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    [培训]上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-09-25
    时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 n@TK}?\UoR  
    授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 & bKl(,  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 aUy!(Y  
    课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 :4Gc'b R  
    课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
    特邀专家介绍 eD(;W n  
    >,Z[IAU.x5  
    易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 uW%(ySbq  
    获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 Li'>pQ+  
    随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 s6U$]9 `  
    本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 <Ny DrO"C3  
    1. Essential Macleod软件介绍 Wz8 MV -D  
    1.1 介绍软件 B4D#T lB  
    1.2 创建一个简单的设计 8 vp*U  
    1.3 绘图和制表来表示性能 KT 4h3D`,  
    1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Bf21u 9  
    1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 9}[UZN6  
    1.6 特定设计的公式技术 G!u+~{g  
    1.7 交互式绘图 *]7$/%.D  
    2. 光学薄膜理论基础 Jbv[Ql#  
    2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ?M/H{  
    2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 .jXD0~N8q  
    3. 材料管理 '%H\ k5^  
    3.1 材料模型 ]ZMFK>"^%  
    3.2 介质薄膜光学常数的提取 l.@v@T(/  
    3.3 金属薄膜光学常数的提取 [$Dzf<0  
    3.4 基板光学常数的提取 ir{li?kV  
    4. 光学薄膜设计优化方法 rW P -Rm  
    4.1 参考波长与g  kS7`g A  
    4.2 四分之一规则  &Hi;>  
    4.3 导纳与导纳图 f}!Eu  
    4.4 斜入射光学导纳 M+L8~BD@  
    4.5 光学薄膜设计的进展 /<R[X>]<F  
    4.6 Macleod软件的设计与优化功能 }fV+Kd$CB  
    4.6.1 优化目标设置 2Y7u M;8  
    4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) t=;P1d?E;  
    4.6.3 膜层锁定和链接 4:I'zR5  
    5. Essential Macleod中各个模块的应用 R<L<kChg  
    5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 nOCCOTf  
    5.2 光通信用窄带滤光片模拟 joRrsxFU  
    5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 V0/PjD,jP  
    5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 +_T`tmQ  
    5.5 如何在Function中编写脚本 SWLt5dV  
    6. 光学薄膜系统案例 W]CsKN,K  
    6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 8Y,imj\(v  
    6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 )Jaq5OMA/  
    6.3 Stack应用范例说明 tkX?iqKQ  
    7. 薄膜性能分析 Q1'4xWu  
    7.1 电场分布 TPF5?  
    7.2 公差与灵敏度分析 CX}==0od  
    7.3 反演工程 \3WQ<t)W  
    7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 c gOkm}h  
    8. 真空技术 Ncr*F^J4  
    8.1 常用真空泵介绍 u85  dG7  
    8.2 真空密封和检漏 $`&zIz  
    9. 薄膜制备技术 a;h.I}*]  
    9.1 常见薄膜制备技术 K(3_1*e  
    10. 薄膜制备工艺 *DcB?8%  
    10.1 薄膜制备工艺因素 di4>Ir~]  
    10.2 薄膜均匀性修正技术 v;o/M6GL5  
    10.3 光学薄膜监控技术 f.G"[p  
    11. 激光薄膜 m#,AD,s  
    11.1 薄膜的损伤问题 U~GQ JR  
    11.2 激光薄膜的制备流程 n)uck5  
    11.3 激光薄膜的制备技术 ;i,3KJ[L  
