[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 >%Rb}Ki4  

图片:w800

eaLR-+vEB  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Su.imM!  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 OBrb
WXp@  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 z}?*1c  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 ;#-yyU  
1. Essential Macleod软件介绍 tuH8!.  
1.1 介绍软件 @CGci lS=  
1.2 创建一个简单的设计 C1w~z4Qp  
1.3 绘图和制表来表示性能 CB
V(H$d  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 -Pds7}F8  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） T%0vifoQ_$  
1.6 特定设计的公式技术 qyi5j0
)W  
1.7 交互式绘图 ;k1\-  
2. 光学薄膜理论基础 MzUNk`T @  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 \"r84@<  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 c%|K x  
3. 材料管理 0zJT_H+  
3.1 材料模型 ^3~+|A98M  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Dxp8^VL  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 `zf,$67>1  
3.4 基板光学常数的提取 $ZnLYuGb  
4. 光学薄膜设计优化方法 Dsq_}6l{  
4.1 参考波长与g Y)~Y;;/G  
4.2 四分之一规则 4}0DEH.Vx  
4.3 导纳与导纳图 GD*rTtDWn  
4.4 斜入射光学导纳 3B*b d  
4.5 光学薄膜设计的进展 nE"##2X  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 iYbp^iVg  
4.6.1 优化目标设置 &lbZTY}  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） )9F o  
4.6.3 膜层锁定和链接 ^(
}D  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 TpnJm%9`)t  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 VycCuq&M  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 &8=wkG%  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 GjVq"S  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 <4lR  
5.5 如何在Function中编写脚本 U&F1}P$fb  
6. 光学薄膜系统案例 F+ ,eJ/]  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 9E`W
Zo^.  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 p2m@0ou  
6.3 Stack应用范例说明 |l\!  
7. 薄膜性能分析 _:N+mEF  
7.1 电场分布 MTnW5W-r9  
7.2 公差与灵敏度分析 ,=TY:U;?  
7.3 反演工程 1co;U  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 ^Om0~)"q  
8. 真空技术 6_UCRo5h%  
8.1 常用真空泵介绍 Z<_"Tk;!',  
8.2 真空密封和检漏 ]|H`?L  
9. 薄膜制备技术 8|]r>L$Wk  
9.1 常见薄膜制备技术 " a&|{bv  
10. 薄膜制备工艺 xi+bBqg<.K  
10.1 薄膜制备工艺因素 I,7~D!4G  
10.2 薄膜均匀性修正技术 uUhqj.::<Y  
10.3 光学薄膜监控技术 5OJ8o>BF  
11. 激光薄膜 0iKSUwps  
11.1 薄膜的损伤问题 cd&^ vQL8  
11.2 激光薄膜的制备流程 4*`AYx(  
11.3 激光薄膜的制备技术 vJ +sdG  
12. 光学薄膜特性测量 3VI[*b  
12.1 薄膜光谱测量 `EBI$;!  
12.2 薄膜光学常数测量 R #f*QXv  
12.3 薄膜应力测量 F.rNh`44  
12.4 薄膜损伤测量 Xmmb^2I  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 UO1WtQyu,H  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 j ."L=  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 pA%}CmrMq  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 l+ ,p=  
v[7iWBqJ  
L'Yg$9Vz  
@~=*W5  
目录 $a@T:zfe  
Preface 1 (^{tu89ab  
内容简介 2 B|f =hlY  
目录 i 3-=f@uH!  
1  引言 1 c 5%uiv]  
2  光学薄膜基础 2 (yJY/|  
2.1  一般规则 2
N1',`L5  
2.2  正交入射规则 3 =~DQX\  
2.3  斜入射规则 6 L2sUh+'|  
2.4  精确计算 7 *+i1m`6Q  
2.5  相干性 8 " jBc5*  
2.6 参考文献 10 &g.do?  
