时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 Cu0 /TeEM
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ?f a/}|T
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 nF7Ozxm#
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 /ZAEvdO*P
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
特邀专家介绍
xEbcF+@ C3D1rS/I 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
J&lQ,T!?B 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要
S:Hg
=|R 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
]E, 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲
u\6:Txqq 1. Essential Macleod软件介绍
d=q2Or 1.1 介绍
软件 T;I a;<mfE 1.2 创建一个简单的设计
uYV#'% 1.3 绘图和制表来表示性能
3Y>!e# 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
La9dFe-uu{ 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
nL\BB& 1.6 特定设计的公式技术
XWK A0 1.7 交互式绘图
<x,$ODso 2. 光学薄膜理论基础
*ozeoX'5D 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
hMi`n6m 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
=T9QmEBm 3. 材料管理
YrA#NTB_o 3.1 材料模型
Zpg$:Rr 3.2 介质薄膜光学常数的提取
uQrD}%GI 3.3 金属薄膜光学常数的提取
xaejG/'iK 3.4 基板光学常数的提取
#p0vrQ;5f 4. 光学薄膜设计
优化方法
i:@00)V{, 4.1 参考
波长与g
!MoGdI-<r[ 4.2 四分之一规则
\
VJ3 4.3 导纳与导纳图
`ez_
{ 4.4 斜入射光学导纳
I9H+ $Wjd 4.5 光学薄膜设计的进展
2}t2k> 4.6 Macleod软件的设计与优化功能
vWwp'q 4.6.1 优化目标设置
$:SHZe 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
1)H+iN|im/ 4.6.3 膜层锁定和链接
C}#JvNyQ 5. Essential Macleod中各个模块的应用
)V} t(>V 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估
zuXJf+] 5.2 光通信用窄带滤光片模拟
gTm[ <Y 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
M~=9ym 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟
A@+pvC& 5.5 如何在Function中编写脚本
~gmj/PQ0 6. 光学薄膜系统案例
j$siCsF 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等
le`fRq8f& 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等
Js ~_8 6.3 Stack应用范例说明
WL+I)n8~ 7. 薄膜性能分析
3Jf_3c 7.1 电场分布
>`SIB; &>j 7.2 公差与灵敏度分析
`VwZDU~6 7.3 反演工程
"}Vow^vb 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
m onqaSF 8. 真空技术
|-%[Z 8.1 常用真空泵介绍
z`y!C3w< 8.2 真空密封和检漏
*{/BPc0* 9. 薄膜制备技术
w/#k.YE 9.1 常见薄膜制备技术
d@JjqE[ 10. 薄膜制备工艺
QGs\af 10.1 薄膜制备工艺因素
>S,yqKp37~ 10.2 薄膜均匀性修正技术
a"4j9cO 10.3 光学薄膜监控技术
&82Za% 11. 激光薄膜
QJ\
o"c 11.1 薄膜的损伤问题
tU.Y$%4 11.2 激光薄膜的制备流程
{}y"JbXMj 11.3 激光薄膜的制备技术
4f:B 2x{ 12. 光学薄膜特性测量
N^jQ\|A< 12.1 薄膜
光谱测量
Tq,Kel 12.2 薄膜光学常数测量
pqmtN*zV 12.3 薄膜应力测量
&Rdg07e;> 12.4 薄膜损伤测量
9(V12gn+lk 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
9@/X;zO
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书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
aSkH<5i`v
内容简介
#`?B: Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
FCgr 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
$F"'=+0 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
bz <f u SfLZVB 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
T{<riJ`O :c)N"EJlI2 目录
XEl-5-M" Preface 1
LVP2jTz 内容简介 2
uxLT*, 目录 i
*")Req 1 引言 1
gqJSz}' 2 光学薄膜基础 2
?Dm={S6 2.1 一般规则 2
K[r<-6TS 2.2 正交入射规则 3
P'MfuTtT& 2.3 斜入射规则 6
0N>NX?r 2.4 精确计算 7
H3CG'?{ _ 2.5 相干性 8
;+jz=9Q- 2.6 参考文献 10
d5jZ? 3 Essential Macleod的快速预览 10
/enlkZx=8 4 Essential Macleod的特点 32
BQTZt'p 4.1 容量和局限性 33
3Z/_}5%" 4.2 程序在哪里? 33
RC?gozBFJ 4.3 数据文件 35
:+#$=4 4.4 设计规则 35
W>W b|W 4.5 材料数据库和
资料库 37
>J(._K 4.5.1材料损失 38
a8nqzuI 4.5.1材料数据库和导入材料 39
5argw+2s4$ 4.5.2 材料库 41
b?i5C4=K 4.5.3导出材料数据 43
rMr:\M]t 4.6 常用单位 43
89n\$7Ff9 4.7 插值和外推法 46
%]G'u 4.8 材料数据的平滑 50
bji5X')~# 4.9 更多光学常数模型 54
[>--U)/ 4.10 文档的一般编辑规则 55
69< <pm,m 4.11 撤销和重做 56
m-?hHdO 4.12 设计文档 57
<OgwA$abl% 4.10.1 公式 58
Ql>bsr} 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
