[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 8b(!k FxD  

图片:w800

-_N)E ))G  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 vFv3'b$;G  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ztll}  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 vB0RKk}d5  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 [?0d~Q(R#  
1. Essential Macleod软件介绍 0~Gle:  
1.1 介绍软件 5's~>up&  
1.2 创建一个简单的设计 EGVM)ur  
1.3 绘图和制表来表示性能 A8r^)QJP{  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 H t(n%;<  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 3Q^fVn$tk  
1.6 特定设计的公式技术 GVGlVAo|@  
1.7 交互式绘图 9+=gke  
2. 光学薄膜理论基础 }baR5v  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 pzZk\-0R  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 d+eZub94U  
3. 材料管理 Vvp[P>  
3.1 材料模型 3FE(}G  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 (p#
0)C  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 4?\:{1X=  
3.4 基板光学常数的提取 >l']H*&B<  
4. 光学薄膜设计优化方法 };L ^w:  
4.1 参考波长与g ULJmSe  
4.2 四分之一规则 V!_71x\-Q  
4.3 导纳与导纳图 u\yVR$pQ  
4.4 斜入射光学导纳 2,q}Nq  
4.5 光学薄膜设计的进展 }_9,w;M$  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能
=FP0\cQ.  
4.6.1 优化目标设置 co8"sz0(U  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）
as yZe  
4.6.3 膜层锁定和链接 4<dcB@v  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 >Gml4vGK  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 I#F!N6;  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 8.AR.o  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 =@&cHY  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 1\*\?\T>_  
5.5 如何在Function中编写脚本  {^a36i  
6. 光学薄膜系统案例 "TyJP[/  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 +ZMls [  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 G2bDf-1ew  
6.3 Stack应用范例说明 *iBTI+"]  
7. 薄膜性能分析 )SF}2?7e  
7.1 电场分布 d\{>TdyF  
7.2 公差与灵敏度分析 ,l YE  
7.3 反演工程 2Y\ d<.M  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 S8[=S  
8. 真空技术 i<kD  
8.1 常用真空泵介绍 4fk8*{Y  
8.2 真空密封和检漏 eV:9y  
9. 薄膜制备技术 2WX7nK;I  
9.1 常见薄膜制备技术 g9D^)V  
10. 薄膜制备工艺 m7a#qs;,  
10.1 薄膜制备工艺因素 gI^oU4mq  
10.2 薄膜均匀性修正技术 )a9 ]US^  
10.3 光学薄膜监控技术 9EDfd NN  
11. 激光薄膜 g
8qgk:}  
11.1 薄膜的损伤问题 wN1niR'  
11.2 激光薄膜的制备流程 3vhnwDcK  
11.3 激光薄膜的制备技术 N{
Z  H  
12. 光学薄膜特性测量 $vC1 K5sLk  
12.1 薄膜光谱测量 wO ?+Nh  
12.2 薄膜光学常数测量 _vSn`  
12.3 薄膜应力测量 k.("3R6v:  
12.4 薄膜损伤测量 dm0QcW4  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 ]8q3>  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 eSWLrryY  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 O5$/55PI  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 p' M%XBu  
G9g1hie@%  
JJ;[,  
.CL^BiD.D  
目录 mPI8_5V8]  
Preface 1 MZ Aij  
内容简介 2 hX`}Q4(k  
目录 i 'smWLz}  
1  引言 1 9Gv[8'I  
2  光学薄膜基础 2 @d Jr/6Yx  
2.1  一般规则 2 :Y9N
Lbv  
2.2  正交入射规则 3 !vG'J\*xc  
2.3  斜入射规则 6 I%- " |]$  
2.4  精确计算 7 T,| 1g6  
2.5  相干性 8 i4^o59}8  
2.6 参考文献 10 2M#r]  
3  Essential Macleod的快速预览 10 /|xra8?H
[  
4  Essential Macleod的特点 32 0-~\ W(  
4.1  容量和局限性 33 D8 hr?:I9  
4.2  程序在哪里？ 33 bh^LIU  
4.3  数据文件 35 ^i:`ZfA#
 
