[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 a|4Q6Ycu  

图片:w800

Dv&K3^~Rfb  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 bfy=  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 w6pXF5ur>  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 >2X-98,  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 : LT'#Q8  
1. Essential Macleod软件介绍 Z#YNL-x  
1.1 介绍软件 MV07RjeS  
1.2 创建一个简单的设计 QX-n l~  
1.3 绘图和制表来表示性能 cS Qb3}a\  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 xV=Tmu6l  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann）
~R50-O  
1.6 特定设计的公式技术 hVui.]  
1.7 交互式绘图 %E"Z &_3{  
2. 光学薄膜理论基础 yT~x7,  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 %joL}f[  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 xErb11  
3. 材料管理 9PMIF9"  
3.1 材料模型 2<n@%'OQp  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 jx2{kK  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 cv7:5P  
3.4 基板光学常数的提取 I0!]J{  
4. 光学薄膜设计优化方法 ?GW}:'z  
4.1 参考波长与g n=|%
H'U  
4.2 四分之一规则 !e*T. 1Kz  
4.3 导纳与导纳图 [AA}P/iW  
4.4 斜入射光学导纳 d`~~Ww1  
4.5 光学薄膜设计的进展 2U(q
yC  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 "\=Phqw   
4.6.1 优化目标设置 E%Ww)P  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） PC|ul{[*}  
4.6.3 膜层锁定和链接 1aCpeD4|)  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ww #kc!'  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Ivj=?[c|  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 4u"Bll  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 OmS8cSYGc  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 m/I
D3_  
5.5 如何在Function中编写脚本 O%N.;Ve  
6. 光学薄膜系统案例 AWKJ@&pA9m  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 q6<P\CSHy<  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 S4'<kF0z  
6.3 Stack应用范例说明 o{^`Y   
7. 薄膜性能分析 5$+ssR_?k  
7.1 电场分布 |(.%
`BTD  
7.2 公差与灵敏度分析 "/mtuU3rt  
7.3 反演工程 , 2xv  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 N/--6)5~0  
8. 真空技术 9y<h.T
 
8.1 常用真空泵介绍 )^+hm+27v  
8.2 真空密封和检漏 e =r b  
9. 薄膜制备技术 ic"8'Rwb  
9.1 常见薄膜制备技术 ~E!kx  
10. 薄膜制备工艺 VCJOWUEO1  
10.1 薄膜制备工艺因素 $mh\`  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ~QDM .5  
10.3 光学薄膜监控技术 P;mp)1C  
11. 激光薄膜 4d-(:  
11.1 薄膜的损伤问题 (<8}un  
11.2 激光薄膜的制备流程 +jyGRSo  
11.3 激光薄膜的制备技术 `48Ql  
12. 光学薄膜特性测量 14jN0\  
12.1 薄膜光谱测量 ZfK[o{9>  
12.2 薄膜光学常数测量 A.dbb'^  
12.3 薄膜应力测量 Pg{1'-  
12.4 薄膜损伤测量 Dad$_%  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 t(9q6x3|e  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 h /^bRs`;  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 7(N+'8  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 5j6`W?|q  
PP>6  
j49Uj}:j  
d7 H*F  
目录 R&J?XQ  
Preface 1 @NqwJ.%g  
内容简介 2 xLDD;Qm,  
目录 i Y)+q[MZ R  
1  引言 1 9 fYNSr  
2  光学薄膜基础 2 >m..  
2.1  一般规则 2 "\KBF  
2.2  正交入射规则 3  J}:.I>  
2.3  斜入射规则 6 ^B%=P  
2.4  精确计算 7 +a1iZ bh  
2.5  相干性 8 
~rJG4U  
2.6 参考文献 10 Xq&BL,lS  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Jk6}hUH,  
4  Essential Macleod的特点 32 %S}uCqcAK  
4.1  容量和局限性 33 >([,yMIY  
4.2  程序在哪里？ 33 qS FtQ4  
4.3  数据文件 35 )AQ
^PBwp  
4.4  设计规则 35 |=m.eU  
4.5  材料数据库和资料库 37 nGkS
S_X  
4.5.1材料损失 38 *{!Y_FrL  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 .8Bo5)q$a-  
4.5.2 材料库 41 bAGKi.  
