[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 )WmZP3$^TX  
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 o
6|"J%9GX  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 jr:drzr{I  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 *w|iu^G  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 RQ|?Ce",  
1. Essential Macleod软件介绍 CC>($k"  
1.1 介绍软件 Vf$1Sjw  
1.2 创建一个简单的设计 i(P>Y2s  
1.3 绘图和制表来表示性能 {Hr>X  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 =EWD |<  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 7N6zqjIB  
1.6 特定设计的公式技术 I:HV6_/^-G  
1.7 交互式绘图 RyE_|]I62u  
2. 光学薄膜理论基础 }H; ]k-)  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 A(NEWO  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 %]!?{U\*k  
3. 材料管理 GRy4cb2  
3.1 材料模型 GBW 7Y  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 5c)wZ  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 s<,"Hsh^CR  
3.4 基板光学常数的提取 [?|5oaK  
4. 光学薄膜设计优化方法 c[Yq5Bu{y  
4.1 参考波长与g }-dF+m:  
4.2 四分之一规则 }^Z<
dbt  
4.3 导纳与导纳图 ah>Dqb*  
4.4 斜入射光学导纳 D"'#one  
4.5 光学薄膜设计的进展 C
M"s9E8y  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 %![4d;Z%x  
4.6.1 优化目标设置 jWh
D5k@v  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） r&=r/k2  
4.6.3 膜层锁定和链接 *50ZinfoG  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 X!m;uJZp  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 kr6:{\DU:B  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 H&9wSG`  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 (a,6a  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 N*? WUn9]  
5.5 如何在Function中编写脚本 HaS[.&\S0  
6. 光学薄膜系统案例 ID&zY;f  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 C>M6&=  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 wAPO{3  
6.3 Stack应用范例说明 %bN"bxv^  
7. 薄膜性能分析 #i6[4X?  
7.1 电场分布 ddl3fl#f  
7.2 公差与灵敏度分析 \#HL`R"  
7.3 反演工程 N:5b1TdI,  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 j_hjCQ  
8. 真空技术 e_\SSH@tw  
8.1 常用真空泵介绍 h@EJTAi  
8.2 真空密封和检漏 {XyG1  
9. 薄膜制备技术 YK7
gd|LR]  
9.1 常见薄膜制备技术 H#_}^cGPR=  
10. 薄膜制备工艺 S|tA[klh  
10.1 薄膜制备工艺因素 -0/=k_q_  
10.2 薄膜均匀性修正技术 bl6':m+  
10.3 光学薄膜监控技术 *pmoLiuB>  
11. 激光薄膜 hl=oiUf[s  
11.1 薄膜的损伤问题 54bF)<+  
11.2 激光薄膜的制备流程 nvw NjN  
11.3 激光薄膜的制备技术 oVAOGHE  
12. 光学薄膜特性测量 &0?DL  
12.1 薄膜光谱测量 _$~ex ~v  
12.2 薄膜光学常数测量 1V#B]x:  
12.3 薄膜应力测量 X*(gT1"
t  
12.4 薄膜损伤测量 'Wd3`4V$  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 QJb7U5:B+  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。  zgZi  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 Sz^TGF  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 ,%& LG],6  
8uD8or  
zS#f%{  
q=(M!9cE  
目录 q_OY sg  
Preface 1 3^uL`ETm@  
内容简介 2 ufHuI*  
目录 i btJ,dpir  
1  引言 1 }?\#_BCjx(  
2  光学薄膜基础 2 9J't[( u|u  
2.1  一般规则 2 /r#b  
2.2  正交入射规则 3 WoC\a^V  
2.3  斜入射规则 6 ^' edE5  
2.4  精确计算 7 $fq-wl-=  
2.5  相干性 8 <T4 7kLI  
2.6 参考文献 10 /S-/SF:>g  
3  Essential Macleod的快速预览 10 T +|J
19  
4  Essential Macleod的特点 32 !8H!Fj`|j  
4.1  容量和局限性 33 3 LZL!^ 5N  
4.2  程序在哪里？ 33 QH~8 aE_i  
4.3  数据文件 35 N>uZt2  
4.4  设计规则 35 f=-!2#%  
4.5  材料数据库和资料库 37 -;W\f<q]  
4.5.1材料损失 38 3(Hj7d7'}  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 fJ|Bu("N  
4.5.2 材料库 41 uaZ"x&oZ#  
4.5.3导出材料数据 43 >vNk kxWyQ  
4.6  常用单位 43 ?(|TP^  
4.7  插值和外推法 46 o}j_eHl{  
4.8  材料数据的平滑 50 KBUAdpU8  
4.9 更多光学常数模型 54 .~V".tZV[  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Rz])wBv e  
4.11 撤销和重做 56 g(z#h$@S  
4.12  设计文档 57 Cz$Hk;3\6  
4.10.1  公式 58 [5}cU{M  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 MfZ}xu  
4.10.3  沉积密度 59 -Lz1#Sk]A  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ys~p(  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 PG-cu$\??  
