[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 h}r.(MVt  

图片:w800

P&@ 2DI3m  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 1vk&;  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 c}v>Mx  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 A.vWGBR  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 HJWk%t<  
1. Essential Macleod软件介绍 M6
l S2  
1.1 介绍软件 D@A@5pvS  
1.2 创建一个简单的设计 mj:X'BVA  
1.3 绘图和制表来表示性能 04g=bJ  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 r#hA kOw  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 1(t{)Z<  
1.6 特定设计的公式技术 t1"-3afe  
1.7 交互式绘图 =kFZ2/P2t(  
2. 光学薄膜理论基础 *{[jO&
&J  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 t M?3oO  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 :'p+Ql~c  
3. 材料管理 zr#n^?m  
3.1 材料模型 whFaL}2C  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 0}v_usP  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 _voU^-  
3.4 基板光学常数的提取 f/+UD-@%m  
4. 光学薄膜设计优化方法 zv/owK  
4.1 参考波长与g 6WUP
#c@{  
4.2 四分之一规则 ${fJ]  
4.3 导纳与导纳图 |hGi8  
4.4 斜入射光学导纳 #$k6OlK-r"  
4.5 光学薄膜设计的进展 Z ,4G'[d  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 kq+`.  
4.6.1 优化目标设置 $
;~  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） 4FLL*LCNX  
4.6.3 膜层锁定和链接 'KL!)}B$h  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ~Psv[b=]  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 BhFyEY(  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ~d5f]6#`  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 -hv<8bC~4  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 IbV 7}  
5.5 如何在Function中编写脚本 '1rHvz`B/"  
6. 光学薄膜系统案例 W<']Q_su  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 y?Vsp<  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 P:Nj;Cxh  
6.3 Stack应用范例说明 U42B(ow  
7. 薄膜性能分析 %#gHa  
7.1 电场分布 En&`m  
7.2 公差与灵敏度分析 A\xvzs.d  
7.3 反演工程 zNg8Oq&  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 ~# ~XDcc  
8. 真空技术 a
J;6!WFW  
8.1 常用真空泵介绍 w+MCOAB  
8.2 真空密封和检漏 c
Hr.7 w  
9. 薄膜制备技术 Fke_ms=I^  
9.1 常见薄膜制备技术 R>|)-"b( `  
10. 薄膜制备工艺 LS(J%\hMDm  
10.1 薄膜制备工艺因素 Cx,)$!1  
10.2 薄膜均匀性修正技术 QVEGd"WvvO  
10.3 光学薄膜监控技术 svT1b'=\$I  
11. 激光薄膜 )TH~Tq:  
11.1 薄膜的损伤问题 83~9Xb=!\  
11.2 激光薄膜的制备流程 9pY`_lxa>  
11.3 激光薄膜的制备技术
T~Z7kc'  
12. 光学薄膜特性测量 RlW7l1h&  
12.1 薄膜光谱测量 Wa{()Cz  
12.2 薄膜光学常数测量 sD_"  
12.3 薄膜应力测量 aNcuT,=(?8  
12.4 薄膜损伤测量 ;`p!/9il  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 +xGz~~iNh  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 )U$]J*LI  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 6e%|.}U  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 P. V #  
+WGL`RP  
(txr%Z0E  
,?zIt6Z  
目录 OvFWX%uY  
Preface 1 3J{hG(5  
内容简介 2 orU++,S4Pm  
目录 i <kY||  
1  引言 1 ^Ko{#
qbl/  
2  光学薄膜基础 2 @1p,  
2.1  一般规则 2 ohy?l  
2.2  正交入射规则 3 ;:0gN|+  
2.3  斜入射规则 6 MZ/PXY  
2.4  精确计算 7 q^.\8zFf  
2.5  相干性 8 ZJ|@^^GcL  
2.6 参考文献 10 -4}I02  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Z T5p
 
