[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 R<{bb'  
)Y}t~ Zfx  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 VlRN  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 zg+78  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 cOcF 
VPQ  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 //]g78]=O  
1. Essential Macleod软件介绍 zm) ]cq
 
1.1 介绍软件 &Z/aM?  
1.2 创建一个简单的设计 A-1Wn^,>*  
1.3 绘图和制表来表示性能 DvHcT]l>5  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Z0g3> iItM  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） =i
}  
1.6 特定设计的公式技术 \~d|MP}"F:  
1.7 交互式绘图 v~e@:7d i  
2. 光学薄膜理论基础 evNo(U\C  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 s$css{(ek  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 z(d@!Cd  
3. 材料管理 &$tBD@7  
3.1 材料模型 K@Q_q/(%;  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ZQ9!k* ^  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 3P~I'FQ  
3.4 基板光学常数的提取 /~NsHStn  
4. 光学薄膜设计优化方法 rCi7q]_  
4.1 参考波长与g _R<e
Wp  
4.2 四分之一规则 Er^ijh,  
4.3 导纳与导纳图
0ohpJh61Q  
4.4 斜入射光学导纳 1OK,r`   
4.5 光学薄膜设计的进展 -hj@^Auf  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 L&ySXc=  
4.6.1 优化目标设置 ~Z!!wDHS  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） |E-/b6G  
4.6.3 膜层锁定和链接 +gqtW86  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 >;kCcfS3ct  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 YMOy
6C  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 -jnx0{/  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 xZW6Hk_  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 P1)f-:;  
5.5 如何在Function中编写脚本 g^@Kx5O\  
6. 光学薄膜系统案例 {i y[8eLg  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 pV{MW#e  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ,0%P3  
6.3 Stack应用范例说明 l?v`kAMR
 
7. 薄膜性能分析 :L#t?~  
7.1 电场分布 (G $nN*rlu  
7.2 公差与灵敏度分析 {Ak{ ct\t  
7.3 反演工程 {I+
  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 n_\VG[f  
8. 真空技术 rq?:I:0  
8.1 常用真空泵介绍 i <0H W  
8.2 真空密封和检漏 |#8u:rguy  
9. 薄膜制备技术 8"/5Lh(  
9.1 常见薄膜制备技术 YYU Di@K  
10. 薄膜制备工艺 M-1 VB5  
10.1 薄膜制备工艺因素 fH~InDT^  
10.2 薄膜均匀性修正技术 O9*cV3}H  
10.3 光学薄膜监控技术 Z3?,r[   
11. 激光薄膜 5('_7l  
11.1 薄膜的损伤问题 wU,{5w  
11.2 激光薄膜的制备流程 HSGM&!5mW  
11.3 激光薄膜的制备技术 ON#\W>MK?  
12. 光学薄膜特性测量 sKYb&2wJ  
12.1 薄膜光谱测量 ufAp7m@ud  
12.2 薄膜光学常数测量 Bf!i(gM  
12.3 薄膜应力测量 !c-Ie~GIT  
12.4 薄膜损伤测量 BqC, -gC  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 >yFEUD:  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 G6K;3B  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 meunAEe  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 k%-_z}:3V  
AujvKQ(  
%"^$$$6%  
sW!p
Mkd_  
目录 \hN\px  
Preface 1 i0DYdUj  
内容简介 2 7uG@hL
36  
目录 i $O"S*)9  
1  引言 1 ?hUC#{  
2  光学薄膜基础 2 .|Y2'TWQ  
2.1  一般规则 2 >!O3 jb k  
2.2  正交入射规则 3 ~01 o  
2.3  斜入射规则 6 |S48xsFv
q  
2.4  精确计算 7 wHm{4  
2.5  相干性 8 !9=hUpRN  
2.6 参考文献 10 e^kccz2f  
3  Essential Macleod的快速预览 10 nN" Y~W^k  
4  Essential Macleod的特点 32 }M?\BH&  
4.1  容量和局限性 33 ?:l3O_U5  
4.2  程序在哪里？ 33 ?95^&4Oh0  
4.3  数据文件 35 }Kc[pp|9<  
4.4  设计规则 35 <>$`vuU  
4.5  材料数据库和资料库 37 W5,e;4/hL  
4.5.1材料损失 38 ULc oti=,  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 jn vJ`7zFP  
4.5.2 材料库 41 v#*9rNEj0  
4.5.3导出材料数据 43 wY|&qX,  
4.6  常用单位 43 %,f|H :+>u  
4.7  插值和外推法 46 KrE:ilm#^Y  
4.8  材料数据的平滑 50 )W9W8>Cc5_  
4.9 更多光学常数模型 54 i? 5jl&30  
4.10  文档的一般编辑规则 55 taOD,}c|$  
4.11 撤销和重做 56 [of{~  
4.12  设计文档 57 `|K30hRp:  
4.10.1  公式 58 O{Bll;C  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 5W"&$6vj  
4.10.3  沉积密度 59 C9zQ{G  
4.10.4 平行和楔形介质 60 i5wXT  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ,