4.10.4  性能 61 !$ J)  
4.10.5  保存设计和性能 64 <7sF<KD  
4.10.6  默认设计 64 ||"":K  
4.11  图表 64 8O;rp(N.n  
4.11.1  合并曲线图 67 _z_3%N  
4.11.2  自适应绘制 68 *n$m;yI  
4.11.3  动态绘图 68 /(WX!EEsB  
4.11.4  3D绘图 69 s\3Z?zm8  
4.12  导入和导出 73 T{v<  
4.12.1  剪贴板 73 M25z<Y  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 uV*f  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Xoa<r9  
4.13  背景 77 4p/V6kr&r  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 D3ZT''  
4.15  生成Rugate 84 <whPM  
4.16  参考文献 91 =."WvBKg  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 s/p>30Fg  
5.1  Jobs 92 ?6.KS  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 gen3"\Og{  
5.3  输入材料 94 n<"a+TTU  
5.4  设计数据文件夹 95 8t^;O!  
5.5  默认设计 95 +-KRp1qq  
6  细化和合成 97 S|u1QGB  
6.1  优化介绍 97 /i]=ndAk  
6.2  细化 (Refinement) 98 1dgN10  
6.3  合成 (Synthesis) 100 cvLcre% >A  
6.4  目标和评价函数 101 7HR%rO?'  
6.4.1  目标输入 102 5
jCEy*%P@  
6.4.2  目标 103 S92!jp/  
6.4.3  特殊的评价函数 104 6u]OXPA|  
6.5  层锁定和连接 104 UdM5R [  
6.6  细化技术 104 [7Kj$PB3  
6.6.1  单纯形 105 qT-nD}  
6.6.1.1 单纯形参数 106 #D*J5k>2  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 JwG5#CFu^  
6.6.2.1 Optimac参数 108 L^ jC& dF  
6.6.3  模拟退火算法 109 ;r@R (Squ  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 3Jk?)Dy  
6.6.4  共轭梯度 111 >=q!!'$:  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 `X]2iz
 
6.6.5  拟牛顿法 112 x.4)p6  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 bMK'J  
6.6.6  针合成 113 Uc%`? +Q  
6.6.6.1 针合成参数 114 f+W[]KK*PW  
6.6.7 差分进化 114 v.8S V
]  
6.6.8非局部细化 115 n*8RYm)?  
6.6.8.1非局部细化参数 115 #lVl?F+~  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 [ QL<&:s&  
6.7.1 　细化 116 J;]@?(  
6.7.2　 合成 117 p=5H^E m1  
6.8  参考文献 117 C?<XtIoB  
7  导纳图及其他工具 118 /n3&e  
7.1  简介 118 4>tYMyLt0  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ^}pREe c=  
7.2.1  四分之一波长规则 119 +`vZg^_c`  
7.2.2  导纳图 120 e^fKatI1  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ST[1'T+L  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 $4~}_phi  
7.5  斜入射导纳图 141 M&\?)yG  
7.6  对称周期 141 j!8+|eAkk  
7.7  参考文献 142 s$y#Ufz  
8  典型的镀膜实例 143 2n+XML  
8.1  单层抗反射薄膜 145 "l;8 O2;g  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 kp>Z/kt  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 oX]1>#5UMg  
8.4  W-膜层 148 OU3+SYM  
8.5  V-膜层 149 r`"#c7)  
8.6  V-膜层高折射基底 150 M{k
h=b)V  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 q>oH(A  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 `j"G=%e3.  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Wa
tLAn+  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 qO3BQ]UF  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 /F9lW}pd  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 U\GZ  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 %[CM;|?B4  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 /Gv$1t^a  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 "^e?E:( 3  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 rxk{Li<9  
8.17  1/4波长堆栈 162 A =#-u&l  
8.18  陷波滤波器 163 imq(3?  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Q>c6ouuJ  
8.20  褶皱 165 !l~aRj-WZ  
8.21  消偏振分光器1 169 YqCK#zT/  
8.22  消偏振分光器2 171 DN{G$$or  
8.23  消偏振立体分光器 172 6zZR:ej  
8.24  消偏振截止滤光片 173 g-gBg\y{v  
8.25  立体偏振分束器1 174 ,ST.pu8N.  
