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在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示: n."n?C'{ }%8ZN :
x};~8lGT>t .whi0~i 掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。 $3PDe W-l+%T! 由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。 MzX&|wimb (^35cj{s 相位分布如下图所示:
^S3G%{" Gk{ 'U
mmbe.$73 ~t~[@2?WG 相移区域的影响清晰可见,导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差: C@6:uiT$ @b,H'WvhfS
N.vWZ7l8
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