3  Essential Macleod的快速预览 10 |#b]e|aP  
4  Essential Macleod的特点 32 cj64.C  
4.1  容量和局限性 33 ?5IF;vk  
4.2  程序在哪里？ 33 >fq]c  
4.3  数据文件 35 6*aU^#Hz6  
4.4  设计规则 35 w=QlQ\  
4.5  材料数据库和资料库 37 CyV2=o!F w  
4.5.1材料损失 38 /Kd9UQU  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 +QW|8b  
4.5.2 材料库 41 R/WbcQ)  
4.5.3导出材料数据 43 ke)}JU^"  
4.6  常用单位 43 {i^F4A@=Z  
4.7  插值和外推法 46 "*bP @W  
4.8  材料数据的平滑 50 3a\De(;  
4.9 更多光学常数模型 54 \[J\I  
4.10  文档的一般编辑规则 55 5Ic'6AIz  
4.11 撤销和重做 56 2JhE`EVH  
4.12  设计文档 57 '8"nXuL-  
4.10.1  公式 58 5%jy7)8C  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 {y%|Io`P  
4.10.3  沉积密度 59 %TeH#%[g>\  
4.10.4 平行和楔形介质 60 b|DiU}  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Q$*JkwPQ}  
4.10.4  性能 61 iAr]Ed"9|  
4.10.5  保存设计和性能 64 ~(;HkT  
4.10.6  默认设计 64 uqsVq0H  
4.11  图表 64 Y2TXWl,Jk  
4.11.1  合并曲线图 67  8+,I(+  
4.11.2  自适应绘制 68 jX;$g>P  
4.11.3  动态绘图 68 g7;O
Z#\  
4.11.4  3D绘图 69 M{jJ>S{g  
4.12  导入和导出 73 pSl4^$2XR  
4.12.1  剪贴板 73 ;L@p|]fu  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 v&)G~cz  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 JKF/z@Vbe\  
4.13  背景 77 =x@v{cP  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 4J{W8jX  
4.15  生成Rugate 84 [y&uc  
4.16  参考文献 91 @b9qBJfQ  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?dyt!>C  
5.1  Jobs 92 6W/uoH=;  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 ;r BbLM`  
5.3  输入材料 94 A D%9;KQ8  
5.4  设计数据文件夹 95
Ms=N+e$n  
5.5  默认设计 95 C({r1l4[D  
6  细化和合成 97 -7IRlP&  
6.1  优化介绍 97 ^Z+p_;J$p  
6.2  细化 (Refinement) 98 (-Qr.t_B`  
6.3  合成 (Synthesis) 100 FM
"[:&>  
6.4  目标和评价函数 101 717OzrF}A?  
6.4.1  目标输入 102 NpH:5hi  
6.4.2  目标 103 4jw q
$G  
6.4.3  特殊的评价函数 104 =bOMtQ]  
6.5  层锁定和连接 104 tRbZX{  
6.6  细化技术 104 #('GGzL6c  
6.6.1  单纯形 105 u)[i'ceQZ:  
6.6.1.1 单纯形参数 106 2<E@f0BVAy  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 %F87
"v~  
6.6.2.1 Optimac参数 108 %x8vvcO^t  
6.6.3  模拟退火算法 109 q\/xx`L  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ]$!7;P  
6.6.4  共轭梯度 111 5Y>fVq{U?;  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 n(9$)B_y  
6.6.5  拟牛顿法 112 ui80}%  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 a/n~#5-  
6.6.6  针合成 113 >?jmeD3u  
6.6.6.1 针合成参数 114 iSNbbu#  
6.6.7 差分进化 114 r-_-/O"l  
6.6.8非局部细化 115 zbJ}@V  
6.6.8.1非局部细化参数 115 l% p4.CX  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 w>4( hGO  
6.7.1 　细化 116 W/.n R[!  
6.7.2　 合成 117 ybv]wBpM:  
6.8  参考文献 117 n]8*yoge  
7  导纳图及其他工具 118 EX@Cf!GjN  
7.1  简介 118 3uL$+F  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 y]g
5S-G  
7.2.1  四分之一波长规则 119 U45-R-  
7.2.2  导纳图 120 44pVZ5c  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 O&Y22mu  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 69 J4p=c,  
7.5  斜入射导纳图 141 C'PHbo:  
7.6  对称周期 141 #!>`$  
7.7  参考文献 142 cR/e Zfl  
8  典型的镀膜实例 143 65GC7 >[  
8.1  单层抗反射薄膜 145 X=? \A{Y  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ]YY4{E(9d  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ZU`HaL$  
8.4  W-膜层 148 4{h^O@*g  
8.5  V-膜层 149 cqp^**s  
8.6  V-膜层高折射基底 150 f[q_eY  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 y!x-R!3  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Hp@cBj_@P2  
8.9  四层抗反射薄膜 153 !iAZEOkRR  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Pr,C)uch  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 X*a7`aL  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 %;#9lkOXWH  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 N6v*X+4JH  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 #fFD|q  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 'i;ofJ[.c  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ie/QSte  
8.17  1/4波长堆栈 162 W+.?J 60  
8.18  陷波滤波器 163 GYonb)F  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 )O\l3h
"  
8.20  褶皱 165 iig&O(,  
8.21  消偏振分光器1 169 xM>dv5<E  
8.22  消偏振分光器2 171 %5;kNeD\Fq  
8.23  消偏振立体分光器 172 KF7d`bRe  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Cyu
d)BZvm  
8.25  立体偏振分束器1 174 xzRC %  
8.26  立方偏振分束器2 177 eTt{wn;6  
8.27  相位延迟器 178 ^.M_1$-  
8.28  红外截止器 179 nb@<UbabW}  
8.29  21层长波带通滤波器 180 P.~sNd oJ  
8.30  49层长波带通滤波器 181 G~NhBA9  
8.31  55层短波带通滤波器 182 8g/r8u~  
8.32  47 红外截止器 183 WX+@<y}%  
8.33  宽带通滤波器 184 tAb3ejCo?  
