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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 *++}ll6  
    J n'SGR  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 [2z >8 SL  
    'Ge8l%p  
    Y7 e1%,$v  
    场景 (_fovV=  
    Oo9'  
    ex|h&Vma2V  
    ne=CN!=  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ;V84Dy#b  
    u3IhB8'  
    系统构建块
    KuMH,rXF  
    \Z-Fu=8J8^  
    2W;2._  
    1}OM"V  
    组件求解器 HaQox.v%  
    P3TM5  
    cPX^4d~9  
    ^(7Qz&q  
    Zl?9ibm;@  
    :13u{5:th  
    系统构建块 LB^xdMXi  
    E|_}?>{R  
    z]!w@:  
    mnU8i=v0 A  
    总结 0*6Q 8`I  
    fRp(&%8E  
    cpphnGj5  
    8*&YQId~  
    几何光学仿真 MaZS|Zei[  
    通过光线追迹 [x -<O:r=P  
    STz@^A  
    结果:光线追迹 ?)7UqVyq  
    t<e3EW@>>  
    &a'LOq+r'  
    c9+yU~(  
    快速物理光学仿真 *C.Kdf3w  
    通过场追迹 j)#GoU=w  
    i_av_I-  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \9]- (j6[H  
    ~Jlq.S'  
    ^[Y/ +Q.J  
    -cP1,>Ahv  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 r"dR}S.Uf  
    3Qu-X\  
    0R}hAK+| 4  
    9rT"_d#  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 nY,LQ0r  
    _.SpU`>/f  
    lz _ r  
    \ZBz]rh*  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 fP llN8n  
    {"db1Gbfg  
    So4#n7  
    UkC'`NWF*  
    总结 sY?sQ'E2]  
    gwFW+*h  
    :c(#03w*C  
    fr&p0)85>B  
     
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