4.5.3导出材料数据 43 uMS+,dXy  
4.6  常用单位 43 h0@a"Dq
K  
4.7  插值和外推法 46 !NkCki"W  
4.8  材料数据的平滑 50 $?G@ijk,  
4.9 更多光学常数模型 54 rUj\F9*5#  
4.10  文档的一般编辑规则 55 q1( [mHZ  
4.11 撤销和重做 56 cN8Fn4g
q  
4.12  设计文档 57 >m,hna]RZ  
4.10.1  公式 58 AXW.`~ 4  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 t'l4$}(  
4.10.3  沉积密度 59 IrqM_OjC  
4.10.4 平行和楔形介质 60 (^m] 7l  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 P*OG`%y  
4.10.4  性能 61 wG3b{0  
4.10.5  保存设计和性能 64 "J1A9|  
4.10.6  默认设计 64 AcPLJ!y  
4.11  图表 64 Jf
IXv  
4.11.1  合并曲线图 67 :~vodh  
4.11.2  自适应绘制 68 v{VF>qEP  
4.11.3  动态绘图 68 <f>w"r  
4.11.4  3D绘图 69 % D  
4.12  导入和导出 73 gM\>{ihM'  
4.12.1  剪贴板 73 )Y7H@e\1
 
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 3k`Q]O=OU  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 $`E?=L`$  
4.13  背景 77 dm4Q'u
 
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 <gkE,e9  
4.15  生成Rugate 84 m-
vn5OX  
4.16  参考文献 91 ~v.mbh  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 G`Nw]_ Z_  
5.1  Jobs 92 0\P5=hD)K  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 _SAM8!q4,  
5.3  输入材料 94 j|k/&q[St  
5.4  设计数据文件夹 95 W2 -%/  
5.5  默认设计 95 oAQQ OtpZN  
6  细化和合成 97 d_@ E4i  
6.1  优化介绍 97 CO='[1"_5  
6.2  细化 (Refinement) 98 o utJ/~9;  
6.3  合成 (Synthesis) 100 $nO~A7  
6.4  目标和评价函数 101 N3n]  
6.4.1  目标输入 102 \yr9j$  
6.4.2  目标 103 \9)5b8  
6.4.3  特殊的评价函数 104 rx1u*L  
6.5  层锁定和连接 104 CUu Owx6%  
6.6  细化技术 104 hv|a8=U!R  
6.6.1  单纯形 105 ""0Y^M2I  
6.6.1.1 单纯形参数 106 QxYm3x5  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 $r/$aq=K  
6.6.2.1 Optimac参数 108 u2 s  
6.6.3  模拟退火算法 109 Zv;nY7B  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ez,.-@O  
6.6.4  共轭梯度 111 &<VU}c^!  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 n1."Qix0  
6.6.5  拟牛顿法 112 w}xA@JgQ%  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 'Qy6m'esW  
6.6.6  针合成 113 R^l0Bu]X  
6.6.6.1 针合成参数 114 bY" zK',m  
6.6.7 差分进化 114 .9nqJ7]  
6.6.8非局部细化 115 :y-;
V  
6.6.8.1非局部细化参数 115 )QE6X67i  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 &Hb%Q! ^Kb  
6.7.1 　细化 116 D$hQ-K  
6.7.2　 合成 117 8G:/f3B=  
6.8  参考文献 117 o$*(N  
7  导纳图及其他工具 118 {N4 'g_  
7.1  简介 118 I%YwG3uR  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 .q9Sg8G  
7.2.1  四分之一波长规则 119 V~*Gk!+f  
7.2.2  导纳图 120 >dl5^  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 v`A)GnNiN  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 8z`ZHn3=  
7.5  斜入射导纳图 141 GW,EyOE+~  
7.6  对称周期 141 o[ZjXLJzV  
7.7  参考文献 142 a{kJ`fK   
8  典型的镀膜实例 143 .4zzPD$1  
8.1  单层抗反射薄膜 145 g0B] ;Y>(  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Hr?lRaV  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @+b$43^  
8.4  W-膜层 148 zZCl]cql  
8.5  V-膜层 149 =XR~
I  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Z/q6Q#  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 xt^1,V4Ei~  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 cMY}Y [2c  
8.9  四层抗反射薄膜 153 \3JCFor/  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 X30tO>  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 \zBi-GI7  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156  d$$5&a  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 w}3N!jNDv  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 2;v:Z^&  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 oco,sxT  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ^~~Rto)Y  
8.17  1/4波长堆栈 162 +e{ui +  
8.18  陷波滤波器 163
9JA@m  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 #[prG  
8.20  褶皱 165 dA)T>  
8.21  消偏振分光器1 169 \?n6l7*t>  
8.22  消偏振分光器2 171 [MIgQ.n  
8.23  消偏振立体分光器 172 2I
B{FO/  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ,Cr%2Wg-  
8.25  立体偏振分束器1 174 t\Vng0  
8.26  立方偏振分束器2 177 |vs5N2_  
8.27  相位延迟器 178 _.s,gX  
8.28  红外截止器 179
AG,><UP  
8.29  21层长波带通滤波器 180 o +$v0vg%T  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ,JwX*L<:  
8.31  55层短波带通滤波器 182 BN9e S   
8.32  47 红外截止器 183 T?1BcY  
8.33  宽带通滤波器 184 ~0PzRS^o  
8.34  诱导透射滤波器 186 ~5P9^`KNH  
8.35  诱导透射滤波器2 188 z*},N$2=  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 IWv(GQx  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 B?j t?  