    12. 光学薄膜特性测量 (Zoopkxw  
    12.1 薄膜光谱测量 UbEK2&q/8  
    12.2 薄膜光学常数测量 9SQc ChG~j  
    12.3 薄膜应力测量 fc<~R  
    12.4 薄膜损伤测量 \(&UDG$  
    12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
    b[rVr J  
    有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系
    书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
    -d4|EtN  
    内容简介 G@+R!IG  
    Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ~zYk,;m  
    《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 )>(ZX9diV  
    薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 045_0+r"@  
    ^N&@7s  
    讯技科技股份有限公司
    2015年9月3日
    DS|q(O=7~t  
    _J X>#h  
    目录  \RS ,Y  
    Preface 1 +`f3_Xd  
    内容简介 2 WNSY@q  
    目录 i 0^83:C ^{  
    1  引言 1 4ATIF ;G'<  
    2  光学薄膜基础 2 [ 0z-X7=e  
    2.1  一般规则 2 b!JrdJO,DP  
    2.2  正交入射规则 3 #Dp]S, e  
    2.3  斜入射规则 6 &&ZX<wOM  
    2.4  精确计算 7 [tk6Kx8a  
    2.5  相干性 8 uE,g|51H/  
    2.6 参考文献 10 ~X<?&;6  
    3  Essential Macleod的快速预览 10 KP&$Sl  
    4  Essential Macleod的特点 32 (>SucUU  
    4.1  容量和局限性 33 9UCA&n  
    4.2  程序在哪里? 33 vMzBp#MT  
    4.3  数据文件 35 oV'G67W  
    4.4  设计规则 35 L./{^)  
    4.5  材料数据库和资料库 37 ^Rb*mI  
    4.5.1材料损失 38 !;Vqs/E  
    4.5.1材料数据库和导入材料 39 oTg 'N  
    4.5.2 材料库 41 z#B(1uI  
    4.5.3导出材料数据 43 %J8uVD.2  
    4.6  常用单位 43 tu's]3RE  
    4.7  插值和外推法 46 8osP$"/o  
    4.8  材料数据的平滑 50 v Q51-.g  
    4.9 更多光学常数模型 54 o]DYS,v  
    4.10  文档的一般编辑规则 55 5><T#0W?  
    4.11 撤销和重做 56 o8X? 1  
    4.12  设计文档 57 "j8`)XXa(  
    4.10.1  公式 58 SQJ +C%   
    4.10.2 更多关于膜层厚度 59 7U!-_)n{  
    4.10.3  沉积密度 59 X<Ag['r  
    4.10.4 平行和楔形介质 60 e F)my  
    4.10.5  渐变折射率和散射层 60 b(\Mi_J  
    4.10.4  性能 61 7/K L<T9@  
    4.10.5  保存设计和性能 64 %c@PTpAM  
    4.10.6  默认设计 64 _p'u!.a?!  
    4.11  图表 64 ^% L;FGaA  
    4.11.1  合并曲线图 67 gwbV$[.X  
    4.11.2  自适应绘制 68 B,] AfH  
    4.11.3  动态绘图 68 +g;{c+Kw:  
    4.11.4  3D绘图 69 7Vu f4Z5  
    4.12  导入和导出 73 HWFL u  
    4.12.1  剪贴板 73 1\J9QZX0  
    4.12.2  不通过剪贴板导入 76 K >Q 6  
    4.12.3  不通过剪贴板导出 76 2(5/#$t  
    4.13  背景 77 ux~=}{tz  
    4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 49ehj1Se  
    4.15  生成Rugate 84 [X7gP4  
    4.16  参考文献 91 A b+qLh&?  
    5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 -O\f y!  
    5.1  Jobs 92 ~UHjc0  
    5.2  创建一个新Job(工作) 93 Dutc#?bT  
    5.3  输入材料 94 R'pfA B|!  
    5.4  设计数据文件夹 95 BIEq(/-  
    5.5  默认设计 95 -2j[;kgt}  
    6  细化和合成 97 o]WcODJdl  
    6.1  优化介绍 97 mkq246<D~  
    6.2  细化 (Refinement) 98 qP-_xpu]R  
    6.3  合成 (Synthesis) 100 g_J QW(_  
    6.4  目标和评价函数 101 ^r,0aNzAs  
    6.4.1  目标输入 102 xo4lM  
    6.4.2  目标 103 <"8F=3:uk  
    6.4.3  特殊的评价函数 104 MnlD87x@X  
    6.5  层锁定和连接 104 fmD~f  
    6.6  细化技术 104 i-?mghe8  
    6.6.1  单纯形 105 hcM9Sx"!  
