01 说明 &Cpxo9-
=jv$ 1
本文旨在介绍Ansys Lumerical针对有源光子集成电路中PN耗尽型移相器的仿真分析方法。通过FDE和CHARGE求解器模拟并计算移相器的性能指标(如电容、有效折射率扰动和损耗等),并创建用于INTERCONNECT的紧凑模型,然后将其表征到INTERCONNECT的测试电路中实现,模拟反向偏置电压对电路中信号相移的影响。 K\E]X\:
H-
qP>:
HYYx*CJ)
}}bi#G:R+
02 综述 aU8Ti8A>
8qYGlew,
)%@WoBRj
*2C79hi1
这里假设移相器的结构沿光传播方向是均匀的,因此仅模拟器件的横截面。我们将演示每个部分的仿真及结果。 qjEWk."
Ho8.-QSG
步骤1:电学模拟 V #\ZS{'J
y~ 4nF
利用CHARGE求解器对移相器组件进行电学模拟,获得电荷载流子的空间分布作为偏置电压的函数,并将电荷分布数据导出为charge.mat文件。根据载流子浓度,我们也可以估计器件电容。 ecI
2]aKi
D&6Qk&>
施加于器件的偏置电压为0V(上)和-4V(下)时,移相器横截面的电子分布曲线如下图所示: 5b4V/d*
'
)7%]<2V%
U1!2nJ]
OO+#KyU
j72]_G
="[](X^ l
由图可知,在没有施加偏置电压情况下,波导横截面上的电荷分布是对称的。通过施加足够强的反向偏压,由于pn结上耗尽区的加宽,电子被部分推出波导(向左),导致波导上电荷分布发生相当显著的变化。
ne24QZ~}
nC{rs+P
电荷分布和耗尽区宽度的变化将改变结电容,器件的C-V曲线如下图所示: n zrCOMld
$`dNl#G,
qg:I+"u
p6l@O3
由图可知,电子和空穴对结电容的贡献非常相似,且由于耗尽区加宽,随着施加更高的反向偏置电压,二者对结电容的贡献降低。电容的大小会影响移相器的工作速度(带宽),因此可以在电路模型中考虑这种影响。 (?3\.tQ}}
;)pV[3[
步骤2:光学模拟 +rpd0s49
Mciq9{8&