[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 H4e2#]*i7  
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 .@Jos^rxgJ  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 `6G:<wX  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 0h"uJco,  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 ,Q8h#0z r  
1. Essential Macleod软件介绍 I#CS;Yh95  
1.1 介绍软件 Lor__ K  
1.2 创建一个简单的设计 /oU$TaB>(  
1.3 绘图和制表来表示性能 tkhEjTZ  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 YZ5[#E@l  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） AyMbwCR"X  
1.6 特定设计的公式技术 |Lz7}g=6  
1.7 交互式绘图 4"V6k4i5  
2. 光学薄膜理论基础 C2K<CDVw  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 2{)<Df@  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 +|spC  
3. 材料管理 FVoKNaK-  
3.1 材料模型 + oNrc.  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 bKPjxN?!9  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 tqOx8%  
3.4 基板光学常数的提取 W o$UV  
4. 光学薄膜设计优化方法 ?Q}3X-xy  
4.1 参考波长与g ;0E[ ; L!  
4.2 四分之一规则 6E:5w9_=c  
4.3 导纳与导纳图 :J6FI6  
4.4 斜入射光学导纳 <D(|}5qR  
4.5 光学薄膜设计的进展 BKW%/y"  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 )0 i$Bo  
4.6.1 优化目标设置 ;UWp0d%  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） 7e<\11uI]a  
4.6.3 膜层锁定和链接 ~ePtK~,dv  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 .+CMm5T  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 #4?:4Im#  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 3+:
uV  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 $ 4A!Y  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 V4x6,*)e  
5.5 如何在Function中编写脚本 \&%y4=y<sE  
6. 光学薄膜系统案例 A,GJ6qp3  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ~bX ) %jC  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 O9MBQNwjA  
6.3 Stack应用范例说明 4 !M6RL8{  
7. 薄膜性能分析 )mRKIM}*W  
7.1 电场分布 R~XNF/QMl  
7.2 公差与灵敏度分析 iMs(Ywak]  
7.3 反演工程 R2nDK7j  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 0:k MnHn\  
8. 真空技术 <e'l"3+9(  
8.1 常用真空泵介绍 ~1.~4~um  
8.2 真空密封和检漏 lyrwm{&  
9. 薄膜制备技术 / , .rUn1  
9.1 常见薄膜制备技术 !EO 2  
10. 薄膜制备工艺 {]:B80I;2  
10.1 薄膜制备工艺因素 [fXC ;c1  
10.2 薄膜均匀性修正技术 k.w}}78N2N  
10.3 光学薄膜监控技术 zH?&FtO  
11. 激光薄膜 ~d
j4Q eu  
11.1 薄膜的损伤问题 tsqWnz=)  
11.2 激光薄膜的制备流程 JWs?az  
11.3 激光薄膜的制备技术 h5m6 )0"  
12. 光学薄膜特性测量 d0@czNWIC  
12.1 薄膜光谱测量 q e;O Ox  
12.2 薄膜光学常数测量 tM{U6k  
12.3 薄膜应力测量 uB uwE6  
12.4 薄膜损伤测量 {_*$X  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 >dqeGM7Np>  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 aQhr$aH  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 AZjj71UE  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 1'g{tP"d  
1`8(O >5  
HA%r
:Px  
lIF*$#`oh*  
目录 'l3K*lck  
Preface 1 i3\6*$Ug  
内容简介 2 Oe%jV,S|V  
目录 i Y=N; Bj  
1  引言 1 f:K`MW  
2  光学薄膜基础 2 H)&pay  
2.1  一般规则 2 ;Cqjg.wkB  
2.2  正交入射规则 3 -}2e+DyAy  
2.3  斜入射规则 6 wC[Bh^]  
2.4  精确计算 7 1f`=U0  
2.5  相干性 8 jo8;S?+<|?  
2.6 参考文献 10 )IP{yL8c  
3  Essential Macleod的快速预览 10 k@= LR  
4  Essential Macleod的特点 32 yD9<-B<)  
4.1  容量和局限性 33 tqo!WuZAj  
4.2  程序在哪里？ 33 ?*8HZ1m#  
4.3  数据文件 35 ,0Y5O?pu\  
4.4  设计规则 35 F DCHB~D  
4.5  材料数据库和资料库 37 Bswd20(w  
4.5.1材料损失 38 \dag~b<  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 S*1Km&  
4.5.2 材料库 41 :Gz#4k  
4.5.3导出材料数据 43 ly]n2RK  
4.6  常用单位 43 8oj-5|ct  
4.7  插值和外推法 46 ){oVVLs  
4.8  材料数据的平滑 50 {E~MqrX  
4.9 更多光学常数模型 54 wB;'+d&  
4.10  文档的一般编辑规则 55 @pD']=d}t  
4.11 撤销和重做 56 R]Q4+  
4.12  设计文档 57 =Jx,.|Bf  
4.10.1  公式 58 ZkJYPXdn?  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 E0Vl}b  
4.10.3  沉积密度 59 h?:lO3)TL=  
4.10.4 平行和楔形介质 60 q#RVi8('  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 }hFjl4`xa  
4.10.4  性能 61 2Ax HhD.  
