[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 Y,GU%[+  
e&simX;W  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 o4`hY/<t  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ,oN8HpGs  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 k>F'ypm  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 E4gYemuN  
1. Essential Macleod软件介绍 m#8m] Y  
1.1 介绍软件 <A<{,:5C  
1.2 创建一个简单的设计 0Oi,#]F  
1.3 绘图和制表来表示性能 !(mjyr  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 7Ilm{@b=  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） {s)+R[?m<o  
1.6 特定设计的公式技术 VcAue!MN  
1.7 交互式绘图 !$DIc  
2. 光学薄膜理论基础 {p)",)td  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 IYqBQnX}oM  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 *"R|4"uy  
3. 材料管理 $.C=H[QC  
3.1 材料模型 aHs^tPg  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 XOxr?NPQ^  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 t2E
Hrji~  
3.4 基板光学常数的提取 w<C#Bka  
4. 光学薄膜设计优化方法 ?f#y1m  
4.1 参考波长与g s4G|_==  
4.2 四分之一规则 uG?_< mun  
4.3 导纳与导纳图 O>qll6]{@  
4.4 斜入射光学导纳 R#xCkl-  
4.5 光学薄膜设计的进展 v$~QU{&  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ]Gpxhg  
4.6.1 优化目标设置 $h^wG)s2P  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） WxW7qt  
4.6.3 膜层锁定和链接 U3 */v4/  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 BsBK@+ZyI  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ML:Q5 ^`  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 4
S,`bnmB  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 7bqBk,`9  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 %F\?R[^5  
5.5 如何在Function中编写脚本 VK}fsOnj0  
6. 光学薄膜系统案例 |B.0TdF  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 r9X?PA0f  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 nFE4qm  
6.3 Stack应用范例说明 :Mb%A  
7. 薄膜性能分析 #@^t;)|  
7.1 电场分布 4/mig0"N.  
7.2 公差与灵敏度分析 cS>e?  
7.3 反演工程 q/4YS0CqE  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 "vXxv'0\f  
8. 真空技术 8S>&WR%jH]  
8.1 常用真空泵介绍 *j]9vktH  
8.2 真空密封和检漏 W4hbK9y  
9. 薄膜制备技术 T^:UBjK6t{  
9.1 常见薄膜制备技术 8*8Zc/{  
10. 薄膜制备工艺 6Pnk5ps }h  
10.1 薄膜制备工艺因素 D|@/yDQ  
10.2 薄膜均匀性修正技术 .}'qUPNR  
10.3 光学薄膜监控技术 b}0,\B%  
11. 激光薄膜 VGtC)mG8)  
11.1 薄膜的损伤问题 }tsYJlh5  
11.2 激光薄膜的制备流程 aD=a,  
11.3 激光薄膜的制备技术 ElS9?Q+  
12. 光学薄膜特性测量 Is]aj-#r  
12.1 薄膜光谱测量 !xP8#|1  
12.2 薄膜光学常数测量 EG0WoUX|  
12.3 薄膜应力测量 ~
(x;5{  
12.4 薄膜损伤测量 HU
%o6cw  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 @.G[s)x  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ! vP[;6  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 s >e=?W  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 P/xKnm~  
9UKp?SIF  
vN|l\!~  
>wb'QzF:  
目录 dlJbI}-v=  
Preface 1 .%.9n\b  
内容简介 2 /TZOJE(2j  
目录 i T_sTC)&a  
1  引言 1 S>.SSXlM  
2  光学薄膜基础 2 V2$h
8\a  
2.1  一般规则 2 s4 6}s{6   
2.2  正交入射规则 3 hQ]H /+\  
2.3  斜入射规则 6 M%1}/!J3  
2.4  精确计算 7 !O-C,uSm  
2.5  相干性 8 ]?3un!o3o  
2.6 参考文献 10 '&.#  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ._8KsuJG  
4  Essential Macleod的特点 32 0TN;86Mo  
4.1  容量和局限性 33 (7XCA,KTGI  
4.2  程序在哪里？ 33 '3TW [!m  
4.3  数据文件 35 %6L^2 X  
4.4  设计规则 35 ~.A)bp  
4.5  材料数据库和资料库 37 'a$Gv&fu  
4.5.1材料损失 38 YhOlxON
 
4.5.1材料数据库和导入材料 39 HHq_P/'  
4.5.2 材料库 41 6b%WHLUeT  
4.5.3导出材料数据 43 j'%$XvI  
4.6  常用单位 43 bhkUKxd  
4.7  插值和外推法 46 f8M$45A'  
4.8  材料数据的平滑 50 vz^<YZMu  
4.9 更多光学常数模型 54 vFE;D@bz:  
4.10  文档的一般编辑规则 55 1QmH{jM  
4.11 撤销和重做 56 Y2d;E.DH8  
4.12  设计文档 57 p3]_}Y D[#  
4.10.1  公式 58 >Y_*%QGH_  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 MS0Fl|YA  
4.10.3  沉积密度 59 0KMctPT]p  
4.10.4 平行和楔形介质 60  `)GrwfC  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 #{k|I$  
4.10.4  性能 61 FDVcow*]n  
4.10.5  保存设计和性能 64 A81ls#is
  
4.10.6  默认设计 64 #<e\QE'!  
