[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 / n@by4;W  

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@:w[(K[^b/  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 <wTD}.n  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 3)*Twqt  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 d$5\{YLy
 
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 }AGdWt@  
1. Essential Macleod软件介绍 R>B4v+b  
1.1 介绍软件 $s<bKju  
1.2 创建一个简单的设计 6~+/cY-V  
1.3 绘图和制表来表示性能 z8JdA%YBM  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 _>u0vGF-  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） \1nj=ca?  
1.6 特定设计的公式技术 @+&QNI06S  
1.7 交互式绘图 kWZ/O  
2. 光学薄膜理论基础 rUDMQxLruV  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 |5g1D^b]s^  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 <G60R^o  
3. 材料管理 OM (D@up  
3.1 材料模型 J_7&nIH7  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Bhf4 /$  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 cz;gz4d8  
3.4 基板光学常数的提取 i1^#TC$x  
4. 光学薄膜设计优化方法 k:DAko}  
4.1 参考波长与g RxUzJ  
4.2 四分之一规则 {w52]5l  
4.3 导纳与导纳图 L4!T  
4.4 斜入射光学导纳 NsF8`rg  
4.5 光学薄膜设计的进展 $E6bu4I  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 JXAH/N&i  
4.6.1 优化目标设置 I%tJLdL  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） ZnZ`/zNO  
4.6.3 膜层锁定和链接 /2Qgg`^)  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 Uu(FFd~3  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 zrE Dld9  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 "PfNC<MQo  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 r8TNl@Z  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 7thB1cOJ  
5.5 如何在Function中编写脚本 @f%q ,:  
6. 光学薄膜系统案例 A5kz(pj  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 w6G<&1iH  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 "!z9UiA  
6.3 Stack应用范例说明 <~iA{sY)O  
7. 薄膜性能分析 %dDwus  
7.1 电场分布 UlH;0P?  
7.2 公差与灵敏度分析 &-2i+KjEX  
7.3 反演工程 U( (F<  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 &vV_,$  
8. 真空技术 jQi)pVT^  
8.1 常用真空泵介绍 BiI`oCX  
8.2 真空密封和检漏 ,%U'>F?  
9. 薄膜制备技术 b$/'dnx  
9.1 常见薄膜制备技术 by@}T@^\  
10. 薄膜制备工艺 :GN7JxD#  
10.1 薄膜制备工艺因素 >?)Df(n(9  
10.2 薄膜均匀性修正技术 <j&LC /]o  
10.3 光学薄膜监控技术 rF)[ Sed:T  
11. 激光薄膜 a6epew!2  
11.1 薄膜的损伤问题 6+ C
7vG`  
11.2 激光薄膜的制备流程 (C60HbL  
11.3 激光薄膜的制备技术 H
iPd|D  
12. 光学薄膜特性测量 lbnH|;`$]m  
12.1 薄膜光谱测量 pHv~^L%=  
12.2 薄膜光学常数测量 G;yh$n<"  
12.3 薄膜应力测量 Ika(ip#]=  
12.4 薄膜损伤测量 Jwe9L^gL  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 x$;kA}gy  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Ai5|N
 
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 3%DDN\q\u  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 /qObXI  
EjFK zx  
nWb0S  
tp?< e  
目录 q8[I` V{  
Preface 1 .wJv_  
内容简介 2 Y=tx kN  
目录 i 4pC.mRu 0  
1  引言 1 _|} GhdYE  
2  光学薄膜基础 2 <
(<IRCR  
2.1  一般规则 2 TYN~c(  
2.2  正交入射规则 3 ' Y cVFi  
2.3  斜入射规则 6 fFNwmH-jv  
2.4  精确计算 7 iES?}K/q  
2.5  相干性 8 Avr2MaY{h  
2.6 参考文献 10 UCL aCt -  
3  Essential Macleod的快速预览 10 oY8S-N;(t  
4  Essential Macleod的特点 32 k-XE
|v  
4.1  容量和局限性 33 V]qv,>  
4.2  程序在哪里？ 33 lCC(N?%Q  
4.3  数据文件 35 \'.#of  
4.4  设计规则 35 _5JwJcQ  
4.5  材料数据库和资料库 37 &(t/4)IZox  
4.5.1材料损失 38 3gNVnmZG  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 v5`Q7ZZ  
4.5.2 材料库 41 B?p18u$i#l  
4.5.3导出材料数据 43 Kt\#|-{CH-  
4.6  常用单位 43 uIb,n5  
4.7  插值和外推法 46 OD`?BM  
4.8  材料数据的平滑 50 W*/0[|n*  
4.9 更多光学常数模型 54 i_kKE+Q  
4.10  文档的一般编辑规则 55 1Kc[).O1  
4.11 撤销和重做 56 >YuiCf?c7  
4.12  设计文档 57 AV:P/M^B  
4.10.1  公式 58 eh5j  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 .uwD;j +#  
4.10.3  沉积密度 59 'mR9Uqq\  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ]v,>!~8r  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 i1k#WgvZR  
4.10.4  性能 61 q#!]5
 
4.10.5  保存设计和性能 64 [K
4wd%+  
4.10.6  默认设计 64 f!n0kXVu6U  
4.11  图表 64 "Acc]CqH*  
4.11.1  合并曲线图 67 l\%LT{$e  
4.11.2  自适应绘制 68 %?WR9}KU0  
4.11.3  动态绘图 68 ?OFl9%\ V  
4.11.4  3D绘图 69 E3==gYCe*  
4.12  导入和导出 73 j!;y!g  
4.12.1  剪贴板 73 % XS2;V  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 xQK;3b  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 G.[,P~yy.  
