[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 <4X?EYaTq  

图片:w800

!C&%T]  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 nB@UKX  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 !k&)EWP?  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 F'W> 8  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 oK+Lzb\d{M  
1. Essential Macleod软件介绍
TUTe9;)  
1.1 介绍软件 [#b2%G1  
1.2 创建一个简单的设计 \ aKd5@  
1.3 绘图和制表来表示性能 3VO:+mT  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 <0j{ $.  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） :=!Mh}i  
1.6 特定设计的公式技术 7sV/_3H+  
1.7 交互式绘图 x mo&![P  
2. 光学薄膜理论基础 B
QrL7y  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 xy^1US,L1  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ,;iA2  
3. 材料管理 vDDljQXw4  
3.1 材料模型 /tKGwX]y  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 vA>W9OI 
 
3.3 金属薄膜光学常数的提取 bx;f`8SN  
3.4 基板光学常数的提取 G}Z4g  
4. 光学薄膜设计优化方法 _wu*M  
4.1 参考波长与g  rz  
4.2 四分之一规则 sBjXE>_#)  
4.3 导纳与导纳图 `BT^a =5  
4.4 斜入射光学导纳 I'_v{k5ZI  
4.5 光学薄膜设计的进展 zixEMi[8  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Q"}s>]k3_  
4.6.1 优化目标设置 CT"Fk'B'  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） _}=E^/;(  
4.6.3 膜层锁定和链接 -u6#-}S
  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 w-rOecwFvu  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 a@W7<9fY;  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 
.E<Dz  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 $KQ,}I  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 y^s1t2]%  
5.5 如何在Function中编写脚本 > V%Q O>C  
6. 光学薄膜系统案例 sR79 K1*j  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 %zljH"F  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 dU+0dZdKO  
6.3 Stack应用范例说明 xrI}3T  
7. 薄膜性能分析 uPU#c\  
7.1 电场分布 In(NF#
 
7.2 公差与灵敏度分析 Z<]VTo  
7.3 反演工程 l%PnB )F  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 *8-p7,D  
8. 真空技术 qS]G&l6QF  
8.1 常用真空泵介绍 chLeq  
8.2 真空密封和检漏 !;WbOnLP  
9. 薄膜制备技术 WOb8"*OM  
9.1 常见薄膜制备技术 Wem?{kx0  
10. 薄膜制备工艺 Bbs 0v6&,  
10.1 薄膜制备工艺因素 2oB?Dn  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ND,`QjmZ  
10.3 光学薄膜监控技术 x5vzPh`  
11. 激光薄膜 t-EV h~D1p  
11.1 薄膜的损伤问题 Mjw[:70  
11.2 激光薄膜的制备流程 _3&/(B%H  
11.3 激光薄膜的制备技术 taV|YP$  
12. 光学薄膜特性测量 V.j#E1P  
12.1 薄膜光谱测量 ?*o;o?5s^  
12.2 薄膜光学常数测量 fLM.kCD?u  
12.3 薄膜应力测量 nKu(XgFv  
12.4 薄膜损伤测量 jkCHi@  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 BvJ\x)  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ~2 Oc K  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 %mmxA6I  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 J/[7d?hI/  
6vWii)O.D  
\7DCwu[0M  
wRi~Yb?  
目录 eoL0^cZj  
Preface 1 ZIy(<0  
内容简介 2 5~yQ>h  
目录 i QX+Y(P`vMK  
1  引言 1 H<z30r/-w  
2  光学薄膜基础 2 Gl"wEL*  
2.1  一般规则 2 QRiF!D)Nk  
2.2  正交入射规则 3 Q'C4pn@  
2.3  斜入射规则 6 !p"Kd ~  
2.4  精确计算 7 ZmP1C`>  
2.5  相干性 8 $~ VcQ  
2.6 参考文献 10 ULck  
3  Essential Macleod的快速预览 10 m&ZJqsZIL  
4  Essential Macleod的特点 32 pKYLAt+^>  
4.1  容量和局限性 33 *NF&Y  
4.2  程序在哪里？ 33 %0 qc@4  
4.3  数据文件 35 -BjEL;  
4.4  设计规则 35 /O_0=MLp  
4.5  材料数据库和资料库 37 %cd]xQpCp  
4.5.1材料损失 38 d4V 2[TX  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Es:5yX!  
4.5.2 材料库 41 $Uy#/MX  
4.5.3导出材料数据 43 9M
nem*  
4.6  常用单位 43 x@Sra@
 