4.11  图表 64 6)vSG7Ise  
4.11.1  合并曲线图 67 L3G \  
4.11.2  自适应绘制 68 oI}kH=<,  
4.11.3  动态绘图 68 (T!9SU  
4.11.4  3D绘图 69 mN!lo;m5  
4.12  导入和导出 73 T:/,2.l  
4.12.1  剪贴板 73 krsYog(^z  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 F)s{PCl  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Ga#:P F0  
4.13  背景 77 8zA=;~GHP  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 UJfEC0  
4.15  生成Rugate 84 N@Y ljz|  
4.16  参考文献 91 vC1v"L;[o/  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 UB 6mqjPK  
5.1  Jobs 92 fv`O4  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 ,y+$cM(  
5.3  输入材料 94 ccLq+a|  
5.4  设计数据文件夹 95
tZ`
z  
5.5  默认设计 95 ?t+5s]  
6  细化和合成 97 ow0!%|fO  
6.1  优化介绍 97 yaG= j  
6.2  细化 (Refinement) 98 VH=S?_RY>  
6.3  合成 (Synthesis) 100 U$ F{nZ1  
6.4  目标和评价函数 101 z I+\Oll#Q  
6.4.1  目标输入 102 DyQM>xw)t  
6.4.2  目标 103 &}?$i7x5  
6.4.3  特殊的评价函数 104 2gzou|Y  
6.5  层锁定和连接 104 P>sFV  
6.6  细化技术 104 br0++}vwL  
6.6.1  单纯形 105 U5-@2YcH  
6.6.1.1 单纯形参数 106 i&vaeP25)  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 \0mb 3Q'  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ;Ra+=z}>  
6.6.3  模拟退火算法 109 [8
Qro8  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 #]#sGmW/L  
6.6.4  共轭梯度 111 wMdal:n^  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Wm);C~Le  
6.6.5  拟牛顿法 112 -S$1Yn  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 c%[#~;E  
6.6.6  针合成 113 K]j0_~3
s  
6.6.6.1 针合成参数 114 +V{7")px6  
6.6.7 差分进化 114 /F4pb]U!*  
6.6.8非局部细化 115 _UT$,0u_i  
6.6.8.1非局部细化参数 115 n+BJxu?  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 w.lAQ5)I%\  
6.7.1 　细化 116 UN%Vg:=  
6.7.2　 合成 117 !2z?YZhu  
6.8  参考文献 117 >~`r:0',  
7  导纳图及其他工具 118 b8%C*r7  
7.1  简介 118 IBQ@{QB  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 XuD=E  
7.2.1  四分之一波长规则 119 \EKU*5\Hp>  
7.2.2  导纳图 120 B9T!j]'  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ,oNOC3U  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 /;tPNp{!dw  
7.5  斜入射导纳图 141 FJ %  
7.6  对称周期 141 vTaJqEE  
7.7  参考文献 142 7C$ 5  
8  典型的镀膜实例 143 p
/2jh&  
8.1  单层抗反射薄膜 145 GEEW?8  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 -AhwI  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "dROb}szn  
8.4  W-膜层 148 \~BDm  
8.5  V-膜层 149 H)aQ3T4N5  
8.6  V-膜层高折射基底 150 w|CZ7|6  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Qc[3Fq,f  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 N<QjdD&  
8.9  四层抗反射薄膜 153 H*bs31i{  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ?%VI{[y#>  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 M;0]u.D*=  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 @xeAc0.^  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157  Y!WG)u5  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 Fbu5PWhlc  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 PG8^.)]M  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ?-tVSRKQ  
8.17  1/4波长堆栈 162 MwfOy@|N  
8.18  陷波滤波器 163 >7roe []-|  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Ja SI^go  
8.20  褶皱 165 Yp0/Ab(v  
8.21  消偏振分光器1 169 d/}SAvtt  
8.22  消偏振分光器2 171 u7xDau(c  
8.23  消偏振立体分光器 172 <BSc* 9Q  
8.24  消偏振截止滤光片 173 "+zCS|   
8.25  立体偏振分束器1 174 A>[|g`;t  
8.26  立方偏振分束器2 177 w=|GJ0  
8.27  相位延迟器 178 wHIj<"2  
8.28  红外截止器 179 k"g._|G  
8.29  21层长波带通滤波器 180 U|HB=BP  
8.30  49层长波带通滤波器 181 wZ4t
CZA  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ]`bQW?  
