时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 b;GD/UI
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 j'0r'
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ^pnG0(9
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 N_Akmh0D
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
特邀专家介绍
Xz 4 x qTQ!jN 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
fyWO 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要
Zm
ogM7B 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
q2rUbU_A( 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲
o4b~4h{% 1. Essential Macleod软件介绍
!ZRs;UZ>o 1.1 介绍
软件 TBrGA
E 1.2 创建一个简单的设计
hsKmnH@# 1.3 绘图和制表来表示性能
`Y=WMNy 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
qT:zEt5 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
JRMM? y 1.6 特定设计的公式技术
'R<&d}@P*# 1.7 交互式绘图
efP&xk 2. 光学薄膜理论基础
Gfp1mev 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
X^9d/}uTa 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
eP.Vd7ky 3. 材料管理
k>jbcSY(z< 3.1 材料模型
llV3ka^! 3.2 介质薄膜光学常数的提取
;6ecrQMw& 3.3 金属薄膜光学常数的提取
eM7Bc4V 3.4 基板光学常数的提取
Zk8|K'oHx 4. 光学薄膜设计
优化方法
hw N?/5 4.1 参考
波长与g
Wo~vhv$E 4.2 四分之一规则
vIl+#9L0 4.3 导纳与导纳图
/walu+]h 4.4 斜入射光学导纳
JO<wK 4.5 光学薄膜设计的进展
;Vik5)D2D 4.6 Macleod软件的设计与优化功能
.\0isO 4.6.1 优化目标设置
>odbOi+X 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
%1 vsN-O}8 4.6.3 膜层锁定和链接
A\_ |un% 5. Essential Macleod中各个模块的应用
vDl- "!G1 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估
oh"O07 5.2 光通信用窄带滤光片模拟
<s5qy- 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
~_IHaw$hg 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟
v:Tzv^ 5.5 如何在Function中编写脚本
ZQ^r`W9_+ 6. 光学薄膜系统案例
-Y
Bd, k3 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等
gBh;=vOD 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等
/&F,V+x 6.3 Stack应用范例说明
'0y9MXRT 7. 薄膜性能分析
VvFC -r,=G 7.1 电场分布
0;4t&v7 7.2 公差与灵敏度分析
#_Z$2L"U 7.3 反演工程
r:&`$8$ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
o&AM2U/? 8. 真空技术
8t@p@Td| 8.1 常用真空泵介绍
P0H6mn* 8.2 真空密封和检漏
\0lnxLA 9. 薄膜制备技术
pj4!:{.; 9.1 常见薄膜制备技术
Hqnxq 10. 薄膜制备工艺
2aJS{[ 10.1 薄膜制备工艺因素
8]4U`\k4 10.2 薄膜均匀性修正技术
:=%0Mb: 10.3 光学薄膜监控技术
ZxV"(\$n 11. 激光薄膜
I$E.s*B9 11.1 薄膜的损伤问题
b@3_L4~ 11.2 激光薄膜的制备流程
pfu1O6R 11.3 激光薄膜的制备技术
JpsPNa 12. 光学薄膜特性测量
"&+"@< 12.1 薄膜
光谱测量
OGl$W>w1 12.2 薄膜光学常数测量
ebPgYxVZR 12.3 薄膜应力测量
:l|%17N 12.4 薄膜损伤测量
|#6QThK 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
MlLb|!,)T
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书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
|6=p{y
内容简介
N2.AKH Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
vad12WrG< 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
>.dWjb6t 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
5~mh'<: =K{\p`? 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
TuW %zF/ ^Y-]*8;] 目录
tmqY2. Preface 1
p-1 3H0Kt 内容简介 2
asY[8r?U 目录 i
(JM4R8fR& 1 引言 1
JaB<EL-9r2 2 光学薄膜基础 2
P!"&%d 2.1 一般规则 2
.U T@p 2.2 正交入射规则 3
4C}bJzZ 2.3 斜入射规则 6
pb#?l6x$+ 2.4 精确计算 7
GnP|x}YM 2.5 相干性 8
aW!@f[%~F 2.6 参考文献 10
z25m_[p2 3 Essential Macleod的快速预览 10
R+&jD;U{ 4 Essential Macleod的特点 32
