[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 HO_!/4hrU  
G' '9eV$  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Ie]k/qw+Y  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 O))YJh"'_  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 r_hs_n!6  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 at+Nd K  
1. Essential Macleod软件介绍 ^M)+2@6  
1.1 介绍软件 `iNH`:[w  
1.2 创建一个简单的设计 5X73@Aj  
1.3 绘图和制表来表示性能 A2.GNk  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 XI+GWNAmJ  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） %"Ia]0  
1.6 特定设计的公式技术 ` 7P%muY.  
1.7 交互式绘图 =D&XE*qkZ  
2. 光学薄膜理论基础 K(,MtY*  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ,m Nd#  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 JT!
Cb$!  
3. 材料管理 I {%Y0S  
3.1 材料模型 60G(jO14  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 \iRmGvT  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 !l-Q.=yw  
3.4 基板光学常数的提取
l@0${&n  
4. 光学薄膜设计优化方法 P0/Ctke;  
4.1 参考波长与g /Un\P  
4.2 四分之一规则 8'ut[  
4.3 导纳与导纳图 .L~ NX/V  
4.4 斜入射光学导纳 y(wb?86#W5  
4.5 光学薄膜设计的进展 25j?0P"&  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 jmG)p|6  
4.6.1 优化目标设置 I|l5e2j  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） e>m+@4*sn  
4.6.3 膜层锁定和链接 7_R[=t  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 zZW5M^z8  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 "%YVAaN  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ceuEsQ}  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Ss3~X90!*B  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 PpLiH9}  
5.5 如何在Function中编写脚本 `MHixQ;j  
6. 光学薄膜系统案例 dT{GB!jz  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 _^g4/G#13c  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ]9-iEQ  
6.3 Stack应用范例说明 t`Rbn{  
7. 薄膜性能分析 TBIr^n>Z<k  
7.1 电场分布 DX^8w?t  
7.2 公差与灵敏度分析 nvCp-Z$  
7.3 反演工程 UIkO_/}  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 #uV J  
8. 真空技术 <MKXFV  
8.1 常用真空泵介绍 -z
UBK  
8.2 真空密封和检漏 #iQF)x| D  
9. 薄膜制备技术 wRZFBf~ :  
9.1 常见薄膜制备技术 J/QqwoR  
10. 薄膜制备工艺 ($Op*bR  
10.1 薄膜制备工艺因素 aCJ-T8?'  
10.2 薄膜均匀性修正技术 9^8_^F  
10.3 光学薄膜监控技术
voFg6zoV_  
11. 激光薄膜 r0@s3/  
11.1 薄膜的损伤问题 K_n GZ/`[  
11.2 激光薄膜的制备流程 ILx4[m7  
11.3 激光薄膜的制备技术 o@hj.)u  
12. 光学薄膜特性测量 O)ose?Z  
12.1 薄膜光谱测量 W7c B  
12.2 薄膜光学常数测量 OrF.wcg  
12.3 薄膜应力测量 [%P[ x]-  
12.4 薄膜损伤测量 nly}ly Q/  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 III:jhh  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 (! 8y~n1  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 +tlBOl$  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 
}ikN  
s)?GscPG!  
OnU-FX<  
;n.h!wmJ}  
目录 ^G 'n z  
Preface 1 mHAfKB  
内容简介 2 YS@TQ?  
目录 i H )>3c1  
1  引言 1 t>OEzUd9  
2  光学薄膜基础 2 {>PEl;,-  
2.1  一般规则 2 N]14~r=  
2.2  正交入射规则 3 `\P1Ff@z0  
2.3  斜入射规则 6 `Z#':0Z  
2.4  精确计算 7 AyW=.  
2.5  相干性 8 JIjo^zOXsc  
2.6 参考文献 10 ao0^;  
3  Essential Macleod的快速预览 10 >JA>np  
4  Essential Macleod的特点 32 hT,rcIkg:  
4.1  容量和局限性 33 mfF `K2R  
4.2  程序在哪里？ 33 x}O,xquY  
4.3  数据文件 35
cs_  
4.4  设计规则 35 TyA1Qk\  
4.5  材料数据库和资料库 37 .S1MxZhbP  
4.5.1材料损失 38 ?`xm_udc  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ]
jPP]Z:y  
4.5.2 材料库 41 WJ)4rQ$o  
4.5.3导出材料数据 43 IlwHHt;njp  
4.6  常用单位 43 a#G3dY>  
4.7  插值和外推法 46 MBLDxsZ-  
4.8  材料数据的平滑 50 %pH|2VB#  
4.9 更多光学常数模型 54 4<vi@,s  
4.10  文档的一般编辑规则 55 FhPCFmmUT  
4.11 撤销和重做 56 @
h_ bXo  
4.12  设计文档 57 }D?qj3?bj  
4.10.1  公式 58 "'GhE+>Z  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 yyk@f%  
4.10.3  沉积密度 59 I}f7|hYX  
4.10.4 平行和楔形介质 60 19-V;F@;  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 b
o@ ?`5  
4.10.4  性能 61 j:>0XP  
4.10.5  保存设计和性能 64 ^fyue~9u  
4.10.6  默认设计 64 34[TM3L].  
