[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 ;]iRk  

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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ?0SEMmp`H  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 xmX 4qtAL  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 u"8yK5!  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 '7/)Ot(  
1. Essential Macleod软件介绍 OPi

0~s  
1.1 介绍软件 `gJ(0#ac  
1.2 创建一个简单的设计 S:Hl/:iV  
1.3 绘图和制表来表示性能 \8 ":]EU  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 nEfK53i_  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） (ZGbhMK  
1.6 特定设计的公式技术 U(Zq= M  
1.7 交互式绘图 ]yu:i-SfP  
2. 光学薄膜理论基础 y2v^-q3  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 _&x%^&{  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ;*N5Y}?j'  
3. 材料管理 :A
l!1BJQ
 
3.1 材料模型 @,}UWU  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Bwrx*J  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 =vPj%oLp'a  
3.4 基板光学常数的提取 So;<6~  
4. 光学薄膜设计优化方法 XG?8s &  
4.1 参考波长与g yX5\gO6G  
4.2 四分之一规则 B[}6-2<>?C  
4.3 导纳与导纳图 N;R^h? '  
4.4 斜入射光学导纳 ==B6qX8T  
4.5 光学薄膜设计的进展 S@Y39  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 edD)TpmE,  
4.6.1 优化目标设置 7,MR*TO,  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） pdMc}=K  
4.6.3 膜层锁定和链接 :DNjhZ  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 vIvIfE  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 )_:NLo:  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ;|RTx  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 teP<!RKNb  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 NRuNKl.v  
5.5 如何在Function中编写脚本 }b}m3i1  
6. 光学薄膜系统案例 hb-%_c"kq  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 z{543~Og59  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 _GPe<H  
6.3 Stack应用范例说明 3R/bz0 V>  
7. 薄膜性能分析 fJ\[*5eiS  
7.1 电场分布 vI?, 47Hj+  
7.2 公差与灵敏度分析 0_/[k*Re  
7.3 反演工程 >~f]_puT  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 TvM~y\s  
8. 真空技术 "tZe>>I  
8.1 常用真空泵介绍 t-AmX)$  
8.2 真空密封和检漏 K}y f>'O  
9. 薄膜制备技术 AX INThJ  
9.1 常见薄膜制备技术 cNrg#Asen&  
10. 薄膜制备工艺 /1 dT+>  
10.1 薄膜制备工艺因素 XZf$K_F&M  
10.2 薄膜均匀性修正技术 +3gp%`c4  
10.3 光学薄膜监控技术 ^q&x7Kv%  
11. 激光薄膜 *a)n62  
11.1 薄膜的损伤问题 !Cs_F&l"j  
11.2 激光薄膜的制备流程 X2_=agEP  
11.3 激光薄膜的制备技术 y5r4&~04  
12. 光学薄膜特性测量 l{9Y  
12.1 薄膜光谱测量 \['Cj*ek  
12.2 薄膜光学常数测量 VTM/hJmwJ  
12.3 薄膜应力测量 +q4O D$}  
12.4 薄膜损伤测量 aXVFc5C\  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 hgmCRC  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Xvv6~  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 F [M,]?   
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 6863xOv{T  
\+etCo   
_t$sgz&  
?[AD=rUC  
目录 wJ]d&::@h  
Preface 1 F2WKd1U  
内容简介 2 sK{e*[I>W  
目录 i [
3Gf2_  
1  引言 1 7v kL1IA  
2  光学薄膜基础 2 0[`^\Mv4y  
2.1  一般规则 2 _#niyW+?~  
2.2  正交入射规则 3 r$1Qf}J3=  
2.3  斜入射规则 6 s1rCpzK0  
2.4  精确计算 7 *|0 -~u%q  
2.5  相干性 8 yfSmDPh  
2.6 参考文献 10 m*pJBZxd  
3  Essential Macleod的快速预览 10 2T35{Q!=F  
4  Essential Macleod的特点 32 M{@(G5  
4.1  容量和局限性 33 YVU7wW,1  
4.2  程序在哪里？ 33 y `UaB3q  
4.3  数据文件 35 P?\6@_ Z  
4.4  设计规则 35 M7T5 ~/4  
4.5  材料数据库和资料库 37 bsX[UF
  
