
14.1  介绍 289 Ydr
/ T/1  
14.2  电介质薄膜 289 p#Vh[UTl^  
14.3  n 和k 的提取工具 295 *Tt*\ O  
14.4  基底的参数提取 302 pwvcH3l/r  
14.5  金属的参数提取 306 &4ScwK:  
14.6  不正确的模型 306 W l+[{#  
14.7  参考文献 311 2"~QI xY=  
15  反演工程 313 ~e!b81  
15.1  随机性和系统性 313 Evn=3Tw  
15.2  常见的系统性问题 314 S^Z[w|1  
15.3  单层膜 314 oe:@7stG  
15.4  多层膜 314 :2KLziO2  
15.5  含义 319 $`emP Hel  
15.6  反演工程实例 319 rK\)  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 j5EZJ`  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ]OZk+DU:  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 H-sJt:  
16.1  光学性质的热致偏移 329 E.kjYIH8  
16.2  应力工具 335 2h6<'2'o1  
16.3  均匀性误差 339 :|:Disg  
16.3.1  圆锥工具 339 ZO2$Aan  
16.3.2  波前问题 341 `KgWaf-  
16.4  参考文献 343 L.uX  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 x)SW1U3TVx  
17.1  引言 345 ZgcJxWC<  
17.2  操作数 345 |@x^5Ab$T  
18  如何在Function中编写脚本 351 ;:a>#{N  
18.1  简介 351 %U&O \GB  
18.2  什么是脚本？ 351 3YG[~
o|4  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 RN1q/H|  
18.4  基础 352 ?Sq?f?  
18.4.1  Classes（类别） 352 pb(YA/  
18.4.2  对象 352 TRl,L5wd-?  
18.4.3  信息（Messages） 352 A?V[/  
18.4.4  属性 352 `N_elf://n  
18.4.5  方法 353 f;C*J1y  
18.4.6  变量声明 353 S`Jo^!VJ4  
18.5  创建对象 354 D~~&e<v'1  
18.5.1  创建对象函数 355 +ou ]|  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 w(QU'4~  
18.5.3 丢弃对象 356 >[=fbL@N<@  
18.5.4  总结 356 "eq{_4dL  
18.6  脚本中的表格 357 Zxm
Mw  
18.6.1  方法1 357 p9;Oe,Il  
18.6.2  方法2 357 9y(75Bn9  
18.7 2D Plots in Scripts 358 CfguL@tR.  
18.8 3D Plots in Scripts 359 5U&b")3IT!  
18.9  注释 360 WB2An7i@"{  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 FC:Z9{2!  
18.11  一个更高级的脚本 362 k !S0-/h  
18.12  <esc>键 364 0UEEvD5  
18.13 包含文件 365 HJVi:;o  
18.14  脚本被优化调用 366 (j^Qa~{mG4  
18.15  脚本中的对话框 368 z+K-aj w  
18.15.1  介绍 368 |F }y6 gH  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 uXX3IE[  
18.15.3  输入框函数 370 TBN0uk  
18.15.4  自定义对话框 371 Ak`7
f$z  
18.15.5  对话框编辑器 371 $^Is|]^  
18.15.6  控制对话框 377 7~@9=e8G  
18.15.7  更高级的对话框 380 VQ5D?^'0/  
18.16 Types语句 384 \Kp!G1?_AY  
18.17 打开文件 385 2D;,
'  
18.18 Bags 387 _d#1muZ?p|  
18.13  进一步研究 388  -a``  
19  vStack 389 ,m| :U  
19.1  vStack基本原理 389 ~c&ygL3  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ^gb3DNV~y  
19.3  五棱镜 393 "HCJ!  
19.4 光束距离 396 >wz&{9ni  
19.5 误差 399 tC0:w,C)  
19.6  二向分色棱镜 399 R?)M#^"W  
19.7  偏振泄漏 404 yrp5\k*{y  
19.8  波前误差—相位 405 AJ_''%$I3:  
19.9  其它计算参数 405 ke'aSD  
20  报表生成器 406 -nVQB146^  
20.1  入门 406 zn| S3c  
20.2  指令(Instructions) 406 s}8(__|  
20.3  页面布局指令 406 J1@X6U!{  
20.4  常见的参数图和三维图 407 m0}Pq{g  
20.5  表格中的常见参数 408 )HHG3cvU  
20.6  迭代指令 408 )-D
{]>8  
20.7  报表模版 408 ~*OQRl6F  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ^}JGWGib=+  
21  一个新的project 413 G:$Ta6=  
21.1  创建一个新Job 414 Tm!pAD  
21.2  默认设计 415 Sz_bjhyT}  
21.3  薄膜设计 416 ({XB,Rm  
21.4  误差的灵敏度计算 420 [D!-~]5  
21.5  显色指数计算 422 [$PW {d8|  
21.6  电场分布 424 ~#z8Q{!O  
后记 426 =Q\z*.5j.  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 #2`ST=#  
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《Essential Macleod中文手册》 `/W6,]  
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目  录 :<
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ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ,"MRA  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 }e/#dMEi  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 m<7Ax>  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 >3{#S:  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 B|\pzWD%  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 _ELuQ>zM]+  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 iLQFce7d|&  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 :%_*C09  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 \<cs:C\h7  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 vpt*?eR  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 "H{Etb/  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ,\YlDcl':0  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Sz!mn  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Y^Of  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 (R'GrN>  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 6wIo95`  
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价  格：400元