[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 '^
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9,r rQQD_  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 h|"9LU4a  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 c*@E_}C#  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 `WH"%V:"Q  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 #
"5 Dk#@  
1. Essential Macleod软件介绍 9^p;UA  
1.1 介绍软件 }I2@%tt?  
1.2 创建一个简单的设计 bG(3^"dS  
1.3 绘图和制表来表示性能 6Avw-}.7>  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据  MEGv}  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） aWY g
R  
1.6 特定设计的公式技术 L# 2+z@g  
1.7 交互式绘图 1cD! :[  
2. 光学薄膜理论基础 '4#}e[e  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 hBX!iukT|{  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 lh;:M-b9  
3. 材料管理 <"r#:Wr  
3.1 材料模型 N D2L_!g:(  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 A?pbWt~
}  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 *9{Z$IA9w  
3.4 基板光学常数的提取 z21|Dhiw&  
4. 光学薄膜设计优化方法 WV_.Tiy<  
4.1 参考波长与g -B$2\ZE  
4.2 四分之一规则 9AJ7h9L  
4.3 导纳与导纳图 M!XsJ<jN/  
4.4 斜入射光学导纳 (X3Tav  
4.5 光学薄膜设计的进展 9^G/8<^^>  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 u!W0P6   
4.6.1 优化目标设置 {>)#H
D  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） @("a.;1#o  
4.6.3 膜层锁定和链接 ktpaU,%  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 D
S[#|  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Cy=Hy@C  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Xn%pNxUL  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Gvr@|{k  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 trp0V4b8  
5.5 如何在Function中编写脚本 z3;*Em8Ir  
6. 光学薄膜系统案例 ,~]tg77  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 <t \H^H!  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 x}"uZ$g  
6.3 Stack应用范例说明 Nqa&_5"  
7. 薄膜性能分析 1BpiV-]=  
7.1 电场分布 xM&Wgei]10  
7.2 公差与灵敏度分析 Z Z:}AQ  
7.3 反演工程 ]33>m|?@  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 K8UP,f2  
8. 真空技术 ub\MlSr  
8.1 常用真空泵介绍 TO?R({yx*  
8.2 真空密封和检漏 V13N}]  
9. 薄膜制备技术 5Ezw ~hn  
9.1 常见薄膜制备技术 r 0iK  
10. 薄膜制备工艺 S9~+c  
10.1 薄膜制备工艺因素 jGpN,/VQa  
10.2 薄膜均匀性修正技术 s pp f  
10.3 光学薄膜监控技术 zM(vr"U
 
11. 激光薄膜 !~rY1T~  
11.1 薄膜的损伤问题 ~U@;gLoD  
11.2 激光薄膜的制备流程 %~E ?Z!_W  
11.3 激光薄膜的制备技术 O%5 r[  
12. 光学薄膜特性测量 J2xw) +  
12.1 薄膜光谱测量 vRHd&0  
12.2 薄膜光学常数测量 \(^nSy&N  
12.3 薄膜应力测量 j;-1J_e5  
12.4 薄膜损伤测量 g9Xu@N;bL  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 <4g{ fT0  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 =06gj)8  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 xgKdMW'%g:  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 65#'\+  
5',8 ziJQ  
$',K7%y  
hM6PP7XH  
目录 ]);%wy{Ho  
Preface 1 b2OQtSr a  
内容简介 2 /7|V+6jV  
目录 i $+Z)  
1  引言 1 GycSwQ ,  
2  光学薄膜基础 2 9NQlI1Wz4  
2.1  一般规则 2
;kS&A(  
2.2  正交入射规则 3 '+?"iVVo  
2.3  斜入射规则 6 pu 7{a  
2.4  精确计算 7 lFV N07hG  
2.5  相干性 8 4GY[7^  
2.6 参考文献 10 (nlvl?\d  
3  Essential Macleod的快速预览 10 7|$:=4  
4  Essential Macleod的特点 32 -y8`yHb_  
4.1  容量和局限性 33 _lGdUt 2  
4.2  程序在哪里？ 33 ujR_"r|l  
4.3  数据文件 35 i*Sqda $  
4.4  设计规则 35 LE9(fe) fe  
4.5  材料数据库和资料库 37 @,cowar*  
4.5.1材料损失 38 7!EBH(,z  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 kT"Kyd  
4.5.2 材料库 41 7Z\--=;|[:  
4.5.3导出材料数据 43 MHX?@. v  
4.6  常用单位 43 qUob?| ^   
4.7  插值和外推法 46 s/q7.y7n{  
4.8  材料数据的平滑 50 g1W.mAA3B  
4.9 更多光学常数模型 54 AP7Yuv`  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Rv$[)`&T  
4.11 撤销和重做 56 vdx0i&RiL  
4.12  设计文档 57 j
B$IyQ;@  
4.10.1  公式 58 T_@K&<  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ]|zp0d=&o  
4.10.3  沉积密度 59 17oa69G  
4.10.4 平行和楔形介质 60 rvb
Lyv;~  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 |:xYE{*)H  
4.10.4  性能 61 \Zqng  
4.10.5  保存设计和性能 64 jr /pj?  