4  Essential Macleod的特点 32 xUG:x4Gz+  
4.1  容量和局限性 33 TAXl73j_CY  
4.2  程序在哪里？ 33 #_zd`s3k  
4.3  数据文件 35 JW`Kh*,~<  
4.4  设计规则 35 TNvE26.(  
4.5  材料数据库和资料库 37 p| #gn<z}  
4.5.1材料损失 38 [;]@PKW?w  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 TYs#v/)
I  
4.5.2 材料库 41 (ex^=fv  
4.5.3导出材料数据 43 N]p|c3D  
4.6  常用单位 43 VB+sl2V<h  
4.7  插值和外推法 46 [H3~b=  
4.8  材料数据的平滑 50 limzDQ^  
4.9 更多光学常数模型 54 c/c%-=  
4.10  文档的一般编辑规则 55 w
|1Gb[  
4.11 撤销和重做 56
W1@Q)i  
4.12  设计文档 57 #=MQE  
4.10.1  公式 58 `Al[gG?/!  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 0H V-e  
4.10.3  沉积密度 59 /&+6nOP  
4.10.4 平行和楔形介质 60 !Qg%d&q.Sx  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 )~](qLSl  
4.10.4  性能 61 7 %P?3  
4.10.5  保存设计和性能 64 1qs~[7{C1  
4.10.6  默认设计 64 >%"Q]p  
4.11  图表 64 JMMsOA_]  
4.11.1  合并曲线图 67 o6} +5  
4.11.2  自适应绘制 68 t?-7Z6  
4.11.3  动态绘图 68 6$'6x2,  
4.11.4  3D绘图 69 `P`nqn  
4.12  导入和导出 73 `R}D@  
4.12.1  剪贴板 73 @'EP$!c  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 J-W,^%  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 .2xp.i{  
4.13  背景 77 GQ-owH]  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 6g ,U+~  
4.15  生成Rugate 84 Z{ntF  
4.16  参考文献 91 5T[9|zJs  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 4LU'E%vlC  
5.1  Jobs 92 h>Z$ n`T  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 @"~Mglgw  
5.3  输入材料 94 HA{-XPAWZ  
5.4  设计数据文件夹 95 ;z9(  
5.5  默认设计 95 5k`[a93T  
6  细化和合成 97 !U"1ZsO)l  
6.1  优化介绍 97 J3sO%4sYR  
6.2  细化 (Refinement) 98 ksxacRA7\  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ta+'*@V+G  
6.4  目标和评价函数 101 }*n(RnCn  
6.4.1  目标输入 102 ];P^q`n=.  
6.4.2  目标 103 cJ&e^$:Er  
6.4.3  特殊的评价函数 104 b8J\Lm|J  
6.5  层锁定和连接 104 hfY Ieb#91  
6.6  细化技术 104 XR^VRn6O  
6.6.1  单纯形 105 /$hfd?L  
6.6.1.1 单纯形参数 106 xDBEs*  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 lLHHuQpuj  
6.6.2.1 Optimac参数 108 'JEZ;9}  
6.6.3  模拟退火算法 109 7"f$;CN?~  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 m_H$fioha,  
6.6.4  共轭梯度 111 }6]V*
Kn,  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 s)HbBt-  
6.6.5  拟牛顿法 112 `hM:U  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 XN"V{;OP1  
6.6.6  针合成 113 SVp]}!jI  
6.6.6.1 针合成参数 114
US)wr  
6.6.7 差分进化 114 I~S`'()J  
6.6.8非局部细化 115 yZ,k8TJ",  
6.6.8.1非局部细化参数 115 i:WHql"Kw_  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 @A6\v+ih  
6.7.1 　细化 116 _Z6/r^c  
6.7.2　 合成 117 )2oWoZvi9  
6.8  参考文献 117 9`^VuC'  
7  导纳图及其他工具 118 L{~L6:6An  
7.1  简介 118 =~Jv*c  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 asR6,k  
7.2.1  四分之一波长规则 119 <Ebkb3_  
7.2.2  导纳图 120 4j!MjlG$  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 v,RLN`CID  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 QB@qzgEJ!,  
7.5  斜入射导纳图 141 ew4IAF  
7.6  对称周期 141 _]tR1T5e  
7.7  参考文献 142 ,ewg3mYHC&  
8  典型的镀膜实例 143 *|Re,cY  
8.1  单层抗反射薄膜 145 k
Tex>1W;  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 <uL?7P  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 O6;>]/`  
8.4  W-膜层 148 5v~Y>  
8.5  V-膜层 149 tZa)sbz  
8.6  V-膜层高折射基底 150 1l\O9D +$  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ok'0Byo  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 1q~U3'l:$  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ue/6DwUv  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 S#+G?I3w  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Sct-,K%i  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 $t1]w]}d  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 6kT l(+  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 f\~e&`PV  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 V{Idj\~Jh  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Q|gun}  
8.17  1/4波长堆栈 162 %8$JL=c  
8.18  陷波滤波器 163 ACl:~7;  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 2k"a%#H8  
8.20  褶皱 165 lIzJO$8cM  
8.21  消偏振分光器1 169 o^&; `XOd  
8.22  消偏振分光器2 171 ]02 l!"  
8.23  消偏振立体分光器 172 #Opfc8pm'  
8.24  消偏振截止滤光片 173 S97.O@V!$  
8.25  立体偏振分束器1 174 7!oqn'#>A  
8.26  立方偏振分束器2 177 7L;yN..0  
8.27  相位延迟器 178 I6y&6g  
8.28  红外截止器 179 ADv a@P  
8.29  21层长波带通滤波器 180 NFLmM  
8.30  49层长波带通滤波器 181 8<!qT1  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ![abDT5![  
8.32  47 红外截止器 183 J~gfMp.  
8.33  宽带通滤波器 184 (^a;2j9  
8.34  诱导透射滤波器 186 z8D
n<h  
8.35  诱导透射滤波器2 188 G:WMocyXI'  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 bvG").8$  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 V]k!]  
8.35  增益平坦滤波器 193 GetUCb%1  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Rdt8jY6F
/  
8.39  啁啾反射镜2 198 Q(]-\L
'  
8.40  啁啾反射镜3 199 9d[0i#`:q  
8.41  带保护层的铝膜层 200 1LPfn(  
8.42  增加铝反射率膜 201 0M8JE9 Kx  
8.43  参考文献 202 f!LZT!y  
9  多层膜 204 wmo'Pl  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 i6`8yw  
9.2  内部透过率 204 "mPa>`?
 
