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在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： jDW$}^
6
Na `vw
 WQHlf 0] F/D/1w^ iR 掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 iRL|u~bj
(M%ZSF V 由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 J(`(PYo\i
~<=wTns! 相位分布如下图所示： 58Z,(4:E
]$A6krfh|
 z4(Q.0x7 T2k# "zD 相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： =UF mN"
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