4.4  设计规则 35 1
V8-^  
4.5  材料数据库和资料库 37 6iCrRjY*  
4.5.1材料损失 38 K|dso]b/  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 0eK*9S]  
4.5.2 材料库 41 %Gt.m  
4.5.3导出材料数据 43 z5)s/;Sc  
4.6  常用单位 43 <.Nx[!'~&d  
4.7  插值和外推法 46 \&H nKhI  
4.8  材料数据的平滑 50 -_`>j~  
4.9 更多光学常数模型 54 5 ~TdD6}  
4.10  文档的一般编辑规则 55 jBegh9KHq  
4.11 撤销和重做 56 R {-5Etv  
4.12  设计文档 57 ],P;WPU  
4.10.1  公式 58 ,3@#F/c3i~  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 7Hm3;P.  
4.10.3  沉积密度 59 oWYmj=D~2z  
4.10.4 平行和楔形介质 60 y@\V+  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 27;ci:5  
4.10.4  性能 61 aH^RoG}  
4.10.5  保存设计和性能 64 6`f2-f9%iq  
4.10.6  默认设计 64 l
sJnI|  
4.11  图表 64 Z)jw|T'X
 
4.11.1  合并曲线图 67 lT(oL|{#P  
4.11.2  自适应绘制 68 1Tu *79A  
4.11.3  动态绘图 68 qh`t-  
4.11.4  3D绘图 69 5}`_x+$%(`  
4.12  导入和导出 73 OF\rgz
 