4.10.5  保存设计和性能 64 ?7cF_Zvve  
4.10.6  默认设计 64 B94mh  
4.11  图表 64 u= K
?K  
4.11.1  合并曲线图 67 ^J>jU`)CJ  
4.11.2  自适应绘制 68 [D H@>:"dd  
4.11.3  动态绘图 68 imtW[y+4  
4.11.4  3D绘图 69 BK'!WX  
4.12  导入和导出 73 URW'*\Xjb  
4.12.1  剪贴板 73 OZ q/'*  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 g'`J'6Pn  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 eD, 7gC-  
4.13  背景 77 eb)S<%R/  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ` m`Sl[
6  
4.15  生成Rugate 84 AX%9k  
4.16  参考文献 91 T]nZ3EZ  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 e3wFi,/@  
5.1  Jobs 92 )G6]r$M>o0  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 h@z(yB j:0  
5.3  输入材料 94 56o?=|  
5.4  设计数据文件夹 95 'Z7oPq6  
5.5  默认设计 95 'B"kUh%3$5  
6  细化和合成 97 t?v0yl
N  
6.1  优化介绍 97 @Ns^?#u~  
6.2  细化 (Refinement) 98 x]k^JPX  
6.3  合成 (Synthesis) 100 P,O9On  
6.4  目标和评价函数 101 #TUsi,jG  
6.4.1  目标输入 102 I/GZ  
6.4.2  目标 103 N L]:<FG  
6.4.3  特殊的评价函数 104 )*
^PMf  
6.5  层锁定和连接 104 SF;;4og  
6.6  细化技术 104 S[NV-)r=  
6.6.1  单纯形 105 ZBJYpeGe  
6.6.1.1 单纯形参数 106 +gOCl*L  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 WZCX&ui  
6.6.2.1 Optimac参数 108 H#G~b""mY  
6.6.3  模拟退火算法 109 @)m+O#a  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 fZXJPy;n  
6.6.4  共轭梯度 111 }_M.-Xm  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 -?!Z/#i4  
6.6.5  拟牛顿法 112 LIVVb"V|,  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 ;=6++Oq  
6.6.6  针合成 113 y6;'?.Y1  
6.6.6.1 针合成参数 114
'&3Sl?E  
6.6.7 差分进化 114 jo<[|ZD  
6.6.8非局部细化 115 ~?6V-m{>#  
6.6.8.1非局部细化参数 115 o)?"P;UhJX  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 5gV8=Ml"V  
6.7.1 　细化 116 qrNW\ME  
6.7.2　 合成 117 @}x)>tqD  
6.8  参考文献 117 P,~a'_w:|D  
7  导纳图及其他工具 118 &tQ,2RT  
7.1  简介 118 :%A1k2  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 s i
v KXd  
7.2.1  四分之一波长规则 119 .Kq>/6  
7.2.2  导纳图 120 '8k\a{t_z  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 r,MgIv(L  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 Tc\^=e^N?  
7.5  斜入射导纳图 141 ?i(Tc
!  
7.6  对称周期 141 t3Q;1#Zf  
7.7  参考文献 142 $&k2m^R<  
8  典型的镀膜实例 143 F)_Rs5V:(  
8.1  单层抗反射薄膜 145 t22BO@gt74  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 *D,+v!wG9  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 xvjHGgWSxc  
8.4  W-膜层 148 Cz?N[dhh  
8.5  V-膜层 149 X\ \\RCp  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ui70|  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 z8>KY/c  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {*t'h?b  
8.9  四层抗反射薄膜 153 yi# Nrc5B  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 n4k.tq  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 JeUFCWm  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Nf0b?jn-  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 VuJth  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 G+b$WQn2t  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 / vje='[!  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Zu\#;O   
8.17  1/4波长堆栈 162 <5[wP)K@  
8.18  陷波滤波器 163 TR{8A^XhE8  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 w*#k&N[X  
8.20  褶皱 165 Fdu0?H2TL  
8.21  消偏振分光器1 169 G5=(3V%  
8.22  消偏振分光器2 171 w69`vK  
8.23  消偏振立体分光器 172 '/;#{("  
8.24  消偏振截止滤光片 173 LD_aJ^(d  
8.25  立体偏振分束器1 174 { j&|Em]  
8.26  立方偏振分束器2 177 qg:1  
8.27  相位延迟器 178 in#qV  
8.28  红外截止器 179 PM=I
 
8.29  21层长波带通滤波器 180 [JMz~~F  
8.30  49层长波带通滤波器 181 w:'$Uf8]  
8.31  55层短波带通滤波器 182 x gaN0!  