4.10.6  默认设计 64 Lvq>v0|  
4.11  图表 64 s;S?;(QI  
4.11.1  合并曲线图 67 TarIPp  
4.11.2  自适应绘制 68 }L+L"l&  
4.11.3  动态绘图 68 w$z}r  
4.11.4  3D绘图 69 UEM(@zD]  
4.12  导入和导出 73 #LL?IRH9^  
4.12.1  剪贴板 73 Mc09ES  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 %l}D.ml  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 gX]-\  
4.13  背景 77 wsIW |@  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 aT)BR?OYSJ  
4.15  生成Rugate 84 4'`{H@]tb  
4.16  参考文献 91 vY }A  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 bx{$Y_L+p  
5.1  Jobs 92 p?7v$ev_  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 Y^8C)p9r  
5.3  输入材料 94 VY;{/.Sa  
5.4  设计数据文件夹 95 =BSzsH7  
5.5  默认设计 95 -@yh>8v  
6  细化和合成 97 Pe3@d|-,MU  
6.1  优化介绍 97 75"f2;  
6.2  细化 (Refinement) 98 _aFl_\3>  
6.3  合成 (Synthesis) 100 8\^}~s$$A
 
6.4  目标和评价函数 101 u frW\X  
6.4.1  目标输入 102 7n8~K3~;  
6.4.2  目标 103 4C<jdv_J  
6.4.3  特殊的评价函数 104 OGde00  
6.5  层锁定和连接 104 s>;v!^N?u  
6.6  细化技术 104 h]+C.Eqnt#  
6.6.1  单纯形 105 }!"A!~&  
6.6.1.1 单纯形参数 106 -8
:&>~4`  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 @kpv{`Y  
6.6.2.1 Optimac参数 108 =XucOli6  
6.6.3  模拟退火算法 109 Q&wB$*u  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 %{AO+u2i  
6.6.4  共轭梯度 111 qq) rd  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *.sVr7=j  
6.6.5  拟牛顿法 112 # {w9s0:  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 'Jt]7;04p  
6.6.6  针合成 113 W-x?:X<}  
6.6.6.1 针合成参数 114 *)ardZV${  
6.6.7 差分进化 114 WN{ 9  
6.6.8非局部细化 115 -8eoNzut  
6.6.8.1非局部细化参数 115 r@v,T8  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 hd>aZ"nm1  
6.7.1 　细化 116 <3xyjX'NE  
6.7.2　 合成 117 =|M>
l  
6.8  参考文献 117 (qqOjz  
7  导纳图及其他工具 118 Z*y`R XE  
7.1  简介 118 %_+2@\  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ,uo'c_f(e  
7.2.1  四分之一波长规则 119 A'q#I>j`  
7.2.2  导纳图 120 dx;Ysn0-  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124  ud xZ0  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 G;v8$)Zj  
7.5  斜入射导纳图 141 %+8F'&X  
7.6  对称周期 141 S4^vpY DeN  
7.7  参考文献 142 WF1px%  
8  典型的镀膜实例 143 C ~<'rO}|  
8.1  单层抗反射薄膜 145 0Sle  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 'MEz|Z  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 U]^HjfX\  
8.4  W-膜层 148 |B'9\OkP[=  
8.5  V-膜层 149 X%Z{K-  
8.6  V-膜层高折射基底 150 $}J5xG,}$  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 5b!vgm#])  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 +W:=e,=  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Wc,~{  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 biSz?DJ>  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ^HV>`Pjd}=  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 B:gjAb}9T  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 H<v'^*(  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 q*F{/N**  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 q#vQv5  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 lDOCmdt@N  
8.17  1/4波长堆栈 162 7![,Q~Fy  
8.18  陷波滤波器 163 rM .|1(u  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 G?EoPh^m  
8.20  褶皱 165 n#q<`}u,
 
8.21  消偏振分光器1 169 4US"hexE<  
8.22  消偏振分光器2 171 v}1QH  
8.23  消偏振立体分光器 172 eZ|%<Wpu  
8.24  消偏振截止滤光片 173 f0X_fm_q  
8.25  立体偏振分束器1 174 r<K(jG[:{f  
8.26  立方偏振分束器2 177 4 !y%O  
8.27  相位延迟器 178 3pv4B:0  
8.28  红外截止器 179 uT}' Y)m  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Min ^>  
8.30  49层长波带通滤波器 181 9cf:pXMi  
8.31  55层短波带通滤波器 182 i
n~D  
8.32  47 红外截止器 183 2] zq#6ix  
8.33  宽带通滤波器 184 3[O=xXB  
8.34  诱导透射滤波器 186 o Z%9_$Z  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Z @^9PQG$  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 q:dHC,
fO  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ~~v3p>zRr  
8.35  增益平坦滤波器 193 9?0^ap,T  
8.38  啁啾反射镜 1 196 :^kZ.6Q@  
8.39  啁啾反射镜2 198 >sWp?  
