[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 t$J.+}}I  

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X6\ sF"E  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 -C-yQ.>\T#  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 :YP#  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 _%/}>L>-`8  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 6gH{R$7L=  
1. Essential Macleod软件介绍 0hY{<^"Y  
1.1 介绍软件 z//VlB  
1.2 创建一个简单的设计 =Yz'D|=t  
1.3 绘图和制表来表示性能 HCWNo  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 q?):oJ  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） $pyOn2}  
1.6 特定设计的公式技术 G2Vv i[c  
1.7 交互式绘图 C0jj(ku&  
2. 光学薄膜理论基础 K2{aNvR)t  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 pav'1d%  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 /,@p\Ae5  
3. 材料管理 =K\r-'V  
3.1 材料模型 gw36Ec<M  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 \$sjrqKnu  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 1vzb8.  
3.4 基板光学常数的提取 qIIJ4n  
4. 光学薄膜设计优化方法 T4)fOu3]  
4.1 参考波长与g 2ZcKK8X;7  
4.2 四分之一规则 .8(OT./  
4.3 导纳与导纳图 t.p~\6
Yi  
4.4 斜入射光学导纳 lVOu)q@l7g  
4.5 光学薄膜设计的进展 zcrY>t#l  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ^D%FX!$  
4.6.1 优化目标设置 z2_6??tS/c  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） LbEM^D  
4.6.3 膜层锁定和链接 b~=0[Rv  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 d.UQW yLG  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 NIdZ  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 WOzf]3Xcj  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 6AG`&'"  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 F8-?dpf'  
5.5 如何在Function中编写脚本 I9h ?;(  
6. 光学薄膜系统案例 'R-3fO???  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 @+3kb.P%7  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 KlRr8G!Z  
6.3 Stack应用范例说明 *g?Po+ef%  
7. 薄膜性能分析 wE+${B03  
7.1 电场分布 X+UJzR90  
7.2 公差与灵敏度分析 (hiyNMC
  
7.3 反演工程 IxLhU45  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 8NyJc"T<.  
8. 真空技术 ~ab:/!Z  
8.1 常用真空泵介绍 'AN>`\mR$  
8.2 真空密封和检漏 3k#~yaoI  
9. 薄膜制备技术 [sB 9gY(  
9.1 常见薄膜制备技术 X 1 57$  
10. 薄膜制备工艺 -py@DzK  
10.1 薄膜制备工艺因素 {~Rk2:gx  
10.2 薄膜均匀性修正技术 _S>JKz  
10.3 光学薄膜监控技术 '>r7V  
11. 激光薄膜 9$2/MT't  
11.1 薄膜的损伤问题 J8mdoVt  
11.2 激光薄膜的制备流程 ggJO:$?$L  
11.3 激光薄膜的制备技术 ^R:cd8+?%  
12. 光学薄膜特性测量 0$,SF3K  
12.1 薄膜光谱测量 u\C lP#  
12.2 薄膜光学常数测量 >=[(^l  
12.3 薄膜应力测量 B95B|tU>.  
12.4 薄膜损伤测量 ")d`dj\o  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 o!)3?  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ^]TVo\,N  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 6i1LjLB  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 :Nz9xD$S5  
\otWd  
PYGRsrcFd#  
euC&0Ee2  
目录 y&V@^"`  
Preface 1 =3L;Z[^9  
内容简介 2 ]*AR,0N&  
目录 i ?#fu.YE\  
1  引言 1 zG(\+4GE!  
2  光学薄膜基础 2 1fpQLaT  
2.1  一般规则 2 V,cBk  
2.2  正交入射规则 3 Evedc*z~P  
2.3  斜入射规则 6 q^Y-}=w  
2.4  精确计算 7 Q\ 0cvmU  
2.5  相干性 8 [n:<8ho  
2.6 参考文献 10 NuQdSj_>  
3  Essential Macleod的快速预览 10 g"}%2~Urf  
4  Essential Macleod的特点 32 k7T`bYv  
4.1  容量和局限性 33 LU={")TdQ  
4.2  程序在哪里？ 33 [k/@E+
;  
4.3  数据文件 35 YB2VcF.LU  
4.4  设计规则 35 B!?%O  
4.5  材料数据库和资料库 37 ?!` /m|"  
4.5.1材料损失 38 V6@o]*  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 fTK3,s1=  
4.5.2 材料库 41 UWd=!h^dt  
4.5.3导出材料数据 43 uC(V  
4.6  常用单位 43 wY[+ZT  
4.7  插值和外推法 46 
PamO8^!G  
4.8  材料数据的平滑 50 x8V('`}j  
4.9 更多光学常数模型 54 w|K'M?N14  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ~kEI4}O  
4.11 撤销和重做 56 y.< m#Zzt  
4.12  设计文档 57 %5"9</a&G  
4.10.1  公式 58 YwjKAy
LU  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 62ws/8d6f  
4.10.3  沉积密度 59 <h:x=  
4.10.4 平行和楔形介质 60 X:nN0p #  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 SC)g^E#  
4.10.4  性能 61 huh6t !  
