切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 406阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    5627
    光币
    22287
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 n_""M:XH  
    ?ID* /u|X  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 2Vz'n@g=  
    S|K |rDr0n  
    n0rerI[R  
    场景 0Jm]f/iZ  
    j~,h )C/ v  
     QD$}-D[  
    Cz'xGW{  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 8A2if 9E3  
    RGT_}ni  
    系统构建块     -Wl)Lez@  
    `4VO&lRm  
     :D"@6PC]  
    y#b;uDY  
    组件求解器 b%Wd<N2  
    6RK ~Dl&g  
    wqJ*%  
    wXc,FD$  
    f!5F]qP>-  
    Dz[566UD  
    系统构建块 ' 2>l  
    -1Djo:y  
     "#*Nnt  
    B }6Kd  
    总结 NNwc!x)*  
    ~k9O5S{  
    7< ^'DO s  
    .W!tveX8-  
    几何光学仿真 *Y8XP8u/  
    通过光线追迹  %)pP[[h  
     ,/~[S  
    结果：光线追迹 {UP'tXah  
    zLh Fbyn(  
     Oc7 >S.1  
    -Bj.hx*  
    快速物理光学仿真 ;xL67e%?  
    通过场追迹 p?Z(rCp  
     hO#HvW  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ]x1p!TSU  
    CNut{4  
     llNXQlP\B  
    rqF"QU=l  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 (G#}*  
    >&BrCu[u  
     }qG#N  
    |,3l`o k  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 KL "Y!PN:  
    ])C>\@c6Gm  
    Lj4&_b9  
    6{Ks`Af  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 TfL4_IAG.  
    T0r<O_ubOA  
     |B eA==  
    }f0u5:;Zth  
    总结 [G\o+D?2  
    Y:wF5pp;  
    ;J'OakeVO  
    &RWM<6JP  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表