l`4)@{G  
4.10.4  性能 61 _j{^I^P  
4.10.5  保存设计和性能 64 sv`+?hjG  
4.10.6  默认设计 64 .;j}:<  
4.11  图表 64 rFJ(t7\9h  
4.11.1  合并曲线图 67 QX}O{LQR  
4.11.2  自适应绘制 68 %^){Z,}M}  
4.11.3  动态绘图 68 gi!{y  
4.11.4  3D绘图 69 !G E-5\*  
4.12  导入和导出 73 X,VOKj.%  
4.12.1  剪贴板 73 =4`#OQ&g  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 |uo<<-\jTO  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 P 1`X<A  
4.13  背景 77 gN#&Ag<?  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 XnC`JO+7M  
4.15  生成Rugate 84 \49LgN@\  
4.16  参考文献 91 ]q@/:I9]  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 j8WMGSrrF  
5.1  Jobs 92 ELoE-b)Cb  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 6 ,jp-`  
5.3  输入材料 94 +Hx$ABH  
5.4  设计数据文件夹 95 dqwCyYC  
5.5  默认设计 95 j2O?]M  
6  细化和合成 97 {2wfv2hQ  
6.1  优化介绍 97 ^Wb|Pl  
6.2  细化 (Refinement) 98 qr>:meJy4  
6.3  合成 (Synthesis) 100 H9'Y` -r  
6.4  目标和评价函数 101 gBM6{48GF  
6.4.1  目标输入 102 *s4h tt  
6.4.2  目标 103 9pAklD4  
6.4.3  特殊的评价函数 104 =xwA'D9]  
6.5  层锁定和连接 104 ;/gH6Z?  
6.6  细化技术 104 9W{`$30  
6.6.1  单纯形 105 I4]|r k9  
6.6.1.1 单纯形参数 106 H}m%=?y@  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 L ;5R*)t  
6.6.2.1 Optimac参数 108 S[p.`<{J  
6.6.3  模拟退火算法 109 Brw-"tmx  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 0I6[`*|SX  
6.6.4  共轭梯度 111 DY2r6bcn`  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 =TImx.D:  
6.6.5  拟牛顿法 112 {m1=#*  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 &t.9^;(  
6.6.6  针合成 113 >q+o MrU  
6.6.6.1 针合成参数 114 W 2/`O?  
6.6.7 差分进化 114 m$nT#@l5bH  
6.6.8非局部细化 115 OO)m{5r,{  
6.6.8.1非局部细化参数 115 kmHIU}Z  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 bvyX(^I[q  
6.7.1 　细化 116 TI '(  
6.7.2　 合成 117 'N1_:$z@(  
6.8  参考文献 117 4`Com~`6"  
7  导纳图及其他工具 118 aju!Aq54G  
7.1  简介 118 JP$@*F@t  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 {2u#Q7]|
 
7.2.1  四分之一波长规则 119 6J
/"1_  
7.2.2  导纳图 120 aD yHIh8  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Ejc%DSG  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 E
Px_xX  
7.5  斜入射导纳图 141 7WZ).,qxY  
7.6  对称周期 141 "4W@p'  
7.7  参考文献 142 Oc\Bu6F  
8  典型的镀膜实例 143 :e9}k5kdk  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ^`0^|u=  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 3;fuz Kk@b  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 *>otz5]  
8.4  W-膜层 148 /?<tjK' "H  
8.5  V-膜层 149 eq^<5 f  
8.6  V-膜层高折射基底 150 z}I4m  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 M4hzf  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 c
\2+f7o@  
8.9  四层抗反射薄膜 153 H.\
gLIr  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 lMpjE  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 bWc3a  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 "`pI!nj  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 fiDwa ;,  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 foh>8/AL/  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 sW/^82(dM  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 }9n{E-bj*  
8.17  1/4波长堆栈 162 tvNh@it:F  
8.18  陷波滤波器 163 H|a9}
;pO\  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 nCMv&{~  
8.20  褶皱 165 i <KWFF#  
8.21  消偏振分光器1 169 88fH!6b  
8.22  消偏振分光器2 171 (1.E9+MquU  
8.23  消偏振立体分光器 172 &Nf10%J'<  
8.24  消偏振截止滤光片 173 y*ae 5=6(  
8.25  立体偏振分束器1 174 T&.ZeB1  
8.26  立方偏振分束器2 177 5LVhq[}mP  
8.27  相位延迟器 178 25xpq^Zw  
8.28  红外截止器 179 WfbG }%&J  
8.29  21层长波带通滤波器 180 < C54cO  
8.30  49层长波带通滤波器 181 >)g`
;iO  
8.31  55层短波带通滤波器 182 >;@ _TAF  
8.32  47 红外截止器 183 U68o"iE  
8.33  宽带通滤波器 184 U\N|hw#f!!  