4.10.5  保存设计和性能 64 n<z[J=I  
4.10.6  默认设计 64 9 a!$z!.  
4.11  图表 64 |}Nn!Sj>#;  
4.11.1  合并曲线图 67 5>D>% iaHv  
4.11.2  自适应绘制 68 $Avjnm  
4.11.3  动态绘图 68 Dv5D~on{  
4.11.4  3D绘图 69 {#?N  
4.12  导入和导出 73 %N>%!m  
4.12.1  剪贴板 73 Lh!J >  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 $QN"wL||  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 kuszb~`zPY  
4.13  背景 77 BBwy,\o#  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 U`,6 * MS  
4.15  生成Rugate 84 |B.Y6L6l  
4.16  参考文献 91 ) l:[^$=,  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 =5~jx  
5.1  Jobs 92 nrub*BuA  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 z[L8
$7L  
5.3  输入材料 94 <lx
+/o  
5.4  设计数据文件夹 95 R{
<kW9!  
5.5  默认设计 95 7q?, ?  
6  细化和合成 97 R;&AijS8  
6.1  优化介绍 97 '7hu 2i5  
6.2  细化 (Refinement) 98 f!Y?S  
6.3  合成 (Synthesis) 100 9PXFRxGA  
6.4  目标和评价函数 101 =Y|Vg
V  
6.4.1  目标输入 102 cUKE   
6.4.2  目标 103 )rxX+k+b/  
6.4.3  特殊的评价函数 104 cQy2"vtU  
6.5  层锁定和连接 104 g+vv
a"  
6.6  细化技术 104 lb4Pcdj  
6.6.1  单纯形 105 {Aw#?#GPW  
6.6.1.1 单纯形参数 106 v_+{'F  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 }YGV\Nu  
6.6.2.1 Optimac参数 108 EE&K0<?T|:  
6.6.3  模拟退火算法 109 [%y';`( x  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 snE8 K}4  
6.6.4  共轭梯度 111 {6|38$Rl  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /?5 1D@  
6.6.5  拟牛顿法 112 ^}/PGG\~r  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 il4^zj82  
6.6.6  针合成 113 }~e8e 
 
6.6.6.1 针合成参数 114 5Dm.K?l;  
6.6.7 差分进化 114 <wN}X#M  
6.6.8非局部细化 115 ^oBtfN>4  
6.6.8.1非局部细化参数 115 N.,X<G.H  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 {f3YsM;]C  
6.7.1 　细化 116 4VJ-,Z  
6.7.2　 合成 117 HVR /7&g  
6.8  参考文献 117 Aza /6OL  
7  导纳图及其他工具 118 yj 3cyLXw  
7.1  简介 118 Yb|
c\[ %  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ]sf7{lVT  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ?GKb7Oj  
7.2.2  导纳图 120 7Wf/$vRab  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 !JHL\M>
A5  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 T0wW<_jh  
7.5  斜入射导纳图 141 W9 GxXPA  
7.6  对称周期 141 ! `  
7.7  参考文献 142 ysQ_[ ]/  
8  典型的镀膜实例 143 S'Q@ScJ  
8.1  单层抗反射薄膜 145 oR)Jznmi}  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 .F98G/s  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 + [iQLM?zo  
8.4  W-膜层 148 \FQRNj?'_  
8.5  V-膜层 149 o |{5M|nD  
8.6  V-膜层高折射基底 150 kj#?whK6~  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 (5$!MUS~9  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *'
Sd/%8{  
8.9  四层抗反射薄膜 153 }NHaCG[,  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 -u6bAQ  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 $p1(He0 2  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 1OG
x>J6  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 cvn@/qBq*t  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 dU&a{$ku[  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 }MJy +Z8&  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 F+YZE[h%  
8.17  1/4波长堆栈 162 ~qiJR`Jj  
8.18  陷波滤波器 163 ity & v9  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 6dq(T_eG  
8.20  褶皱 165 J{.{f  
8.21  消偏振分光器1 169 5V?&8GTe  
