《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 Q*Pq{]0K  
T6=u P)!K  
/j.9$H'y  
7qS)c}Q\  
PEZ!n.'S  
第1章光刻工艺概述 w\O;!1iU  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 Cw&KVw*  
1.2光刻技术的发展史_3 WH^%:4  
1.3投影光刻机的空间成像_5 8Zd]wYO  
1.4光刻胶工艺_10 + {'.7#  
1.5光刻工艺特性_12 ,z=LY5_z)  
1.6小结_18 _H@DLhH|=  
参考文献_18 6D3B^.rj]  
j0q&&9/Jj  
第2章投影光刻的成像原理 H<+TR6k<  
2.1投影光刻机_20 vnuN6M{  
2.2成像理论_21 U 6)#}
 
2.2.1傅里叶光学描述_21 Jln:`!#fDf  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 b&U62iq  
2.2.3其他成像仿真方法_30 |2A:eI8 ^  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 u=e{]Ax#}  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 ]7A'7p$Y  
2.3.2影响_36 fp"W[S|uL  
2.4小结_39 wUJcmM;  
参考文献_39 oQJtUP%  
=7UsVn#o  
第3章光刻胶 V
!~wj  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 1< ?4\?j  
3.1.1光刻胶的分类_42 R=\IEqqsi  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 2&cT~ZX&'  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 , W?VhO  
3.1.4现象学模型_48 "#g}ve,  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 n `Ac 3A  
3.2.1技术方面_50 ))Za&S*<  
3.2.2曝光_51 JW&gJASGC  
3.2.3曝光后烘焙_54 {_*yGK48n  
3.2.4化学显影_58 E"IZ6)Q  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 ~"A0Rs=  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 .e-#
yET  
3.5小结_68 h{qgEIk&  
参考文献_69 6
!bsM"F  
2~[juWbz  
第4章光学分辨率增强技术 t_1LL >R  
4.1离轴照明_74 VIb
q:U  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 [V`r^  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 K(|}dl:  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 f6p/5]=J26  
4.2光学邻近效应校正_81 y
f,z$CR  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 +ZX{>:vo   
4.2.2线端缩短补偿_84 F"mmLao  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 7xR\kL.,  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 ;9#KeA _  
4.3相移掩模_89 o+VQ\1as?(  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 2fS:- 8N  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 Iu6   
4.4光瞳滤波_100 fN2lLn9/u  
4.5光源掩模协同优化_102 5:?!=<=  
4.6多重曝光技术_106 $:^td/p J  
4.7小结_109 T u'{&  
参考文献_110 ),!q
TjD  
QZ8IV>  
第5章材料驱动的分辨率增强 xyxy`qRA  
5.1分辨率极限的回顾_115 _
"{Xi2@H  
5.2非线性双重曝光_119 }-`4DHgq  
5.2.1双光子吸收材料_119 E" vS $  
5.2.2光阈值材料_120 !n%j)`0M  
5.2.3可逆对比增强材料_121 E*lx
Vua  
5.3双重和多重成形技术_124 +cRn%ioVi  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 ptaKf4P^r  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 R@2X3s:  
5.3.3自对准双重成形_126 h@BY]80  
5.3.4双色调显影_127 H;"4C
8K7  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 V.2_i*  
5.4定向自组装_129 [-x7_=E#  
5.5薄膜成像技术_133 w2'5#`m  
5.6小结_135 #LNED)Vg  
参考文献_135 |[y6Ua0  
D/' dTrR  
第6章极紫外光刻 7-A2_!_x{  
6.1EUV光源_141 d"Y{UE  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 2t,zLwBdnJ  
6.3EUV掩模_146 8b=_Y;  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 ##ANrG l  
6.5EUV光刻胶_156 Q59W#e)  
6.6EUV掩模缺陷_157 LIrb6g&xj_  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 >R=|Wo`Ri  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 UCWBYC+  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 #A.@i+Zv  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 ?@89lLD  
6.8小结_167 b`_Q8 J  
参考文献_168 y
+q5UC|  
DV{=n C  
第7章投影成像以外的光刻技术 IGN1gs  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 aQ~s`^D  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 [/ZO q  
7.1.2技术实现_179 x)VJFuqy  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 y?# Loe  
7.2无掩模光刻_186 i mM_H;-X  
7.2.1干涉光刻_186 [S<";l8  
7.2.2激光直写光刻_189 [Nq*BrzF  
7.3无衍射限制的光刻_194 o"SMbj  
7.3.1近场光刻_195 j|Q-*]V
 
7.3.2利用光学非线性_198 <-0]i_4sK  
7.4三维光刻_203 @ .KGfNu  
7.4.1灰度光刻_203 ?fS9J  
7.4.2三维干涉光刻_205 0BsYa
vCR  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 S[QrS7  
7.5浅谈无光刻印_209 jFb?b6b  
7.6小结_210 DL.!G  
参考文献_211 ~{gqsuCCL  
L=h'Qgk%  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 T 1t6p&  
8.1实际投影系统中的波像差_220 =Runf +}  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 PRT +mT  
8.1.2波前倾斜_226 ^}C\zW  
8.1.3离焦像差_226 JN6B~ZNf  
8.1.4像散_228 mcok/,/  
8.1.5彗差_229 t>sE x:  
8.1.6球差_231 "h ^Z  
8.1.7三叶像差_233 A70d\i  
8.1.8泽尼克像差小结_233 -{_PuJ "  
8.2杂散光_234 MY/}-*|  
8.2.1恒定杂散光模型_235 /Q )\+  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 59-c<I/}f  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 :i7;w%
B  
8.3.1掩模偏振效应_240 +^<](z  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 "*H`HRi4T  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 Vq2$'lY  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 D3A/l  
8.3.5偏振照明_248 Cls%M5
MH  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 A(0lM`X  
8.5小结_250 L.WljNo  
参考文献_251 Xry47a )  
%%wNZ{  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 2px|_)i
 
9.1严格电磁场仿真的方法_256 .{
KVMc  
9.1.1时域有限差分法_257 lHIM}~#;nd  
9.1.2波导法_260 KYN0  
9.2掩模形貌效应_262 yOKI*.}  
9.2.1掩模衍射分析_263 &VcV$8k  
9.2.2斜入射效应_266 o`RKXfCq  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 Y4(  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 ;UP$yM;  
9.2.5各种三维掩模模型_277 snikn&  
9.3晶圆形貌效应_279 'Z|mQZN  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 >"<Wjr8W!$  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 4Z,!zFS$`  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 VD\=`r)nT  
9.4小结_283 b_):MQ1
{  
参考文献_283 wa3}SB  
F}qc0  
第10章先进光刻中的随机效应 188*XCtjQ9  
10.1随机变量和过程_288 Xs?o{]Fe  
10.2现象_291 )F2OT<]m,  
10.3建模方法_294 eR"<33{  
10.4依存性及其影响_297 V2G6Kw9gt  
10.5小结_299 I!?}jo3  
参考文献_299 ]g&TKm  
专业词汇中英文对照表 !v0LBe4  
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