[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 9}
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X2tk[Kr  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 [^8n0{JiN  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 vP7K9Kx  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 tO_H!kP  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 }HE6aF62O  
1. Essential Macleod软件介绍 :'aAZegQY  
1.1 介绍软件 &z"krM]G  
1.2 创建一个简单的设计 {pb>$G:gfx  
1.3 绘图和制表来表示性能 Z):n c% S  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 d:G]1k;z  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） R<i38/ ~G  
1.6 特定设计的公式技术 7iJ&6=/  
1.7 交互式绘图 JQ:Ri  
2. 光学薄膜理论基础 AmwWH7,g  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 X(jVRr_m9  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ) 'j:  
3. 材料管理 9WJz~SP+vR  
3.1 材料模型 @aQ1khEd  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 47r_y\U h  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 jGrN\D?h  
3.4 基板光学常数的提取 .To;"D;j,  
4. 光学薄膜设计优化方法 8q`$y$06Dk  
4.1 参考波长与g {cpEaOyOM  
4.2 四分之一规则 < j$#9QQ1  
4.3 导纳与导纳图 *&Z7m^`FQ  
4.4 斜入射光学导纳 %gnM(pxl  
4.5 光学薄膜设计的进展 6h3HDFS7s  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 g'];Estb~  
4.6.1 优化目标设置 3]-_q"Co4f  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） nUq<TJ  
4.6.3 膜层锁定和链接 T5Dw0Y6u,  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 S4witIK5  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 j@Qg0F  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 10#oG{9  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 O4<g%.HC6  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 G8W#<1LE  
5.5 如何在Function中编写脚本 Knhp*V?  
6. 光学薄膜系统案例 iR$<$P5  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 p0.|<  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 &rDM<pO #-  
6.3 Stack应用范例说明 LJX-AO.4  
7. 薄膜性能分析 `si#aU  
7.1 电场分布 *&AfR8x_z  
7.2 公差与灵敏度分析 ylKmj
]A  
7.3 反演工程 /v095H@  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 c:83LZ  
8. 真空技术 -/]W+[  
8.1 常用真空泵介绍 nN$Y(2ZN  
8.2 真空密封和检漏 XWJwJ  
9. 薄膜制备技术 ( 6(x'ByT  
9.1 常见薄膜制备技术 @DW[Z`X
 
10. 薄膜制备工艺 ?=GXqbS"  
10.1 薄膜制备工艺因素 5 ,0d  
10.2 薄膜均匀性修正技术 +.RKi!  
10.3 光学薄膜监控技术 @`FCiHM  
11. 激光薄膜 3Rm#-T s  
11.1 薄膜的损伤问题 9;Fbnp'  
11.2 激光薄膜的制备流程
b]E|*  
11.3 激光薄膜的制备技术 +7Kyyu)y@  
12. 光学薄膜特性测量 Hn,:`mj4-6  
12.1 薄膜光谱测量 )pw&c_x  
12.2 薄膜光学常数测量 0'&X T^"  
12.3 薄膜应力测量 LtT\z<bAI  
12.4 薄膜损伤测量 co_oMc  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 D .vw8H3  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 [nxE)D  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 )a}"^1  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 K; FW  
> Oh?%%6  
ozsxXBh-`'  
H1!iP$1#V  
目录 T+LJ*I4  
Preface 1 .@iFa3  
内容简介 2  TIy&&_p  
目录 i HG/p$L*  
1  引言 1 n(~\l#o@  
2  光学薄膜基础 2 G0n'KB
 
2.1  一般规则 2  Lw1T 4n  
2.2  正交入射规则 3 3CTX -#)vS  
2.3  斜入射规则 6 -
#-p1^v}  
2.4  精确计算 7 >k']T/%  
2.5  相干性 8 \EoX8b}$b0  
2.6 参考文献 10 3#wcKv%>&_  
3  Essential Macleod的快速预览 10 gPS&^EdxA  
4  Essential Macleod的特点 32 ujW1+Oj=~  
4.1  容量和局限性 33 9ykM3  
4.2  程序在哪里？ 33 9^P2I)aD  
4.3  数据文件 35 +.[\g|G  
4.4  设计规则 35 3*DXE9gA9  
4.5  材料数据库和资料库 37 g|PC$p-z+  
4.5.1材料损失 38 Y^$HrI(vq  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 P+eKZo  
4.5.2 材料库 41 %u?HF4S'  
4.5.3导出材料数据 43 Np)3+!^1"  
4.6  常用单位 43 HOt>}x  
4.7  插值和外推法 46 U7&x rif  
4.8  材料数据的平滑 50 4n 3Tp{Y}  
4.9 更多光学常数模型 54 mxrG)n6Y  
4.10  文档的一般编辑规则 55 L{gE'jCC  
4.11 撤销和重做 56 :

ZdUx  
4.12  设计文档 57 ~E4"}n[3A#  