8.40  啁啾反射镜3 199 &Q>k7L!  
8.41  带保护层的铝膜层 200  c|M6<}  
8.42  增加铝反射率膜 201 QA<Jr5Ys  
8.43  参考文献 202 h{
AII  
9  多层膜 204 W7U2MqQ  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204  ~ ip,Nl  
9.2  内部透过率 204 fjU8gV  
9.3 内部透射率数据 205 \De{9v  
9.4  实例 206 nq6@6GRG  
9.5  实例2 210 9\/xOwR  
9.6  圆锥和带宽计算 212 b]x4o#t  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 pgOQIzu  
10  光学薄膜的颜色 216 $e*ce94  
10.1  导言 216 l y(>8F  
10.2  色彩 216 "tB;^jhRs  
10.3  主波长和纯度 220 Cq'KoN%nQ  
10.4  色相和纯度 221 qMLD)rL  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 =K
6($|'=  
10.6 色差 226 kg'o&^/=  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Qk,I^1w?7  
10.8  颜色渲染指数 234 VxV
E  
10.9  色差计算 235 f6p-s y>  
10.10  参考文献 236 =>M^02
"  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 *g6n  
11.1  短脉冲 238 {buo^kgj`]  
11.2  群速度 239 ; mZW{j  
11.3  群速度色散 241 cUY`97bn  
11.4  啁啾(chirped) 245 rNB_
W.
 
11.5  光学薄膜—相变 245 8P1=[i]  
11.6  群延迟和延迟色散 246 4|CtRF<L  
11.7  色度色散 246 E;+O($bA  
11.8  色散补偿 249 h"_MA_]~  
11.9  空间光线偏移 256 i'#E)  
11.10  参考文献 258 yt.F\[1  
12  公差与误差 260 3?1`D/  
12.1  蒙特卡罗模型 260 H[S%J3JI  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Y*H|?uNF
 
12.2.1  误差工具 267 P;Ga4Q.  
12.2.2  灵敏度工具 271 X4 A<[&F/  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 f' 3q(a<p  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ZuS0DPS`L  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 w-Da~[J  
12.3  参考文献 276 Q0&H#xgt  
13  Runsheet 与Simulator 277 kic/*v\6@  
13.1  原理介绍 277 80Gn%1A9  
13.2  截止滤光片设计 277 R,pX
:H&#+  
14  光学常数提取 289 JV]^zW  
14.1  介绍 289 >_|O1H./4  
14.2  电介质薄膜 289 Hm%;=`:'  
14.3  n 和k 的提取工具 295 [3{W^WSOz  
14.4  基底的参数提取 302 @wE5S6! B\  
14.5  金属的参数提取 306 "4uS3h2r  
14.6  不正确的模型 306 (]Y 5eM  
14.7  参考文献 311 NhaI<J  
15  反演工程 313 0tEYU:Qu  
15.1  随机性和系统性 313 cp#JBHO  
15.2  常见的系统性问题 314 ha(Z<  
15.3  单层膜 314 t.`@{R$hoA  
15.4  多层膜 314 bO'Sgc[]  
15.5  含义 319 L5 veX}  
15.6  反演工程实例 319 iZaI_\"__  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 aVK3?y2  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Il= W,/y  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 j(RWO  
16.1  光学性质的热致偏移 329 qoj$]   
16.2  应力工具 335 FRg^c kb"  
16.3  均匀性误差 339 L1Iz<>  
16.3.1  圆锥工具 339 DGAX3N;r6{  
16.3.2  波前问题 341 ]>~)<   
16.4  参考文献 343 %jJ>x3$F  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 ni<A3OB  
17.1  引言 345 9Hc$G{[a  
17.2  操作数 345 2@%$;.  
