[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 %s2"W~  

图片:w800

Hu9R.[u  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 g!
p_c  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 n [Xzo}  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ]cqZ!4?_  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 9G&l qfX:  
1. Essential Macleod软件介绍 S"^KJUUc  
1.1 介绍软件 ]KK ZbEO  
1.2 创建一个简单的设计 :aq>  
1.3 绘图和制表来表示性能 < mK  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 zt)PZff/YQ  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ^wF@6e7/&  
1.6 特定设计的公式技术 <W51oO  
1.7 交互式绘图 =x0"6gTz>  
2. 光学薄膜理论基础 abaQJ|  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 {9Mdt`WL  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 sIRrEea  
3. 材料管理 :.S41S   
3.1 材料模型 H'0*CiHes  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ]X: rby$  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 oiv2rOFu  
3.4 基板光学常数的提取 %wjB)Mae  
4. 光学薄膜设计优化方法 S`c]Fc  
4.1 参考波长与g ?gR\A8:8  
4.2 四分之一规则 22/?JWL>  
4.3 导纳与导纳图 }1]!#yMfq  
4.4 斜入射光学导纳 `,-
hG  
4.5 光学薄膜设计的进展 LbV]JP  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ]PzTl {]  
4.6.1 优化目标设置 P"=UI$HN  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） *2V
p4  
4.6.3 膜层锁定和链接 ?]\W8)  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 LA+$_U"Jk  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 o?va#/fk  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Wl !!5\  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 $uUb$8Bu  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 1V**QSZ1  
5.5 如何在Function中编写脚本 1>@]@ST[:  
6. 光学薄膜系统案例 F/h:&B:;  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 n.a=K2H:V  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 => uVp  
6.3 Stack应用范例说明 GIC"-l1\  
7. 薄膜性能分析 ?BDlB0jxzi  
7.1 电场分布 O&3r*vd  
7.2 公差与灵敏度分析 y/@;c)1b9  
7.3 反演工程 6>=-/)p}  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 Ql q#Zdru  
8. 真空技术 -yl4tW  
8.1 常用真空泵介绍 8)W?la8'p  
8.2 真空密封和检漏 (pE\nuA\  
9. 薄膜制备技术 z^P* :  
9.1 常见薄膜制备技术 T3G/v)ufd  
10. 薄膜制备工艺 Th~3mf #  
10.1 薄膜制备工艺因素 8g[(nxI~  
10.2 薄膜均匀性修正技术 +(z_"[l"  
10.3 光学薄膜监控技术 L,L~ .E  
11. 激光薄膜 (RDa,
&  
11.1 薄膜的损伤问题 ez^*M:K  
11.2 激光薄膜的制备流程 o5=)~D{/G3  
11.3 激光薄膜的制备技术 ~jp!"f  
12. 光学薄膜特性测量 %UUp=I  
12.1 薄膜光谱测量 3^02fy  
12.2 薄膜光学常数测量 5U-p'c9IC  
12.3 薄膜应力测量 *or2  
12.4 薄膜损伤测量 :$M9XZ~\  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 a%Z4_ToLZ  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Sl. KLc@@  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 ]k'#g Z$  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 @4/~~  
MtpU~c  
VM-qVd-  
m4Phn~>Gg  
目录 6\,DnO   
Preface 1 ,zAK3d&h
j  
内容简介 2 }zkL[qu;  
目录 i BKE\SWu  
1  引言 1 -T
zI>Fz  
2  光学薄膜基础 2 RNv{n mf  
2.1  一般规则 2 bGZhUEq  
2.2  正交入射规则 3 !dfS|BA]  
2.3  斜入射规则 6 *F\T}k7  
2.4  精确计算 7 S
mqr q  
2.5  相干性 8 o,?!"*EP  
2.6 参考文献 10
K-2.E  
3  Essential Macleod的快速预览 10 4*0:bhhhf_  
4  Essential Macleod的特点 32 $R A4U<  
4.1  容量和局限性 33 ]$m#1Kj  
4.2  程序在哪里？ 33 |rr$U  
4.3  数据文件 35 t[]['Iosd  
4.4  设计规则 35 2wB.S_4"-<  
4.5  材料数据库和资料库 37 opm?':Qst  
4.5.1材料损失 38 zW%>"y  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 %/UV_@x&  
4.5.2 材料库 41 X}zX`]:I'  
4.5.3导出材料数据 43 /C*~/}  
4.6  常用单位 43 +mJ :PAy4  
4.7  插值和外推法 46 69t7=r  
4.8  材料数据的平滑 50 k0H?9Z4k5  