P! cfe@;<4 4.10.3 沉积密度 59
&FrUj>i 4.10.4 平行和楔形介质 60
"xWrYq'" 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
;Qn)~b~ 4.10.4 性能 61
m4\e`nl 4.10.5 保存设计和性能 64
xB4}9zN s 4.10.6 默认设计 64
nIZ;N!r=i 4.11 图表 64
0nr 5(4h 4.11.1 合并曲线图 67
J(>T&G; 4.11.2 自适应绘制 68
aFw \w>*^ 4.11.3 动态绘图 68
6&* z 4.11.4 3D绘图 69
okm
}%#| 4.12 导入和导出 73
-XASS% 4.12.1 剪贴板 73
@tT2o@2Y^ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
VEsIhjQ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
?i{/iH~Sf 4.13 背景 77
4yK{(!&i+ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
)B*D\9\Z 4.15 生成Rugate 84
>;Ag7Ex 4.16 参考文献 91
@bRKJPU9) 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
iWGn4p' 5.1 Jobs 92
g{6FpuA|0 5.2 创建一个新Job(工作) 93
9QP- ~V{$ 5.3 输入材料 94
/6y9u} 5.4 设计数据文件夹 95
6L<Y 5.5 默认设计 95
"%I<yUP]U 6 细化和合成 97
]A=yj@o$xN 6.1 优化介绍 97
w%1-_;.aU6 6.2 细化 (Refinement) 98
O\J{4EB@. 6.3 合成 (Synthesis) 100
N?EeT}m _ 6.4 目标和评价函数 101
d%Ls'[Y^_0 6.4.1 目标输入 102
3p1U,B} 6.4.2 目标 103
G)IK5zCDd 6.4.3 特殊的评价函数 104
b9 ;w3Ba 6.5 层锁定和连接 104
k3+LP7|* 6.6 细化技术 104
z[Ah9tM% 6.6.1 单纯形 105
prEI9/d" 6.6.1.1 单纯形
参数 106
;RK;kdZ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
i&TWIl8 6.6.2.1 Optimac参数 108
XvSng"f. 6.6.3 模拟退火算法 109
9^+E$V1@ 6.6.3.1 模拟退火参数 109
;#bDz}|\AN 6.6.4 共轭梯度 111
XEBeoOX/ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
G\z5Ue* 6.6.5 拟牛顿法 112
dOT7;@ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
4_P6P 6.6.6 针合成 113
<KX fh 6.6.6.1 针合成参数 114
T' =6_?7K4 6.6.7 差分进化 114
r]0>A&, 6.6.8非局部细化 115
RkZyqt
@+ 6.6.8.1非局部细化参数 115
4L bll%[9 6.7 我应该使用哪种技术? 116
4V&(w,zl 6.7.1 细化 116
fHODS9HQ 6.7.2 合成 117
'':MhRb 6.8 参考文献 117
ZaYUf 7 导纳图及其他工具 118
.~C%:bDnX7 7.1 简介 118
a9u2Wlz 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
=O/v]B8" 7.2.1 四分之一波长规则 119
:6:,s#av 7.2.2 导纳图 120
bU \T 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
T65"?=<EB 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
IISdC(5 7.5 斜入射导纳图 141
Ft^X[5G4L 7.6 对称周期 141
8VtRRtl 7.7 参考文献 142
R=<%! 8 典型的镀膜实例 143
WMa`!Q 8.1 单层抗反射薄膜 145
]!]B7|JFJ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
VAo`R9^D# 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
388vdF 8.4 W-膜层 148
$>7T s>8 8.5 V-膜层 149
{FX]1: 8.6 V-膜层高折射基底 150
f/QwXO-U 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
aL*}@|JL" 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
R^mkQb>m. 8.9 四层抗反射薄膜 153
\ Q^grX 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
3Vbt(K 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
nu)YN1
* 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
W^7yh&@lU 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
W] WH4.y 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
9 p,O>I 8.15十五层宽带抗反射膜 159
AB{zkEuK 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
v>HOz\F 8.17 1/4波长堆栈 162
I$ R1#s 8.18 陷波滤波器 163
XG!6[o; 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
rog1 8.20 褶皱 165
B<ncOe 8.21 消偏振分光器1 169
L?Ys(a"k 8.22 消偏振分光器2 171
cF_`QRtO 8.23 消偏振立体分光器 172
S.{
8.24 消偏振截止滤光片 173
K$:+]fJK 8.25 立体偏振分束器1 174
^?wR{q"8 8.26 立方偏振分束器2 177
/+*N.D'`t, 8.27 相位延迟器 178
za+)2/
`L 8.28 红外截止器 179
8A5/jqnqt 8.29 21层长波带通滤波器 180
R={#V8D~ 8.30 49层长波带通滤波器 181
)dFPfu&HL 8.31 55层短波带通滤波器 182
5dhy80|g] 8.32 47 红外截止器 183
PD^G$LT 8.33 宽带通滤波器 184
=av0a! 8.34 诱导透射滤波器 186
XUKlgl!+. 8.35 诱导透射滤波器2 188
AusjN-IL 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190
*?*~<R 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192
in5e * 8.35 增益平坦滤波器 193
1Q!kk5jE 8.38 啁啾反射镜 1 196
lT*@f39~g 8.39 啁啾反射镜2 198
g*(z.
