[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 loLQ@?E  
+I;b,p  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 @'/
\O-  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 >|/NDF=\s  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Siq2Glg_  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 k/u6Cw0/  
1. Essential Macleod软件介绍 KArR.o }  
1.1 介绍软件 gieTkZ  
1.2 创建一个简单的设计 [C,<Q  
1.3 绘图和制表来表示性能 i"r&CS)sT  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 _ohZTT%l  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） py]m^)yc  
1.6 特定设计的公式技术 }'b3'/MJ  
1.7 交互式绘图 wbyY?tH  
2. 光学薄膜理论基础 +=)< Su.  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 g>1yQ  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 z+@aQ@75  
3. 材料管理 |Z0?  
3.1 材料模型 SWNi@  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 F@& R"-  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 \|F4@  
3.4 基板光学常数的提取 (Ub=sC  
4. 光学薄膜设计优化方法 o )G'._  
4.1 参考波长与g [V|,O'X ~  
4.2 四分之一规则 +\fr3@Yc  
4.3 导纳与导纳图 9gZMfP  
4.4 斜入射光学导纳 E3X:{h/  
4.5 光学薄膜设计的进展 2%m H  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 1`^l8V(  
4.6.1 优化目标设置 hq6B pE  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） AE={P*g  
4.6.3 膜层锁定和链接 w4Qqo(  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 v~H1Il_+  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 .{1G"(z  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 1XSA3;ZEc  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 9z$]hl  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 #v0"hFOH,  
5.5 如何在Function中编写脚本 X,C&nqVFm8  
6. 光学薄膜系统案例 `MAee8u'  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 w},' 1  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 g{.>nE^Sc5  
6.3 Stack应用范例说明 ! @{rkp  
7. 薄膜性能分析 lM86 *g 'l  
7.1 电场分布 ng0IR
J:3  
7.2 公差与灵敏度分析 w17\ \[  
7.3 反演工程 -wH#B<'  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 iS&~oj_-%  
8. 真空技术 ,24NMv7  
8.1 常用真空泵介绍 CoDu|M%  
8.2 真空密封和检漏 )G\23P  
9. 薄膜制备技术 L-hK(W!8pt  
9.1 常见薄膜制备技术 #+N\u*-S  
10. 薄膜制备工艺 G~1#kg  
10.1 薄膜制备工艺因素 8/,m8UOY  
10.2 薄膜均匀性修正技术 *%l&'+   
10.3 光学薄膜监控技术 XSyCT0f08  
11. 激光薄膜 9uV/G7Geq  
11.1 薄膜的损伤问题 Tf7$PSupP  
11.2 激光薄膜的制备流程 9yH95uaDF  
11.3 激光薄膜的制备技术 7}OzTup  
12. 光学薄膜特性测量 J~eY,n.6]  
12.1 薄膜光谱测量 |RDmY!9&  
12.2 薄膜光学常数测量 w$n\`rQ  
12.3 薄膜应力测量 ] e!CH <N  
12.4 薄膜损伤测量 !sQ$a#Ea  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 /e1m1B  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 C7[ge&  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 4!p~Mr[E  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 {Z 3t0F  
)A:2
y +  
W{O:j  
jIv%?8+%  
目录 3v)v92;  
Preface 1 u 'DM?mV:-  
内容简介 2 >8_#L2@  
目录 i py`RH)  
1  引言 1 `*cT79  
2  光学薄膜基础 2 Bj09?#~[  
2.1  一般规则 2 R#i|n<x  
2.2  正交入射规则 3 -fw0bL%0  
2.3  斜入射规则 6 <MZ$baK  
2.4  精确计算 7 lc>)7UF  
2.5  相干性 8 q$z#+2u  
2.6 参考文献 10 mA}-hR%  
3  Essential Macleod的快速预览 10 #mlTN3   
4  Essential Macleod的特点 32 AN7WMX  
4.1  容量和局限性 33 :#0uy1h  
4.2  程序在哪里？ 33 (mz5vzyw  
4.3  数据文件 35 _+g5;S5  
4.4  设计规则 35 .CdaOWM7  
4.5  材料数据库和资料库 37 La48M'u  
4.5.1材料损失 38 }dw`[{cm  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 C`+g:qT  
4.5.2 材料库 41 |!{Q4<  
4.5.3导出材料数据 43 :VP4|H#SP  
4.6  常用单位 43 Yr5A,-s  
4.7  插值和外推法 46 /tl/%:U*.  
4.8  材料数据的平滑 50 fN~kdm.  