8.26  立方偏振分束器2 177 [MP:Eeg  
8.27  相位延迟器 178 )P+GklI{4  
8.28  红外截止器 179 0!\q
  
8.29  21层长波带通滤波器 180 AFJY!ou~6  
8.30  49层长波带通滤波器 181 \ OINzfbr  
8.31  55层短波带通滤波器 182 (SVr>|Db  
8.32  47 红外截止器 183 \k-juF80  
8.33  宽带通滤波器 184 =0yJ2[R7Do  
8.34  诱导透射滤波器 186 yC*BOJS  
8.35  诱导透射滤波器2 188 w:+#,,rwzV  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 ?bDae%>.d,  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 0\^2HjsJ  
8.35  增益平坦滤波器 193 fzG1<Gem  
8.38  啁啾反射镜 1 196 8J U~Q  
8.39  啁啾反射镜2 198 YEoT_>A$dB  
8.40  啁啾反射镜3 199 ;!sGfrs0$  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ~,-O  
8.42  增加铝反射率膜 201 jc`',o'[+  
8.43  参考文献 202 2![W N*N>O  
9  多层膜 204 ,w>?N\w!}  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Dx)XC?'xO  
9.2  内部透过率 204 *lF%8k"Al  
9.3 内部透射率数据 205 Z-!T(:E]  
9.4  实例 206 %-|q3 ^s  
9.5  实例2 210 C P v}A  
9.6  圆锥和带宽计算 212 PdBhX  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 B;_3IHMO  
10  光学薄膜的颜色 216 Mwk_SCy  
10.1  导言 216 #vwXx
r  
10.2  色彩 216 HN@)/5BY  
10.3  主波长和纯度 220 6^u(PzlA|~  
10.4  色相和纯度 221 T^G<)IX`c  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 8QBL:7<  
10.6 色差 226 Z"T(8>c;g  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Ls*=mh~IY  
10.8  颜色渲染指数 234 aC
 0Jfo  
10.9  色差计算 235 2MeavTr  
10.10  参考文献 236 M3`A&*\;  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 P9wDTZ :4  
11.1  短脉冲 238 :!hH`l}p  
11.2  群速度 239 y@JYkp>I  
11.3  群速度色散 241 EBLoRW=8ld  
11.4  啁啾(chirped) 245 C;>Ll~f_  
11.5  光学薄膜—相变 245 ^SCWT\E  
11.6  群延迟和延迟色散 246 RVx<2,['  
11.7  色度色散 246 Ma#-'J  
11.8  色散补偿 249 Z+7S,M  
11.9  空间光线偏移 256 X\RTHlw']  
11.10  参考文献 258 <2d@\"AoHE  
12  公差与误差 260 z(eAwmuli  
12.1  蒙特卡罗模型 260 J)NpG9iN
 
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 s'
4p+eJ  
12.2.1  误差工具 267 czRh.kz,  
12.2.2  灵敏度工具 271 &X(-C9'j  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 yG4MqR)J  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 itvdzPO  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 KZNyp%q  
12.3  参考文献 276 &0`7_g7G  
13  Runsheet 与Simulator 277 wv-8\)oA  
13.1  原理介绍 277 c*Nbz,
:  
13.2  截止滤光片设计 277 TKX#/  
14  光学常数提取 289 ;Vt u8f  
14.1  介绍 289 Um<vs
R  
14.2  电介质薄膜 289 mNKa~E  
14.3  n 和k 的提取工具 295 >m!.l{*j>N  
14.4  基底的参数提取 302 FU3B;Fn^Z(  
14.5  金属的参数提取 306 M czWg  
14.6  不正确的模型 306 )I4t
l/  
14.7  参考文献 311 A?zW!