4.10.1  公式 58 T+"f]v  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 EruP  
4.10.3  沉积密度 59 Hv#q:R8  
4.10.4 平行和楔形介质 60 TOl}U  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 dAx96Og:X"  
4.10.4  性能 61 jm>3bd  
4.10.5  保存设计和性能 64 dOa!htx]  
4.10.6  默认设计 64 bC@k>yC-  
4.11  图表 64 qZ2&Xw.{1  
4.11.1  合并曲线图 67 h -_&MD/J  
4.11.2  自适应绘制 68 3bC yTZk  
4.11.3  动态绘图 68 eN0P9.eqM  
4.11.4  3D绘图 69 Mjpo1dw  
4.12  导入和导出 73 PW}OU9is  
4.12.1  剪贴板 73 k
D~uGA  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 #;9H@:N  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ed~R>F>  
4.13  背景 77 g;F"7 ^sg  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 $]d*0^J 6  
4.15  生成Rugate 84 TmEYW<  
4.16  参考文献 91 5#:pT  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 1r`i]1<H  
5.1  Jobs 92 q/@dR{-  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 mAqDjRV1  
5.3  输入材料 94 _[Gb)/@mM  
5.4  设计数据文件夹 95 (4~WWU (iT  
5.5  默认设计 95 @ "d2.h  
6  细化和合成 97 Uku5wPS  
6.1  优化介绍 97 Iur9I>8h  
6.2  细化 (Refinement) 98 u'9gVU B  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Wz=OSH7"f  
6.4  目标和评价函数 101 ft5DU/%  
6.4.1  目标输入 102 ~P1_BD(  
6.4.2  目标 103 K\=8eg93Z  
6.4.3  特殊的评价函数 104 oC dGQ7G}  
6.5  层锁定和连接 104 OS7RQw1  
6.6  细化技术 104 eO5ktEoJ  
6.6.1  单纯形 105 :F|\Ij
0T  
6.6.1.1 单纯形参数 106 =TcOnQj  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 r7z6___  
6.6.2.1 Optimac参数 108 E1q%gi4Q%  
6.6.3  模拟退火算法 109 T`L}[?w  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 TnxKR$Hoh  
6.6.4  共轭梯度 111 9{J?H
Fw*;  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Cyk s  
6.6.5  拟牛顿法 112 8Pmwzpk02  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 N_'+B+U?  
6.6.6  针合成 113 #qL9{P<}  
6.6.6.1 针合成参数 114 e9@(/+
 
6.6.7 差分进化 114 lJ/6-dP  
6.6.8非局部细化 115 l:e9y$_)  
6.6.8.1非局部细化参数 115 XCPb9<L  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 )LFD6\z1pl  
6.7.1 　细化 116 XI}I.M  
6.7.2　 合成 117 $4j^1U`~)K  
6.8  参考文献 117 ZxSsR{  
7  导纳图及其他工具 118 d.}}s$Q  
7.1  简介 118 mUwUs~PjA  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 X\A]"su  
7.2.1  四分之一波长规则 119 JieU9lA^&B  
7.2.2  导纳图 120 b~wKF0vq  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 i.@*tIK  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 h%b
hrkD  
7.5  斜入射导纳图 141 Cg6;I.K  
7.6  对称周期 141 qpgU8f  
7.7  参考文献 142 &+;uZ-x  
8  典型的镀膜实例 143 Z`xyb>$  
8.1  单层抗反射薄膜 145 )+GX<2_  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 u~Lu<3v  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 p$OD*f_b  
8.4  W-膜层 148 6o lV+  
8.5  V-膜层 149 )1z4q`  
8.6  V-膜层高折射基底 150 -N^=@Yx)  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 [t}):}~F|  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 m!!;/e?yx  
8.9  四层抗反射薄膜 153 >\\5"Sf  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 q!
*MH/R  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 rt;gC[3\  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 $MT}l  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 !$E~\uT  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 W:B}u\)C  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ]L]T>~X`  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 32KR--mn%  
8.17  1/4波长堆栈 162 .CmL7 5  
8.18  陷波滤波器 163 _W+Q3Jx-(  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 d<Dn9,G  
8.20  褶皱 165 lm &^tjx  
8.21  消偏振分光器1 169 1}DerX6  
8.22  消偏振分光器2 171 MgP{W=h2  
8.23  消偏振立体分光器 172 2mOfsn d@  
8.24  消偏振截止滤光片 173 PdjCv+R6?  
