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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 5m:i6,4  
    \,Lo>G`!  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 e}VBRvr  
    &M/0g]4p  
    Q zZ;Ob]'  
    场景 ,vqr <H9e  
    D0(xNhmKz  
    I V%VU  
    vKwQXR~C  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 p R dk>Ph  
    ./j,Z$|  
    系统构建块
    MF3b{|Z  
    )?M9|u  
    K ]OK:hY4  
    (KZHX5T=  
    组件求解器 ,h\sF#|  
    @;xMs8@  
    <WXzh5D2  
    H`8``#-|@S  
    f=!PllxL:  
    &0TVi  
    系统构建块 +bK.NcS  
    oBq 49u1  
    {HC@u{K -  
    , $Qo =  
    总结 MaBYk?TR~  
    8E&XbqP+  
    M}_ i52  
    +t4BQf  
    几何光学仿真 )4?x5#  
    通过光线追迹 LIU} a5  
    KD1=Y80P  
    结果:光线追迹 v]% WH~>  
    S|rgCh!h  
    =&0wr6  
    >StO.Q99  
    快速物理光学仿真 to8X=80-3  
    通过场追迹 OX%MP!#KU  
    b5m=7;u*h  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 dw~p?[  
    6+V\t+aug  
    cw&Hgjj2  
    /MB{Pmk$R  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Zn,>]X  
    %;D+k  
    LAx4Xp/  
    7:]Pl=:X  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 6*l^1;U  
    T&T/C@z'R  
    Ov-b:l H  
    2eeQ@]Wj[Z  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 G5dO 3lwq  
     Pi%%z  
    x 5dWBGH  
    [ rNXQ` /  
    总结 [md u!!*  
    5dx&Qu'}ZS  
    L.xZ_ 6  
    &)i|$J 2.  
     
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