8.40 啁啾反射镜3 199
ZyDNtX% 8.41 带保护层的铝膜层 200
a]Pw:lT 8.42 增加铝反射率膜 201
pF7N = mO 8.43 参考文献 202
yj@k0TWT$ 9 多层膜 204
97UOH 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204
$2,tT;50g 9.2 内部透过率 204
}O>4XFj 9.3 内部透射率数据 205
j!y9E~Zz 9.4 实例 206
1C<d^D_!p 9.5 实例2 210
8{QCW{K 9.6 圆锥和带宽计算 212
.k-6LR 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214
`U b*rOMu 10 光学薄膜的颜色 216
I`*5z;Q!%@ 10.1 导言 216
&F/-%l! 10.2 色彩 216
uI9*D) 10.3 主波长和纯度 220
U<Tv<7` 10.4 色相和纯度 221
Ov<c1y;f 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222
%)r:!R~R 10.6 色差 226
(# mvDz 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227
%8D>aS U 10.8 颜色渲染指数 234
39hep8+ 10.9 色差计算 235
4# PxJG6m 10.10 参考文献 236
t$%<eF@w 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
H la?\ 11.1 短脉冲 238
4].o:d;`/ 11.2 群速度 239
BC/5 bA 11.3 群速度色散 241
_/z_
X 11.4 啁啾(chirped) 245
deArH5&! 11.5 光学薄膜—相变 245
j~1K(=Ng 11.6 群延迟和延迟色散 246
1U#W=Fg' 11.7 色度色散 246
Gp
\-AwE 11.8 色散补偿 249
5I,NvHD4 11.9 空间
光线偏移 256
yf0v,]v[ 11.10 参考文献 258
A$N%deb 12 公差与误差 260
qR!ZtJ5j 12.1 蒙特卡罗模型 260
z,$uIv}'@ 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267
ZzNHEV 12.2.1 误差工具 267
gm2|`^Xq$ 12.2.2 灵敏度工具 271
v@ OELJX 12.2.2.1 独立灵敏度 271
_AFje 12.2.2.2 灵敏度分布 275
4K'U}W 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276
D ka8[z7 12.3 参考文献 276
kmC0.\ 13 Runsheet 与Simulator 277
K=HLMDs 13.1 原理介绍 277
-&`_bf%M 13.2 截止滤光片设计 277
:d9GkC 14 光学常数提取 289
p0 X%^A,4
14.1 介绍 289
c5$DHT@N" 14.2 电介质薄膜 289
krFp q; 14.3 n 和k 的提取工具 295
vR:#g;mnk 14.4 基底的参数提取 302
LwRzzgt 14.5 金属的参数提取 306
C5-u86F 14.6 不正确的模型 306
TK18U*z7J 14.7 参考文献 311
kJJiDDL0;* 15 反演工程 313
\Db;7wh 15.1 随机性和系统性 313
-k7b#
+T 15.2 常见的系统性问题 314
lY"l6.c 15.3 单层膜 314
m!G(vhA,_w 15.4 多层膜 314
3'kKbrk [ 15.5 含义 319
HBR/" m 15.6 反演工程实例 319
VD7-; 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320
X!LiekU!D 15.6.2 反演工程提取折射率 327
APF`b 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329
(E@;~7L 16.1 光学性质的热致偏移 329
?i0+h7=6 16.2 应力工具 335
]gVA6B?&9 16.3 均匀性误差 339
^i#0aq2} 16.3.1 圆锥工具 339
/klo),|& 16.3.2 波前问题 341
zA6C{L G3 16.4 参考文献 343
0ZDm[#7z 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345
0J'Cx&Rg 17.1 引言 345
hNZ_=
<D! 17.2 操作数 345
9&=%shOc+x 18 如何在Function中编写脚本 351
g]HWaFjc5 18.1 简介 351
TM{m:I:Z*n 18.2 什么是脚本? 351
jZqa+nG51 18.3 Function中脚本和操作数对比 351
q`{@@[/(y 18.4 基础 352
XchD3p+uB 18.4.1 Classes(类别) 352
xj U0& 18.4.2 对象 352
GY-4w@Wl 18.4.3 信息(Messages) 352
dnC"` 18.4.4 属性 352
#e-7LmO~ 18.4.5 方法 353
&$CyT6mb^ 18.4.6 变量声明 353
y'8T=PqY[t 18.5 创建对象 354
.Qn#wub 18.5.1 创建对象函数 355
!gLJBp 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355
Q+K]:c 18.5.3 丢弃对象 356