4.9 更多光学常数模型 54 jK/2n}q&]  
4.10  文档的一般编辑规则 55 G,M &z>ub0  
4.11 撤销和重做 56 zqfv|3-!}  
4.12  设计文档 57 }1]/dCv  
4.10.1  公式 58 D.Rk{0se8  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 vK6YU9W~J  
4.10.3  沉积密度 59 >C y  
4.10.4 平行和楔形介质 60 r`XIn#o  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 |7]7~ 6l  
4.10.4  性能 61 WXu:mv,'e  
4.10.5  保存设计和性能 64 tW53&q\=  
4.10.6  默认设计 64 ,Q4U<`ds!  
4.11  图表 64 | qtdmm  
4.11.1  合并曲线图 67 "}Kvx{L8  
4.11.2  自适应绘制 68 A`<#}~A  
4.11.3  动态绘图 68 ;8/w'oe*j  
4.11.4  3D绘图 69 #P*%FgROl  
4.12  导入和导出 73 *@o@>  
4.12.1  剪贴板 73 26JP<&%L  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 '#$Y:/  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 'Wjuv9)/  
4.13  背景 77 Jfa=#`    
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Mf7Q+_!  
4.15  生成Rugate 84 }qmBn`3R  
4.16  参考文献 91 K];nM}<  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 R5 47  
5.1  Jobs 92 ,/6V^K  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 y[[f?rxz>  
5.3  输入材料 94 `?LQd2p  
5.4  设计数据文件夹 95 7IW:,=Zk8+  
5.5  默认设计 95 JPfNf3<@My  
6  细化和合成 97 B04%4N.g"X  
6.1  优化介绍 97 j*f%<`2`j  
6.2  细化 (Refinement) 98 &i"33.#]  
6.3  合成 (Synthesis) 100 )V~Fl$A  
6.4  目标和评价函数 101 9
|WBJ6  
6.4.1  目标输入 102 q"ba~@<BEl  
6.4.2  目标 103 =2uE\6Fl,  
6.4.3  特殊的评价函数 104 kRs[H xI3  
6.5  层锁定和连接 104 *zeY<6  
6.6  细化技术 104 wGa0w*$  
6.6.1  单纯形 105 pq_DYG]  
6.6.1.1 单纯形参数 106 R9&T0Qf  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ms'&.u&<  
6.6.2.1 Optimac参数 108 {Uxah  
6.6.3  模拟退火算法 109 ov: h4  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 w,TyV%b[_  
6.6.4  共轭梯度 111 !P/ ]o  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 S+H#^WS
t  
6.6.5  拟牛顿法 112 /+4Dq4{t)  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 6-va;G9Fc  
6.6.6  针合成 113 fZ$
<'(t  
6.6.6.1 针合成参数 114 }'$6EgX  
6.6.7 差分进化 114 nN>D=a"&F  
6.6.8非局部细化 115 ~J?O~p`&  
6.6.8.1非局部细化参数 115 uA=6 HpDB  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 nV38Mj2U  
6.7.1 　细化 116 '&Ox,i]t  
6.7.2　 合成 117 nP?=uGqCBq  
6.8  参考文献 117 7Z5,(dH>  
7  导纳图及其他工具 118 WI9'$hB\  
7.1  简介 118 9\3%5B7  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 YM{Q)115  
7.2.1  四分之一波长规则 119 zf$&+E-  
7.2.2  导纳图 120 h9
5C4jBE  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 i,rP/A^q  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 $UW!tg*U&  
7.5  斜入射导纳图 141 1Uz'=a  
7.6  对称周期 141 }hyK/QUCoN  
7.7  参考文献 142 l|O^yNS  
8  典型的镀膜实例 143 "BjQs<]%sF  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ^|xj.  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Dntcv|%u  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 +JZ<9,4  
8.4  W-膜层 148 ]_I<-}?;  
8.5  V-膜层 149 /b6Y~YbgU  
8.6  V-膜层高折射基底 150 L`FsK64@  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Hf+A52lrf  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152  /Z! ,1  
8.9  四层抗反射薄膜 153 gXI_S9z  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Djx9TBZ5  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 /eDah3%d  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 JfKhYRl  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 OdgfvHDgW  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 Uo(\1&?  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Rg)\o(J  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 g*t.g@B<2  
8.17  1/4波长堆栈 162 +A W6 >yV`  
8.18  陷波滤波器 163 ^T'+dGU`  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ^q"p8   
8.20  褶皱 165 $>'}6?C.  