8.25  立体偏振分束器1 174 ORtg>az\%  
8.26  立方偏振分束器2 177 ?1DUNZ6  
8.27  相位延迟器 178 GU#Q}L2  
8.28  红外截止器 179 [J:zE&aj
  
8.29  21层长波带通滤波器 180 wy\o*P9mG)  
8.30  49层长波带通滤波器 181 CRd_}  
8.31  55层短波带通滤波器 182 B%(K0`G#X  
8.32  47 红外截止器 183 3DI^y`av  
8.33  宽带通滤波器 184 Jmy)J!ib*  
8.34  诱导透射滤波器 186 Ctj8tK
$D  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Si[eAAd' :  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 ])68wqD  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 _X?y,#  
8.35  增益平坦滤波器 193
C&FN#B  
8.38  啁啾反射镜 1 196 59/Q*7ZJ  
8.39  啁啾反射镜2 198 e18T(g_i  
8.40  啁啾反射镜3 199 F]P
ul|.l  
8.41  带保护层的铝膜层 200 A'b<?)Y7_  
8.42  增加铝反射率膜 201 ~q5-9{ma  
8.43  参考文献 202 n4XMN\:g{  
9  多层膜 204 iUpSN0XkMM  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 "1CGO@AXS  
9.2  内部透过率 204 P69>gBZYD  
9.3 内部透射率数据 205 6|i`@|#  
9.4  实例 206 .8%vd  
9.5  实例2 210 y!BB7cK6  
9.6  圆锥和带宽计算 212 L c{!FG>  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 (OQi%/Oy  
10  光学薄膜的颜色 216 dvxf lLd @  
10.1  导言 216 JH-nvv  
10.2  色彩 216 &7lk2Q\  
10.3  主波长和纯度 220 89ZDOji?O  
10.4  色相和纯度 221 -^y1iN'D  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 *SXSF95  
10.6 色差 226 ^Y#@$c  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 W3aXW,P.V  
10.8  颜色渲染指数 234 3l.Nz@a*  
10.9  色差计算 235 ;q'DGzh  
10.10  参考文献 236 #fJwC7 4  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 I"~xDa!  
11.1  短脉冲 238 &boj$ k!g[  
11.2  群速度 239 EF0Pt  
11.3  群速度色散 241 7d%
A1}Bq$  
11.4  啁啾(chirped) 245 PlF89-  
11.5  光学薄膜—相变 245 8x`Kl(  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ]kzv8#  
11.7  色度色散 246 54;l*}8Hl  
11.8  色散补偿 249 <[esA9.]t  
11.9  空间光线偏移 256 *c!;^Qyp&  
11.10  参考文献 258 m`[oT\  
12  公差与误差 260 `\nON  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ^7J~W'hI  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 k{zs578h2  
12.2.1  误差工具 267 qAnA=/k`  
12.2.2  灵敏度工具 271 #IH<HL)t%e  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ~r{\WZ.  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 |C&%S"*+D  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Ks9FnDm8  
12.3  参考文献 276 s0_-1VU  
13  Runsheet 与Simulator 277 ^mS.HT=X  
13.1  原理介绍 277 M9g~lKs'  
13.2  截止滤光片设计 277 >Iu]T{QNO  
14  光学常数提取 289 o",f(v&u%  
14.1  介绍 289 myEGibhK  
14.2  电介质薄膜 289 &Bj,.dD/a  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ppPG+[cz  
14.4  基底的参数提取 302 Xp<A@2wt?  
14.5  金属的参数提取 306 hP,b-R9\  
14.6  不正确的模型 306 ^aGZJiyJ  
14.7  参考文献 311 byEvc[/>Ys  
15  反演工程 313 a3b2nAIl  
15.1  随机性和系统性 313 D|u^8\'.  
15.2  常见的系统性问题 314 r\4*\  
15.3  单层膜 314 ,eZ;8W{G  
15.4  多层膜 314 {QIS411  
15.5  含义 319 [8B tIv  
15.6  反演工程实例 319 "#_)G7W+e  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 94Kuy@0:+  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 .5jnKU8NF  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329  '7S!6kd?  
