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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 ;m M\, {Z  
    1.u gXD  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 U)T/.L{0i  
    7csl1|U  
    PLY-,Q&'  
    场景 &T| UAM.  
    '/ ]fZ|  
     QWIOim-  
    EeF n{_  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 )PLc+J.I  
    4w3V!K8  
    系统构建块     Kuzy&NI^w  
    %\s#e  
     ]#WX|0''^  
    FSXKH{Z  
    组件求解器 s$3eJ|  
    55jY` b .  
    $`+~QR!h  
    ?8aWUgl  
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    ^LQ lfd  
    系统构建块 ES2d9/]p-  
    3GuMiht5  
     h<z/LL8|  
    x]jdx#'  
    总结 P^d . ,  
    t]YLt ,  
    /*xmv $  
    >GF(.:7  
    几何光学仿真 NVM2\fs  
    通过光线追迹 pdXgr)Uv  
     5{x[EXE'  
    结果：光线追迹 SieV%T0t1  
    w7]p9B  
     @bVh?T0~F,  
    ^.$r1/U  
    快速物理光学仿真 VIlQzM;%^  
    通过场追迹 8^ZM U{  
     D} <o<Dk  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦  TVEF+t  
    dpOL1rrE  
     ZkV vL4yIK  
    )]e d;V  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 V,* 0<7h  
    5)zj){wL  
     (? #U&  
    '/]Aaf@U8  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 k-Hfip[ro  
    OuJ y$e  
    ;@;ie8H  
    :!*;0~#  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 H_nOE(i<z  
    %X-&yGY  
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    总结 22(]x}`  
    6W#F Ss~  
    '~x_  
    TKs@?Q,J  
     
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