8.21  消偏振分光器1 169 9;dP7o  
8.22  消偏振分光器2 171 C fQj7{  
8.23  消偏振立体分光器 172 %s$_KG!&  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Xn.zN>m
B  
8.25  立体偏振分束器1 174 e;x`C  
8.26  立方偏振分束器2 177 L6BHh_*E  
8.27  相位延迟器 178 "V~U{(Z  
8.28  红外截止器 179 +;#hED;8  
8.29  21层长波带通滤波器 180 o]n5pZ\\W<  
8.30  49层长波带通滤波器 181 }^G'oR1LF  
8.31  55层短波带通滤波器 182 t(lTXG  
8.32  47 红外截止器 183 Bx E1Ky8@A  
8.33  宽带通滤波器 184 r&}fn"H!  
8.34  诱导透射滤波器 186 *Dh.'bB!  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ^]'p927  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 +<:p`%  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ec1
snMY  
8.35  增益平坦滤波器 193 W~W^$A  
8.38  啁啾反射镜 1 196 GY,@jp|R  
8.39  啁啾反射镜2 198 {ZbeF#*"  
8.40  啁啾反射镜3 199 y$*?k0=ZX  
8.41  带保护层的铝膜层 200 )%;#~\A  
8.42  增加铝反射率膜 201 dge58A)Q  
8.43  参考文献 202 Ul@ZCv+  
9  多层膜 204 9foQ0#R  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 'BAe>r_Pn  
9.2  内部透过率 204 4TG|  
9.3 内部透射率数据 205 ;}f%bE  
9.4  实例 206 /qI80KVnN  
9.5  实例2 210 N$Gx$u3Cd  
9.6  圆锥和带宽计算 212 %Tsefs?_  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 wgLS9.  
10  光学薄膜的颜色 216 ":]O3 D{r  
10.1  导言 216 'ZT!a]4  
10.2  色彩 216 v8*Z
wF
  
10.3  主波长和纯度 220 kGc)Un?'{U  
10.4  色相和纯度 221 V$q%=Sip  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ct~lt'L\  
10.6 色差 226 51x^gX|  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 4 CX*,7LZ  
10.8  颜色渲染指数 234 XF^c(*5  
10.9  色差计算 235 EXa6"D  
10.10  参考文献 236 fbw{)SZ  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 wO8^|Yf  
11.1  短脉冲 238 +Ya-h~7;g#  
11.2  群速度 239 A*E4
hop[  
11.3  群速度色散 241 7{<F6F^P  
11.4  啁啾(chirped) 245 )QBsyN<x6  
11.5  光学薄膜—相变 245 cR@z^  
11.6  群延迟和延迟色散 246 J)jiI>  
11.7  色度色散 246 y9s5{\H  
11.8  色散补偿 249 C 2oll-kN  
11.9  空间光线偏移 256 !+>yCy$~_  
11.10  参考文献 258 SI;G|uO;/  
12  公差与误差 260 &-cI|  
12.1  蒙特卡罗模型 260 \Z+v\5nmO  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 9s*Lzi[}  
12.2.1  误差工具 267 /E]4N=T  
12.2.2  灵敏度工具 271 tD4IwX  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ,\=u(Y\I[  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 }FM<uBKW  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 H>DJ-lG(  
12.3  参考文献 276 Ce_Z &?  
13  Runsheet 与Simulator 277 ;quGy3  
13.1  原理介绍 277 `gss(o1}  
13.2  截止滤光片设计 277 v(: VUo]H  
14  光学常数提取 289 k*M{?4  
14.1  介绍 289 "{V,(w8Dt  
14.2  电介质薄膜 289 ,E>VYkoA  
14.3  n 和k 的提取工具 295 l^Lg"m2  
14.4  基底的参数提取 302 *JpEBtTv=5  
14.5  金属的参数提取 306 Fa/i./V2  
14.6  不正确的模型 306 P@5^`b|  
14.7  参考文献 311 ;<&s_C3  
15  反演工程 313 v>nJy~O]  
15.1  随机性和系统性 313 o9~qJnB/O  
15.2  常见的系统性问题 314 MfL q h  
15.3  单层膜 314 zJ9,iJyuD  
15.4  多层膜 314 yTDoS|B+)  
15.5  含义 319 omRd'\ RO  
15.6  反演工程实例 319 kb%W3c9HO  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 5;|9bWH  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 cnIy*!cJs  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 6&u,.