8.32  47 红外截止器 183 GZ{]0$9I'  
8.33  宽带通滤波器 184 oQv3GpO  
8.34  诱导透射滤波器 186 oG7q_4+&  
8.35  诱导透射滤波器2 188 yQ3OL#  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 +kq'+Y7  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 .))v0  
8.35  增益平坦滤波器 193 /XudV2P-CA  
8.38  啁啾反射镜 1 196 t+?P^Ok  
8.39  啁啾反射镜2 198 LTJc,3\,  
8.40  啁啾反射镜3 199 t8+_/BXv  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Q#
(GI2F2#  
8.42  增加铝反射率膜 201 ,*]d~Y  
8.43  参考文献 202 `xiCm':  
9  多层膜 204 6{,HiY  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 A~Xq,BxCV  
9.2  内部透过率 204 EZ.!rh~+  
9.3 内部透射率数据 205 c8Q]!p+Yp  
9.4  实例 206 T6pLoaKu  
9.5  实例2 210 `z0{S!  
9.6  圆锥和带宽计算 212 #q3l!3\mW  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 `:O\dN>ON  
10  光学薄膜的颜色 216 P]i =r] i  
10.1  导言 216 _U{([M>;  
10.2  色彩 216 Gn)y> AN  
10.3  主波长和纯度 220 bS >0DU   
10.4  色相和纯度 221 F`nb21{0y&  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Qm8)4?FZ  
10.6 色差 226 z4@k$ L8  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ^`SA'F,  
10.8  颜色渲染指数 234
Y~)T  
10.9  色差计算 235 4wi(?  
10.10  参考文献 236 r-kMLw/)  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 E42eOGp9i  
11.1  短脉冲 238 fbFX4?-  
11.2  群速度 239 6DL[aD  
11.3  群速度色散 241 $T<}y_nHl  
11.4  啁啾(chirped) 245 fWF|,A>>b  
11.5  光学薄膜—相变 245 g\GdkiI
j  
11.6  群延迟和延迟色散 246 $|KaBx1  
11.7  色度色散 246 Y${l!+q  
11.8  色散补偿 249 Jti(b*~  
11.9  空间光线偏移 256 T\VNqs@  
11.10  参考文献 258 ?3Ij*}
_O2  
12  公差与误差 260 \n9A^v`F/  
12.1  蒙特卡罗模型 260 y[O-pD`  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 JaWv]@9*  
12.2.1  误差工具 267 n:U>Fj>q  
12.2.2  灵敏度工具 271 FFEfp.T1M  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 gPzL*6OSA  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 )4xu^=N&as  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ~#}Dx :HH  
12.3  参考文献 276 8u2+tB  
13  Runsheet 与Simulator 277 I8H%=Kb?9  
13.1  原理介绍 277 2JmZ
{  
13.2  截止滤光片设计 277 z"DkFvA  
14  光学常数提取 289 )a=/8ofe  
14.1  介绍 289 k:A|'NK~  
14.2  电介质薄膜 289 +:6Ii9GN  
14.3  n 和k 的提取工具 295 V 'X;jC  
14.4  基底的参数提取 302 v&g0ta@
 
14.5  金属的参数提取 306 Ni*Wz*o  
14.6  不正确的模型 306 (1pEEq84  
14.7  参考文献 311 jnuY{0(&  
15  反演工程 313 5/m$)wE  
15.1  随机性和系统性 313 g^kx(p<u`  
15.2  常见的系统性问题 314 OlxX.wP  
15.3  单层膜 314 -Uo?WXP]B'  
15.4  多层膜 314 N0n^L|(R  
15.5  含义 319 \'19BAm'  
15.6  反演工程实例 319 *.f2VQ~H  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 5;)*T6Y  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 LT+3q%W.UC  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 G>T')A  
16.1  光学性质的热致偏移 329 %K 4  
16.2  应力工具 335 oJ*1>7[J  
16.3  均匀性误差 339 (#(Or  
16.3.1  圆锥工具 339 TrE3S'EU#R  
16.3.2  波前问题 341 _-cK{  
16.4  参考文献 343 ,D80/2U^  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 mnF}S5[9  
17.1  引言 345 d]0
a%Xh[  
17.2  操作数 345 BOf1J1  
18  如何在Function中编写脚本 351 ]_*S~'
x  
18.1  简介 351 !- ~X?s~L  
18.2  什么是脚本？ 351 RE46k`44  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 KA]*ox6j;  
18.4  基础 352 kpfwqHT  
18.4.1  Classes（类别） 352 ,<ya@Fi{  
18.4.2  对象 352 }4%/pOi:f  
18.4.3  信息（Messages） 352 Aq#/2t  