    6.6.1.1 单纯形参数 106 "ruYMSpU  
    6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 $y{.fjy3  
    6.6.2.1 Optimac参数 108 6s>io%,:  
    6.6.3  模拟退火算法 109 ?_r{G7|D  
    6.6.3.1 模拟退火参数 109 P/xE n_*v  
    6.6.4  共轭梯度 111 4C )sjk?m  
    6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ]L2b|a3  
    6.6.5  拟牛顿法 112 < {h \Msx%  
    6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 wp83E,  
    6.6.6  针合成 113 &DjA?0`J  
    6.6.6.1 针合成参数 114 U2LD_-HZ  
    6.6.7 差分进化 114 ;GKL[ tI"  
    6.6.8非局部细化 115 O{\%{XrW  
    6.6.8.1非局部细化参数 115 FzykC  
    6.7  我应该使用哪种技术? 116 vz)R84   
    6.7.1  细化 116 ?op;#/Q(  
    6.7.2  合成 117 W)'*Dcd  
    6.8  参考文献 117 e.^?hwl  
    7  导纳图及其他工具 118 #^yOW^  
    7.1  简介 118 =[zP  
    7.2  薄膜作为导纳的变换 118 WX]O1Y  
    7.2.1  四分之一波长规则 119 e tL?UF$  
    7.2.2  导纳图 120 |Qcj +HH.  
    7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 |!/+ T^u  
    7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 S}cR+d1}h  
    7.5  斜入射导纳图 141 JLz32 %-M  
    7.6  对称周期 141 YQyI{  
    7.7  参考文献 142 [#YzU^^Ib  
    8  典型的镀膜实例 143 YQtq?&0Ct  
    8.1  单层抗反射薄膜 145 w`D$W&3>  
    8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 io(!z-$  
    8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 m#R"~ >  
    8.4  W-膜层 148 .R#-u/6g(  
    8.5  V-膜层 149 5;G0$M0  
    8.6  V-膜层高折射基底 150 C#8A|  
    8.7  V-膜层高折射率基底b 151  F=a  
    8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 j9yOkaVEg  
    8.9  四层抗反射薄膜 153  NEPK   
    8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Z"qJil}  
    8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 bg/=P>2  
    8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 s5 {B1e  
    8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 zbr^ulr  
    8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 m 9\"B3sr  
    8.15十五层宽带抗反射膜 159 cr|]\  
    8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 3)L#V .  
    8.17  1/4波长堆栈 162 z}B8&*>  
    8.18  陷波滤波器 163 Jt #HbAY  
    8.19 厚度调制陷波滤波器 164 gs7_Q  
    8.20  褶皱 165 j8 `7)^  
    8.21  消偏振分光器1 169 CrSBN~  
    8.22  消偏振分光器2 171 Kv9FqrDj  
    8.23  消偏振立体分光器 172 d[5v A/8O  
    8.24  消偏振截止滤光片 173 mq:WBSsV  
    8.25  立体偏振分束器1 174 %O f w"W  
    8.26  立方偏振分束器2 177 OCJt5#e~A  
    8.27  相位延迟器 178 c5uC?b].  
    8.28  红外截止器 179 wjZ Q.T!  
    8.29  21层长波带通滤波器 180 ylb)SXBf  
    8.30  49层长波带通滤波器 181 RZKx!X4=q  
    8.31  55层短波带通滤波器 182 E:k]Z  
    8.32  47 红外截止器 183 [b&V^41W  
    8.33  宽带通滤波器 184 2+?W{yAEi  
    8.34  诱导透射滤波器 186 `rK@> -  
    8.35  诱导透射滤波器2 188 IW>~Yl?  
    8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 r> Xk1~<!  