18  如何在Function中编写脚本 351 V&Xe!S  
18.1  简介 351 `"&da#N]  
18.2  什么是脚本？ 351 rzh#CnL3  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 bpKZ3}U  
18.4  基础 352 nij!1z|M  
18.4.1  Classes（类别） 352 `eIenA  
18.4.2  对象 352 &:
,dJ  
18.4.3  信息（Messages） 352 ?sMP~RHQ  
18.4.4  属性 352 rz@=pR :  
18.4.5  方法 353 b+f'[;  
18.4.6  变量声明 353 lJE93rXU  
18.5  创建对象 354 l,,>& F  
18.5.1  创建对象函数 355 Z(Bp 0a  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 t5#rps\;  
18.5.3 丢弃对象 356 DRc)iE>@  
18.5.4  总结 356 89wU-Aggq  
18.6  脚本中的表格 357 K)\M5id]  
18.6.1  方法1 357 IGtl\b=  
18.6.2  方法2 357 = Wu *+paQ  
18.7 2D Plots in Scripts 358 r9 !Tug*>m  
18.8 3D Plots in Scripts 359 lsy?Ac  
18.9  注释 360 :1iqT)&|8F  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 /Rg*~Ers *  
18.11  一个更高级的脚本 362 4)U.5FBk )  
18.12  <esc>键 364 1. rj'  
18.13 包含文件 365 m"o ;L3  
18.14  脚本被优化调用 366
pb$~b\s]=  
18.15  脚本中的对话框 368 #1c_evH  
18.15.1  介绍 368 ,B0_MDA +  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 OujCb^Rm  
18.15.3  输入框函数 370 h
o0@ l  
18.15.4  自定义对话框 371 %5A+V0D0'  
18.15.5  对话框编辑器 371 j& <i&  
18.15.6  控制对话框 377 S6AU[ASY.  
18.15.7  更高级的对话框 380 ;ByOth|9P  
18.16 Types语句 384 DBT&
DS  
18.17 打开文件 385 [&nh5|f  
18.18 Bags 387
Hrzf'a|^  
18.13  进一步研究 388 qHP78&wUx  
19  vStack 389 'ul~7h;n  
19.1  vStack基本原理 389 :@!ic
<p  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 T+<A`k: -  
19.3  五棱镜 393 x >^Si/t  
19.4 光束距离 396 <~n$1aA  
19.5 误差 399 /l<<_uk$  
19.6  二向分色棱镜 399 9M1d%jT  
19.7  偏振泄漏 404 OBP1B@|l$+  
19.8  波前误差—相位 405
w);6K[+;  
19.9  其它计算参数 405 ]- 4QNc=  
20  报表生成器 406 ijdXU8  
20.1  入门 406 &b
p=`=*  
20.2  指令(Instructions) 406 W@Lu;g.Yc  
20.3  页面布局指令 406 d\FJFMW*9  
20.4  常见的参数图和三维图 407 q7-L53.x  
20.5  表格中的常见参数 408 EoxQ */  
20.6  迭代指令 408 M>>qn_yq4  
20.7  报表模版 408 H03jDM8Q  
20.8  开始设计一个报表模版 409 cPU/tkc  
21  一个新的project 413 vMs$ceq  
21.1  创建一个新Job 414 i7utKj*57  
21.2  默认设计 415 NbGV1q']  
21.3  薄膜设计 416 3Bx:Ntx<  
21.4  误差的灵敏度计算 420 C,pJ`:P  
21.5  显色指数计算 422 -atGlu2  
21.6  电场分布 424 &2=dNREJ}1  
后记 426 ,ML[Wr'2  
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GKFq+]W  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 Eyh51IB.  
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《Essential Macleod中文手册》 ^=^z1M2P  
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目  录 o,!T2&}  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Z+StB15  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 pIKSs<IP  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 #zRbx  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Iy.rqc/86  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 !grVR157P  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 &09U@uc$  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 z8J."27ND  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 viAMr"z  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 WwUv5GZTW  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Ii^5\v|C  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 j* *s^Sg  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 1& '8Y  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 b77>$[xB  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 G_dsrpI=N  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 f*24)Wn<  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 _` [h,=  
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价  格：400元