4.9 更多光学常数模型 54 4^0d)+Ff  
4.10  文档的一般编辑规则 55 8K|J:[7  
4.11 撤销和重做 56 TRF]i/Bs  
4.12  设计文档 57 Ap11b|v  
4.10.1  公式 58 E)C.eW /  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ! G*&4V3Mg  
4.10.3  沉积密度 59 ;$vLq&(}  
4.10.4 平行和楔形介质 60 nAIH`L"X  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 !cRfZ  
4.10.4  性能 61 gzVtxDh  
4.10.5  保存设计和性能 64 Z8&4z.6_  
4.10.6  默认设计 64 dX_!0E[c  
4.11  图表 64 7sXy`+TZ->  
4.11.1  合并曲线图 67 D,c!#(v cK  
4.11.2  自适应绘制 68 tS?a){^:c  
4.11.3  动态绘图 68 j*tk(o}qG  
4.11.4  3D绘图 69 8V6=i'GK  
4.12  导入和导出 73 A/!<kp{S  
4.12.1  剪贴板 73 y&1%1 #8F  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 2Oyy`k  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 #X#8ynt  
4.13  背景 77 qv *3A?uzr  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 K'x4l,rq  
4.15  生成Rugate 84 St6aYK  
4.16  参考文献 91 q<n[.u1@  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 a*D,*C5}  
5.1  Jobs 92 9*4 .  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 YnSbw3U.I  
5.3  输入材料 94 OFL
|RLiD  
5.4  设计数据文件夹 95 >L^xlm%7o  
5.5  默认设计 95 gdl| ^*tc  
6  细化和合成 97 S"zk!2@C  
6.1  优化介绍 97 a>U6Ag<  
6.2  细化 (Refinement) 98 yk<VlS  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ba8 6 N  
6.4  目标和评价函数 101 bMsECA&  
6.4.1  目标输入 102  @@Q6TB  
6.4.2  目标 103 )u0O_R  
6.4.3  特殊的评价函数 104 s2^B(wP  
6.5  层锁定和连接 104 \^
9pW 2v  
6.6  细化技术 104 t)} \9^Uo  
6.6.1  单纯形 105 FY8!g'.Oe  
6.6.1.1 单纯形参数 106 FqwIJ|ct  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 W"Z#Fs{n
8  
6.6.2.1 Optimac参数 108 X]!D;7^  
6.6.3  模拟退火算法 109 je,c7ZFO  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ZYa\"zp-  
6.6.4  共轭梯度 111 b,Ke>.m  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 tw<P)V\h  
6.6.5  拟牛顿法 112 }#6xFTH  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 \,R!S/R#  
6.6.6  针合成 113 &cc9}V)M  
6.6.6.1 针合成参数 114 zT7"VbP  
6.6.7 差分进化 114 BqB|Fo  
6.6.8非局部细化 115 q jz3<`7-  
6.6.8.1非局部细化参数 115 (rcMA>2=  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 4&{!M _  
6.7.1 　细化 116 a8Uk[^5  
6.7.2　 合成 117 d)tiO2W  
6.8  参考文献 117 3+(z_!Qh  
7  导纳图及其他工具 118 ,?(ciO)  
7.1  简介 118 3z3_7XI  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118  $:EG%jl  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ? %(spV  
7.2.2  导纳图 120 ^m%52Tm h  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 [b/o$zR  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 dJi|D  
7.5  斜入射导纳图 141 V_"f|[1  
7.6  对称周期 141 ?pG/m%[  
7.7  参考文献 142 G\=_e8(  
8  典型的镀膜实例 143 g^l RG3a  
8.1  单层抗反射薄膜 145 W~ruN4q.  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 OlY$v@|  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 1~\M!SQ)  
8.4  W-膜层 148 {@.Vh
]  
8.5  V-膜层 149 pRi<cO  
8.6  V-膜层高折射基底 150 @iLIU}+  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 K_ke2{4Jm  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ->gZ)?Fqy  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Ck'aHe22'  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 0L#/lDNk  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 uMmXs%9T  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 h<x4YB5Mj  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 +Xy*?5E;C  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 sKL:p3r  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 [6tSYUZs  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 lAi2,bz"  
