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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 \?R#ZxP@  
    GC7WRA  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ~  z3J4s  
    jc)7FE  
    &z1U0uk  
    场景 d4BzFGsW  
    5 ,-8oEUL  
     RqGX(Iuv  
    MTCfs~}m  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 &.?E[db"h  
    KcpYHWCa.  
    系统构建块     ,8Po _[  
    1s@QsZ3  
     #"KC29!Yj  
    B7[d^Y60B  
    组件求解器 *|g[Mn  
    a-E}3a  
    QEf@wv;T  
    0&|0l>wy.  
    YLQ0UeDN'  
    nOL.%  
    系统构建块 5 | ,b  
    qE[YZ(/f0&  
     7~QI4'e  
    D0xQXC3$`  
    总结 }}$@Tij19[  
    h#O9TB  
    jw=PeT|  
    o zn&>k  
    几何光学仿真 cbyzZ#WRb  
    通过光线追迹 ltgtD k  
     7$lnCvm  
    结果：光线追迹 [,Go*r  
    ]}N01yw|s  
     $U]T8;5Q  
    )S%t) }  
    快速物理光学仿真 Dho6N]86r  
    通过场追迹 i cTpx#|=  
     iO5g30l  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \\<=J[R.M  
    uB.kkkGZ M  
     }Cu[x'J  
    +m%%Bz>  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ?=M ?v;8  
    {owuYVm  
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    I* C~w  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \6&Ml]1  
    }psRgF  
    v>} +->f  
    )ciP6WzzbI  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 H/*ol^X7  
    950N\Y @u  
     50N4J  
    +,>%Yb =EA  
    总结 ,<tJ` ,0X  
    U*$P"sS`  
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