8.22  消偏振分光器2 171 5Yg'BkEr  
8.23  消偏振立体分光器 172 @6Y?\Wx$w  
8.24  消偏振截止滤光片 173 j8v8uZ;x  
8.25  立体偏振分束器1 174 >6ni")Q9  
8.26  立方偏振分束器2 177 +SP{hHa^  
8.27  相位延迟器 178 xT3BHnQ(  
8.28  红外截止器 179 ? ^0:3$La  
8.29  21层长波带通滤波器 180 \\iQEy<i  
8.30  49层长波带通滤波器 181 FvaUsOy
"  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ^h(ew1:  
8.32  47 红外截止器 183 ]AINKUI0  
8.33  宽带通滤波器 184 iOd&BB6  
8.34  诱导透射滤波器 186 ak7bJ~)X=  
8.35  诱导透射滤波器2 188 j@n)kPo,1  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 kYzIp  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 `!obGMTQ<  
8.35  增益平坦滤波器 193 >~''&vdsk\  
8.38  啁啾反射镜 1 196 &Qf/>@ l}  
8.39  啁啾反射镜2 198 "M<8UE\n  
8.40  啁啾反射镜3 199 P{8iJ`rBG  
8.41  带保护层的铝膜层 200 0!4Ts3qn1  
8.42  增加铝反射率膜 201 ;"a=gr  
8.43  参考文献 202 I,E?h?6Y  
9  多层膜 204 QE^$=\l0  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 2~Kg
v|09  
9.2  内部透过率 204 :vmH]{R  
9.3 内部透射率数据 205 )1]ZtU  
9.4  实例 206 %"q9:{m  
9.5  实例2 210 VpE*(i$  
9.6  圆锥和带宽计算 212 JgxtlYjl  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 MUaq7B_>  
10  光学薄膜的颜色 216 []\+k31D  
10.1  导言 216 W =D4r  
10.2  色彩 216 T-'OwCB1q  
10.3  主波长和纯度 220 Cz9xZA{[M  
10.4  色相和纯度 221 0CZ:Bo[3  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 'F/~o1\.  
10.6 色差 226 _'#n6^Us<  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 KN^=i5K+Y  
10.8  颜色渲染指数 234 ^%d\qd`   
10.9  色差计算 235 9e<.lb^tP  
10.10  参考文献 236 ts,ZvY]  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ~Q Oe##  
11.1  短脉冲 238 $[Sc0dzJ  
11.2  群速度 239 xipU8'ac/  
11.3  群速度色散 241 DHyq^pJ  
11.4  啁啾(chirped) 245 uu-PJTNZ  
11.5  光学薄膜—相变 245 5Y.)("1f}f  
11.6  群延迟和延迟色散 246 -z ID x  
11.7  色度色散 246 .u)X3..J  
11.8  色散补偿 249 > $O]Eu!  
11.9  空间光线偏移 256 =-0/k;^  
11.10  参考文献 258 nXaC3W:"  
12  公差与误差 260 oTEL?hw5  
12.1  蒙特卡罗模型 260 j5(Z_dm'  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 &pP;Neh;  
12.2.1  误差工具 267 y8d]9sX{  
12.2.2  灵敏度工具 271 o8 IL$:  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ;nI] !g:  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 U#0Q)  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 lXx=But  
12.3  参考文献 276 h8x MI  
13  Runsheet 与Simulator 277 l?E{YQq]  
13.1  原理介绍 277 s%vis{2  
13.2  截止滤光片设计 277 M=8.Bp|Ye  
14  光学常数提取 289 C>ICu*PW  
14.1  介绍 289 *1ilkmL%  
14.2  电介质薄膜 289 f- K+]aZ)  
14.3  n 和k 的提取工具 295 pf]xqhL  
14.4  基底的参数提取 302
[ZNtCnv  
14.5  金属的参数提取 306 DRSr%d  
14.6  不正确的模型 306 ]RwpX ^ 1  
14.7  参考文献 311 !`M,XSp(  
15  反演工程 313 t0(A4E  
15.1  随机性和系统性 313 [xbSYu,&  
15.2  常见的系统性问题 314 FDv<\2+ c  
15.3  单层膜 314 hnffz95  
15.4  多层膜 314 "x#-sZ=  
15.5  含义 319 1;JEc9#h  
15.6  反演工程实例 319 1ufp qqk  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 JOj;^h  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 $CRm3#+ ~  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 L,HhbTRca  
16.1  光学性质的热致偏移 329 n|6Ic,:[  
16.2  应力工具 335 ; 8_{e3s  
16.3  均匀性误差 339 3BzNi'  
16.3.1  圆锥工具 339 =R^%(Py  
16.3.2  波前问题 341 ##q2mm:a9P  
16.4  参考文献 343 DKH-Q(M56  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 kF3k7,.8&  
17.1  引言 345 'Y?"{HZ  
17.2  操作数 345 >;jZa  
18  如何在Function中编写脚本 351 bc*X/).  
