[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 J4Gzp~{  
s,z~qL6&  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 V6]6KP#D  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 wlS/(:02  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 q m3\)9C  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 Rh>B# \  
1. Essential Macleod软件介绍 OVg&?fiP  
1.1 介绍软件 Cf% qa
p#  
1.2 创建一个简单的设计 #:K=zV\  
1.3 绘图和制表来表示性能 kiTC)S=])  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 I
/E9:  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 7J'%;sH  
1.6 特定设计的公式技术 0vY_  
1.7 交互式绘图 $8tk|uh  
2. 光学薄膜理论基础 5'2kP{;  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 EVmBLH-a  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 9LR=>@Z  
3. 材料管理 [vg&E )V  
3.1 材料模型 )Z7Vm2a  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 X9x`i  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 A5<t>6Y  
3.4 基板光学常数的提取 waMF~#PJlt  
4. 光学薄膜设计优化方法 NL2
1se  
4.1 参考波长与g Kz HYh  
4.2 四分之一规则 !eX0Q 2  
4.3 导纳与导纳图 S?~0)EXj(  
4.4 斜入射光学导纳 e3I""D{)[=  
4.5 光学薄膜设计的进展 6v`3/o  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 RGW@@  
4.6.1 优化目标设置 GppCrQ%Ra|  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） {j2V k)\[i  
4.6.3 膜层锁定和链接 dCC*|b8h  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 e~)[
I!n  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 [WwoGg*)mn  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 o[Iu9.zJpy  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ww2mL <B  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 pMfb(D"  
5.5 如何在Function中编写脚本 u`MMK4 %  
6. 光学薄膜系统案例 EPm~@8@"j?  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 C'6I< YX  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 7|,L{~  
6.3 Stack应用范例说明 qO6M5g:   
7. 薄膜性能分析 +nYFLe  
7.1 电场分布 `TBXJ(Y  
7.2 公差与灵敏度分析 WzIUHNn'I  
7.3 反演工程 DDE-$)lf>  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 +kSu{Tc  
8. 真空技术 p2vN=[g9)  
8.1 常用真空泵介绍 :So<N}&  
8.2 真空密封和检漏 t.P@Ba^  
9. 薄膜制备技术 <-VBb[M#  
9.1 常见薄膜制备技术 GJ9>i)+h;  
10. 薄膜制备工艺 <4}m:  
10.1 薄膜制备工艺因素 M @5&.  
10.2 薄膜均匀性修正技术 HTQZIm  
10.3 光学薄膜监控技术 #p}GWS)  
11. 激光薄膜 r:*G{m-  
11.1 薄膜的损伤问题 (Pc>D';{S  
11.2 激光薄膜的制备流程 +x]/W|5  
11.3 激光薄膜的制备技术 g~hMOI?KK^  
12. 光学薄膜特性测量 c'oiW)8;A  
12.1 薄膜光谱测量 O<S.fr,  
12.2 薄膜光学常数测量 xf,[F8 2y  
12.3 薄膜应力测量 5m8u:6kQu  
12.4 薄膜损伤测量 vJWBr:`L  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 7^d
r[.Q[*  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Xf u0d1b  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 m8s
d2&4  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 #Oka7.yz  
__=53]jGE  
(/:m*x*6  
@KQ>DBWQM  
目录 ;cMQ0e  
Preface 1 %8*:VR  
内容简介 2 A`7(i'i5]  
目录 i ddQ+EY@!  