4.12.1  剪贴板 73 I'|$}/\`  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 L:FoSCN Y(  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 )I3NeKWz  
4.13  背景 77 fMOU
$0]$<  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 |+T1XYG5  
4.15  生成Rugate 84 V O3x~E  
4.16  参考文献 91 s0PrbL%_`  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 g1jTy7g?  
5.1  Jobs 92 t+eVR8  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 () j=5KDu  
5.3  输入材料 94 3+XOZh8  
5.4  设计数据文件夹 95 ra o[VZ  
5.5  默认设计 95 ayiu,DXx  
6  细化和合成 97 rb|U;)C  
6.1  优化介绍 97 zzxGAVu  
6.2  细化 (Refinement) 98 K"r*M.P>  
6.3  合成 (Synthesis) 100 kXf'5p1  
6.4  目标和评价函数 101 ;aw=MV  
6.4.1  目标输入 102 VY3&  
6.4.2  目标 103 XHK70: i  
6.4.3  特殊的评价函数 104 E@ESl0a;  
6.5  层锁定和连接 104 2RX!V@z.G  
6.6  细化技术 104 bua+I;b  
6.6.1  单纯形 105 zzyHoZJP  
6.6.1.1 单纯形参数 106 gXjV?"^kUl  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 !_"fP:T>  
6.6.2.1 Optimac参数 108 B&@?*^.  
6.6.3  模拟退火算法 109 nVi[  
6.6.3.1　模拟退火参数 109
[Nk3|u`h  
6.6.4  共轭梯度 111 ~m$Y$,uH  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /AW=5Ck-#  
6.6.5  拟牛顿法 112 9M:O0)s  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 B#M5}QT|2  
6.6.6  针合成 113 mFi&YpHu3  
6.6.6.1 针合成参数 114 0|a(]a}V*j  
6.6.7 差分进化 114 Qc pm!  
6.6.8非局部细化 115 } q$ WvY/  
6.6.8.1非局部细化参数 115 #E&80#Z5  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 `b^Ru+(dM  
6.7.1 　细化 116 ]bK=FIK2  
6.7.2　 合成 117 JhLgCnm  
6.8  参考文献 117 lR(+tj)9uO  
7  导纳图及其他工具 118 D ^x-^6^  
7.1  简介 118 VSSu&Q  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 s#WAR]x0x  
7.2.1  四分之一波长规则 119 'L8' '(eZ^  
7.2.2  导纳图 120 eN^qG 42  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 )/wk( O+  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 sashzVwJ-=  
7.5  斜入射导纳图 141 vMm1Z5S/  
7.6  对称周期 141 |y2w9n0D  
7.7  参考文献 142 3h *!V6%q  
8  典型的镀膜实例 143 6#HK'7ClL  
8.1  单层抗反射薄膜 145 v~^{{O  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 {$wjO7Glp  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 o:_Xv.HRZo  
8.4  W-膜层 148 XR;eY:89  
8.5  V-膜层 149 +>r/0b  
8.6  V-膜层高折射基底 150 +w+}b^4  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 BYMi6wts  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 cj1cZ-  
8.9  四层抗反射薄膜 153 /|D
*w^>  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 <x<"n t  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 @]ytla>d  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 {\:{[{qF  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157
-$dXE+&   
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ])nPPf  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 E6pMT^{K  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 JW3B'_0  
8.17  1/4波长堆栈 162 MpF$xzh  
8.18  陷波滤波器 163 p{j.KI s7  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 c1E'$- K@  
8.20  褶皱 165 id1s3b;  
8.21  消偏振分光器1 169 L2[f]J%  
8.22  消偏振分光器2 171 #6CC3TJ'k  
8.23  消偏振立体分光器 172 3GUZ;jdn  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Kq;8=xP[  
8.25  立体偏振分束器1 174 ybY]e; v*O  
8.26  立方偏振分束器2 177
&
M.66O@  
8.27  相位延迟器 178 pLLGus+W  
8.28  红外截止器 179 b)e *$)  
8.29  21层长波带通滤波器 180 :gep:4&u  
8.30  49层长波带通滤波器 181 &2{tF  
8.31  55层短波带通滤波器 182 s=0BMPDgm  
8.32  47 红外截止器 183 z}*9uZ  
8.33  宽带通滤波器 184 oz}+T(@O  
8.34  诱导透射滤波器 186 !X;1}  
8.35  诱导透射滤波器2 188 /(.mp<s0  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 /assq+H  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 CD~z=vlK-  
8.35  增益平坦滤波器 193 a-|*?{o  
8.38  啁啾反射镜 1 196 yrC7F`.  
8.39  啁啾反射镜2 198 3_MS.iM  
8.40  啁啾反射镜3 199 '.81zpff  
8.41  带保护层的铝膜层 200 x7eQ2h6O  
8.42  增加铝反射率膜 201 @tZ&2RY1  
8.43  参考文献 202 (q(~de  
9  多层膜 204 .O0+H+  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 K>DRJz  
9.2  内部透过率 204 !BOY@$Y  
9.3 内部透射率数据 205 c+hQSm|bf)  
9.4  实例 206 O8j_0  
9.5  实例2 210 qa0 yg8,<  
9.6  圆锥和带宽计算 212 8[E!E)
4M  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 &C"L  
10  光学薄膜的颜色 216 hHT_V2*  
10.1  导言 216 U qFv}VsnF  
10.2  色彩 216 \uza=e  
10.3  主波长和纯度 220 x6e}( &p*  
10.4  色相和纯度 221 {;:/-0s  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 1ke g
9]  
10.6 色差 226 l@\#Ywz  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 !g(KK|`,m  
10.8  颜色渲染指数 234 A*}.EClH  
10.9  色差计算 235 l%1!a  
10.10  参考文献 236 er!DYv  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ^]W<X"H+Z  
11.1  短脉冲 238 ;3B1_vo9  
11.2  群速度 239 4'!c*@Y  
11.3  群速度色散 241 =[@zF9  
11.4  啁啾(chirped) 245 5yzv|mrx  
11.5  光学薄膜—相变 245 urMG*7i <c  
11.6  群延迟和延迟色散 246 \\u<
S=G  
11.7  色度色散 246 /Q2mMSK1h  
11.8  色散补偿 249 {O7X`'[  
11.9  空间光线偏移 256 +gJ8{u!=k  
11.10  参考文献 258 w(/aiV  
12  公差与误差 260 CkdP#}f  
12.1  蒙特卡罗模型 260 O4^8jK}  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 }}>q2y  
12.2.1  误差工具 267 RHO(?8"_  
12.2.2  灵敏度工具 271 [`c^4E  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 A<qTg`gA  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 qT`k*i?  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 /.o^R6  
12.3  参考文献 276 ]jmL]Ny^  
13  Runsheet 与Simulator 277 *Of4o  
13.1  原理介绍 277 /q5v"iX]T  
13.2  截止滤光片设计 277 RkBb$q9F]  
14  光学常数提取 289 JQ6zVS2SSS  
14.1  介绍 289 9&` 2V  
14.2  电介质薄膜 289 O0pDd4)"  
14.3  n 和k 的提取工具 295 NR5oIKP?  
14.4  基底的参数提取 302 fi$-;Gz  
14.5  金属的参数提取 306 I/L_@X<*r  
14.6  不正确的模型 306 Qg[/%$x.  
14.7  参考文献 311 4bw4c
qY;  
15  反演工程 313 EodQ*{l  
15.1  随机性和系统性 313 2L} SJUk*  
15.2  常见的系统性问题 314 i-6F:\;  
15.3  单层膜 314 2|}+T6_q  
15.4  多层膜 314 -U/c\-~fU  
15.5  含义 319 fH>NJK;  
15.6  反演工程实例 319 \3S8 62B7  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 <\}KT*Xp  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 $l|qk z  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 t`,`6
@d  
16.1  光学性质的热致偏移 329 7U2J xE  
16.2  应力工具 335 o\3L}Y  
16.3  均匀性误差 339 I| b2acW  
16.3.1  圆锥工具 339 HFaj-~b  
16.3.2  波前问题 341 ,Qnd3[2[  
16.4  参考文献 343 Gch[Otq]%  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 @>)r}b  
17.1  引言 345 vWf; 'j  
17.2  操作数 345 K
NLfp1!  
18  如何在Function中编写脚本 351 |>JS!NM I  
18.1  简介 351 a8 mVFm  
18.2  什么是脚本？ 351 R5 9S@MsuD  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 kZerKP  
18.4  基础 352 %^>ju;i^O  
18.4.1  Classes（类别） 352 ktdW`R\+  
18.4.2  对象 352 M#=] k  
18.4.3  信息（Messages） 352 ?Vdia:  
18.4.4  属性 352 o)2W`i&  
18.4.5  方法 353 2g>SHS@1>  
18.4.6  变量声明 353 Oms. e  
18.5  创建对象 354 tGl;@V@Qj  
18.5.1  创建对象函数 355 
O2BDL1o  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 }=8B*  
18.5.3 丢弃对象 356 66I"=:  
18.5.4  总结 356 Y5FbU  
18.6  脚本中的表格 357 \u>"s   
18.6.1  方法1 357 f1_<G  
18.6.2  方法2 357 g;8jK8Kh  
18.7 2D Plots in Scripts 358 $W9{P;  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ^,;z|f'%*  
18.9  注释 360 9J>&29@us0  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 =<X?sj5  
18.11  一个更高级的脚本 362 Ffv`kn@  
18.12  <esc>键 364 =IW?WIXk  
18.13 包含文件 365 /Ya_>+oo  
18.14  脚本被优化调用 366 [h34d5'w  
18.15  脚本中的对话框 368 /U"CO8Da  
18.15.1  介绍 368 PV4(hj  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 TT4./R:  
18.15.3  输入框函数 370 f/Hm{<BY  
18.15.4  自定义对话框 371 ( 2n>A D_  
18.15.5  对话框编辑器 371 ^*S)t. "  
18.15.6  控制对话框 377 /`6ZAom9  
18.15.7  更高级的对话框 380 V%YiAr>  
18.16 Types语句 384 mqAWL:VvQ7  
18.17 打开文件 385 `^FGwx@  
18.18 Bags 387 RQ'H$
r.7g  
18.13  进一步研究 388 0DmMG  
19  vStack 389 r]l!WRn  
19.1  vStack基本原理 389 mysetv&5  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 x-AZ%)N9  
19.3  五棱镜 393 l-s!A(l  
19.4 光束距离 396 hDcEGU_  
19.5 误差 399 "(3BvMA&!9  
19.6  二向分色棱镜 399 vt;{9\Y
  