8.32  47 红外截止器 183 '4dnC2a]  
8.33  宽带通滤波器 184 og.dYs7W4  
8.34  诱导透射滤波器 186 z O$SL8U  
8.35  诱导透射滤波器2 188 *[W!ng  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 Ao`9fI#q  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ^;W,:y&  
8.35  增益平坦滤波器 193 #dW$"u  
8.38  啁啾反射镜 1 196 6$)Yqg`X  
8.39  啁啾反射镜2 198 }Ss#0Gee  
8.40  啁啾反射镜3 199 O%(:8nIgZ  
8.41  带保护层的铝膜层 200 N1P[&lR  
8.42  增加铝反射率膜 201 EW#.)@-  
8.43  参考文献 202 79:x>i=  
9  多层膜 204 :7:Nx`D8  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 $3Wl~ G}  
9.2  内部透过率 204 b4ORDU  
9.3 内部透射率数据 205 R*Pf
c91}  
9.4  实例 206 pl q$t/.U;  
9.5  实例2 210 0\o0(eHCQz  
9.6  圆锥和带宽计算 212
((EN&X,v  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 z>~`9Qiw'  
10  光学薄膜的颜色 216 1#]tCi`  
10.1  导言 216 kc~Z1  
10.2  色彩 216 q+gqa<kM  
10.3  主波长和纯度 220 vWe)cJ  
10.4  色相和纯度 221 Ik;~u8j1e  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Zn#ri 8S  
10.6 色差 226 i1 SP  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 "St,4b  
10.8  颜色渲染指数 234  A3'i -  
10.9  色差计算 235 lP9a*>=a  
10.10  参考文献 236 S5m1~fz  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 g"#R>&P  
11.1  短脉冲 238 1v`<Vb%"}T  
11.2  群速度 239 f_D1zU^  
11.3  群速度色散 241 *|euC"5c  
11.4  啁啾(chirped) 245 gA~Ih  
11.5  光学薄膜—相变 245 _i}6zxqw  
11.6  群延迟和延迟色散 246 "vU:qwm  
11.7  色度色散 246 5IdmKP|  
11.8  色散补偿 249 zFB$^)v"<  
11.9  空间光线偏移 256 \vFkhm  
11.10  参考文献 258 2$[u&__E  
12  公差与误差 260 VD36ce9  
12.1  蒙特卡罗模型 260 B Sb!{|]  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 PcUi+[s;x  
12.2.1  误差工具 267 .%WbXs  
12.2.2  灵敏度工具 271 u@|GQXC  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 w:MfaN*  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 L8R|\Bx  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 r(cS{oni  
12.3  参考文献 276 p+9vSM #  
13  Runsheet 与Simulator 277 &~$^a1D6  
13.1  原理介绍 277 apGf@b  
13.2  截止滤光片设计 277 [R A=M  
14  光学常数提取 289 \zj8| +  
14.1  介绍 289 wG^{Jf&@$  
14.2  电介质薄膜 289 @*%5"~F  
14.3  n 和k 的提取工具 295 g%4|vA8  
14.4  基底的参数提取 302 S'6(&"XCH  
14.5  金属的参数提取 306 w?!@fu  
14.6  不正确的模型 306 <FGNV+?%e  
14.7  参考文献 311 0_"J>rMp  
15  反演工程 313 ,6a'x~y<r  
15.1  随机性和系统性 313 *<Qn)Az  
15.2  常见的系统性问题 314 '^7Sa  
15.3  单层膜 314 9-bDgzk   
15.4  多层膜 314 (U$ F) 7  
15.5  含义 319 {CQA@p:Y}  
15.6  反演工程实例 319 FE$)[w,m  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Qs;bVlp!H  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 dLQ!hKD~  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ZL1[Khr,s  
16.1  光学性质的热致偏移 329 U&`M G1uHe  
16.2  应力工具 335 6"j
q/Pu  
16.3  均匀性误差 339 Y#?Sqm(  
16.3.1  圆锥工具 339 tgg*6lc  
16.3.2  波前问题 341 4
7 m:z5;  
16.4  参考文献 343 n!3_%K0!r&  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 tOp>OoD  
17.1  引言 345 J,+| Fb  
17.2  操作数 345 Nz5gu.a6{L  
18  如何在Function中编写脚本 351 kCN9`9XI{  
18.1  简介 351 nW{7L  
18.2  什么是脚本？ 351 70|Cn(p_  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 K[T?--H  
18.4  基础 352 NbG3^(  
18.4.1  Classes（类别） 352 tM{t'WU  
18.4.2  对象 352 4V<s"  
18.4.3  信息（Messages） 352 M@8 <^CK  
18.4.4  属性 352 g%RL9-z  
18.4.5  方法 353 a8Ci 7<V  