4.7  插值和外推法 46 epYj+T  
4.8  材料数据的平滑 50 qb9}&'@:  
4.9 更多光学常数模型 54 4t*<+H%  
4.10  文档的一般编辑规则 55 x6j
m-n  
4.11 撤销和重做 56 do*W
x2:R  
4.12  设计文档 57 R rxRa[{Z  
4.10.1  公式 58 &!4( 0u  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <G&WYk%u*  
4.10.3  沉积密度 59 XCV0.u|  
4.10.4 平行和楔形介质 60 C\J@fpH(t`  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Od*v5qT;$  
4.10.4  性能 61 Y0rf9  
4.10.5  保存设计和性能 64 H]U"+52h  
4.10.6  默认设计 64 rrbZ+*U  
4.11  图表 64 #%q
qL  
4.11.1  合并曲线图 67 D. 77WjwQ  
4.11.2  自适应绘制 68 &8zk3  
4.11.3  动态绘图 68 XpOCQyFnM  
4.11.4  3D绘图 69 p-a]"l+L  
4.12  导入和导出 73 ADTU{6UPS  
4.12.1  剪贴板 73 =SA 4\/  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 +V6j`  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Cx$9#3\  
4.13  背景 77 $B*qNYpPy.  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 EWSr@}2j .  
4.15  生成Rugate 84 YHJ'  
4.16  参考文献 91 LZbRQ"!!o  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 zj%c
d;  
5.1  Jobs 92 69N1 mP  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 0qOM78rE  
5.3  输入材料 94 }`#j;H$i  
5.4  设计数据文件夹 95 Ua}g  
5.5  默认设计 95 ?exALv'B  
6  细化和合成 97 *
.oi3m  
6.1  优化介绍 97 Lqg7D\7j  
6.2  细化 (Refinement) 98 x/pC%25  
6.3  合成 (Synthesis) 100 VOD1xWrb  
6.4  目标和评价函数 101 7l[t9ON  
6.4.1  目标输入 102 Uy:@,DW  
6.4.2  目标 103 no eb f  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ^.nwc#  
6.5  层锁定和连接 104 >:="?'N5l!  
6.6  细化技术 104 (M4]#5  
6.6.1  单纯形 105 .0rJIO  
6.6.1.1 单纯形参数 106 R9S7_u  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 3xc:Y> *`  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ~Ay  
6.6.3  模拟退火算法 109 ?U7&R%Lh`  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 }Ox2olUX  
6.6.4  共轭梯度 111 Fj'\v#h  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Vjv6\;tt8  
6.6.5  拟牛顿法 112 IO?~b XP  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 "-G.V#zI  
6.6.6  针合成 113 ch%Q'DR_I)  
6.6.6.1 针合成参数 114 8f5%xY$  
6.6.7 差分进化 114 C6Um6X9/i  
6.6.8非局部细化 115 rjq -ZrC%  
6.6.8.1非局部细化参数 115 rCV$N&rK  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 GA({ri  
6.7.1 　细化 116 J$o[$G_Z  
6.7.2　 合成 117 &Z#Vw.7U  
6.8  参考文献 117 $u/8Rp  
7  导纳图及其他工具 118 uOy\{5s8  
7.1  简介 118 "Wzij&WkQ  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 pP=_@3 D  
7.2.1  四分之一波长规则 119 U`},)$  
7.2.2  导纳图 120 C`=`Ce~|d  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (cbB%  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 O% j,:t'"  
7.5  斜入射导纳图 141 rElG7[+)p  
7.6  对称周期 141 P7M0Ce~iW  
7.7  参考文献 142 7!]k#|u  
8  典型的镀膜实例 143 &q kl*#]  
8.1  单层抗反射薄膜 145 dA3`b*nC  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 iX
&Z  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Br?++\  
8.4  W-膜层 148 ZVC
v(J  
8.5  V-膜层 149 5k!(#@a_T  
8.6  V-膜层高折射基底 150 kr &:;  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 @DjG?yLK$  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 7]0\[9DyJ  
8.9  四层抗反射薄膜 153 5Lo==jHif  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 [bQ8A(u  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 L
S?` {E   
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 (]GY.(F{  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 m"ki*9]  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 vwSX$OZ  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 aTsy)=N  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 [NR0] #h  
8.17  1/4波长堆栈 162 Q'vIeG"o  
8.18  陷波滤波器 163 }1E_G  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 |$i1]Dr6  
8.20  褶皱 165 \n('KVbf  
8.21  消偏振分光器1 169 ln_EL?V  
8.22  消偏振分光器2 171 ./z"P]$
 