4.13  背景 77 b w2KD7  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Fy8$'oc  
4.15  生成Rugate 84 cTQ]0<9:e  
4.16  参考文献 91 ;R x Rap  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 / Hg/)  
5.1  Jobs 92 F#^<t$5t  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 z6+D=<  
5.3  输入材料 94 y_e$W3bON,  
5.4  设计数据文件夹 95 wSwDhOX=  
5.5  默认设计 95 &)y$XsSMW  
6  细化和合成 97 m_pqU(sP  
6.1  优化介绍 97 qPI1\!z6  
6.2  细化 (Refinement) 98 }aC@ov]2  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ,2C{X+t  
6.4  目标和评价函数 101 (yB)rBh>n  
6.4.1  目标输入 102 3j2#'Jf|:  
6.4.2  目标 103 K,'v{wSr  
6.4.3  特殊的评价函数 104 (Sd8S`xO  
6.5  层锁定和连接 104 |>U:Pb(  
6.6  细化技术 104 IVblSiFF  
6.6.1  单纯形 105 ]#*S. r]  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ~?#B(t  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 rrL gBeQa  
6.6.2.1 Optimac参数 108 *eLKD_D`!C  
6.6.3  模拟退火算法 109 AZgeu$:7p<  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ]dj W^C]94  
6.6.4  共轭梯度 111 ?0%3~E`l:  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ! O~:  
6.6.5  拟牛顿法 112 Z|k>)pv@  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 uz%<K(:Ov  
6.6.6  针合成 113 ?n0Z4 8%  
6.6.6.1 针合成参数 114 C ks;f
6G  
6.6.7 差分进化 114 =]swhF+l-  
6.6.8非局部细化 115 Uzzt+Iwm  
6.6.8.1非局部细化参数 115 c1
x{$  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 ^/V>^9CZ  
6.7.1 　细化 116 <jwQ&fm)/R  
6.7.2　 合成 117 AIU=56+I\  
6.8  参考文献 117 NZW)$c'  
7  导纳图及其他工具 118 9N@m><N84  
7.1  简介 118 :{Mr~Co*  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 KyQd6 1  
7.2.1  四分之一波长规则 119 h%*@82DKK  
7.2.2  导纳图 120 3<%ci&B  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 HkL`- c0  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125  'K7m!y  
7.5  斜入射导纳图 141 mN&B|KWU  
7.6  对称周期 141 N R0"yJV>  
7.7  参考文献 142 )nM<qaI{  
8  典型的镀膜实例 143 +$;*"o  
8.1  单层抗反射薄膜 145 618k-  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 BJNZH#"  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 A6Vb'Gq
v{  
8.4  W-膜层 148 qe3d,!  
8.5  V-膜层 149 dWK"Tkf\  
8.6  V-膜层高折射基底 150 L#6!W  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 # X`t~Y'  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 LyuA("xB#  
8.9  四层抗反射薄膜 153 N7 ox#=g  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 b2 5.CGF  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 RoLN#  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 h; "pAE  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 z55g'+Kab  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 =v:}{~M^$  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 w =2; QJ<  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 :6[G;F7s  
8.17  1/4波长堆栈 162 JUpb*B_z  
8.18  陷波滤波器 163 S\dG>F>S  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 !(8)'<t9  
8.20  褶皱 165 ;#XF.l,u  
8.21  消偏振分光器1 169 F(DM$5z[  
8.22  消偏振分光器2 171 >*]dB|2  
8.23  消偏振立体分光器 172 Tf{lH9ca$  
8.24  消偏振截止滤光片 173 X@pcL{T!  
