《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 ##k=='dR  
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第1章光刻工艺概述 ? 76jz>;b  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ~(I\O?k>H  
1.2光刻技术的发展史_3 LAMTf"a  
1.3投影光刻机的空间成像_5 Vs{|:L+  
1.4光刻胶工艺_10 *]x]U >EF  
1.5光刻工艺特性_12 *(o~pxFTR  
1.6小结_18 !u\X,.h  
参考文献_18 `n5)oU2q  
#[I`VA\x  
第2章投影光刻的成像原理 hz\7Z+$L_  
2.1投影光刻机_20 lD !^MqK  
2.2成像理论_21 xQaN\):^8  
2.2.1傅里叶光学描述_21 nBGk%NM 8  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 ZZl)p\r  
2.2.3其他成像仿真方法_30 :j?Lil%R  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 v9M;W+J  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 bhuA,}  
2.3.2影响_36 7U?x8%H*  
2.4小结_39 #G9S[J=xe  
参考文献_39 ]'T-6  
T-|z18|!  
第3章光刻胶 #\t?`\L3  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 AbLOq@lrK  
3.1.1光刻胶的分类_42 ->K*r\T  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 NsWyxcty  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 rC/m}`b  
3.1.4现象学模型_48 H$1R\rE`  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 Xv=n+uo  
3.2.1技术方面_50 +XFF@h&=t  
3.2.2曝光_51 Ds0^/bYp&  
3.2.3曝光后烘焙_54 nJ'O(Wh,)  
3.2.4化学显影_58 j6IWdqXe  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 &#;UKk~)Of  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 0[9A*  
3.5小结_68 v0=^Hym  
参考文献_69 uF@Q8 7G  
C4Bh#C  
第4章光学分辨率增强技术 jk 9K>4W  
4.1离轴照明_74 ]hv4EL(zi  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 mm:\a-8j  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 z#bOFVg#  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 .xCO_7Rd  
4.2光学邻近效应校正_81 In^$+l%O[  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 Td"f(&Hk&  
4.2.2线端缩短补偿_84 pS*vwYA  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ).-B@&Eu%  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 e[w)U{|40  
4.3相移掩模_89 2x3&o|J  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 hD # Yz<  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 <E$5LP;:  
4.4光瞳滤波_100 }MXZ  
4.5光源掩模协同优化_102 VJZ   
4.6多重曝光技术_106 /g@.1z1w  
4.7小结_109 R}>Gk  
参考文献_110 K^s!0[6  
@ZD1HA,h"  
第5章材料驱动的分辨率增强 h_x"/z&  
5.1分辨率极限的回顾_115 ^Zydy  
5.2非线性双重曝光_119 TQ>kmHWf/  
5.2.1双光子吸收材料_119 }UQBaqDH  
5.2.2光阈值材料_120 l)=Rj`M  
5.2.3可逆对比增强材料_121 Z
"% =  
5.3双重和多重成形技术_124 vL\wA_z"<H  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 9[6xo!  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 ##1[/D(  
5.3.3自对准双重成形_126 dl(cYP8L  
5.3.4双色调显影_127 mcp}F|ws  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 ,MuLu,$/  
5.4定向自组装_129 (lS&P"Xi  
5.5薄膜成像技术_133 1th|n  
5.6小结_135 B.0(}@  
参考文献_135 3DMfR ofg  
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E%9
 
第6章极紫外光刻 Q5{i#F7nJm  
6.1EUV光源_141 IWuR=I$t  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 HrEZ]iQ@O0  
6.3EUV掩模_146 T~=NY,n  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 5JIa?i>B  
6.5EUV光刻胶_156 ,?<jue/bd  
6.6EUV掩模缺陷_157 YDC[s ^d5  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 X2q$i  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 YeYFPi#  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 lNls8@  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 se2+X>@>  
6.8小结_167 IEjKI"  
参考文献_168 !$qNugLg  
W&TPrB  
第7章投影成像以外的光刻技术 #CHsH{d  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 $2 ~A^#"0  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 Y'%sA~g  
7.1.2技术实现_179 X.%Xi'H  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 E/Eny5  
7.2无掩模光刻_186 2 os&d|  
7.2.1干涉光刻_186 i1\xZ<|0  
7.2.2激光直写光刻_189 b ]1SuL  
7.3无衍射限制的光刻_194 =JX.* MEB  
7.3.1近场光刻_195 #@3RYx  
7.3.2利用光学非线性_198 \,ir]e,1  
7.4三维光刻_203 dxUq5`#G,  
7.4.1灰度光刻_203 Hx62x X  
7.4.2三维干涉光刻_205 vA;ml$  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 :sk7`7v  
7.5浅谈无光刻印_209 xHZx5GJp9  
7.6小结_210 LN" bGe  
参考文献_211 `-qSvjX  
Ga+\b>C  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 CZxQz  
8.1实际投影系统中的波像差_220 ]J5[ZVz  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 >p}d:t/  
8.1.2波前倾斜_226 e7>)Z  
8.1.3离焦像差_226  ORp6  
8.1.4像散_228 FavU"QU&|  
8.1.5彗差_229 8y/YX  
8.1.6球差_231 
&5O  
8.1.7三叶像差_233 LV4
x9?&  
8.1.8泽尼克像差小结_233 !|}J{  
8.2杂散光_234 eP(%+[g  
8.2.1恒定杂散光模型_235 k2j:s}RHY  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 DTl
M}  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 7==Uz?}C  
8.3.1掩模偏振效应_240 @HMt}zD  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 0A9x9l9Wd  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 rRYP~ $c  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 bxqXFy/I  
8.3.5偏振照明_248 j<R,}nmD3\  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 {!o-
y=  
8.5小结_250 h" P4  
参考文献_251 &&M-5XD  
DN&ZRA  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 RR75ke[Hs  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 /49PF:$?  
9.1.1时域有限差分法_257 9c=Y+=<  
9.1.2波导法_260 !})/x~~e  
9.2掩模形貌效应_262 7$8
z}2  
9.2.1掩模衍射分析_263 *jTr  
9.2.2斜入射效应_266 JihI1C  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 f8lBxK  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 .%U~ r2Y(  
9.2.5各种三维掩模模型_277 ]BO{Q+?d2  
9.3晶圆形貌效应_279 #fk)Y
1  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 "of(,p  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 =c(_$|0  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 v"F.<Q  
9.4小结_283 ]^3_eHa^d  
参考文献_283 x +q"%9.c  
F$ZWQ9&5U0  
第10章先进光刻中的随机效应 A AH-Dj|&l  
10.1随机变量和过程_288 ":Kn@S'{(  
10.2现象_291 7B"J x^  
10.3建模方法_294 f0IljY!.  
10.4依存性及其影响_297 m{JiF-=u  
10.5小结_299 _-o*3gmbQ  
参考文献_299 wf=#w}f  
专业词汇中英文对照表 v@XQ)95]F  
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