    8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 sa _J6~  
    8.35  增益平坦滤波器 193 KATf9-Sz  
    8.38  啁啾反射镜 1 196 2y|n!p T  
    8.39  啁啾反射镜2 198 W}"tf L8  
    8.40  啁啾反射镜3 199 r NKeY48\  
    8.41  带保护层的铝膜层 200 hoM%|,0  
    8.42  增加铝反射率膜 201 G@Sqg  
    8.43  参考文献 202 if*~cPnN  
    9  多层膜 204 DU)q]'[u  
    9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ),y`Iw  
    9.2  内部透过率 204 6V ncr}  
    9.3 内部透射率数据 205 zUDXkG*Lv  
    9.4  实例 206 LFqY2,#i  
    9.5  实例2 210 'Z=_zG/RX  
    9.6  圆锥和带宽计算 212 Hmk xE  
    9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 %Y0BPTt$  
    10  光学薄膜的颜色 216 =cb!2%?}  
    10.1  导言 216 dtTfV.y4w  
    10.2  色彩 216  LAM{ ,?~  
    10.3  主波长和纯度 220 @o*~\E<T  
    10.4  色相和纯度 221 6rWq hIaI  
    10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 +5I'? _{V  
    10.6 色差 226 .Y^3G7On  
    10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 6d6Dk>(V  
    10.8  颜色渲染指数 234 mF!4*k  
    10.9  色差计算 235 =R 4]Kf  
    10.10  参考文献 236 DfU= i'R  
    11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 _(~LXk^C  
    11.1  短脉冲 238 ;K|K]c  
    11.2  群速度 239 wtfH3v  
    11.3  群速度色散 241 9z{g3m70@  
    11.4  啁啾(chirped) 245 X8}\m%gCU  
    11.5  光学薄膜—相变 245 z C$F@  
    11.6  群延迟和延迟色散 246 (UhJ Pco"  
    11.7  色度色散 246 oR!h eCnu  
    11.8  色散补偿 249 "PWGtM:L8Y  
    11.9  空间光线偏移 256 ZR0 OqSp]  
    11.10  参考文献 258 ZZwIB3sNhf  
    12  公差与误差 260 2A =Y  
    12.1  蒙特卡罗模型 260 ,UC|[-J  
    12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 "VHT5k  
    12.2.1  误差工具 267 [\ Sd*-  
    12.2.2  灵敏度工具 271 !>ZBb\EyK  
    12.2.2.1 独立灵敏度 271 ?azLaAG  
    12.2.2.2 灵敏度分布 275 \CE+P5  
    12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 KF@%tR}V{  
    12.3  参考文献 276 d0|{/4IWw;  
    13  Runsheet 与Simulator 277 `F1Yfm jZT  
    13.1  原理介绍 277 #O,w{S  
    13.2  截止滤光片设计 277 ( xzruI5P  
    14  光学常数提取 289 R/fE@d2~In  
    14.1  介绍 289 T][c^K*  
    14.2  电介质薄膜 289 E BoC,{R#  
    14.3  n 和k 的提取工具 295 wu11)HFL|z  
    14.4  基底的参数提取 302 cyP+a  
    14.5  金属的参数提取 306 Mae2L2vc  
    14.6  不正确的模型 306  t5S|0/f  
    14.7  参考文献 311 #Tag"b`  
    15  反演工程 313 zFipuG02  
    15.1  随机性和系统性 313 5 8L@:>"  
    15.2  常见的系统性问题 314 0)\(y   
    15.3  单层膜 314 {R[V  
    15.4  多层膜 314 s?;V!t  
    15.5  含义 319 7mv([}Va  
    15.6  反演工程实例 319 >gq=W5vN(  
    15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 :RZ'_5P[If  
    15.6.2 反演工程提取折射率 327  P s|[  
    16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Er8F_,M+  
    16.1  光学性质的热致偏移 329 p[%~d$JUq  
    16.2  应力工具 335 LkK[,Qj  
    16.3  均匀性误差 339 <;>k[P'  
    16.3.1  圆锥工具 339 qK@,O \  
    16.3.2  波前问题 341 5 ';[|f  
    16.4  参考文献 343 xO %yjG=  
    17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 <nV3`L&]  
    17.1  引言 345 tQyQ+1  
    17.2  操作数 345 .wWf#bB  
    18  如何在Function中编写脚本 351 Z\QN n  
    18.1  简介 351 wt'"<UN  
    18.2  什么是脚本? 351 t1oTZ  
    18.3  Function中脚本和操作数对比 351 9^C6ZgNS  
    18.4  基础 352 z Z~t ,>  
    18.4.1  Classes(类别) 352 ;Z;` BGZJ  
    18.4.2  对象 352 Eg&Q,dH[  
    18.4.3  信息(Messages) 352 [AD%8 H  
    18.4.4  属性 352 'Cz]p~oF  
    18.4.5  方法 353 e$Y7V  
    18.4.6  变量声明 353 ?v F8 y;Jh  
    18.5  创建对象 354 x 2l}$(7  
    18.5.1  创建对象函数 355 |pU>^  