8.25  立体偏振分束器1 174 ?[#4WH-G  
8.26  立方偏振分束器2 177 4L_AhX7  
8.27  相位延迟器 178 k@ So l6  
8.28  红外截止器 179 uGU-MC*  
8.29  21层长波带通滤波器 180 #\l#f8(l  
8.30  49层长波带通滤波器 181 dh-?
_|"  
8.31  55层短波带通滤波器 182 cES8%UC^i  
8.32  47 红外截止器 183 E@J}(76VS  
8.33  宽带通滤波器 184 3S=$ng  
8.34  诱导透射滤波器 186 E0*62OI~O  
8.35  诱导透射滤波器2 188 k!0vpps
 
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 @>q4hYF  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 .Mxt F\  
8.35  增益平坦滤波器 193 8'-E>+L   
8.38  啁啾反射镜 1 196 "BA&  
8.39  啁啾反射镜2 198 fi  
8.40  啁啾反射镜3 199 Xk?Y  
8.41  带保护层的铝膜层 200
5h[<!f=  
8.42  增加铝反射率膜 201 )u=46EU_  
8.43  参考文献 202 pebNE3`#  
9  多层膜 204 Im"8+756  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 -#`tS  
9.2  内部透过率 204 y3Ul}mVhA  
9.3 内部透射率数据 205 B,4 3b O  
9.4  实例 206 ]vjMfT%]W  
9.5  实例2 210 X3j|J/  
9.6  圆锥和带宽计算 212 f3SAK!V+s  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 R,+"
^:}  
10  光学薄膜的颜色 216 S9E<)L  
10.1  导言 216 p?' F$Wz  
10.2  色彩 216 ?OBB)hj  
10.3  主波长和纯度 220 IN=l|Q$8f  
10.4  色相和纯度 221 /xb37,   
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ]T>|Y0|  
10.6 色差 226 V;(Rg=5  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 I3AxKA  
10.8  颜色渲染指数 234 B*^8kc:)L  
10.9  色差计算 235 `^: v+!  
10.10  参考文献 236 EASN#VG  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 f!bGH-.r5  
11.1  短脉冲 238 g>n1mK|  
11.2  群速度 239 ~EO=;a_  
11.3  群速度色散 241 2>vn'sXdj  
11.4  啁啾(chirped) 245 /rnP/X)T  
11.5  光学薄膜—相变 245 CA3`Ee+rD  
11.6  群延迟和延迟色散 246 @5\/L6SRfL  
11.7  色度色散 246 4`p[t;q  
11.8  色散补偿 249 v03^  
11.9  空间光线偏移 256 *lyRy/POB  
11.10  参考文献 258 cHUj6'neO  
12  公差与误差 260 U?8X]  
12.1  蒙特卡罗模型 260 D' `[y  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 IRbZ ;*3dO  
12.2.1  误差工具 267 V&R_A~<T  
12.2.2  灵敏度工具 271 3gz4c1 s^:  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 6D29s]h2  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 H1e^/JD)  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 |$`I1  
12.3  参考文献 276 eXQzCm  
13  Runsheet 与Simulator 277 '_%`0p1  
13.1  原理介绍 277 y2@8?  