8.34  诱导透射滤波器 186 JV!}"[  
8.35  诱导透射滤波器2 188 K4^B~0~  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 Ds\f?\Em  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 /sl
#M  
8.35  增益平坦滤波器 193 ^fM
=|.?  
8.38  啁啾反射镜 1 196 iz-O~T/^  
8.39  啁啾反射镜2 198 mW)"~sA  
8.40  啁啾反射镜3 199 'YEiT#+/  
8.41  带保护层的铝膜层 200 P2)g%$ME  
8.42  增加铝反射率膜 201 os(}X(   
8.43  参考文献 202 6uFGq)4p@  
9  多层膜 204 jw]IpGTt  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 gKb5W094@  
9.2  内部透过率 204 =PoPp  
9.3 内部透射率数据 205 RHq r-%  
9.4  实例 206 bre6SP@  
9.5  实例2 210 *kDV ^RBfq  
9.6  圆锥和带宽计算 212 b*a}~1  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 cH7D@p}  
10  光学薄膜的颜色 216 s_,&"->  
10.1  导言 216 vaZ?>94  
10.2  色彩 216 GF
Rd:e  
10.3  主波长和纯度 220 -ANq!$E  
10.4  色相和纯度 221 /zV0kW>N  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 D7$xY\0r  
10.6 色差 226 yNQ 9~P2  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 xX
])IZD  
10.8  颜色渲染指数 234 ;}k_2mr~  
10.9  色差计算 235 "2@Ys*e  
10.10  参考文献 236
PvdR)ZEm  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
%P]-wBJw  
11.1  短脉冲 238 k_Edug~B  
11.2  群速度 239 $E@ke:  
11.3  群速度色散 241 to 3i!b  
11.4  啁啾(chirped) 245 upH%-)%'  
11.5  光学薄膜—相变 245 u"a$/  
11.6  群延迟和延迟色散 246 j! cB  
11.7  色度色散 246 Y'%_--  
11.8  色散补偿 249 7h/{F({r=  
11.9  空间光线偏移 256 M,UYDZ',  
11.10  参考文献 258 GgjBLe=C  
12  公差与误差 260 gClDVO  
12.1  蒙特卡罗模型 260 8%9OB5?F6  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 K#p&XIY,  
12.2.1  误差工具 267 qsL6*(S(r  
12.2.2  灵敏度工具 271 zphStiwIQ  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 k)USLA  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 cl-i6[F  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 S[M\com'  
12.3  参考文献 276 Jh:-<xy)  
13  Runsheet 与Simulator 277 !PrO~  
13.1  原理介绍 277 %25_  
13.2  截止滤光片设计 277 _'oy C(:}  
14  光学常数提取 289 AuYi$?8|5  
14.1  介绍 289 &On0)G3Rc  
14.2  电介质薄膜 289 X]*W +  
14.3  n 和k 的提取工具 295 IA;KEGJ  
14.4  基底的参数提取 302 *)d|:q3  
14.5  金属的参数提取 306 rQ$A|GJL  
14.6  不正确的模型 306 s^{j  
14.7  参考文献 311 efP2C\  
15  反演工程 313
w02HSQ  
15.1  随机性和系统性 313 ;7<a0HZ5!  