'  
15  反演工程 313 }Jfo(j  
15.1  随机性和系统性 313 P0=F9`3wb  
15.2  常见的系统性问题 314 rg~CF<  
15.3  单层膜 314 jFfki.H  
15.4  多层膜 314 Tp13V.|  
15.5  含义 319 sTz*tSwQv  
15.6  反演工程实例 319 u'p J9>sC  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 -C+vmY*@  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 kz^G.5n   
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 T\>=o]  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ?Dm&A$r  
16.2  应力工具 335 yNL71>w4  
16.3  均匀性误差 339 <9~qAq7^  
16.3.1  圆锥工具 339 ]'q<wPi  
16.3.2  波前问题 341 rpmDr7G  
16.4  参考文献 343 (1^(V)@  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 _?ZT[t<  
17.1  引言 345 U<b!$"P9  
17.2  操作数 345 -,&Xp>u\  
18  如何在Function中编写脚本 351 T_WQzEL^  
18.1  简介 351 }UrtDXhA  
18.2  什么是脚本？ 351 |.A>0-']M  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Qp
,l>k  
18.4  基础 352 j^.P=;  
18.4.1  Classes（类别） 352 O
}Jb,?p  
18.4.2  对象 352 C0RwW??t  
18.4.3  信息（Messages） 352 o[6hUX0tN  
18.4.4  属性 352 i`~y%y  
18.4.5  方法 353 Gf?KpU  
18.4.6  变量声明 353 [>;O'>  
18.5  创建对象 354 U VT8TN-T  
18.5.1  创建对象函数 355
~CA+'e%~~  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 K^bn4Nr  
18.5.3 丢弃对象 356 fVM%.`  
18.5.4  总结 356 d\v _!
7  
18.6  脚本中的表格 357  t>xV]W<  
18.6.1  方法1 357 e9d~Xi16KY  
18.6.2  方法2 357 WxFjpJt  
18.7 2D Plots in Scripts 358 N5\<w>  
18.8 3D Plots in Scripts 359 iJi|*P5dw  
18.9  注释 360 ZeO>Ag^
 
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 O,cx9N  
18.11  一个更高级的脚本 362
|j,Mof  
18.12  <esc>键 364 / @&Sqv4?  
18.13 包含文件 365 c nz
Pq\  
18.14  脚本被优化调用 366 -AX3Rnv^!  
18.15  脚本中的对话框 368 |Xag:hof  
18.15.1  介绍 368 \ *2IU"R  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 j{g{`Qa  
18.15.3  输入框函数 370 [3.rG!Na  
18.15.4  自定义对话框 371 9c6=[3)V  
18.15.5  对话框编辑器 371 1f=L8Dr  
18.15.6  控制对话框 377 H2]I__t/u  
18.15.7  更高级的对话框 380 Cv|:.y  
18.16 Types语句 384 p,Z6/e[SI  
18.17 打开文件 385 ?vVkZsU  
18.18 Bags 387 181P;R=}<  
18.13  进一步研究 388 }DSz_^  
19  vStack 389 ;Y"J j  
19.1  vStack基本原理 389 J
.<m@\U  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 C$bK!]a  
19.3  五棱镜 393 DB0xIP~i,?  
19.4 光束距离 396 073(xAkL{  
19.5 误差 399 ^tah4QmUA  
19.6  二向分色棱镜 399 gvC2\k{  
19.7  偏振泄漏 404 L
g^m?~{  
19.8  波前误差—相位 405 \;3r  
19.9  其它计算参数 405 yhIg)/?L  
20  报表生成器 406 i`Tne3)  
20.1  入门 406 ,'!&Z *  
20.2  指令(Instructions) 406 $H#
&.IjY  
20.3  页面布局指令 406
BXdT;b"J(  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ;[xDc>&("Q  
20.5  表格中的常见参数 408 +,MzD'(D  
20.6  迭代指令 408 NB^.$39n  
20.7  报表模版 408 en  
20.8  开始设计一个报表模版 409 J.-#:OZ  
21  一个新的project 413 iJYr?3nw;  
21.1  创建一个新Job 414 uk1IT4+  
21.2  默认设计 415 ~_raI7,  
21.3  薄膜设计 416 0h7\zoZ5  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ={fi&j  
21.5  显色指数计算 422 y|p:^41Ro  
21.6  电场分布 424 V><P`  
后记 426 D,hl+P{^K  
/90@ 85%r  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 DgdW.Kj|IL  
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《Essential Macleod中文手册》 L^=>)\R2$[  
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h!41  
目  录 d1,azM  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 J^v_VZ3  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 BAxZR  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 PH]q#/'  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 .VUZ4e  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 qg>i8V  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 M6e"4Gh  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 tSg#2  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 %B~`bUHjq  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 !XFN/-Q ,  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 :g,
rl\S7  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 t*DM^
.@  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 q)P<lKi  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 #[A/zH|xvV  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 5'o.v^l  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 !PO(Bfd  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 
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价  格：400元