hlV(jz 18.5.4 总结 356
KYB3n85 1 18.6 脚本中的表格 357
2i!R>` 18.6.1 方法1 357
C $])q`9 18.6.2 方法2 357
;:[P/eg 18.7 2D Plots in Scripts 358
Et*LbU 18.8 3D Plots in Scripts 359
E#m^.B-} 18.9 注释 360
E{JTy{z- 18.10 脚本管理器调用Scripts 360
9m>L\&\_e 18.11 一个更高级的脚本 362
KS~Q[-F1P 18.12 <esc>键 364
~!TrC<ft 18.13 包含文件 365
nY1PRX\ 18.14 脚本被优化调用 366
Bq~S=bAB>R 18.15 脚本中的对话框 368
!lEV^SQJs 18.15.1 介绍 368
"N%W5[C{ 18.15.2 消息框-MsgBox 368
AX@bM 18.15.3 输入框函数 370
!$iwU3~< 18.15.4 自定义对话框 371
aRWj+[[7y 18.15.5 对话框编辑器 371
Dy. |bUB!f 18.15.6 控制对话框 377
L67yL( d6a 18.15.7 更高级的对话框 380
:+_H%4+ 18.16 Types语句 384
X
J]+F 18.17 打开文件 385
:k.>H.8+~ 18.18 Bags 387
u8A,f}D 3 18.13 进一步研究 388
Rb
b[N#p5 19 vStack 389
/8_x]Es/ 19.1 vStack基本原理 389
2g)q
( 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391
>/GYw"KK 19.3 五棱镜 393
2-g 5Gb2| 19.4 光束距离 396
!JDyv\i} 19.5 误差 399
0""%@X]m 19.6 二向分色棱镜 399
w{;bvq%lY 19.7 偏振泄漏 404
P&o+ut: 19.8 波前误差—相位 405
w"Zws[pm] 19.9 其它计算参数 405
@&G
%cW( 20 报表生成器 406
o~:({ 20.1 入门 406
!C' Y
7 20.2 指令(Instructions) 406
wjID*s[ 20.3 页面布局指令 406
>>-{AR0 20.4 常见的参数图和三维图 407
=x^IBLHN 20.5 表格中的常见参数 408
=1B;<aZH! 20.6 迭代指令 408
Cq=k3d#} 20.7 报表模版 408
+Sv2'& B 20.8 开始设计一个报表模版 409
0R+<^6^l) 21 一个新的project 413
_3KfY 21.1 创建一个新Job 414
r)qow.+& 21.2 默认设计 415
m:;`mBOc3 21.3 薄膜设计 416
g( eA? 21.4 误差的灵敏度计算 420
M|z4Dy 21.5 显色指数计算 422
^jo*e,y: 21.6 电场分布 424
v>Kv!OY:c 后记 426
$*0XWrE ]ao%9:P; F*B^#AZg 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》
Y#-pK)EeU uhmSp+% 《Essential Macleod中文手册》
",E$}=
,Z 5Obv/C 目 录
PTA_erU ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析
l=&Va+K 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3
a=^>A1= 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17
g31\7\)Ir 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44
zZCssn;[ 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100
2;ogkPv ' 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111
?
i|LO 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120
[ 3SbWwg 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167
#5IfF~*i 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200
;&RHc#1F 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213
|Tl2r,(+R 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251
/@s(8{; 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284
Z2\Xe~{ 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297
Ria*+.k@"B 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307
a*@4W3;7 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312
n<7R6)j6 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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