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01 说明 [ .uaO 17]3 1 本文旨在介绍Ansys Lumerical针对有源光子集成电路中PN耗尽型移相器的仿真分析方法。通过FDE和CHARGE求解器模拟并计算移相器的性能指标（如电容、有效折射率扰动和损耗等），并创建用于INTERCONNECT的紧凑模型，然后将其表征到INTERCONNECT的测试电路中实现，模拟反向偏置电压对电路中信号相移的影响。 D2 cIVx3:( &b")`p&K  2965 7k8 5@A=,
GPUn 02 综述 xt0j9{ p z\d2T%^:g(  <n#V ?q }wl\"8 这里假设移相器的结构沿光传播方向是均匀的，因此仅模拟器件的横截面。我们将演示每个部分的仿真及结果。 JwVC?m). SWd[iD 步骤1：电学模拟 i*w-Q=
QLU; .& 利用CHARGE求解器对移相器组件进行电学模拟，获得电荷载流子的空间分布作为偏置电压的函数，并将电荷分布数据导出为charge.mat文件。根据载流子浓度，我们也可以估计器件电容。 NG!Q< !Y E!l1a5qB 施加于器件的偏置电压为0V(上)和-4V(下)时，移相器横截面的电子分布曲线如下图所示： W&f Py%g
I/V #[K C  Vy~$%H94 5(`GF|  }v ,P3 n$Fm~iPo, 由图可知，在没有施加偏置电压情况下，波导横截面上的电荷分布是对称的。通过施加足够强的反向偏压，由于pn结上耗尽区的加宽，电子被部分推出波导(向左)，导致波导上电荷分布发生相当显著的变化。 B2WX#/ lgd AlaN; 电荷分布和耗尽区宽度的变化将改变结电容，器件的C-V曲线如下图所示： Byvq w JY c7!`d .{90  2e@\6l,!^ 8 %f!
X51 由图可知，电子和空穴对结电容的贡献非常相似，且由于耗尽区加宽，随着施加更高的反向偏置电压，二者对结电容的贡献降低。电容的大小会影响移相器的工作速度(带宽)，因此可以在电路模型中考虑这种影响。 eaP$/U
D? gc) 3 步骤2：光学模拟 ;]x5;b9` Qs X 59d 利用MODE求解器中的FDE模块进行光学模拟，从电学模拟获得的变化的载流子浓度改变了波导的折射率，所以波导的有效折射率与偏置电压有关。将第一步得到的电荷分布数据charge.mat加载到FDE求解器中，这里需要两个模拟来表征波导。 /O9EI'40) !sQ8,l0h ·偏置电压设置为0，使用频率扫描获得波导在0偏压的有效折射率关于频率的函数，波导数据导出为ps_active_0.ldf。 ua-|4@YO ·使用Sweep进行电压参数扫描，计算中心波长处的有效折射率和损耗随偏置电压的变化，数据导出为neff_V.dat。 1)Bi>X
NX_S 有效折射率、损耗和偏置电压的关系曲线以及模场分布如下图所示： $KHD S:& Vho0f< `E  m 48Y1 '4 OV f|4J/Yx  :E`l(sI7J} q#-H+7 5  XQ; d ew+ K): sq{ 由图可知，较大的反向偏置引起较高的有效折射率扰动和较低的损耗。这是因为施加了反向偏压后，波导内自由载流子的耗尽会减少沿波导方向的光吸收量，较高的折射率扰动可以减小移相器实现π相移所需的长度。在-4V偏压下，移相器在1550 nm下的TE模被很好地限制在波导内，与波导内的载流子分布显著重叠，这可以显著地影响模式的有效折射率。 =JH,RQ
* ^:ngHue8~ 步骤3：电路模拟
`.WKU"To 1*b %C"C 将步骤2中的仿真结果加载到INTERCONNECT电路中的相关元件中，利用INTERCONNECT测试移相器元件在简单电路中的性能，使用光网络分析仪计算器件的频域响应。 YKd?)$J Bd[Gsns  {_}"USS
PQ]N>'v- 不同偏置电压下的相移曲线如下图所示： @sO.g_yM EA#!h'-s  K L~sEli H9!*DA<W 由图可知，随着偏置电压的变化，相位发生了变化。仿真结果表明，对于 500 微米的长度，在 4 伏偏置电压下相移约为 0.2 弧度，这表明移相器的 Vπ.Lπ 品质因数约为 0.03 Vm。
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