8.34  诱导透射滤波器 186 <DG=qP6O  
8.35  诱导透射滤波器2 188 2qEm,x'S  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 o(~QuHOp8>  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 sflH{!;p  
8.35  增益平坦滤波器 193 Wj2s+L7,  
8.38  啁啾反射镜 1 196 \x JGR!  
8.39  啁啾反射镜2 198 BMlnzi  
8.40  啁啾反射镜3 199 O*MC"%T  
8.41  带保护层的铝膜层 200 9NCo0!Fb  
8.42  增加铝反射率膜 201 a]NQlsE}l  
8.43  参考文献 202 W5a)`
%H  
9  多层膜 204 J!?hajw7N  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 9IFK4>&O6  
9.2  内部透过率 204 ~Yrtz  
9.3 内部透射率数据 205 aAY=0rCI-  
9.4  实例 206 1EvAV,v"  
9.5  实例2 210 L"Y_:l3"7  
9.6  圆锥和带宽计算 212 N(<4nAE  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 /15e-(Zz/  
10  光学薄膜的颜色 216 g~FA:R  
10.1  导言 216 m`(5B  
10.2  色彩 216 I;dc[m  
10.3  主波长和纯度 220 ]Bo !v*12  
10.4  色相和纯度 221 B%HG7  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 h-B&m:gD_U  
10.6 色差 226 ;m/%g{oV  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 3ZNm,{  
10.8  颜色渲染指数 234 NP%Y\%;l6  
10.9  色差计算 235 n[#!Q`D  
10.10  参考文献 236 Sp+ zP-3  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 YEGRM$'`  
11.1  短脉冲 238 --SlxV/x  
11.2  群速度 239 JGH;&UYP  
11.3  群速度色散 241 UR')) 1n  
11.4  啁啾(chirped) 245 9!hiCqA&  
11.5  光学薄膜—相变 245 B%95M|  
11.6  群延迟和延迟色散 246 >"qnuv G  
11.7  色度色散 246 Ps3wg=ni[  
11.8  色散补偿 249 I_"1.  
11.9  空间光线偏移 256 8r@_b  
11.10  参考文献 258 E?> ERO3  
12  公差与误差 260  uY]nqb  
12.1  蒙特卡罗模型 260 . IBy'  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 @y,pfWh`  
12.2.1  误差工具 267 $ZSjq  
12.2.2  灵敏度工具 271 Q[t|+RNKv2  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 >3R)&N  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 n_[;2XQQ  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 
!Yx9=>R  
12.3  参考文献 276 Hk'D@(hS  
13  Runsheet 与Simulator 277 4(5NHsvp  
13.1  原理介绍 277 OQt_nb#z`{  
13.2  截止滤光片设计 277 $RxS<_tj  
14  光学常数提取 289 qKX3Npw  
14.1  介绍 289 _U%a`%tU.  