8.23  消偏振立体分光器 172 FZLzu  
8.24  消偏振截止滤光片 173 *AJezhR  
8.25  立体偏振分束器1 174 3n=cw2FG  
8.26  立方偏振分束器2 177 ^!{ oAzy9  
8.27  相位延迟器 178 QyBK*uNdV  
8.28  红外截止器 179
$(!D/bvJ  
8.29  21层长波带通滤波器 180 x<j($iv  
8.30  49层长波带通滤波器 181 IT
{.^rP  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ui:>eYv  
8.32  47 红外截止器 183 R _~m\P  
8.33  宽带通滤波器 184 +RKE|*y  
8.34  诱导透射滤波器 186 #6#BSZ E  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Qc)RrqYNGF  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 }@t'rK[  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 F'T= Alf  
8.35  增益平坦滤波器 193 bU@>1>b6lE  
8.38  啁啾反射镜 1 196 +BTNm66Z  
8.39  啁啾反射镜2 198 5<>R dLo  
8.40  啁啾反射镜3 199 88X*:Kf?:  
8.41  带保护层的铝膜层 200 fuwpp  
8.42  增加铝反射率膜 201 67hPQ/S1  
8.43  参考文献 202 "#"Fp&Z7  
9  多层膜 204 =.3P)gY)  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 T[2f6[#[_  
9.2  内部透过率 204 4FP~+  
9.3 内部透射率数据 205 e#Zf>hlAz  
9.4  实例 206 ,1.([%z+r  
9.5  实例2 210 3C5D~9v  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Yk*57&QI  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 u{dN>}{  
10  光学薄膜的颜色 216 |<o>$;mZ  
10.1  导言 216 Yi! >8  
10.2  色彩 216 sGm(Aax*0  
10.3  主波长和纯度 220 (2a"W`  
10.4  色相和纯度 221 a(QZZq};S  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Jb-QP'$@  
10.6 色差 226 %2FCpre;  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 s9Q)6=mE  
10.8  颜色渲染指数 234 q2o$s9}B  
10.9  色差计算 235 5In8VE !P  
10.10  参考文献 236 `EW_pwZPA  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 0aN}zUf  
11.1  短脉冲 238 4m~stDlN  
11.2  群速度 239 N
X#/1=  
11.3  群速度色散 241 9Z_OLai  
11.4  啁啾(chirped) 245 m"> =QP  
11.5  光学薄膜—相变 245 R@{/$p:  
11.6  群延迟和延迟色散 246 C%7,#}[U/  
11.7  色度色散 246 z4%F2Czai&  
11.8  色散补偿 249 "a_D]D(d5  
11.9  空间光线偏移 256 FT?1Q'  
11.10  参考文献 258 ="nrq&2  
12  公差与误差 260 :{='TMJ7  
12.1  蒙特卡罗模型 260 SbNUX  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 )|1JcnNSa  
12.2.1  误差工具 267 R~?;KJ  
12.2.2  灵敏度工具 271 o_^d>Klb8  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ezy5Jqk5%  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 NGeeD?2~  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 *Z
o o  
12.3  参考文献 276 2*;Y%NcP[  
13  Runsheet 与Simulator 277 u$ / ]59  
13.1  原理介绍 277 }u*@b10  
13.2  截止滤光片设计 277 9Q5P7}%p  
14  光学常数提取 289 ?01""Om   
14.1  介绍 289 a/`Yh>ou  
14.2  电介质薄膜 289 NqfDY  
14.3  n 和k 的提取工具 295 9%k.GE  
14.4  基底的参数提取 302 ^XB8A=xi  
14.5  金属的参数提取 306 T1]X   
14.6  不正确的模型 306 SG o:FG  
14.7  参考文献 311 @tp7tB ;  
15  反演工程 313 Xr6 !b:UX  
15.1  随机性和系统性 313 >u[1v  
15.2  常见的系统性问题 314 gd,%H@3  
15.3  单层膜 314 93eqFCF.  
15.4  多层膜 314 lTd2~_  
15.5  含义 319 <UL|%9=~  
15.6  反演工程实例 319 4E(5Ccb  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 -"tgEC\tD  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 NB#*`|qt  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 hd BC ^n  
16.1  光学性质的热致偏移 329 aw~EK0yU   
16.2  应力工具 335 :pu{3-n.  
16.3  均匀性误差 339 ;l4\^E1  
16.3.1  圆锥工具 339
"4AQpD  
16.3.2  波前问题 341
._nKM5.  
16.4  参考文献 343 IbaL.t\>  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 R}26"+~  
17.1  引言 345 ,DOmh<b  
17.2  操作数 345 6(^9D_
"@  
18  如何在Function中编写脚本 351 =8D4:Ds  
18.1  简介 351 h4i$z-!  
18.2  什么是脚本？ 351 twS3J)UH  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Oo .Qz
 