16.1  光学性质的热致偏移 329
`@VM<av  
16.2  应力工具 335 Td["l!-fe  
16.3  均匀性误差 339 uW\@x4  
16.3.1  圆锥工具 339 h(+m<J  
16.3.2  波前问题 341  ?.4y
g(  
16.4  参考文献 343 Q#yu(  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 &hSnB~hi  
17.1  引言 345 {<''OwQF~+  
17.2  操作数 345 Uxj<x`<1x  
18  如何在Function中编写脚本 351 E|F!S(.:,M  
18.1  简介 351 j]@x Q,y  
18.2  什么是脚本？ 351 X+?Il)Bv  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 D:ql^{~  
18.4  基础 352 glOqft&>`  
18.4.1  Classes（类别） 352 !q7;{/QM6  
18.4.2  对象 352 IS5.i95m  
18.4.3  信息（Messages） 352 (`q6G d  
18.4.4  属性 352 m11"i=S"  
18.4.5  方法 353 +
SZ%&  
18.4.6  变量声明 353 }5TfQV6  
18.5  创建对象 354 ,T,B0  
18.5.1  创建对象函数 355 ?9wFV
/  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 z$I[kR%I{  
18.5.3 丢弃对象 356 ;*<{*6;=?  
18.5.4  总结 356 q:EzKrE  
18.6  脚本中的表格 357 Et@=Ic^E  
18.6.1  方法1 357 l1+w2r
d1  
18.6.2  方法2 357 Q5`+eQ?_\  
18.7 2D Plots in Scripts 358 &F<J#cfe8  
18.8 3D Plots in Scripts 359 6\)8mK  
18.9  注释 360 lzr>WbM{{p  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 A|`Joxr  
18.11  一个更高级的脚本 362 #G[ *2h~99  
18.12  <esc>键 364 4acP*LkkQ  
18.13 包含文件 365 A
/Fs?m{7U  
18.14  脚本被优化调用 366 -6em*$k^  
18.15  脚本中的对话框 368  9
:K  
18.15.1  介绍 368 f2R+5`$  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 K&\BwBU  
18.15.3  输入框函数 370 `/gEKrhL-  
18.15.4  自定义对话框 371 O>b&-U"R  
18.15.5  对话框编辑器 371 +aXk^+~j  
18.15.6  控制对话框 377 UL@5*uiX  
18.15.7  更高级的对话框 380 t`Y1.]@U  
18.16 Types语句 384 "OS]\-  
18.17 打开文件 385 "I}'C^gP  
18.18 Bags 387 kw}ISXz v  
18.13  进一步研究 388 yv8dfl  
19  vStack 389 b
z}AO))Hk  
19.1  vStack基本原理 389 ^%4( %68  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 n{qw]/  
19.3  五棱镜 393 a?U%l9F  
19.4 光束距离 396 NBbY## w0  
19.5 误差 399 @6I[{{>X  
19.6  二向分色棱镜 399 'wT./&Z  
19.7  偏振泄漏 404 7Y @=x#  
19.8  波前误差—相位 405 6%tiB?  
19.9  其它计算参数 405 1Hk<_no5  
20  报表生成器 406 3'
:[i2[  
20.1  入门 406 :+
gCO!9Y  
20.2  指令(Instructions) 406 S#0|#Z5qD  
20.3  页面布局指令 406 ^RFmRn  
20.4  常见的参数图和三维图 407 u{E^<fW]  
20.5  表格中的常见参数 408 #LNB@E  
20.6  迭代指令 408 8^f[-^%  
20.7  报表模版 408 ]Xkc0E1  
20.8  开始设计一个报表模版 409 H
/v37%p7  
21  一个新的project 413 &:cTo(C'  
21.1  创建一个新Job 414 vCU&yXGl  
21.2  默认设计 415 31o7R &v  
21.3  薄膜设计 416  ]5)&36  
21.4  误差的灵敏度计算 420 g:HbmXOBpj  
21.5  显色指数计算 422 8 *(W |J  
21.6  电场分布 424 -~Z@,  
后记 426 xUYN\Pc-  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 )>#<S0>'j  
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《Essential Macleod中文手册》 EJ &ZZg  
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目  录 BS<>gA R;/  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 aY1#K6(y  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 -"JE-n  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Vo9)KxR  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 XGrxzO|{  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ;xkf?|  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 .D2ub/er  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 0 *Yivx6  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 |#khwH  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 2Nt]Nj`  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ?k7/`gU  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 zKAyfn.A  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 $m%/veD k  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 T?}=k{C]  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 $,@ rKRY  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 }-]s#^'w  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 GPhwq n{  
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价  格：400元