1  引言 1 u)oAQ<w  
2  光学薄膜基础 2 H/o_?qK  
2.1  一般规则 2 lV\iYX2#  
2.2  正交入射规则 3 u8-6s+ O  
2.3  斜入射规则 6 =B}IsBn'J  
2.4  精确计算 7 u)@:V)z  
2.5  相干性 8 ,rMf;/[  
2.6 参考文献 10 A@V$~&JCL5  
3  Essential Macleod的快速预览 10 |  0  
4  Essential Macleod的特点 32 2!#
g\"  
4.1  容量和局限性 33 h>pu^ `hk  
4.2  程序在哪里？ 33 "OLg2O^  
4.3  数据文件 35 +|/0sPW(  
4.4  设计规则 35 0qS/>u*  
4.5  材料数据库和资料库 37 Ci`o;KVj  
4.5.1材料损失 38 Oiib2Ov  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ?%,LZw^[  
4.5.2 材料库 41 KA2>[x2  
4.5.3导出材料数据 43 =u2 z3$  
4.6  常用单位 43 78l);/E{v  
4.7  插值和外推法 46 (L(7)WbH  
4.8  材料数据的平滑 50 $hm[x$$  
4.9 更多光学常数模型 54 7_\G|Zd  
4.10  文档的一般编辑规则 55 NBk0P*SI  
4.11 撤销和重做 56 "xlR>M6e  
4.12  设计文档 57 a>47k{RSzE  
4.10.1  公式 58 $_S-R 3L\  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ;@Zuet  
4.10.3  沉积密度 59 50
5c(+  
4.10.4 平行和楔形介质 60 :E9pdx+  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 J 8 KiL  
4.10.4  性能 61 URb8[~dR:  
4.10.5  保存设计和性能 64 \c2x udU  
4.10.6  默认设计 64 o;@~uU  
4.11  图表 64 'g%:/lwA  
4.11.1  合并曲线图 67 2Mx\D  
4.11.2  自适应绘制 68 cN@_5  
4.11.3  动态绘图 68 .i*oZ'[X  
4.11.4  3D绘图 69 ]'5Xjcx  
4.12  导入和导出 73 ~vXbh(MX  
4.12.1  剪贴板 73 f1vD{M;  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 F\eQV<  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 }u;K<<h:  
4.13  背景 77 Jl_W6gY"Z  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 bMKX9`*o  
4.15  生成Rugate 84 f2e;N[D  
4.16  参考文献 91 d5^^h<'  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 :i&]J$^;  
5.1  Jobs 92 ^6 wWv&G[8  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 |y^=(|eM  
5.3  输入材料 94 iqlb,8  
5.4  设计数据文件夹 95 +zh\W9  
5.5  默认设计 95 )Fx]LeI;  
6  细化和合成 97 S%- k
N;  
6.1  优化介绍 97 Gwk$<6E  
6.2  细化 (Refinement) 98 tK;xW  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ,lH }Ba02F  
6.4  目标和评价函数 101 sJLOz>  
6.4.1  目标输入 102 @)d_z
WE  
6.4.2  目标 103 P2vG)u  
6.4.3  特殊的评价函数 104 )#i@DHt=  
6.5  层锁定和连接 104 M P8Sd1_=  
6.6  细化技术 104 # Wi?I=,  
6.6.1  单纯形 105 Mp/l*"(  
6.6.1.1 单纯形参数 106 5n?P}kca)  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 '> ib K|  
6.6.2.1 Optimac参数 108 wQG?)aaM  
6.6.3  模拟退火算法 109 Y#}qXXZ>]  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 hJ(vD
v%  
6.6.4  共轭梯度 111 Ba[,9l[  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Qs\a&Q=0H  
6.6.5  拟牛顿法 112 ^=eC1bQA  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 1)k+v17]f5  
6.6.6  针合成 113 L2>e@p\
>  
6.6.6.1 针合成参数 114 !JXiTI!  
6.6.7 差分进化 114 (tYZq86`  
6.6.8非局部细化 115 u"&?u+1j  
6.6.8.1非局部细化参数 115 :(]fC~G~  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 n~UI47  
6.7.1 　细化 116 ^i|R6oO_5  
6.7.2　 合成 117 SVo?o|<  
6.8  参考文献 117 `,'/Sdr  
7  导纳图及其他工具 118 P<IDb%W  
7.1  简介 118 Z5Lmg  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 u@dvFzc  
7.2.1  四分之一波长规则 119 o MJ`_  
7.2.2  导纳图 120 l Xa/5QKC  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 '4uu@?!dVk  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 u9~5U9]O%6  
7.5  斜入射导纳图 141 V22z-$cb  
7.6  对称周期 141 US$$ADq  
7.7  参考文献 142 y@!M<#SEzG  
8  典型的镀膜实例 143 jRjeL'"G  
8.1  单层抗反射薄膜 145 e@vtJaSu  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 k\[(;9sf.  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 HaVhdv3L  
8.4  W-膜层 148 l~"T>=jq3  
8.5  V-膜层 149 Q3WI@4  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Dy.i^`7\  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 %rb$tKk  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 "`ftcJUd  
8.9  四层抗反射薄膜 153 )I&.6l!#  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 &Pb:P?I  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 p XXf5adl<  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 U5kKT.M  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 *|S6iSn9R!  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 vS\2zwb}  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Nbr$G=U  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 $~1vXe  
8.17  1/4波长堆栈 162 VaD+:b4  
8.18  陷波滤波器 163 hY.i`sp*/  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 dJgLS^1E  
8.20  褶皱 165 <kFLwF?PM'  
8.21  消偏振分光器1 169 ^OiL&p;r  
8.22  消偏振分光器2 171 >g<YH'U{  
8.23  消偏振立体分光器 172 |BFzTz,o  
8.24  消偏振截止滤光片 173 /:F^*
]  
8.25  立体偏振分束器1 174 R1H^CJ=v0  
8.26  立方偏振分束器2 177 d9$RmCHe}  
8.27  相位延迟器 178 pA*C|g  
8.28  红外截止器 179 mxqD'^n#  
8.29  21层长波带通滤波器 180 r>fGj\#R =  
8.30  49层长波带通滤波器 181 \<pr28  
8.31  55层短波带通滤波器 182 d#v@NuO6 h  
8.32  47 红外截止器 183 o*H U^  
8.33  宽带通滤波器 184 Gt.'_hf Js  
8.34  诱导透射滤波器 186 cuN]}=D  
8.35  诱导透射滤波器2 188 sA,bR|  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 tfU*U>j  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 XX/gS=NE#.  