9.3 内部透射率数据 205 sWavxh8A  
9.4  实例 206 1v2wP2]|;  
9.5  实例2 210 t_]UseP$RF  
9.6  圆锥和带宽计算 212 )7j"OE  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 BLaXp0  
10  光学薄膜的颜色 216 ejr"(m(Xe  
10.1  导言 216 GE5@XT  
10.2  色彩 216 lh#GD"^(w&  
10.3  主波长和纯度 220 ^G2vA8%  
10.4  色相和纯度 221 -S,dG|  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 /$eEj  
10.6 色差 226 3gabk/  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 X2@o"xU
  
10.8  颜色渲染指数 234 bLV@Ts  
10.9  色差计算 235 Z,4=<;PF  
10.10  参考文献 236 M;iaNL(  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 iT5H<uS  
11.1  短脉冲 238 #[KwR\b{:+  
11.2  群速度 239 vQ_B2#U:  
11.3  群速度色散 241 .9^;? Ts  
11.4  啁啾(chirped) 245 GrQl3 Xi  
11.5  光学薄膜—相变 245 +] 5a(/m.~  
11.6  群延迟和延迟色散 246 &y(aByI y  
11.7  色度色散 246 E,6E-9  
11.8  色散补偿 249 !k s<VJh  
11.9  空间光线偏移 256 $`=?Nb@@#  
11.10  参考文献 258 &9ZIf#R  
12  公差与误差 260 X4k/7EA  
12.1  蒙特卡罗模型 260 F`-[h)e.  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 h{JVq72R
 
12.2.1  误差工具 267 ,3n}*"K  
12.2.2  灵敏度工具 271 "LxJPt\  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ):|)/ZiC'  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 y]CJOC)/K  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 (w^&NU'e  
12.3  参考文献 276 g8x8
u|  
13  Runsheet 与Simulator 277 hy]AH)?pR  
13.1  原理介绍 277 /Z@.;M  
13.2  截止滤光片设计 277 *ap#*}r!Nk  
14  光学常数提取 289 z::2O/ho  
14.1  介绍 289 4dok/ +Ec  
14.2  电介质薄膜 289 .X
E]vo  
14.3  n 和k 的提取工具 295 (,TO|  
14.4  基底的参数提取 302 PA=BNKlH  
14.5  金属的参数提取 306 \c\
=S  
14.6  不正确的模型 306 #rC/y0niH  
14.7  参考文献 311 /<2_K4(-{4  
15  反演工程 313 ]e3nnS1*.  
15.1  随机性和系统性 313 .cabw+&7  
15.2  常见的系统性问题 314 >lj3MNSH  
15.3  单层膜 314 & vIKNGJ^  
15.4  多层膜 314 lz*2wGI9  
15.5  含义 319 A+l"  
15.6  反演工程实例 319 o{hKt
?  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ;8v5 qz  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 gJ7$G3&oZg  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 x('yBf  
16.1  光学性质的热致偏移 329 (j/O=$m
J  
16.2  应力工具 335 Fi`:G}   
16.3  均匀性误差 339 eo80L  
16.3.1  圆锥工具 339 W9D)QIqbvW  
16.3.2  波前问题 341 MDq@:t  
16.4  参考文献 343 \*N1i`99  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 o MAK[$k;  
17.1  引言 345 {h=Ai[|l4Q  
17.2  操作数 345 i*tj@5MY-  
18  如何在Function中编写脚本 351 KJ~pY<a?  
18.1  简介 351 F)IP~BE-k  
18.2  什么是脚本？ 351 9e5UTJ  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 3/e !7  
18.4  基础 352 d]^i1
 