4.11  图表 64 p@Cas  
4.11.1  合并曲线图 67 !! )W`  
4.11.2  自适应绘制 68 k.jBu  
4.11.3  动态绘图 68 eMdf[eS  
4.11.4  3D绘图 69 =9`UcTSi6p  
4.12  导入和导出 73 /u_9uJ"-K(  
4.12.1  剪贴板 73 4*9t:D|}  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ?Bl/bY$*h  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 NZ0?0*  
4.13  背景 77 ASrRMH[  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Sv0?_3C  
4.15  生成Rugate 84 hF5T9^8  
4.16  参考文献 91 >@ xe-0z  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 !*HJBZ]q  
5.1  Jobs 92 Yh;(puhyA  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 NQ;$V:s)  
5.3  输入材料 94 r{84Y!k~*  
5.4  设计数据文件夹 95 WRAL/  
5.5  默认设计 95 1X`,7B@pz  
6  细化和合成 97 z]C=nXbk  
6.1  优化介绍 97 g oyQ',+  
6.2  细化 (Refinement) 98 >dJ~  
6.3  合成 (Synthesis) 100 '*&dP"  
6.4  目标和评价函数 101 :<k (y?GB  
6.4.1  目标输入 102 S0gxVd(  
6.4.2  目标 103 <5 OUk  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Y)$%-'=b+  
6.5  层锁定和连接 104 RLL%l  
6.6  细化技术 104 /3tErc'  
6.6.1  单纯形 105 _Gaem"k|  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ?Yf v^DQ5  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 = &?&}pVF  
6.6.2.1 Optimac参数 108 #qR6TM&;  
6.6.3  模拟退火算法 109 PB.'huu  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 7fO<=ei:  
6.6.4  共轭梯度 111 ?8?vBkz~  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2/tx5Nc  
6.6.5  拟牛顿法 112 MxT&@pq  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 ;ND[+i2MN  
6.6.6  针合成 113 aI;$N|]u  
6.6.6.1 针合成参数 114 U<q`f-  
6.6.7 差分进化 114 vfvp#  
6.6.8非局部细化 115
W,[QK~  
6.6.8.1非局部细化参数 115 H?M:<q0|G  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 f-|zh#L  
6.7.1 　细化 116 ]4V1]  
6.7.2　 合成 117 V/#J>-os}W  
6.8  参考文献 117 <|?)^;R5!  
7  导纳图及其他工具 118 _x3=i\O,  
7.1  简介 118 X%&7-P
O  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 #gT"G1
8/!  
7.2.1  四分之一波长规则 119 B:0oT  
7.2.2  导纳图 120 Oq,@{V@)9k  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 K|$c#X  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 o|y_j49  
7.5  斜入射导纳图 141 d=8.cQL:E  
7.6  对称周期 141 <6Y;VH^_  
7.7  参考文献 142 ys>n%24qP  
8  典型的镀膜实例 143 }YBuS3{  
8.1  单层抗反射薄膜 145 z07&P;W!{  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 0bc>yZ\R  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 .-mIU.Nwi  
8.4  W-膜层 148
.boBb<  
8.5  V-膜层 149 8 l)K3;q_  
8.6  V-膜层高折射基底 150 V_D wHq2  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 g-_=$#&{  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 G3+e5/0  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ts@Z5Yw*!  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 tc)Md]S  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 im9EV|;  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 k\;D;e{  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ~TXu20c  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 p-)@#hE  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 0zT-]0  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 $gz8! f?  
