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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 a^U)2{A*f  
    5%+M:B  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ^Jv$Wx  
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    1{ TmK9U  
    场景 |\PI"rW  
    R^DZ@[\iV  
    &:K!$W  
    =UGyZV:z5  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 |@6t"P]@  
    p_^Jr*Mv  
    系统构建块
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    #@rvoi  
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    组件求解器 0Nvk|uI V[  
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    F.]D\"0`  
    系统构建块 })?t:zX#*  
    HLlp+;CF><  
    e7n[NVrX  
    `(2Y%L(r  
    总结 W 'w{}|  
    5_H`6-q  
    "!g}Q*   
    {*BZ;Xh\8  
    几何光学仿真 jTeHI|b  
    通过光线追迹 f/?uo sS  
    rpB0?h!$  
    结果:光线追迹 Z9)-kRQz=r  
    =._V$:a6o  
    v,[E*qMN  
    P]~apMi:  
    快速物理光学仿真 pO_$8=G+  
    通过场追迹  l_2B  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦  X_\$hF  
    )8Q;u8jm1  
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    4#Bzq3,|  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 )wM881_!  
    ~VKuRli|m  
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    v;WfcpWq2  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 yt4sg/] :  
    GzN /0:b  
    6N#0D2~^  
    cHAq[Ebp2!  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 U&'Xs z  
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    总结 :5-t$^R  
    *K'#$`2  
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