8.35  增益平坦滤波器 193 P)K$+oo  
8.38  啁啾反射镜 1 196 U=bx30brh%  
8.39  啁啾反射镜2 198 7,SQz6]  
8.40  啁啾反射镜3 199 e>z"{ u(F0  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ^0.8-RT  
8.42  增加铝反射率膜 201 N; }$!sNIm  
8.43  参考文献 202 !uGfS' Vl  
9  多层膜 204 W q<t+E[  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 w6s[|i)&  
9.2  内部透过率 204 /i"hViCrlG  
9.3 内部透射率数据 205 -!XG>Z  
9.4  实例 206 dQ8RrD=$&  
9.5  实例2 210 |4mvB2r  
9.6  圆锥和带宽计算 212 5e+j51  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 zz*P
AYl.  
10  光学薄膜的颜色 216 AU\=n,K7  
10.1  导言 216 Bg]VaTm[=  
10.2  色彩 216 itzUq,T  
10.3  主波长和纯度 220 (%fQhQ  
10.4  色相和纯度 221 eS!]..%y  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 -{0Pq.v  
10.6 色差 226 E /H%q|q  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Rv&"h_"t  
10.8  颜色渲染指数 234 bJ_rU35s>  
10.9  色差计算 235 NwF"Zh5eMW  
10.10  参考文献 236 nNCR5&,q  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238  Gk~aTO  
11.1  短脉冲 238 hTDGgSG^  
11.2  群速度 239 dq '2y  
11.3  群速度色散 241 } [#8>T  
11.4  啁啾(chirped) 245 ,7s>#b'  
11.5  光学薄膜—相变 245 iL;V5|(sb  
11.6  群延迟和延迟色散 246 j~N*TXkC  
11.7  色度色散 246 yF)J7
a:U  
11.8  色散补偿 249 |1%%c %  
11.9  空间光线偏移 256 fo,0NxF9  
11.10  参考文献 258 iLnW5yy  
12  公差与误差 260 %AO6=  
12.1  蒙特卡罗模型 260 r4mh:T4i  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 []A9j?_w  
12.2.1  误差工具 267 Dd1k?  
12.2.2  灵敏度工具 271 Z+k) N  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 "zq'nV=  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 :=B.)]F.)  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 =Q9^|&
6  
12.3  参考文献 276 zn>lF  
13  Runsheet 与Simulator 277 KF'fg R  
13.1  原理介绍 277 qefp3&ls  
13.2  截止滤光片设计 277 oSrA4g
 
14  光学常数提取 289 0G8@UJv6  
14.1  介绍 289 *B3f ry  
14.2  电介质薄膜 289 0hoMf=bb$  
14.3  n 和k 的提取工具 295 US)i"l7:H*  
14.4  基底的参数提取 302 V<9L-7X 8  
14.5  金属的参数提取 306 Tg^8a,Lt  
14.6  不正确的模型 306 ^Z)7Z% O  
14.7  参考文献 311 +~V_^-JG&  
15  反演工程 313 fc~fjtqwvz  
15.1  随机性和系统性 313 7;p/S#P:  
15.2  常见的系统性问题 314 !ldEy#"X  
15.3  单层膜 314 &Z~_BT  
15.4  多层膜 314 2e\"?yOD  
15.5  含义 319 o*204BGB  
15.6  反演工程实例 319 rS>.!DiYr,  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 jP<6J(  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 p^Ey6,!8]D  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 diNSF-wi,,  
16.1  光学性质的热致偏移 329 >aJmRA-C}  
16.2  应力工具 335 O h e^{:  
16.3  均匀性误差 339 "S#$:92  
16.3.1  圆锥工具 339 jlb8<xIC]  
16.3.2  波前问题 341 X}'rPz\Lu  
16.4  参考文献 343 #om Gj&  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 eM!Oc$C8[  
17.1  引言 345 P\dfxR;8%  
17.2  操作数 345
GOxP{d?  