4.5.1材料损失 38 ,hVli/   
4.5.1材料数据库和导入材料 39 8r{.jFGv  
4.5.2 材料库 41 KwS@D9bok  
4.5.3导出材料数据 43 .3;;;K9a~]  
4.6  常用单位 43 vt8By@]:  
4.7  插值和外推法 46 *VcJ= b 2Y  
4.8  材料数据的平滑 50 X, n:,'  
4.9 更多光学常数模型 54 JI}'dU>*U:  
4.10  文档的一般编辑规则 55 }j%5t ~Qa  
4.11 撤销和重做 56 Y|n"dMrL  
4.12  设计文档 57 UVP vOtZj  
4.10.1  公式 58 N['.BN  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 yA
t^;  
4.10.3  沉积密度 59 [~HN<>L@C  
4.10.4 平行和楔形介质 60 wp_0+$?s  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 A&VG~r$  
4.10.4  性能 61 *pq\MiD/  
4.10.5  保存设计和性能 64 nUO0Ce
 
4.10.6  默认设计 64 v+XJ*N[W  
4.11  图表 64 3S{/>1Y  
4.11.1  合并曲线图 67 RP"kC4~1  
4.11.2  自适应绘制 68 ueudRb  
4.11.3  动态绘图 68 ;TYBx24vD'  
4.11.4  3D绘图 69 l**X^+=$  
4.12  导入和导出 73 _XBd3JN@
 
4.12.1  剪贴板 73 /xhKd]Q  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 CTb%(<r  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 5O%{{J  
4.13  背景 77 qm}@!z^  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 A"]YM'.  
4.15  生成Rugate 84 ^W^OfY  
4.16  参考文献 91 >6T8^Nt  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 >7|VR:U?B  
5.1  Jobs 92 eFgA 8kY)  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 occ7zcA  
5.3  输入材料 94 G\i
9:7 `  
5.4  设计数据文件夹 95 Tk
}]Gev  
5.5  默认设计 95 A^g(k5M*  
6  细化和合成 97 8LKiS  
6.1  优化介绍 97 & 21%zPm  
6.2  细化 (Refinement) 98 .Mbz3;i0  
6.3  合成 (Synthesis) 100 tw;}jh  
6.4  目标和评价函数 101 *@5@,=d  
6.4.1  目标输入 102 a(nlTMfu  
6.4.2  目标 103 7.Op<  
6.4.3  特殊的评价函数 104 0B2t"(&  
6.5  层锁定和连接 104 4RO}<$Nx}  
6.6  细化技术 104 ]^E?;1$f?  
6.6.1  单纯形 105 ye&;(30Oq  
6.6.1.1 单纯形参数 106 =cI(d ,  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 CJY$G}rk  
6.6.2.1 Optimac参数 108 P:c w|Q  
6.6.3  模拟退火算法 109 ^q5#ihM  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 oR'm2d^  
6.6.4  共轭梯度 111 zX[U~.  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 u9e@a9c  
6.6.5  拟牛顿法 112 )nkY_'BV  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 ^qs $v06  
6.6.6  针合成 113 Z@HEj_n  
6.6.6.1 针合成参数 114 D*jM1w_`  
6.6.7 差分进化 114 /uflpV|  
6.6.8非局部细化 115 q9"96({\@  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Wr 4,YQM  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 l?e.9o2-  
6.7.1 　细化 116 E GU2fA7x  
6.7.2　 合成 117 <'u'#E@"sl  
6.8  参考文献 117 ?,z}%p  
7  导纳图及其他工具 118 oH@78D0A  
7.1  简介 118 P.cyO3l  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 J.a]K[ci  
7.2.1  四分之一波长规则 119 *dQSw)R  
7.2.2  导纳图 120 F9PxSk_\9  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ,tFg4k[  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 &C}*w2]0S  
7.5  斜入射导纳图 141 4#D,?eA7  
7.6  对称周期 141 00
(\ZUj  
7.7  参考文献 142 )0
`C@um  
8  典型的镀膜实例 143 ,1`z"7\W  
8.1  单层抗反射薄膜 145 10&8-p1/mc  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Rq-ZL{LR7  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 VbYdZCC  
8.4  W-膜层 148 LVyyO3e  
8.5  V-膜层 149 5x
i
EPh  
8.6  V-膜层高折射基底 150 zLQx%Yg!  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 *. t^MP  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 "]*tLL:`  
8.9  四层抗反射薄膜 153 g)-te+
?6  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 +A+)=/i;  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Uo49*Mr  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 I%):1\)  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157
Ry&6p>-  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158  " bG2:  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 8ag!K*\V<  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 WH\d| 1)  
8.17  1/4波长堆栈 162 +@UV?"d  
8.18  陷波滤波器 163 @Qe0! (_=  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 pH;%ELZ  
8.20  褶皱 165 %T[]zJ(  
8.21  消偏振分光器1 169 ceA9){  
8.22  消偏振分光器2 171 SbZ6t$"  
8.23  消偏振立体分光器 172 u*R_\*j@  
8.24  消偏振截止滤光片 173 MV"=19]  
8.25  立体偏振分束器1 174 +ZYn? #IQ  
8.26  立方偏振分束器2 177 ]e3Ax(i)  
8.27  相位延迟器 178 =4!mAo}  
8.28  红外截止器 179 KvSG;  
8.29  21层长波带通滤波器 180 HW|IILFB
 