18.4  基础 352 Z69IHA[  
18.4.1  Classes（类别） 352 m =F@CA~C  
18.4.2  对象 352 ?7ZlX?D[  
18.4.3  信息（Messages） 352 N6 8>`  
18.4.4  属性 352 vfDb9QP  
18.4.5  方法 353 .*7UT~o=CS  
18.4.6  变量声明 353 WkIV  
18.5  创建对象 354 _7.y4zQJ  
18.5.1  创建对象函数 355 O;sQPG,v  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 yE9.]j  
18.5.3 丢弃对象 356 xJGeIh5  
18.5.4  总结 356 )fL*Ws6  
18.6  脚本中的表格 357 GP'Y!cl  
18.6.1  方法1 357 5z>\'a1U  
18.6.2  方法2 357 {f3fc8(p  
18.7 2D Plots in Scripts 358 l!` 0I] }  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Y@Y(;C"SW  
18.9  注释 360 (32nI?)a  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ~{Bi{aK2  
18.11  一个更高级的脚本 362 W (=B H  
18.12  <esc>键 364 [wG%@0\  
18.13 包含文件 365 >Mr
U^t  
18.14  脚本被优化调用 366 x@}Fn:c!5  
18.15  脚本中的对话框 368 34:EpZO@  
18.15.1  介绍 368 DdO'  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 L:Eb(
z/D  
18.15.3  输入框函数 370 y]9UFL"  
18.15.4  自定义对话框 371 gXJ^o;R>M  
18.15.5  对话框编辑器 371 Z?mg1;Q  
18.15.6  控制对话框 377 jy2nn:1#^  
18.15.7  更高级的对话框 380 PlUjjJU  
18.16 Types语句 384 -"H4brj;G  
18.17 打开文件 385 1U7HS2  
18.18 Bags 387 x&vD,|V!  
18.13  进一步研究 388 `ay
cYoD  
19  vStack 389 j #YFwX4.  
19.1  vStack基本原理 389 kc[["w&  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 MT0{hsuK9  
19.3  五棱镜 393 gAP}KR#T  
19.4 光束距离 396 FM[T
o  
19.5 误差 399 s+- aHn  
19.6  二向分色棱镜 399 xrnH=>.;m  
19.7  偏振泄漏 404 FJ"9Hs2  
19.8  波前误差—相位 405 SqB|(~S  
19.9  其它计算参数 405 >6+K"J-@  
20  报表生成器 406 &N0|tn  
20.1  入门 406 NM.B=<Aw*  
20.2  指令(Instructions) 406 }}1Q<puM  
20.3  页面布局指令 406 ]H2aYi$  
20.4  常见的参数图和三维图 407 >IjLFM+U  
20.5  表格中的常见参数 408 s3 $Q_8H  
20.6  迭代指令 408 zmRK%a(  
20.7  报表模版 408 ^ni_%`Ag  
20.8  开始设计一个报表模版 409 5 ZPUY  
21  一个新的project 413 "mK (?U!A  
21.1  创建一个新Job 414 B,,d~\  
21.2  默认设计 415 YYW70k:  
21.3  薄膜设计 416 *rT(dp!Y  
21.4  误差的灵敏度计算 420 E2D8s=r  
21.5  显色指数计算 422 !k9h6/b6  
21.6  电场分布 424 F JhVbAMd  
后记 426 w}q"y+=Z:  
2z3A"HrlA  
{fD#=  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 =)8fE*[s  
2Zip8f!  
《Essential Macleod中文手册》 Mk?
I}  
0B/a$NC  
目  录 4V8wB}y7e  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ,c l<74d  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 |
"v{RC0  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ':4pH#E  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 *'-^R9dN.S  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 &Sa~Wtm|*  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 7+4"+C
A  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 vy2aNUmt  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 \l5:A]J  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ^#se4qQ  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 vW3ZuB  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 wkA!Jv%  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 B)8Hj).@B  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 K9'*q3z  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 I3Xh[% -!  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 "\?G  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 );H[lKy  
kZ%W?#  
价  格：400元