8.17  1/4波长堆栈 162 GD d'{qE6  
8.18  陷波滤波器 163 LklE,W  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 z;2& d<h  
8.20  褶皱 165 vO&X<5?Qc  
8.21  消偏振分光器1 169 \9tJ/~   
8.22  消偏振分光器2 171 V9}\0joM  
8.23  消偏振立体分光器 172 `Npo|.?=  
8.24  消偏振截止滤光片 173 8IWT;%  
8.25  立体偏振分束器1 174 8v8-5N  
8.26  立方偏振分束器2 177 n3&h1-  
8.27  相位延迟器 178 hCF_pt+  
8.28  红外截止器 179 KnA BFH  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ":qHDL3  
8.30  49层长波带通滤波器 181 }~PG]A  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Ja4M@z  
8.32  47 红外截止器 183 NB'G{),)Z  
8.33  宽带通滤波器 184 D]aQt%TL  
8.34  诱导透射滤波器 186 Gf
9sexn]l  
8.35  诱导透射滤波器2 188 d}Guj/cx,  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 @&&}J  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 'jE/Tre^  
8.35  增益平坦滤波器 193 S^|`*%pq  
8.38  啁啾反射镜 1 196 )m8Gbkj<  
8.39  啁啾反射镜2 198 IBeorDIZ  
8.40  啁啾反射镜3 199 x7^VU5w#  
8.41  带保护层的铝膜层 200 LEtGrA/%@b  
8.42  增加铝反射率膜 201 ~xc/Dsb$  
8.43  参考文献 202 R[m{"2|,Lc  
9  多层膜 204 "M/) LXn:0  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 2Og5e  
9.2  内部透过率 204 <oT1&C{  
9.3 内部透射率数据 205 $M0l (htR  
9.4  实例 206 \?Z7|  
9.5  实例2 210 L'`Au/%S}  
9.6  圆锥和带宽计算 212 i M MKA0JM  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 @6+_0^  
10  光学薄膜的颜色 216 \>wQyz  
10.1  导言 216 8au Gz ,"  
10.2  色彩 216 A&B|n!;b  
10.3  主波长和纯度 220 %g5#q64  
10.4  色相和纯度 221 M=95E$6  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 z^T;d^OJc  
10.6 色差 226 IgwHC0W  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 %O#zE-H"  
10.8  颜色渲染指数 234 O
vwoU=u  
10.9  色差计算 235 FNOsw\Bo  
10.10  参考文献 236 Akc |E!V  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 oHv.EO  
11.1  短脉冲 238 ik)u/r DW  
11.2  群速度 239 1i.3P$F  
11.3  群速度色散 241 >Z3>  
11.4  啁啾(chirped) 245 qa@;S,lp  
11.5  光学薄膜—相变 245 Hhk`yX c_  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ]3='TN8aQF  
11.7  色度色散 246 |Rx+2`6Dp  
11.8  色散补偿 249 fr04n
l  
11.9  空间光线偏移 256 _yH">x<  
11.10  参考文献 258 T95FoA  
12  公差与误差 260 h`O$L_Z  
12.1  蒙特卡罗模型 260 hS &H*  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 $0P16ZlPC  
12.2.1  误差工具 267 # c1LOz  
12.2.2  灵敏度工具 271 Tmu2G/yi  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 '~f*O0_  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 JBOU$A~  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 k'&1,78[l  
12.3  参考文献 276 =N\$$3m?  
13  Runsheet 与Simulator 277 3*j1v:x`  
13.1  原理介绍 277 ThW9=kzQW  
13.2  截止滤光片设计 277 |x&4vHXR0  
14  光学常数提取 289 e&8Meiv+d  
14.1  介绍 289 L8'4d'N+>  
14.2  电介质薄膜 289 {6Nbar@3  
14.3  n 和k 的提取工具 295 A/}[Z\C  
14.4  基底的参数提取 302 l:u1P  
14.5  金属的参数提取 306 $RF.L
Vc  
14.6  不正确的模型 306 f>cUdEPBb  
14.7  参考文献 311 NM),2%<  
15  反演工程 313 ,\3Cq2h  
15.1  随机性和系统性 313 F g):>];<9  
15.2  常见的系统性问题 314 qM 1ZCt  
15.3  单层膜 314 g[@0H=  
15.4  多层膜 314 UA6 C/  
15.5  含义 319 A0;{$/  
15.6  反演工程实例 319 &dj/
Dq@  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 +jq@!P"}d  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ^!k_"C)B  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Zs3xoIW7Ai  
16.1  光学性质的热致偏移 329 8::y5Yv]  
16.2  应力工具 335 sRcS-Yw[S  
16.3  均匀性误差 339 [J eq ?X9  
16.3.1  圆锥工具 339 j
w\4`NZ]  
16.3.2  波前问题 341 Rc D5X{qS#  
16.4  参考文献 343 Q;=4']hYU  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 A~k: m0MX  
17.1  引言 345 #wvGS%
 
17.2  操作数 345 fMW=ss^fu-  
18  如何在Function中编写脚本 351 }z\t}lven  
18.1  简介 351 =c#mR" 1  
18.2  什么是脚本？ 351 fo/sA9  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 2Z<S^9O9  
18.4  基础 352 0v1~#KCm  
18.4.1  Classes（类别） 352 pK_zq  
18.4.2  对象 352 ;"9Ks.  