8.35  增益平坦滤波器 193 ?}
?"m:=  
8.38  啁啾反射镜 1 196 -}6ew@GE  
8.39  啁啾反射镜2 198
UT3Fi@  
8.40  啁啾反射镜3 199 vkG#G]Qs";  
8.41  带保护层的铝膜层 200 yJ?=##  
8.42  增加铝反射率膜 201 1V2]@VQF  
8.43  参考文献 202 .z#eYn%d  
9  多层膜 204 v2x+_K}J  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ai<qK3!O  
9.2  内部透过率 204 7i"b\{5  
9.3 内部透射率数据 205 /9_%NR[  
9.4  实例 206 2^'Ec:|f  
9.5  实例2 210 }d.X2?  
9.6  圆锥和带宽计算 212 2;Z 0pPR&  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 }d%CZnY&7  
10  光学薄膜的颜色 216 m"!SyN}&9?  
10.1  导言 216 $@
Vn+| Ix  
10.2  色彩 216 V|YQhd0kv  
10.3  主波长和纯度 220 [5&k{*}}  
10.4  色相和纯度 221 nD5wN
~[J  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 : #a  
10.6 色差 226 i]MemM-  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 fqI67E$59  
10.8  颜色渲染指数 234 f-M:ap(O  
10.9  色差计算 235 ()aCE^C  
10.10  参考文献 236 wNmpUO ?  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ?s2-iuMPd  
11.1  短脉冲 238 ~v8X>XDL?T  
11.2  群速度 239 `NtW+v  
11.3  群速度色散 241 Z#.d7B"  
11.4  啁啾(chirped) 245 utmJ>GWSI  
11.5  光学薄膜—相变 245 p$,G`'l  
11.6  群延迟和延迟色散 246 }ktIG|GC  
11.7  色度色散 246 Mxl;Im]!`.  
11.8  色散补偿 249 =q VT  
11.9  空间光线偏移 256 y,:WLk~  
11.10  参考文献 258 LuySa2,  
12  公差与误差 260 kN/YnY*J<  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ~\am%r>  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 =AO (  
12.2.1  误差工具 267 e 6mZ;y5_  
12.2.2  灵敏度工具 271 Pg}QRCB@  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 (xo`*Q,+  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 >5t! Xt  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 l>;hQh  
12.3  参考文献 276
J$6WUz:?  
13  Runsheet 与Simulator 277 "mQp#d/'  
13.1  原理介绍 277 }-fHS;/  
13.2  截止滤光片设计 277 /0\g!29l<  
14  光学常数提取 289 uzHMQp  
14.1  介绍 289 B.y}S  
14.2  电介质薄膜 289 L(|K{vHh]  
14.3  n 和k 的提取工具 295 S TWH2_`  
14.4  基底的参数提取 302 K/zb6=->  
14.5  金属的参数提取 306 %?[gBf[y  
14.6  不正确的模型 306 9D14/9*(dU  
14.7  参考文献 311 <eXGtD  
15  反演工程 313 dU3A:uS^  
15.1  随机性和系统性 313 ymm]+v5S.]  