18  如何在Function中编写脚本 351 6/cm TT$i  
18.1  简介 351 }N9PV/a  
18.2  什么是脚本？ 351 o%Q9]=%!  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 _8$xsj4_  
18.4  基础 352 U`) ";WN  
18.4.1  Classes（类别） 352 jy~hLEt7  
18.4.2  对象 352 @8c@H#H  
18.4.3  信息（Messages） 352 +ase>'<N#  
18.4.4  属性 352 z>+CMH5L)  
18.4.5  方法 353 ]iTP5~8U
 
18.4.6  变量声明 353 t~qSiHw  
18.5  创建对象 354 w)<.v+u.
Y  
18.5.1  创建对象函数 355 ,sj(g/hg  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 L__{U_p  
18.5.3 丢弃对象 356 yUcU-pQ  
18.5.4  总结 356 !]R>D{""  
18.6  脚本中的表格 357 BT(eU*m-  
18.6.1  方法1 357 0<uL0FOT  
18.6.2  方法2 357 A PSkW9H  
18.7 2D Plots in Scripts 358 DPY+{5
q2  
18.8 3D Plots in Scripts 359 elM<S3  
18.9  注释 360 6 [bQ'Ir^8  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 |9i[*]  
18.11  一个更高级的脚本 362 !gyW15z'  
18.12  <esc>键 364 6a9:P@tY  
18.13 包含文件 365 `!X8Cn  
18.14  脚本被优化调用 366 @
eb
Y_*  
18.15  脚本中的对话框 368 >G1]#'6;  
18.15.1  介绍 368 r+Sv(KS4i^  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Foj|1zJS_  
18.15.3  输入框函数 370 ymrnu-p o  
18.15.4  自定义对话框 371 F'wG%  
18.15.5  对话框编辑器 371 ~Q^.7.-T  
18.15.6  控制对话框 377 V9KRA 1  
18.15.7  更高级的对话框 380 a-#$T)mmfj  
18.16 Types语句 384 .,VLQbtg  
18.17 打开文件 385 Md9y:)P@Y  
18.18 Bags 387 8fQfu'LyjY  
18.13  进一步研究 388 I<W<;A  
19  vStack 389 ,WsG,Q(K  
19.1  vStack基本原理 389 uCt?(E>  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 sOz {spA  
19.3  五棱镜 393 q(EN]W],  
19.4 光束距离 396 I=Y_EjZD  
19.5 误差 399 1.,KN:qe  
19.6  二向分色棱镜 399 L09r|g4Z  
19.7  偏振泄漏 404 SPe%9J+  
19.8  波前误差—相位 405 *k&V;?x|wt  
19.9  其它计算参数 405 U$@}!X  
20  报表生成器 406 `)8SIx  
20.1  入门 406 s{c|J#s  
20.2  指令(Instructions) 406 lt'N{LFvc  
20.3  页面布局指令 406 m+dQBsz\  
20.4  常见的参数图和三维图 407 c8zok `\P_  
20.5  表格中的常见参数 408  bu
tBS  
20.6  迭代指令 408 ,9KnC=_y  
20.7  报表模版 408 m1K4_a)^[  
20.8  开始设计一个报表模版 409 Z>/ *q2  
21  一个新的project 413 vytO8m%U  
21.1  创建一个新Job 414 wKpD++k  
21.2  默认设计 415 tJ7tZ~Ak  
21.3  薄膜设计 416 7^!iGhI]r  
21.4  误差的灵敏度计算 420 r~|7paX!  
21.5  显色指数计算 422 $WRRCB/A6  
21.6  电场分布 424 U0W2  
后记 426 hZ|0<u  
D\-DsT.H  
b"Nd8f[  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 h*hkl#  
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《Essential Macleod中文手册》 >CcDG  
JS?%zj&@  
目  录 XE0b9q954  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 2/F8kVx{  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 %ol1WG9  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 zII^Ny8D  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Fo0s<YlS-  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 V<}chLd,  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Q4L7{^[X  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 EKuLt*a/  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 EZp >Cf7  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 1'\s7P  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 |g!$TUS.  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 <jaQ0S{|  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 X-CoC   
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 McbbEs=)  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 pFBK'NE  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 150x$~{/  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 !F Zg' 9  
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价  格：400元