19.7  偏振泄漏 404 V {pj~D.E  
19.8  波前误差—相位 405 _/s(7y!  
19.9  其它计算参数 405 u\LFlX0sO  
20  报表生成器 406 ]"1`+q6i  
20.1  入门 406 6
C-/`>m  
20.2  指令(Instructions) 406 y6IXdW  
20.3  页面布局指令 406 f~dd3m('  
20.4  常见的参数图和三维图 407 \z$p%4`E@  
20.5  表格中的常见参数 408 Ka6,<C o  
20.6  迭代指令 408 )~+e`q  
20.7  报表模版 408 F^5?\  
20.8  开始设计一个报表模版 409 NL
rPSqz  
21  一个新的project 413 `S2[5i  
21.1  创建一个新Job 414 T.We: ,{  
21.2  默认设计 415 Xy@7y[s]  
21.3  薄膜设计 416 *+\SyO  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ( @3\`\X  
21.5  显色指数计算 422 59%tXiO  
21.6  电场分布 424 AwTJJ0>  
后记 426 Z7_ zMM  
3q'&j,,
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W ]Nv33i [  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 }yJ$SR]t  

]6{*^4kX  
《Essential Macleod中文手册》 6X\ 2GC9  
FI<q@HF  
目  录 TP"1\O  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Uv?|G%cD-  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3
KLL;e/Gf  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 e+j)~RBnu3  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 9:!gI|C  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 4lM8\Lr  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 L9@&2?k  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 9!Ar`Io2@  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 wo3wtx  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 +8#_59;x  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 l%`F&8K  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 TD9;kN1`  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 1I*7SkgKv  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 `KCh*i  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 *$"gaXI  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 (lGaPMEU}  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 BA:
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价  格：400元