 
16.1  光学性质的热致偏移 329 -8pHjry'q  
16.2  应力工具 335 P&F)E
#Sa  
16.3  均匀性误差 339 F~DG:x~  
16.3.1  圆锥工具 339 JI*ikco-  
16.3.2  波前问题 341 S`6'~g  
16.4  参考文献 343 "
QlCcH`g  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 /kJ*WA?J  
17.1  引言 345 \`XJz{Lm]  
17.2  操作数 345 /60[T@Mz  
18  如何在Function中编写脚本 351 =x^I 5Pn  
18.1  简介 351 !t_,x=  
18.2  什么是脚本？ 351 O]PfQ  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 n!N;WL3k  
18.4  基础 352 UfkRY<H  
18.4.1  Classes（类别） 352 9m'[52{o  
18.4.2  对象 352 w{r->Phe  
18.4.3  信息（Messages） 352 Tbwq_3fK  
18.4.4  属性 352 t|y4kM  
18.4.5  方法 353 J-QQ!qa0  
18.4.6  变量声明 353 z$<6;2  
18.5  创建对象 354 /f6]XP\'`+  
18.5.1  创建对象函数 355 m9q%l_  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 [7Kn$OfP  
18.5.3 丢弃对象 356 L;`4"  
18.5.4  总结 356 -e)bq:T  
18.6  脚本中的表格 357 34?yQX{  
18.6.1  方法1 357 21WqLgT3 4  
18.6.2  方法2 357 Dr2h-  
18.7 2D Plots in Scripts 358 (dT!u8Oe  
18.8 3D Plots in Scripts 359 KYl^{F  
18.9  注释 360 3jn@ [ m  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 JRiuU:=J~`  
18.11  一个更高级的脚本 362 0 /kbxpih  
18.12  <esc>键 364 JZv]tJWq  
18.13 包含文件 365 2h:f6=)r/u  
18.14  脚本被优化调用 366 >3kR~:;  
18.15  脚本中的对话框 368 2+P3Sii  
18.15.1  介绍 368 '~f@p~P  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 P0Jd6"sS"  
18.15.3  输入框函数 370 .ClCP?HG  
18.15.4  自定义对话框 371 (Q4_3<G+  
18.15.5  对话框编辑器 371 [@y=%\%R  
18.15.6  控制对话框 377 {xykf7zp  
18.15.7  更高级的对话框 380 I{AU,  
18.16 Types语句 384 ps[6)d)o  
18.17 打开文件 385 M!hby31  
18.18 Bags 387 I/>IB  
18.13  进一步研究 388 <s2l*mc  
19  vStack 389 s7 KKH w  
19.1  vStack基本原理 389 zo5.}mr+  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 mQvKreo~  
19.3  五棱镜 393 |{jAMC0#  
19.4 光束距离 396 EGDE4n5>I  
19.5 误差 399 :aqh8bv  
19.6  二向分色棱镜 399 u}rot+)%  
19.7  偏振泄漏 404 R] [M_ r  
19.8  波前误差—相位 405 }ri*e2y)  
19.9  其它计算参数 405 ?% X9XH/!  
20  报表生成器 406 6nfkZvn  
20.1  入门 406 iR_Syk`G*A  
20.2  指令(Instructions) 406 otIJ[Mvyq  
20.3  页面布局指令 406 ^hHeH:@  
20.4  常见的参数图和三维图 407 0B4(t6o  
20.5  表格中的常见参数 408 Y) h%<J  
20.6  迭代指令 408 oto od  
20.7  报表模版 408 PVU"oz&T  
20.8  开始设计一个报表模版 409 bsP;  
21  一个新的project 413 F^NR qE  
21.1  创建一个新Job 414 =qtoDe  
21.2  默认设计 415 0V#t ;`Q3  
21.3  薄膜设计 416 vg.%.~!9  
21.4  误差的灵敏度计算 420 M$W#Q\<*#r  
21.5  显色指数计算 422 4d 3Znpf  
21.6  电场分布 424 eq+o_R}CS  
后记 426 JAb?u.,Ns_  
4QN;o%,  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 ThlJhTh<%4  
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《Essential Macleod中文手册》 u#M)i30j  
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目  录 +.lWck  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 4ufLP DH  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 u,akEvH~a  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 y9L#@   
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 _o?(t\B9{  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ]Z-oUO Z<k  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ~0-764%  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 rc$!$~|I3Z  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 &a=e=nR5  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 &7T H V  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 1D[P\r-  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 ij i.3-  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 <s>/< kW:  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 -k <9v.:  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Kyp0SZp[  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 e^NEj1  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 f4I#a&DO  
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价  格：400元