G7N|
:YK 4.1 容量和局限性 33
pp7$J2s+j 4.2 程序在哪里? 33
i1S>yV^l 4.3 数据文件 35
gi0W;q 4.4 设计规则 35
$95h2oXt 4.5 材料数据库和
资料库 37
Qg6W5Hc 4.5.1材料损失 38
.BFYY13H 4.5.1材料数据库和导入材料 39
h6} lpd 4.5.2 材料库 41
} :Z#}8 4.5.3导出材料数据 43
SPp#f~%m 4.6 常用单位 43
v@e~k-# 4.7 插值和外推法 46
EvOJ~'2 Y% 4.8 材料数据的平滑 50
Mi]L]-L 4.9 更多光学常数模型 54
61xs%kxb.. 4.10 文档的一般编辑规则 55
bQ~j=\[r 4.11 撤销和重做 56
B" 3dQwQ 4.12 设计文档 57
;vt8R=T 4.10.1 公式 58
%;.;>Y(- 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
3E3HL7 4.10.3 沉积密度 59
~#kT_*sw) 4.10.4 平行和楔形介质 60
UKM2AZ0lb 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
uL[.ND2._& 4.10.4 性能 61
44-R! 4.10.5 保存设计和性能 64
7EXI6jGJ| 4.10.6 默认设计 64
b$Vz2Fzx 4.11 图表 64
_6wFba@>/n 4.11.1 合并曲线图 67
w:
>5=mfk 4.11.2 自适应绘制 68
+|tC'gCnV 4.11.3 动态绘图 68
@-+Q#
Zz` 4.11.4 3D绘图 69
A<W6=5h 4.12 导入和导出 73
D$T%\
P 4.12.1 剪贴板 73
n_'s=] ~ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
kYLM&&h 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
[H=) 4.13 背景 77
9'r:~O 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
y~75r\"R 4.15 生成Rugate 84
4._(| 4.16 参考文献 91
y
K"kEA[; 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
q`pP$i: 5.1 Jobs 92
)KP5WudX 5.2 创建一个新Job(工作) 93
L(U"U#QZ 5.3 输入材料 94
Fy.\7CL> 5.4 设计数据文件夹 95
5< ja3 5.5 默认设计 95
@'|)~,"bx 6 细化和合成 97
.-<k>9S7_ 6.1 优化介绍 97
1bH;!J 6.2 细化 (Refinement) 98
0Q^Ikiv 6.3 合成 (Synthesis) 100
Uf, 4 6.4 目标和评价函数 101
W8]lBh5~: 6.4.1 目标输入 102
DG?"5:Zd 6.4.2 目标 103
P LueVz 6.4.3 特殊的评价函数 104
d'Zqaaf k% 6.5 层锁定和连接 104
'D@- 6.6 细化技术 104
FXs*vg` 6.6.1 单纯形 105
L:z?Zt)| 6.6.1.1 单纯形
参数 106
ca>Z7qT! 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
&\Amn?Iq 6.6.2.1 Optimac参数 108
z(H^..<!5 6.6.3 模拟退火算法 109
3mOtW%Hl 6.6.3.1 模拟退火参数 109
G>q(iF' 6.6.4 共轭梯度 111
ezMI\r6 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
E<c9#I= 6.6.5 拟牛顿法 112
FHC\?Cg 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
6qp%$>$Vt; 6.6.6 针合成 113
#es9d3~\ 6.6.6.1 针合成参数 114
LA`*_|}qcR 6.6.7 差分进化 114
Qm/u h 6.6.8非局部细化 115
w08?DD]CDt 6.6.8.1非局部细化参数 115
m'f,_ \' 6.7 我应该使用哪种技术? 116
d$
^ ,bL2p 6.7.1 细化 116
zSFDUZ]A3 6.7.2 合成 117
l~M_S<4n 6.8 参考文献 117
vPD]hs 7 导纳图及其他工具 118
&cu lbcz 7.1 简介 118
qBCK40 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
rSJ9v: 7.2.1 四分之一波长规则 119
WH= EPOR, 7.2.2 导纳图 120
%wSj%>&-R 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
p1|f<SF') 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
(x3.poSt 7.5 斜入射导纳图 141
WoBo9aR 7.6 对称周期 141
MzL1Bh!M 7.7 参考文献 142
p8]68!=W\F 8 典型的镀膜实例 143
/jRRf"B 8.1 单层抗反射薄膜 145
*;Ed*ibf 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
vo#UtN:q 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
V?=8".GiX 8.4 W-膜层 148
DuOG { 8.5 V-膜层 149
QV&D l_ 8.6 V-膜层高折射基底 150
9J?wO9rI 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
X3V'Cy/sy 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
6C+"`(u%V 8.9 四层抗反射薄膜 153
8f3vjK' 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
J52
o
g4l 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
:at$HCaK 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
Ba/Yl 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