14.2  电介质薄膜 289 .W_'6Q+  
14.3  n 和k 的提取工具 295 HyKvDJ 3_  
14.4  基底的参数提取 302 C*A!`Q?1Y  
14.5  金属的参数提取 306 >BU"C+a8g  
14.6  不正确的模型 306 QkJAjmB  
14.7  参考文献 311 LF\4>(C2g  
15  反演工程 313 - inZX`afA  
15.1  随机性和系统性 313 :q_(=EA  
15.2  常见的系统性问题 314 9VyY[&  
15.3  单层膜 314 _tJp@\rOz=  
15.4  多层膜 314 *c<=IcA  
15.5  含义 319 9ohaU  
15.6  反演工程实例 319 3o=R_%r  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 -%8*>%  
15.6.2 反演工程提取折射率 327  4[=vt  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Y.9s-g  
16.1  光学性质的热致偏移 329 +AGI)uQQ  
16.2  应力工具 335 N#(p_7M  
16.3  均匀性误差 339 y\M]\^[7  
16.3.1  圆锥工具 339 F Xbf7G)H  
16.3.2  波前问题 341 AN-qcp6=o  
16.4  参考文献 343 jQDXl  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 ^Ec);Z  
17.1  引言 345 +6dq+8msF  
17.2  操作数 345 0s>ozAJ  
18  如何在Function中编写脚本 351 D?yiK=:08`  
18.1  简介 351 VKI`@rY4  
18.2  什么是脚本？ 351 sFhmp  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 1ztL._Td  
18.4  基础 352 QahM)Gb  
18.4.1  Classes（类别） 352 rVo0H.+N)`  
18.4.2  对象 352 ?)x"+[2  
18.4.3  信息（Messages） 352 ~.-o*  
18.4.4  属性 352 "UUzLa
_  
18.4.5  方法 353 $\:;N]Cs~0  
18.4.6  变量声明 353 Fp3NWvu  
18.5  创建对象 354 lOk'stLNa&  
18.5.1  创建对象函数 355 %kB84dE  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 AmSrc.  
18.5.3 丢弃对象 356 2y"]rUS`  
18.5.4  总结 356 O7&6]/`  
18.6  脚本中的表格 357 $CT2E  
18.6.1  方法1 357 -u!{8S~wA  
18.6.2  方法2 357 mU d['Z  
18.7 2D Plots in Scripts 358 7RE'KH_$  
18.8 3D Plots in Scripts 359 IEbk_-h[  
18.9  注释 360 P
ra,r9h,  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 J.%%]-f=&  
18.11  一个更高级的脚本 362 =8Bq2.nlR  
18.12  <esc>键 364  D`Tx,^E  
18.13 包含文件 365 (c^ZFh2]  
18.14  脚本被优化调用 366 S5a?KU
  
18.15  脚本中的对话框 368 /j}"4_.8  
18.15.1  介绍 368 CFo>D\*J  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 2<"kfan  
18.15.3  输入框函数 370 jv<C#0E^  
18.15.4  自定义对话框 371 6;JlA})  
18.15.5  对话框编辑器 371 aaa6R|>0  
18.15.6  控制对话框 377 _VvXE572  
18.15.7  更高级的对话框 380 ,\2w+L5TD  
18.16 Types语句 384 ~Vh< mt  
18.17 打开文件 385 'aLTiF+  
18.18 Bags 387 3rRN~$  
18.13  进一步研究 388 Tj[=E  
19  vStack 389 \xtY\q,[  
19.1  vStack基本原理 389 [\41  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 P&3Z,f
0  
19.3  五棱镜 393 Hu4\4x$?  
19.4 光束距离 396 7[ 82~jM[  
19.5 误差 399 Vdpvo;4uy  
19.6  二向分色棱镜 399 ;s$bVGHr  
19.7  偏振泄漏 404 BAy]&q|.  
19.8  波前误差—相位 405 1-!q,q  
19.9  其它计算参数 405 &_1Ivaen6  
20  报表生成器 406 #KFpT__F  
20.1  入门 406 CVk.Ez6  
20.2  指令(Instructions) 406 O4l]Q  
20.3  页面布局指令 406 ZSs)AB_Pe/  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ()[j<KX{.  
20.5  表格中的常见参数 408 Uu}a! V  
20.6  迭代指令 408 cq?&edjP  
20.7  报表模版 408 xD|/98  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ;XUiV$  
21  一个新的project 413 T^b62j'b5_  
21.1  创建一个新Job 414 M2{AaYgD  
21.2  默认设计 415 !%8|
R]d  
21.3  薄膜设计 416
3$~6+i  
21.4  误差的灵敏度计算 420 *{#l0My  
21.5  显色指数计算 422 :\Pk>a  
21.6  电场分布 424 3M@!?=|U  
后记 426 v \xuq`  
}\-"L/D?+  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 S*0P[R  
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《Essential Macleod中文手册》 &a/F"?9jL  
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目  录 mh5ozv$  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 zfexaf!  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 )^D:VY92  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ` 6'dhB  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 $h)VKW^\  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 <D1>;C  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 )9PP3"I  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 S1`;2mAf*  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 F:vHbs `y  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200  n}f*>Mn  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 q|EE em  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 Q^Lk^PP7  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 AVR=\ qR  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Y*KHr`\C4  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 P p]Ygt'u  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 doj$chy  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 s/"l ?d  
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价  格：400元