8.17  1/4波长堆栈 162 (sTuG}  
8.18  陷波滤波器 163 GF$`BGW  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 igC_)C^i>  
8.20  褶皱 165 $`J_:H%  
8.21  消偏振分光器1 169 _[h8P9YI4  
8.22  消偏振分光器2 171 szmmu*F,U:  
8.23  消偏振立体分光器 172 $}o b,i^W  
8.24  消偏振截止滤光片 173 .iwZ*b{  
8.25  立体偏振分束器1 174 7cTk@Gq  
8.26  立方偏振分束器2 177 ?cy4&]s  
8.27  相位延迟器 178 s:>\/[*>0c  
8.28  红外截止器 179 e'9r"<>i  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Y.6SOu5$]  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ('[TLHP  
8.31  55层短波带通滤波器 182 </`yd2>
 
8.32  47 红外截止器 183 9Ul(GI(  
8.33  宽带通滤波器 184 PBjmGwg7  
8.34  诱导透射滤波器 186 PoSpkJH  
8.35  诱导透射滤波器2 188 PkuTg";  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 >SbK.Q@ei  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ]d}0l6  
8.35  增益平坦滤波器 193 @.C{OSHE  
8.38  啁啾反射镜 1 196 c3TKl/  
8.39  啁啾反射镜2 198 x.mrCJn)  
8.40  啁啾反射镜3 199 ~ 5"JzT  
8.41  带保护层的铝膜层 200 uBrMk  
8.42  增加铝反射率膜 201 KzUlTl0  
8.43  参考文献 202 RW'nUL?_\  
9  多层膜 204 KvFMs\o6p  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 <.K4JlbT  
9.2  内部透过率 204 [^YA=Khu  
9.3 内部透射率数据 205 ,F6=b/eZ  
9.4  实例 206 b\7iY&.C|  
9.5  实例2 210 ~nLN`Hd  
9.6  圆锥和带宽计算 212 :iWS\G^U  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 /#NYi,<{X  
10  光学薄膜的颜色 216 (rtY!<|p  
10.1  导言 216 W#fZ1E6  
10.2  色彩 216 0pb'\lA  
10.3  主波长和纯度 220 68fiG  
10.4  色相和纯度 221 {y=W6uP  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 [(kB 5 a  
10.6 色差 226 K BE Ax3  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 75T_Dx(H  
10.8  颜色渲染指数 234 VXBY8;+Yp  
10.9  色差计算 235 CbBSFKM  
10.10  参考文献 236 .R*!aK  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 rHge~nY<  
11.1  短脉冲 238 lA(Q@yEW  
11.2  群速度 239 o Pci66  
11.3  群速度色散 241 }kHdK vZ  
11.4  啁啾(chirped) 245 $3T_.  
11.5  光学薄膜—相变 245 MB ju![n  
11.6  群延迟和延迟色散 246 n%^ LPD  
11.7  色度色散 246 q#A(gyy  
11.8  色散补偿 249 / O/`<  
11.9  空间光线偏移 256 gJiK+&8I  
11.10  参考文献 258 qLL,F  
12  公差与误差 260 Lf([dE1  
12.1  蒙特卡罗模型 260 fA%z*\  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 %=AxJp!a  
12.2.1  误差工具 267 9Y
a<My  
12.2.2  灵敏度工具 271 GDhE[of  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 9//+Bh  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ,r^M?>  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 OJN2z  
12.3  参考文献 276 jr7C}B-Fb^  
13  Runsheet 与Simulator 277 H7Uli]e3  
13.1  原理介绍 277 M2x["  
13.2  截止滤光片设计 277 4H5pr  
14  光学常数提取 289 do-ahl,  
14.1  介绍 289 b*;"q9u5  
14.2  电介质薄膜 289 |6UtW{2I/  
14.3  n 和k 的提取工具 295 bPD`+:A_  
14.4  基底的参数提取 302 K3uG2g(>2  
14.5  金属的参数提取 306 5(W"-A}  
14.6  不正确的模型 306 8zLY6@
  
14.7  参考文献 311 n,eJ$2!J  
15  反演工程 313 Qu5UVjbE,  
15.1  随机性和系统性 313 .6O"| Mqb  
15.2  常见的系统性问题 314 Q$obOEr2(  
15.3  单层膜 314 MS(JR  
15.4  多层膜 314 Wk:hFHs3  
15.5  含义 319 kt[:@Nda9  
15.6  反演工程实例 319 6Ao%>;e*  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ZT02"3F  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 =NbI%  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 (>mI'!4d  
16.1  光学性质的热致偏移 329 _|72r}j  
16.2  应力工具 335 "fg](Cp[z  
16.3  均匀性误差 339 S[tE&[$(p  
16.3.1  圆锥工具 339 ZYf2XI(_"  
16.3.2  波前问题 341 HL/bS/KX  
16.4  参考文献 343 bifS 2>c  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 s[8@*/ds  
17.1  引言 345 Q0Nyqhvi  