13.2  截止滤光片设计 277 %5/h;4   
14  光学常数提取 289 ol@LLT_m  
14.1  介绍 289 o%l|16DR  
14.2  电介质薄膜 289 '+iqbcUd,  
14.3  n 和k 的提取工具 295 c59l/qoz  
14.4  基底的参数提取 302 p} i5z_tS  
14.5  金属的参数提取 306 !po29w:S  
14.6  不正确的模型 306 )5l9!1j  
14.7  参考文献 311 NplkhgSj  
15  反演工程 313 S*a_  
15.1  随机性和系统性 313 K2ry@haN  
15.2  常见的系统性问题 314 pd oCV  
15.3  单层膜 314 8EAkM*D w  
15.4  多层膜 314 ym6gj#2m  
15.5  含义 319 H:`
[$ ^  
15.6  反演工程实例 319 vDVE#Nm_  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 c{cJ>d 0  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Ng1uJa[k!d  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 y0cB@pWp  
16.1  光学性质的热致偏移 329 84YZT+TEN  
16.2  应力工具 335 >T
wL&la  
16.3  均匀性误差 339 ^ ,yh38
4  
16.3.1  圆锥工具 339 ns9a+QQ  
16.3.2  波前问题 341 r?wE;gH  
16.4  参考文献 343 YJ~3eZQ  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 UU2=W  
17.1  引言 345 5:~BGK&{Y  
17.2  操作数 345 c!=^C/5Ee  
18  如何在Function中编写脚本 351 IQQWp@w#8  
18.1  简介 351 [9xUMX^}  
18.2  什么是脚本？ 351 Wf:I 0  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 J(
%kcueb  
18.4  基础 352 #ZPy&GIr  
18.4.1  Classes（类别） 352  B!+`km5  
18.4.2  对象 352 l/@t>%  
18.4.3  信息（Messages） 352 . [5{  
18.4.4  属性 352 [";<YR7iRN  
18.4.5  方法 353 Dl95Vo=1  
18.4.6  变量声明 353 H| 1O>p&  
18.5  创建对象 354 )gP0+W!u  
18.5.1  创建对象函数 355 cQldBc  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 k-a3oLCR,  
18.5.3 丢弃对象 356 l*z.20^P  
18.5.4  总结 356 Z4@GcdZ  
18.6  脚本中的表格 357 cG~-OHU  
18.6.1  方法1 357 Vpsv@\@J>  
18.6.2  方法2 357 8^%Nl `_2B  
18.7 2D Plots in Scripts 358 uQlQ%n%  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ::A]p@  
18.9  注释 360 q+Cq&|4 ?2  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 JJ$q*  
18.11  一个更高级的脚本 362 XB'PE
vh8  
18.12  <esc>键 364 +$H`/^a.  
18.13 包含文件 365 &o$Pwk\p/  
18.14  脚本被优化调用 366 x-HN]quhe  
18.15  脚本中的对话框 368 9WhZ= Xk  
18.15.1  介绍 368 Z/hgr|&}  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 @>sZ'M2mq  
18.15.3  输入框函数 370 JM-+p  
18.15.4  自定义对话框 371 XUp'wP  
18.15.5  对话框编辑器 371 =vZF/r  
18.15.6  控制对话框 377 ~i y]X:U  
18.15.7  更高级的对话框 380 X,"(G}KUA  
18.16 Types语句 384 :gJ?3LwTf  
18.17 打开文件 385 w `0m[*  
18.18 Bags 387 HRxA0y=  
18.13  进一步研究 388 yq2pg8%  
19  vStack 389 ~t-!{F  
19.1  vStack基本原理 389 J"Z=`I)KON  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 lboi\GP|  
19.3  五棱镜 393 1fzHmD  
19.4 光束距离 396 ]1(G:h\  
19.5 误差 399 nVt,= ?_ U  
19.6  二向分色棱镜 399 ^yo~C3r~  
19.7  偏振泄漏 404 5p7?e3  
19.8  波前误差—相位 405 1$#{om9  
19.9  其它计算参数 405 96FS-`  
20  报表生成器 406 
X|w[:[P  
20.1  入门 406 ,_(AiQK  
20.2  指令(Instructions) 406 chF@',9t  
20.3  页面布局指令 406 |kXx9vGq@  
20.4  常见的参数图和三维图 407 E'O[E=  
20.5  表格中的常见参数 408 k6?;D_dm  
20.6  迭代指令 408 R#x~f  
20.7  报表模版 408 .!pr0/9B  
20.8  开始设计一个报表模版 409 $|V@3`0  
21  一个新的project 413 86AZ)UP2D  
21.1  创建一个新Job 414 d^sm;
f  
21.2  默认设计 415 H]x-s  
21.3  薄膜设计 416 OmR)W'  
21.4  误差的灵敏度计算 420 A3|hFk  
21.5  显色指数计算 422 iir]M`A.-  
21.6  电场分布 424 dRD t.U!T  
后记 426 WQ1~9#  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 [,)G\  
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《Essential Macleod中文手册》 Qmg2lP.)  
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目  录 Jb (CH4|7  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 vk&6L%_~a  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 %qYiE!%&  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 5u89?-UD  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 !
\6<kQg#  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 miTySY6^  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 w4fz!l]  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 1R+/T  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 8h%oJ4da  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 O8Dav^\y?  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 $,)PO Z  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 nR(v~_y[V  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 [Ep%9(SgA'  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 H6t'V%Ys  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307
Qu;cl/&  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 00-cT9C3  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 9k.5'#  
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价  格：400元