8.30  49层长波带通滤波器 181 jPeYmv]
  
8.31  55层短波带通滤波器 182 f1? >h\F8  
8.32  47 红外截止器 183 =1! 'QUc  
8.33  宽带通滤波器 184 Bvj0^fSm  
8.34  诱导透射滤波器 186 zs;JJk^  
8.35  诱导透射滤波器2 188 PF2nLb2-  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 *hrd5na  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 1YA% -~  
8.35  增益平坦滤波器 193 IV-{ve6  
8.38  啁啾反射镜 1 196 |ZBw<f  
8.39  啁啾反射镜2 198 g0H[*"hj  
8.40  啁啾反射镜3 199 p_ =z#  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Tw% 3p=  
8.42  增加铝反射率膜 201 RSds8\tk  
8.43  参考文献 202 i4Jc.8^9$  
9  多层膜 204 ^.tg7%dJ  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 \v{=gK  
9.2  内部透过率 204 8MBAtVmy  
9.3 内部透射率数据 205 ^8tEach  
9.4  实例 206 `/g UV  
9.5  实例2 210 t) +310w  
9.6  圆锥和带宽计算 212 K,]=6Rj  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 fM}#ON>Z  
10  光学薄膜的颜色 216 ?"FbsMk.d  
10.1  导言 216 ]Dzlp7Y}  
10.2  色彩 216 tkhCw/  
10.3  主波长和纯度 220 ;jPXs  
10.4  色相和纯度 221 ]9L oZ)  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Ymgw-NJ;(  
10.6 色差 226 DlT{`  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 BY*Q_Et  
10.8  颜色渲染指数 234 U.TA^S]`g  
10.9  色差计算 235 Jwp7gYZ  
10.10  参考文献 236 !BI;C(,RL  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
O f#:  
11.1  短脉冲 238 l~.-e^p?  
11.2  群速度 239 *VeRVaBl  
11.3  群速度色散 241 4YHY7J  
11.4  啁啾(chirped) 245 p'fYULYE  
11.5  光学薄膜—相变 245
AS,%RN^.  
11.6  群延迟和延迟色散 246 P4?glh q#  
11.7  色度色散 246 }Lv;

!  
11.8  色散补偿 249 vy/-wP|1  
11.9  空间光线偏移 256 5r_|yu  
11.10  参考文献 258 _
U0f=m  
12  公差与误差 260 /bEAK-  
12.1  蒙特卡罗模型 260 $cR{o#  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Ie^l~G
b  
12.2.1  误差工具 267 H-%v3d>
3  
12.2.2  灵敏度工具 271 KG@8RtHsQ  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 mTh]PPo
 
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Ah<+y\C  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 C7vxw-o|&p  
12.3  参考文献 276 uM
v1O{  
13  Runsheet 与Simulator 277 P$sxr  
13.1  原理介绍 277 @6d[=!9  
13.2  截止滤光片设计 277 [V!tVDs&'o  
14  光学常数提取 289 S$k&vc(0  
14.1  介绍 289 Wf<LR3  
14.2  电介质薄膜 289 fatf*}eln  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Bf:Q2slqI  
14.4  基底的参数提取 302 h$=
2p5'-  
14.5  金属的参数提取 306 i&k7-<  
14.6  不正确的模型 306 nd(S3rct&  
14.7  参考文献 311 6,uX,X5  
15  反演工程 313 o.\oA6P_  
15.1  随机性和系统性 313 {|\.i  
15.2  常见的系统性问题 314 h1{3njdr  
15.3  单层膜 314 E e]-qN*8  
15.4  多层膜 314 V+~Nalm O  
15.5  含义 319 7?t6UPf  
15.6  反演工程实例 319 0g\(+Qg^  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 GF WA>5n'  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 smLQS+UE  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 -![|}p
X  
16.1  光学性质的热致偏移 329 tu?MYp;
  