]~E0gsq 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
4A2?Uhpy 8.15十五层宽带抗反射膜 159
l@ap]R 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
nTz6LVF 8.17 1/4波长堆栈 162
<Ce2r"U1e 8.18 陷波滤波器 163
<0PT"ij 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
yd?x=| 8.20 褶皱 165
-Q
U^c2 8.21 消偏振分光器1 169
H
`(exa:w 8.22 消偏振分光器2 171
^)W[l!!<) 8.23 消偏振立体分光器 172
cwL1/DGDB 8.24 消偏振截止滤光片 173
L_K=g_] 8.25 立体偏振分束器1 174
~R@Nd~L 8.26 立方偏振分束器2 177
[NTtz
<i@ 8.27 相位延迟器 178
6%VV,$p 8.28 红外截止器 179
6MxKl
D7kl 8.29 21层长波带通滤波器 180
?A )hN8 8.30 49层长波带通滤波器 181
](^(=% 8.31 55层短波带通滤波器 182
ti<;7Yb
8.32 47 红外截止器 183
C,.Ee3T 8.33 宽带通滤波器 184
!1G ."fo 8.34 诱导透射滤波器 186
ME=/|.}D< 8.35 诱导透射滤波器2 188
oun;rMq 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190
?:L:EW8 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192
V@\%)J'g 8.35 增益平坦滤波器 193
T
N!=@Gy 8.38 啁啾反射镜 1 196
+fnK/%b 8.39 啁啾反射镜2 198
tT79p.z B 8.40 啁啾反射镜3 199
izx#3u$P 8.41 带保护层的铝膜层 200
Yp:KI7 8.42 增加铝反射率膜 201
jvQ*t_L 8.43 参考文献 202
xSBc-u#< G 9 多层膜 204
QurW/a 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204
l}lIi8 9.2 内部透过率 204
<bD>m[8, 9.3 内部透射率数据 205
&|`C)6[C 9.4 实例 206
E{n:J3_X^d 9.5 实例2 210
+a*^{l}AST 9.6 圆锥和带宽计算 212
D2,z)O%VK 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214
bcZf>:gVf 10 光学薄膜的颜色 216
wX*K]VMn 10.1 导言 216
D11F.McM 10.2 色彩 216
5Fz.Y} 10.3 主波长和纯度 220
2^^=iU=!<| 10.4 色相和纯度 221
_IdRF5<4 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222
YXI'gn2b# 10.6 色差 226
bN3#{l-` 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227
r]0
lo- 10.8 颜色渲染指数 234
YLVPAODY 10.9 色差计算 235
v$ub~Q6W 10.10 参考文献 236
;IpT} , 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
gy;+_'.j 11.1 短脉冲 238
5P'p2x#U 11.2 群速度 239
cDI [PJ9 11.3 群速度色散 241
ru7RcYRq 11.4 啁啾(chirped) 245
_Dwqy( 11.5 光学薄膜—相变 245
@GvztVYo 11.6 群延迟和延迟色散 246
>X51$wBL 11.7 色度色散 246
WsDM{1c 11.8 色散补偿 249
2 6>ZW4Z 11.9 空间
光线偏移 256
=?-ye!w 11.10 参考文献 258
8dlw-Q'S 12 公差与误差 260
XduV+$03 12.1 蒙特卡罗模型 260
[S@}T
zE 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267
}E7:ihy 12.2.1 误差工具 267
a:_I 12.2.2 灵敏度工具 271
8Y#\xzod 12.2.2.1 独立灵敏度 271
G!XIc>F* 12.2.2.2 灵敏度分布 275
_fwb!T}$ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276
36n>jS& 12.3 参考文献 276
.&x}NYX4 13 Runsheet 与Simulator 277
)nd\7|5# 13.1 原理介绍 277
X7g3 13.2 截止滤光片设计 277
Rtjqx6-B; 14 光学常数提取 289
A%2:E^k(s 14.1 介绍 289
ZlojbL@|4 14.2 电介质薄膜 289
-$,%f? 14.3 n 和k 的提取工具 295
/QEiMrz@6 14.4 基底的参数提取 302
C-?!S 14.5 金属的参数提取 306
PTS]7 14.6 不正确的模型 306
/NFz4h=> 14.7 参考文献 311
aceZ3U>W 15 反演工程 313
ILic.@st 15.1 随机性和系统性 313
x{&w?ng 15.2 常见的系统性问题 314
wWXD\{Hk 15.3 单层膜 314
)aX2jSp 15.4 多层膜 314
_0 m\[t. 15.5 含义 319
$v b,P( 15.6 反演工程实例 319
Zx$ol;Yd 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320
-`Y:~q1 15.6.2 反演工程提取折射率 327
~RD+.A 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329
4&cL[Ny 16.1 光学性质的热致偏移 329
.{S8f#p9T 16.2 应力工具 335
"p3_y`h6+ 16.3 均匀性误差 339
p\Lq}tk< 16.3.1 圆锥工具 339
q-Qxbg[>e 16.3.2 波前问题 341
oW;6h. 16.4 参考文献 343
Bu]t*$ 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345
1R.4:Dn_ 17.1 引言 345
