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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 7{=/rbZT?  
    R!b<Sg  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 |uI d:^ {  
    p 9Zi}!  
    )WavG1  
    场景 p'fq&a+  
    `"zXf-qeE  
     =mxG[zDtQ  
    YKKZRlQo  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 Tt #4dm-  
    &?flH;  
    系统构建块     /]m5HW(P7K  
    6r{NW9y'  
     Z8*E-y0  
    F8mS5oB|^  
    组件求解器 gKoB)n<[  
    <VI.A" Qk~  
    ^N#B( F  
    6U5L>sQ  
    IHHL. gT  
    TELN4*  
    系统构建块 @ -CZa^g  
    X c~yr\%]  
     VWf&F`^B(  
    <y[LdB/a  
    总结 =vJ:R[Ilw  
    Hy=';Ccn}  
    V .+ mK|)  
    OP0KK^#  
    几何光学仿真 5r)ndW,aN  
    通过光线追迹 xa#;<8 iV  
     +.^BM/z^O  
    结果：光线追迹 c-1,((p  
    6BK-(>c(6  
     __N< B5E  
    BUB$k7{z  
    快速物理光学仿真 sI\v}$(~  
    通过场追迹 L kYcAY$w  
     .kKU MyW(  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 B!{vSBq  
    L~9Q7 6w  
     2$ m#)*\  
    VwJ A  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 K|[p4*6  
    qj|P0N{7  
     cW%QKdTQY0  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 &w15 GO;4  
    tNpBRk(}  
     ;;>hWAS  
    -u+@5K;^Y  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 v'3.`aZ!  
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    总结 })#VO-J  
    8(d Hn  
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    Hwb+@'o  
     
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