18.1  简介 351 fIM,lt  
18.2  什么是脚本？ 351 XP`Nf)3{Yd  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 FX;QG94!  
18.4  基础 352 :)8VdWg  
18.4.1  Classes（类别） 352 7( #:GD  
18.4.2  对象 352 '%>=ZhO  
18.4.3  信息（Messages） 352 seba9y  
18.4.4  属性 352 50"pbzW  
18.4.5  方法 353 ?(xnSW@r  
18.4.6  变量声明 353 %3s1z<;R[S  
18.5  创建对象 354 m\;R2"H%  
18.5.1  创建对象函数 355 bes<qy  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 36.Z0Z1'F>  
18.5.3 丢弃对象 356 I"xo*}  
18.5.4  总结 356 S};#+ufgTt  
18.6  脚本中的表格 357 T!uM+6|Y  
18.6.1  方法1 357 '"`IC\N^  
18.6.2  方法2 357 HsxVZ.dS  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Yh7rU?Gj  
18.8 3D Plots in Scripts 359 .Q<>-3\K  
18.9  注释 360 u+dLaVlLJ  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 2v:]tj  
18.11  一个更高级的脚本 362 3W V"U  
18.12  <esc>键 364 pD(j'[  
18.13 包含文件 365 b}\N;D.{  
18.14  脚本被优化调用 366 -<6\1J  
18.15  脚本中的对话框 368 RXNn[A4xfY  
18.15.1  介绍 368 /pm]BC  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 j 'FVz&  
18.15.3  输入框函数 370 .b_)%jd x  
18.15.4  自定义对话框 371 K~uXO  
18.15.5  对话框编辑器 371 {baq+  
18.15.6  控制对话框 377 W'els)WJ|x  
18.15.7  更高级的对话框 380 u\a#{G;Z  
18.16 Types语句 384 ?xA:@:l/  
18.17 打开文件 385 XWDL5K  
18.18 Bags 387 "_P;2N6  
18.13  进一步研究 388 AJt+p&I[J  
19  vStack 389 }I2wjO  
19.1  vStack基本原理 389 w}L]X1#sF  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 >u>5{4  
19.3  五棱镜 393 j 7fL7:,T  
19.4 光束距离 396 0Vj4+2?L5;  
19.5 误差 399 0;hqIJcE:\  
19.6  二向分色棱镜 399 LI'6R=  
19.7  偏振泄漏 404  Fiv3 {.  
19.8  波前误差—相位 405
DP[IZC  
19.9  其它计算参数 405 j~"Q
3P;V  
20  报表生成器 406 YD<:,|H  
20.1  入门 406 >~#yu&*D  
20.2  指令(Instructions) 406 Ha(c'\T(\  
20.3  页面布局指令 406 @X%C>iYa9  
20.4  常见的参数图和三维图 407 \@Ts+7%  
20.5  表格中的常见参数 408 _uWpJhCT  
20.6  迭代指令 408 Q`~jw>x  
20.7  报表模版 408 Amp#GR1CA  
20.8  开始设计一个报表模版 409 tI]Q%S,  
21  一个新的project 413 Jlri*q"hE  
21.1  创建一个新Job 414 *RDn0d[  
21.2  默认设计 415 6uv#de  
21.3  薄膜设计 416 .>q8W  
21.4  误差的灵敏度计算 420 jGJLSEe_  
21.5  显色指数计算 422 XywE1}3  
21.6  电场分布 424 iyA'#bE-  
后记 426 vV6<^W:9F  
j@=%_^:i  
XQ#;Zs/l  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 :C7_Jp*Qv  
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《Essential Macleod中文手册》 t;\kR4P  
M*y)6H k~  
目  录 kv]~'Srk  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 {^ qcx8  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 pqk?|BvpK_  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Q8C_9r/:N>  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 O&vVv _zh  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 FI[A[*fi  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 4<9=5
q]  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 %;cddLQ\xY  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 +GG9^:<yr  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 8R2QZXJb-  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 uya.sF0]9B  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251
+vvv[  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 2!0c4a^z  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 4 kn|^  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 C.~,qmOP  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 N6>(;ugJ1-  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ^2+yHw  
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价  格：400元