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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 O%A:2Y79  
    X(1nAeQ  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。  o )cd!,h  
    {J%hTjCw  
    (80]xLEBL  
    场景 hyL3fkMJ,  
    /9|1eSUa  
    'rRo2oTN  
    W{Ie(hf  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 H]Q Z4(  
    n<kcK  
    系统构建块
    `Te n2(D  
    :HRJ49a  
    gCgMmD=AZ  
    IO`.]iG  
    组件求解器 ?.IT!M}DR  
    pQ*9)C   
    4kNf4l9Y  
    ?y'KX]/  
    ss%ahs  
    F^IYx~:  
    系统构建块 0(Z ER sP  
    1a| q&L`o  
    @W=#gRqQPy  
    P 5m{}@g  
    总结 S,lJ&Rsu  
    hv}rA,Yd  
    6~0S%Hz   
    9cWl/7;zXO  
    几何光学仿真 z* YkD"]B  
    通过光线追迹 p< '#f,o  
    "Q A#  
    结果:光线追迹 ~LuZ pV  
    $=4T# W=m  
    0lF.!\9  
    c7q1;X{:  
    快速物理光学仿真 782be-n  
    通过场追迹 -B9C2  
    /0d_{Y+9  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 4VSlgoz  
    ?7@B$OlU  
    _,=A\C_b@  
    syA*!Up  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 )~T)$TS  
    XN5EZ#  
    5.]+K<:h"A  
    Ji :2P*  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 =2\k Jv3  
    X~sl5?  
    wRgmw 4  
    \$/)o1SG  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 7UejK r  
    0_}OKn)J  
    Q$Ga.fI  
    8t!(!<iF0  
    总结 4v33{sp  
    n&D<l '4  
    ,icgne1j  
    .|JJyjRA+  
     
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