    18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 FOPmvlA\-<  
    18.5.3 丢弃对象 356 2JeEmG9  
    18.5.4  总结 356 l +`CgYo  
    18.6  脚本中的表格 357 8F)9.s,*  
    18.6.1  方法1 357 LS# _K-  
    18.6.2  方法2 357 673G6Nk  
    18.7 2D Plots in Scripts 358 UN^M.lqZX  
    18.8 3D Plots in Scripts 359 cZrJW  
    18.9  注释 360 K&=6DvfR  
    18.10  脚本管理器调用Scripts 360 M3GFKWQI,`  
    18.11  一个更高级的脚本 362 $SniQ  
    18.12  <esc>键 364 i !SN"SY  
    18.13 包含文件 365 ^;\6ju2  
    18.14  脚本被优化调用 366 rXe+#`m2  
    18.15  脚本中的对话框 368 4`r-*Lx  
    18.15.1  介绍 368 jlUT9Zp  
    18.15.2  消息框-MsgBox 368 Ur""&@  
    18.15.3  输入框函数 370 (~b0-3s  
    18.15.4  自定义对话框 371 T0\[": A  
    18.15.5  对话框编辑器 371 0d`lugf  
    18.15.6  控制对话框 377 Lr"`OzDz  
    18.15.7  更高级的对话框 380 1'k,P;s  
    18.16 Types语句 384 vDc&m  
    18.17 打开文件 385 ?DNeL;6  
    18.18 Bags 387 IY(;:#l  
    18.13  进一步研究 388 N$Tzxs  
    19  vStack 389 g J$m'kC;  
    19.1  vStack基本原理 389 2Myz[)<P_  
    19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ~%: TE}  
    19.3  五棱镜 393 |l?*' =  
    19.4 光束距离 396 @XKVdtG  
    19.5 误差 399 ;b, bHL  
    19.6  二向分色棱镜 399 ,/Y$%.Rp  
    19.7  偏振泄漏 404 f_QZ ql  
    19.8  波前误差—相位 405 cavzXz  
    19.9  其它计算参数 405 a-5#8  
    20  报表生成器 406 l~*d0E-$  
    20.1  入门 406 AAc2u^spx  
    20.2  指令(Instructions) 406 |X~vsM0  
    20.3  页面布局指令 406 w /CD-  
    20.4  常见的参数图和三维图 407 LQ"xm  
    20.5  表格中的常见参数 408 %-NG eN8  
    20.6  迭代指令 408 ` B+Pl6l)F  
    20.7  报表模版 408 `{S4_'  
    20.8  开始设计一个报表模版 409 @#5?tk0  
    21  一个新的project 413 U }}E E~W  
    21.1  创建一个新Job 414 ? ~_h3bHH  
    21.2  默认设计 415 S'AS,'EnY  
    21.3  薄膜设计 416 I{u+=0^Y  
    21.4  误差的灵敏度计算 420 hB]<li)"C  
    21.5  显色指数计算 422 ery{>|k  
    21.6  电场分布 424 X,+N/ nku  
    后记 426 ,aSK L1  
    0a v2w5>af  
    ]LSlo593  
    书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 k=5v J72U  
    mDIN%/S'  
    《Essential Macleod中文手册》
    RsP^T:M}$  
    fu`|@S  
    目  录 \MmKz^tO  
    ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 x*F_XE1#M  
    第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 GG`;c?d@  
    第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 D?? \H\  
    第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 d7L|yeb"  
    第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 +}!FP3KgT  
    第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 C6}`qD  
    第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 5%XEybc2  
    第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Cv1CRmqq%  
    第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 JuXuS  
    第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 T Z@S?r>^  
    第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 * n>YS  
    第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 I~U;M+n*y  
    第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 %;tBWyq}_  
    第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 4B=@<( H  
    第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 o_%gFV[q  
    第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 Y\7/`ty  
    ?N!.:~~k  
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    只看该作者 1楼 发表于: 2023-10-11
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