18.4.3  信息（Messages） 352 Rw[!J
q  
18.4.4  属性 352 Wie0r@5E  
18.4.5  方法 353 .v+J@Y a  
18.4.6  变量声明 353 3|G~_'`RLt  
18.5  创建对象 354 J &=5h.G$  
18.5.1  创建对象函数 355 SLNOOEN  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 F`,bFQ  
18.5.3 丢弃对象 356 eDNY|}$}v  
18.5.4  总结 356 3]'h(C  
18.6  脚本中的表格 357 6wq%4RI0  
18.6.1  方法1 357 vKdS1Dn1  
18.6.2  方法2 357 i^ILo,Q  
18.7 2D Plots in Scripts 358 oHSDi  
18.8 3D Plots in Scripts 359 "OkZ [E)  
18.9  注释 360 |@R/JGB^  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 R&P^rrC@B5  
18.11  一个更高级的脚本 362 9M|#X1r{%{  
18.12  <esc>键 364 3y:),;|5  
18.13 包含文件 365 69uDc  
18.14  脚本被优化调用 366 K@osD7-  
18.15  脚本中的对话框 368 `\3RFr  
18.15.1  介绍 368 o?.VW/"  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 i{Q,>Rt  
18.15.3  输入框函数 370 +Bt%W%_X  
18.15.4  自定义对话框 371 \sW>Y#9]  
18.15.5  对话框编辑器 371 J]48th0,  
18.15.6  控制对话框 377 ~G^+.
>j  
18.15.7  更高级的对话框 380 w`#9Re  
18.16 Types语句 384 L!ms{0rJ  
18.17 打开文件 385 0BjP|API  
18.18 Bags 387 LT,zk)5  
18.13  进一步研究 388 P$clSJ
W  
19  vStack 389 1O)m(0tb[  
19.1  vStack基本原理 389 76c:*bZ  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 dOgc%(kz  
19.3  五棱镜 393 B&*`A&^y  
19.4 光束距离 396  @_WZZ  
19.5 误差 399 .)FFl  
19.6  二向分色棱镜 399 ;\/RgN  
19.7  偏振泄漏 404 w/(2fU(  
19.8  波前误差—相位 405 _71I9V&  
19.9  其它计算参数 405 ;1TQr3w  
20  报表生成器 406 "oR%0pU*  
20.1  入门 406 [$\VvRu%  
20.2  指令(Instructions) 406 poqNiOm4%  
20.3  页面布局指令 406 sN1I
+X  
20.4  常见的参数图和三维图 407 2Aa  
20.5  表格中的常见参数 408 YQO9$g0% ~  
20.6  迭代指令 408 *;T HD>  
20.7  报表模版 408 |hu9)0P  
20.8  开始设计一个报表模版 409 scd}{Y  
21  一个新的project 413 =}SC .E\  
21.1  创建一个新Job 414 LN'})CI8m  
21.2  默认设计 415 T^Xum2Ec  
21.3  薄膜设计 416 JVPLE*T  
21.4  误差的灵敏度计算 420 <2I<Z'B,e  
21.5  显色指数计算 422 g9=O<u#  
21.6  电场分布 424 2>Kn'p  
后记 426 ?U~`'^@  
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I[LHJ4  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 f+QDjJ?z  
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《Essential Macleod中文手册》 ~llw_w  
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目  录 anUH'mcK*  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 6bbzgULl  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 a 0qDRB  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 RUV:  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 wF['oUwHH  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 QUc&f+~  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 YJ01-  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 F4&`0y:  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ~t.i;eu  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 r5!Sps3B  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 hOcVxSc.  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 6 &MATMR  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 <\\,L@  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 .+`Z:{:BC&  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 0tN/P+!|  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 E uk[ @1  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ]y/!GFQ  
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价  格：400元