18.4.4  属性 352 Sn3:x5H,l  
18.4.5  方法 353 H!IDV}dn  
18.4.6  变量声明 353 d<o.o?Vc  
18.5  创建对象 354 ^E>CGGS4  
18.5.1  创建对象函数 355 d-!<C7O}  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ]]iO- }  
18.5.3 丢弃对象 356 {^q)^<#JT  
18.5.4  总结 356 Ar, 9U9  
18.6  脚本中的表格 357 0x)dnq\  
18.6.1  方法1 357 2BB<mv K4  
18.6.2  方法2 357 !FG%2L4?,5  
18.7 2D Plots in Scripts 358 t Y1Et0  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Mpx/S<Z  
18.9  注释 360 'Am-vhpm  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 x%BF{Sw  
18.11  一个更高级的脚本 362 :iY$82wQ  
18.12  <esc>键 364 6`nR5fh  
18.13 包含文件 365 Ya4?{2h@+  
18.14  脚本被优化调用 366 eG]a zt  
18.15  脚本中的对话框 368 R"6;NPeo  
18.15.1  介绍 368 8<PKKDgbfd  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Z>A{i?#m  
18.15.3  输入框函数 370 2:v<qX  
18.15.4  自定义对话框 371 ~a+NJ6e1  
18.15.5  对话框编辑器 371 y8s=\`~PR  
18.15.6  控制对话框 377 LPE)  
18.15.7  更高级的对话框 380 :\}U9QfCw  
18.16 Types语句 384 L`K;IV%;  
18.17 打开文件 385 Ky9W/dCR  
18.18 Bags 387 CB}BQd  
18.13  进一步研究 388 T |"`
8mG  
19  vStack 389 13f<0wg  
19.1  vStack基本原理 389 6}&^=^-  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Z[IM<S9lz  
19.3  五棱镜 393 .|]IwyD &  
19.4 光束距离 396 |4SW[>WT:  
19.5 误差 399 LdWc X`K  
19.6  二向分色棱镜 399 F1u)i  
19.7  偏振泄漏 404
!=zx  
19.8  波前误差—相位 405 E 5kF^P  
19.9  其它计算参数 405 n9}RW;N+u  
20  报表生成器 406 h`?k.{})M  
20.1  入门 406 E <@\>y.[  
20.2  指令(Instructions) 406 r,'O).7  
20.3  页面布局指令 406 |`]oc,1h@  
20.4  常见的参数图和三维图 407 O-GxUHwWr  
20.5  表格中的常见参数 408 G(OFr2M  
20.6  迭代指令 408 3V-6)V{KaE  
20.7  报表模版 408 :EB,{|m  
20.8  开始设计一个报表模版 409 )/%S=c  
21  一个新的project 413 ~mA7pOHj  
21.1  创建一个新Job 414 :W
X0,-Gn  
21.2  默认设计 415 XS/n>C  
21.3  薄膜设计 416 ( pD7  
21.4  误差的灵敏度计算 420 )Qr6/c8}  
21.5  显色指数计算 422 @36S}5Oa  
21.6  电场分布 424 ;X7i/DQ  
后记 426 `p|[rS>  
C_-E4I Z
)  
#O|lfl>}  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 >l2w
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《Essential Macleod中文手册》 (Jpm KO  
~07RFR  
目  录 8A/>JD3^  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 0M\NS$u(Y  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 qy9i9$8  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 r<_2qICgP  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 DB8s  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 uGCtLA+sL  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 FNJ!IkuR  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 5&(3A|P2  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Sh$U-ch@  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 xMsGs  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 G+C}<S}  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 Q?]w{f(  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 QK7e|M  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 msG3~@q  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 `]&*`9IK{  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /s8/q2:  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 L]>4Nd  
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价  格：400元