15.2  常见的系统性问题 314 Dl/_jM  
15.3  单层膜 314 `ionMTZY  
15.4  多层膜 314 4%j&]PASa1  
15.5  含义 319 ;3sT>UB  
15.6  反演工程实例 319 F]?$Q'U  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Tm^zoVi
 
15.6.2 反演工程提取折射率 327  )Bk?"q  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 C5RDP~au  
16.1  光学性质的热致偏移 329 E(U}$Zey  
16.2  应力工具 335 (*fsv g~  
16.3  均匀性误差 339 :7>Si%  
16.3.1  圆锥工具 339 J0p,P.G  
16.3.2  波前问题 341 @#H{nj Z  
16.4  参考文献 343 L{fP_DIa  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 .Na>BR\F  
17.1  引言 345 W{m0z+N[B  
17.2  操作数 345 W@$p'IBwm  
18  如何在Function中编写脚本 351 :g9z^ $g  
18.1  简介 351 #-HN[U?Gs  
18.2  什么是脚本？ 351 khv!\^&DD  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 FVQWz
[N  
18.4  基础 352 D#t5*bwK  
18.4.1  Classes（类别） 352 EJtU(HmW  
18.4.2  对象 352 A#  M  
18.4.3  信息（Messages） 352 g&E_|}u4  
18.4.4  属性 352 A
YZds >#Q  
18.4.5  方法 353 =OZ_\vO  
18.4.6  变量声明 353 \]ODpi 2  
18.5  创建对象 354 8:xQPd?3  
18.5.1  创建对象函数 355 =;/h{ t  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Ju9
v n44  
18.5.3 丢弃对象 356 !d0@^JbM"  
18.5.4  总结 356 VDmd+bvJV  
18.6  脚本中的表格 357  B-gr2-  
18.6.1  方法1 357 S~Hj. d4/  
18.6.2  方法2 357 dw4)4_  
18.7 2D Plots in Scripts 358 #*]= %-A  
18.8 3D Plots in Scripts 359 6HqK%(  
18.9  注释 360 d<3"$%C  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 oV!9B-<  
18.11  一个更高级的脚本 362 X*yl%V  
18.12  <esc>键 364 #dfW1@m  
18.13 包含文件 365 0?h .X=G  
18.14  脚本被优化调用 366 u ?Xku8 1l  
18.15  脚本中的对话框 368 x/S%NySG  
18.15.1  介绍 368 5#F+-9r  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Q8~
pIv  
18.15.3  输入框函数 370 NR[mzJv  
18.15.4  自定义对话框 371 LGMFv  
18.15.5  对话框编辑器 371 L
e'\x`B  
18.15.6  控制对话框 377 tj&A@\/  
18.15.7  更高级的对话框 380 5nn*)vK {  
18.16 Types语句 384 o_N02l4J)  
18.17 打开文件 385 -/qrEKQ0U?  
18.18 Bags 387 ?hu 9c  
18.13  进一步研究 388 E{ ,O}  
19  vStack 389 }Tef;8
d  
19.1  vStack基本原理 389 7A|jnm  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 rN~`4mZ  
19.3  五棱镜 393 -&A[{m<,>  
19.4 光束距离 396 e](=)h|  
19.5 误差 399 FS}z_G|4]  
19.6  二向分色棱镜 399 9$S,P|  
19.7  偏振泄漏 404 tVcs r  
19.8  波前误差—相位 405 N9ufTlq s  
19.9  其它计算参数 405 ] 6gu  
20  报表生成器 406 aS7zG2R4H  
20.1  入门 406 >D;hT*3  
20.2  指令(Instructions) 406 YC_^jRB8n  
20.3  页面布局指令 406 ckk[n  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ES2qX]I  
20.5  表格中的常见参数 408 dW`D?$(@,  
20.6  迭代指令 408 0R]CI  
20.7  报表模版 408 %ze1ZWO{  
20.8  开始设计一个报表模版 409 |@HdTGD  
21  一个新的project 413 aVYUk7_<  
21.1  创建一个新Job 414 <X |h*  
21.2  默认设计 415 >cNXB7]E>  
21.3  薄膜设计 416 \PONaRK|[z  
21.4  误差的灵敏度计算 420 zOOX>3^  
21.5  显色指数计算 422 ftPw6  
21.6  电场分布 424 lRr-S%  
后记 426 Q ?t  
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]t3"0  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 NLl~/smMS  
iL, XBoE  
《Essential Macleod中文手册》 3>" h*U#  
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目  录 1znV>PO!  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ,9qB}HG  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 0?xiGSZV  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 @RIEO%S  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 YMTA`T(+  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 NR&9:?  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 |mmG s  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 61/zrMPn  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 uFWgq::\  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Bedjw =B  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 k#JG  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 N{t:%[  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 @t8kN6.  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ] <3?=$  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 q'U5QyuC  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 p8dn-4  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 8M9\<k6  
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价  格：400元