15.2  常见的系统性问题 314  0J+WCm
`  
15.3  单层膜 314 V.{HMeE4  
15.4  多层膜 314 8gavcsVE[  
15.5  含义 319 ?EC\.{  
15.6  反演工程实例 319 }Nr6oUn  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 &.E/%pQ`  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 X|\`\[  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ]$drBk86bh  
16.1  光学性质的热致偏移 329 HrE,K\^  
16.2  应力工具 335 f+9eB
  
16.3  均匀性误差 339 v7pu  
16.3.1  圆锥工具 339 ,a&,R*r@&  
16.3.2  波前问题 341 }<~(9_+  
16.4  参考文献 343 s'yR2JYv  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 [y8(v ~H  
17.1  引言 345 E#_/#J]UQn  
17.2  操作数 345 |fKT@2(  
18  如何在Function中编写脚本 351 4^r6RS@z  
18.1  简介 351 /Pextj<  
18.2  什么是脚本？ 351 "m{i`<,  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ,Vq$>T@z  
18.4  基础 352 [\3ZMH *  
18.4.1  Classes（类别） 352 q;#AlquY@  
18.4.2  对象 352 -Kg.w*\H7/  
18.4.3  信息（Messages） 352 !:xycLdfUp  
18.4.4  属性 352 @2T8H  
18.4.5  方法 353 c1E{J<pZ  
18.4.6  变量声明 353 Ub\^3f  
18.5  创建对象 354 hV~M!vFxA  
18.5.1  创建对象函数 355 8XYxyOl  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ~qZ6I
)?  
18.5.3 丢弃对象 356 @&G}'6vF!  
18.5.4  总结 356 ftpPrtaP  
18.6  脚本中的表格 357 'yVe&5?  
18.6.1  方法1 357 yf&_l^!  
18.6.2  方法2 357 eGT&&Y  
18.7 2D Plots in Scripts 358 6:wk=#w  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Je|:\Qk  
18.9  注释 360 Fm:Ys](  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 6fw7\u  
18.11  一个更高级的脚本 362 F5X9)9S  
18.12  <esc>键 364 YZ<zlU  
18.13 包含文件 365 \ n2MP  
18.14  脚本被优化调用 366 T;3qE1c  
18.15  脚本中的对话框 368 +F q_w  
18.15.1  介绍 368 0\U*  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 2OpA1$n6  
18.15.3  输入框函数 370 o@N[O^Q V  
18.15.4  自定义对话框 371 OK v2..8  
18.15.5  对话框编辑器 371 f/c&Ya(D~  
18.15.6  控制对话框 377 -ysNo4#e&  
18.15.7  更高级的对话框 380 Ej)7
[  
18.16 Types语句 384 3\4e{3$  
18.17 打开文件 385 L+G0/G}O\  
18.18 Bags 387 ^;ZpK@Luk  
18.13  进一步研究 388 uDND o  
19  vStack 389 >d`GNE  
19.1  vStack基本原理 389 D} B?~Lls  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 #/ePpSyD  
19.3  五棱镜 393 @p~scE.#\  
19.4 光束距离 396 EUs9BJFP  
19.5 误差 399 3#'8S_  
19.6  二向分色棱镜 399 N {{MM
Iq  
19.7  偏振泄漏 404 i7-i!`<  
19.8  波前误差—相位 405 05{}@tW-  
19.9  其它计算参数 405 wbJBGT{sm  
20  报表生成器 406 QxG^oxU}  
20.1  入门 406 'k]~Q{K$  
20.2  指令(Instructions) 406 b-/QZvg  
20.3  页面布局指令 406 h STcL:b   
20.4  常见的参数图和三维图 407 st
* sv}  
20.5  表格中的常见参数 408 ML'y`S  
20.6  迭代指令 408 DzMg^
Kp  
20.7  报表模版 408 UUDHknm"  
20.8  开始设计一个报表模版 409 C{$iuus0  
21  一个新的project 413 ,9d]-CuP;  
21.1  创建一个新Job 414 ?o.d FKUe  
21.2  默认设计 415 ;^bfLSWm{  
21.3  薄膜设计 416 ;v\s7y  
21.4  误差的灵敏度计算 420 IV!`~\@  
21.5  显色指数计算 422 EPn!6W5^  
21.6  电场分布 424 CR23$<FC  
后记 426 l0^cdl-  
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,x1OQ jtY  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 qJT/48lf_  
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《Essential Macleod中文手册》 T5|kO:CbHq  
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j=  
目  录 'ux!:b"  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 5PZ!ZO&  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 (_4DZMf  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 _p4]\LA  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 }\S'oC\[  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Cp/f18zO  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Uc:NW   
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ~IW{^u  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 j24 3oD  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 r!fUMDS  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 vVSDPlN;  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 -t
S\  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 gIz!~I_U  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Z5(9=8hB/  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 _b%)  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 OWwqCPz.  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 1|4,jm$  
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价  格：400元