16.2  应力工具 335 2JFpZU"1  
16.3  均匀性误差 339 *'X3z@R  
16.3.1  圆锥工具 339 PVOv[%  
16.3.2  波前问题 341 T>GM%^h,7-  
16.4  参考文献 343 N<-Gk6`C/  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 fAmz4  
17.1  引言 345 #[a*rD%m  
17.2  操作数 345 kW (B
kuc)  
18  如何在Function中编写脚本 351 EzIGz[
 
18.1  简介 351 yEoV[K8k  
18.2  什么是脚本？ 351 2"5v[,$1H  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 :ivf/xn  
18.4  基础 352 tl].r|yl  
18.4.1  Classes（类别） 352 d| {r5[&  
18.4.2  对象 352 ]_f<kW\1*  
18.4.3  信息（Messages） 352 H.2QKws^F  
18.4.4  属性 352 HmwT~  
18.4.5  方法 353 m`_ONm'T&  
18.4.6  变量声明 353 T^v}mWCZ  
18.5  创建对象 354 *,m;  
18.5.1  创建对象函数 355 [9 RR8  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 =ruao'A  
18.5.3 丢弃对象 356 8*fv'  
18.5.4  总结 356 0LKRN|@  
18.6  脚本中的表格 357 .6V}3q$-@  
18.6.1  方法1 357 x;')9/3  
18.6.2  方法2 357 B]$GSEB  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Gbw2E&a  
18.8 3D Plots in Scripts 359 2Gdd*=4z  
18.9  注释 360 )/EO&F  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ^VACf|0  
18.11  一个更高级的脚本 362 rt|7h>RQ  
18.12  <esc>键 364 F/A|(AH'  
18.13 包含文件 365 ow#1="G,=  
18.14  脚本被优化调用 366 ,=:D  
18.15  脚本中的对话框 368 h*Pc=/p  
18.15.1  介绍 368 -tNUMi'  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 [h:T*(R?  
18.15.3  输入框函数 370 p^u:&Quac  
18.15.4  自定义对话框 371 6_ow%Rx~F  
18.15.5  对话框编辑器 371 !L8#@BjU  
18.15.6  控制对话框 377 AFfAtu  
18.15.7  更高级的对话框 380 2"S}bfrX  
18.16 Types语句 384 i@BtM9:  
18.17 打开文件 385 TuYCR>P[  
18.18 Bags 387 e*n@j  
18.13  进一步研究 388 r)6M!_]AW  
19  vStack 389 h65-s  
19.1  vStack基本原理 389 LraWcO\or'  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 nJLFfXWx  
19.3  五棱镜 393 fg{n(
TE"8  
19.4 光束距离 396 zA"`!}*  
19.5 误差 399 2wgg7[tGi  
19.6  二向分色棱镜 399 8h4'(yGQQW  
19.7  偏振泄漏 404 { buy"X4  
19.8  波前误差—相位 405  ^Va1f'g  
19.9  其它计算参数 405 BV+ Bk+  
20  报表生成器 406 T"}vAG( .O  
20.1  入门 406 'XBFv9&  
20.2  指令(Instructions) 406 .y,0[i V N  
20.3  页面布局指令 406 K}
U-w:{  
20.4  常见的参数图和三维图 407 /[>sf[X\I9  
20.5  表格中的常见参数 408 UOmY-\ &c  
20.6  迭代指令 408 zZC9\V}R  
20.7  报表模版 408 @Pz
u^  
20.8  开始设计一个报表模版 409 9?3&?i2-  
21  一个新的project 413  bnLPlf  
21.1  创建一个新Job 414 .eP.&  
21.2  默认设计 415 :$9tF>  
21.3  薄膜设计 416 P_#bow  
21.4  误差的灵敏度计算 420 wIBO ^w\
J  
21.5  显色指数计算 422 wuJ4kW$  
21.6  电场分布 424 
U~l$\c  
后记 426 [R7Y}k:9U  
r{%qf;  
.%C|+#
&d  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 xpx\=iAe  
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《Essential Macleod中文手册》 9,'ncw$/C  
X/M4!L}\  
目  录 1|6%evPu(  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 e01epVR;  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 5RpjN: 3  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 =6|&Jt  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 .Twk {p  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 y {<9]'  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 a"g!
e^  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 bB;5s`-  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 3J438M.ka  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 {LQ#y/H?  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 }:*]aL<7_  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 ">jj  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Z} r*K%  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 :+|Z@KB  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ;x1PS  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 h_IDO%  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 A1?2*W  
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价  格：400元