17.2  操作数 345 th6+
2&B6  
18  如何在Function中编写脚本 351 2=?tJ2E  
18.1  简介 351 >0{S  
18.2  什么是脚本？ 351 '(f/~"9B  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351
Rwr 2gMt7  
18.4  基础 352 h' !imQ  
18.4.1  Classes（类别） 352 @fuM)B1"  
18.4.2  对象 352 =%zLh<3v  
18.4.3  信息（Messages） 352 gPAX4'
 
18.4.4  属性 352 "cTncL  
18.4.5  方法 353 "Jjs"7  
18.4.6  变量声明 353 ^kST  
18.5  创建对象 354 {lth+{&L#  
18.5.1  创建对象函数 355 6#j$GH *  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 I@Xn3oN  
18.5.3 丢弃对象 356 &V>fYgui  
18.5.4  总结 356 %{6LUn  
18.6  脚本中的表格 357 2<mW\$  
18.6.1  方法1 357 R),zl_d_  
18.6.2  方法2 357 C"lJl k9g^  
18.7 2D Plots in Scripts 358 56l@a{  
18.8 3D Plots in Scripts 359 $+}+zZX5  
18.9  注释 360 +n}$pM|NKU  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 DF6c|  
18.11  一个更高级的脚本 362 ~OePpa\  
18.12  <esc>键 364 T32BnmB{  
18.13 包含文件 365 <8UYhGK  
18.14  脚本被优化调用 366 1b8p~-LsU  
18.15  脚本中的对话框 368 O4<g%.HC6  
18.15.1  介绍 368 RtG}h[k/X  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 b|SE<\  
18.15.3  输入框函数 370 (;. AS  
18.15.4  自定义对话框 371 `si#aU  
18.15.5  对话框编辑器 371 E&Qi@Ty  
18.15.6  控制对话框 377 1Y_w5dU  
18.15.7  更高级的对话框 380 jkiTj~WE-  
18.16 Types语句 384 B12$I:x`  
18.17 打开文件 385 H"2uxhdLK3  
18.18 Bags 387 "o& E2#  
18.13  进一步研究 388 Ld^GV  
19  vStack 389 vaf&X]p  
19.1  vStack基本原理 389 569}Xbc/  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 QrApxiw  
19.3  五棱镜 393 cNzt%MjP  
19.4 光束距离 396 2!N8rHRt  
19.5 误差 399 z9W`FBg  
19.6  二向分色棱镜 399 = sAn,ri  
19.7  偏振泄漏 404 3cj3u4y  
19.8  波前误差—相位 405 \yrisp#`  
19.9  其它计算参数 405 \b}~2oX  
20  报表生成器 406
@{h?+ d  
20.1  入门 406 @1zQce
>  
20.2  指令(Instructions) 406 \qsw"B*tv`  
20.3  页面布局指令 406 OT %nrzP  
20.4  常见的参数图和三维图 407 uGdp@]z&8Q  
20.5  表格中的常见参数 408 dQezd-y*  
20.6  迭代指令 408 K[ .JlIP  
20.7  报表模版 408 _Fp>F  
20.8  开始设计一个报表模版 409 IB.yU,v  
21  一个新的project 413 5)1+~B  
21.1  创建一个新Job 414 A5#y?Aq  
21.2  默认设计 415 NV4g~+n  
21.3  薄膜设计 416 y0v]N  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Ct$82J  
21.5  显色指数计算 422 0ZAj=u@O  
21.6  电场分布 424 PXP`ZLF  
后记 426 Z.Rb~n&  
E04l|  
]O:M$ $  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 yh;Y,;4  
^[TV;9I*  
《Essential Macleod中文手册》 8F;>5i  
Hv#q:R8  
目  录 B%<e FFV\  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 cu#e38M&eE  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 ,S[K{y<
 
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 .uZ
7 -l  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 @
%tXFizh  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 5''*UFIF1  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 exR^/|BR  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120
&ju-  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ty1fcdFZM  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 1uG=`k8'k  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 q/@dR{-  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 XL< )v_  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 GA^mgm"O  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 +Al>2~  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 O@U?IF$  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 gqiXmMm:9  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 #JNy  
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价  格：400元