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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 \HXq~Y  
    :{+~i.*  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 EHN(K-  
    }y Vx"e)  
    eAmI~oku  
    场景 yIhPB8QL  
    9U8x&Z]P  
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    k@ <dru  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ~7 `,}) d  
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    系统构建块     h4jo<yp\  
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    组件求解器 "4\k1H"_  
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    系统构建块 8t Q;N'  
    "I66 @d?  
     &#L C'  
    U$mDAi$  
    总结 .u>[m.  
    H1f='k]SZ  
    |Fe[RGi+8  
    d\uN  
    几何光学仿真 Q66 +  
    通过光线追迹 ?TeozhUY  
     5mQ@&E~#W  
    结果：光线追迹 t5%cpkgh4  
    +l^tT&s;f  
     9v_s_QkL2  
    f[1cN`|z  
    快速物理光学仿真 \o}T0YX  
    通过场追迹 w+/`l*  
     VxBBZsZO~  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )i}j\";>L  
    lhHH|~t0  
     -Y@tx fu-  
    Rjq Xz6  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 & y5"0mA  
    #m,H1YH M  
     ]R_R`X?  
    R|n  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 =nHKTB>  
    i+h*<){X  
    tGgxID  
    Ec!!9dgRQ  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 i}VF$XN  
    JcWp14~e  
     W w,\s5Uw  
    .26mB Xr  
    总结 hE|P|0U,n  
    nd]SI;<  
    8 MQq3  
    G9f6'5 O  
     
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