18.4.1  Classes（类别） 352 L;  ~=(  
18.4.2  对象 352 @e7+d@O<  
18.4.3  信息（Messages） 352 ex1ecPpN  
18.4.4  属性 352 8xX{y#  
18.4.5  方法 353 8dH|s#.4um  
18.4.6  变量声明 353 d0
^2<  
18.5  创建对象 354 '$zFGq }}  
18.5.1  创建对象函数 355 ^n]s}t}csV  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 3:(`#YY  
18.5.3 丢弃对象 356 6>Cubb>  
18.5.4  总结 356 }VGiT~2$  
18.6  脚本中的表格 357 _6' g]4  
18.6.1  方法1 357 'FhnSNT(4=  
18.6.2  方法2 357 xpk|?/6  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Cw}\t!*!  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ;D1IhDC  
18.9  注释 360 1rEP)66N  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 cjXwOk1:s  
18.11  一个更高级的脚本 362 M@\'Y$)Y{  
18.12  <esc>键 364 Fk(5y)  
18.13 包含文件 365 cOQy|v`KD,  
18.14  脚本被优化调用 366 ?zEF?LJoK  
18.15  脚本中的对话框 368 SXEiyy[7v  
18.15.1  介绍 368 "->:6Oe2   
18.15.2  消息框-MsgBox 368 >g&`g}xZQ  
18.15.3  输入框函数 370 v`&Z.9!Tz^  
18.15.4  自定义对话框 371 8(}sZ)6  
18.15.5  对话框编辑器 371 Nt8(  
18.15.6  控制对话框 377 ^n/uY94E)p  
18.15.7  更高级的对话框 380 0 *\=Q$Yy  
18.16 Types语句 384 c0 |p34  
18.17 打开文件 385 z@i4dC  
18.18 Bags 387 d eg>m?Y  
18.13  进一步研究 388 bnGA.b  
19  vStack 389 qpl5n'qHUc  
19.1  vStack基本原理 389 K^Ht$04  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 MQ44uHJ  
19.3  五棱镜 393 F 4/Uu"J:  
19.4 光束距离 396 Sg-xm+iSDt  
19.5 误差 399 eXK`%'  
19.6  二向分色棱镜 399 ?=kswf  
19.7  偏振泄漏 404 5WT\0]RUa  
19.8  波前误差—相位 405 2#3R]zIO  
19.9  其它计算参数 405 {rZ"cUm  
20  报表生成器 406 "tM/`:Qp  
20.1  入门 406 }Kt?0  
20.2  指令(Instructions) 406 Zi)b<tM q  
20.3  页面布局指令 406 N+5^h(~  
20.4  常见的参数图和三维图 407 =f!M=D  
20.5  表格中的常见参数 408 ~-d.3A$u  
20.6  迭代指令 408 4:$>,D\  
20.7  报表模版 408 DOe
KW  
20.8  开始设计一个报表模版 409 Z<W6Avr  
21  一个新的project 413 ak`)>  
21.1  创建一个新Job 414 "zbE  
21.2  默认设计 415 l #Q`f.  
21.3  薄膜设计 416 k5D'RD  
21.4  误差的灵敏度计算 420 KU,w9<~i(  
21.5  显色指数计算 422 $x;h[,y   
21.6  电场分布 424 %%6('wi  
后记 426 moR2iyO_  
Z@!W?Ed  
u9w&q^0dqG  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 v\,%)Z/  
2<Bv=B  
《Essential Macleod中文手册》 P*`xiTA  
Q/)ok$A&  
目  录 )H)Udhz  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 'V#ew\  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 w9$8t9$|  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 RWCS u$  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 1m;*fs  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Z4ioXl  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 !"%sp6Wc  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 v`^J3A  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 mwH!:f  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 od*Z$Hb>'  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 yB%)D0  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 Ch"8cl;Fm  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 -WvgK"k  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ^85n9a?8  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 <[:7#Yo g  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Cfo 8gX*  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 %aBJ+V F  
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价  格：400元