18.4.6  变量声明 353 roW8 4x  
18.5  创建对象 354 E(TL+o  
18.5.1  创建对象函数 355 =<a`G3SY!  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 3}LTEsdM  
18.5.3 丢弃对象 356 U.?,vw'aai  
18.5.4  总结 356 fTV:QAa;  
18.6  脚本中的表格 357 `sJkOEc`  
18.6.1  方法1 357 ;'R{b$B;|  
18.6.2  方法2 357 $]xe,}*Af  
18.7 2D Plots in Scripts 358 '>2xP<ct!&  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ic?6p  
18.9  注释 360 #Du1(R  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 /lAt&0  
18.11  一个更高级的脚本 362 9<\wa/#  
18.12  <esc>键 364 IY,&/MCh  
18.13 包含文件 365 "'II~/9  
18.14  脚本被优化调用 366 O1rnF3Be  
18.15  脚本中的对话框 368 Ojie.+'SB  
18.15.1  介绍 368 $S=lm {  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 
,$W7Q  
18.15.3  输入框函数 370 eNN%%Q  
18.15.4  自定义对话框 371 j"J2&Y2  
18.15.5  对话框编辑器 371 *4]I#N  
18.15.6  控制对话框 377 9s5CqB  
18.15.7  更高级的对话框 380 EiIbp4*e  
18.16 Types语句 384 y\r8_rBo  
18.17 打开文件 385 /e#_Yg  
18.18 Bags 387 J/R=O>  
18.13  进一步研究 388 2-]gHAw%  
19  vStack 389 UiaY0 .D  
19.1  vStack基本原理 389 ykX}T6T  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Mq6.!j  
19.3  五棱镜 393 }|{yd03+  
19.4 光束距离 396 m3P%E8<Q#  
19.5 误差 399 A&F@+X6@  
19.6  二向分色棱镜 399 pmIQD"  
19.7  偏振泄漏 404 rK}*Uwut  
19.8  波前误差—相位 405 ?&"cI5-  
19.9  其它计算参数 405 MP;7u%   
20  报表生成器 406 L;E9"7
Jo  
20.1  入门 406 lj
'c0k8  
20.2  指令(Instructions) 406 /Q})%j1S0  
20.3  页面布局指令 406 )k <ON~x  
20.4  常见的参数图和三维图 407 @6}c\z@AxM  
20.5  表格中的常见参数 408 Gzc{2"p  
20.6  迭代指令 408 c,X\1yLy  
20.7  报表模版 408 &Q(Q/
]U~  
20.8  开始设计一个报表模版 409 t<~riFs]  
21  一个新的project 413 O^F%ssF8  
21.1  创建一个新Job 414 >vt#,8VAN  
21.2  默认设计 415 6_`x^[r  
21.3  薄膜设计 416 JU/K\S2%,  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ;:8_H0X'K  
21.5  显色指数计算 422 Lt|k}p@]  
21.6  电场分布 424 SYeCz(H>d  
后记 426 WLv( K_3Y  
Wi hQj  
2EycFjO  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 mS&[<[x  
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《Essential Macleod中文手册》 s|%mGt &L  
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目  录 )Xl/|YD  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 }!lLA4XRr  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 tJbOn$]2"  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 j}#48{  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 <P(d%XEl  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 EX=+TOkAf  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Yf7n0Etd,  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 dkLc"$(O
 
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 >c5Vz^uM{4  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 W>bhSKV%  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 9k&lq$  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 Xr6lYO_R  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ^md7ezXL  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Xe:B*  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 S-Ryt>G  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 5i83(>p3]e  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 V.:a6>]  
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价  格：400元