WX4;l(PL= 17.2 操作数 345
=@)d5^<5F 18 如何在Function中编写脚本 351
cc44R|Kr$$ 18.1 简介 351
|0z;K:5s 18.2 什么是脚本? 351
!SKV!xH9 18.3 Function中脚本和操作数对比 351
=KT7nl 18.4 基础 352
UgN28YrW 18.4.1 Classes(类别) 352
x^*1gv $o 18.4.2 对象 352
DKmZ 18.4.3 信息(Messages) 352
qSx(X!YS 18.4.4 属性 352
pZZf[p^s| 18.4.5 方法 353
p*l$Wj 18.4.6 变量声明 353
<*EZ@XoN> 18.5 创建对象 354
4"=Vq5 18.5.1 创建对象函数 355
gip/(/NX 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355
9,]5v+ 18.5.3 丢弃对象 356
`O6:t\d@ 18.5.4 总结 356
,pBh`av 18.6 脚本中的表格 357
A%\tiZe 18.6.1 方法1 357
j!z-)p8hy 18.6.2 方法2 357
0W^dhYO 18.7 2D Plots in Scripts 358
O3o: qly! 18.8 3D Plots in Scripts 359
jw
,izxia 18.9 注释 360
$c&0F, 18.10 脚本管理器调用Scripts 360
1=2^90 18.11 一个更高级的脚本 362
},[;O^Do^{ 18.12 <esc>键 364
yGpz,X4x 18.13 包含文件 365
[4J6iF 18.14 脚本被优化调用 366
bY~@}gC**@ 18.15 脚本中的对话框 368
,DnYtIERo 18.15.1 介绍 368
4@;-%H&7 18.15.2 消息框-MsgBox 368
P;]F=m+*V 18.15.3 输入框函数 370
Wn|&cG9 18.15.4 自定义对话框 371
+1 eCvt:, 18.15.5 对话框编辑器 371
OJb*VtZz5R 18.15.6 控制对话框 377
+{53a_q 18.15.7 更高级的对话框 380
s0hBbL0DH 18.16 Types语句 384
/( 6|{B 18.17 打开文件 385
-p-0;Hy 18.18 Bags 387
Cz^Q5F` 18.13 进一步研究 388
]=F8p2w? 19 vStack 389
6yAA~;*5' 19.1 vStack基本原理 389
nF)uTk 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391
/b,TpuM^ 19.3 五棱镜 393
tK%c@gGU9 19.4 光束距离 396
D';eTy Y 19.5 误差 399
y 0ckm6^ 19.6 二向分色棱镜 399
!~-6wN"k 19.7 偏振泄漏 404
8X&Ya = 19.8 波前误差—相位 405
8n?kZY$, 19.9 其它计算参数 405
#Tp]^
n 20 报表生成器 406
[{&jr]w`| 20.1 入门 406
G.U5)4_^ 20.2 指令(Instructions) 406
%1:c hvS 20.3 页面布局指令 406
}PeZO!K 20.4 常见的参数图和三维图 407
mW`oq 20.5 表格中的常见参数 408
V7t!?xOL 20.6 迭代指令 408
>adV(V< 20.7 报表模版 408
?H R%bngK 20.8 开始设计一个报表模版 409
/2NSZO 21 一个新的project 413
w>~M}Ahj 21.1 创建一个新Job 414
Wf>^bFb"$ 21.2 默认设计 415
G{
mC7@ 21.3 薄膜设计 416
K6pR8z*? 21.4 误差的灵敏度计算 420
5@u~3jPd 21.5 显色指数计算 422
%kU'hzLg 21.6 电场分布 424
Q* O<@ 后记 426
CHaE;olo *i<\iMoW pvXcLR)L+3 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》
[B6DC`M rj H` 《Essential Macleod中文手册》
M1u{A^d.Z <`g3(? 目 录
i</J @0}y ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析
;rBp1[qVe 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3
Rs$5PdH 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17
5 d ;|=K 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44
PJ 9%/Nrh 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100
[N|xzMe 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111
E8/rZ~0O~ 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120
YL^Z4: p 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167
YL5>V$i 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200
u3dsQU 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213
:):zNn_>` 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251
t =dO 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284
uu}-"/<~7 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297
2@MN]Low 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307
wq72%e 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312
n,KA&)/s 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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价 格:400元