《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 uIeD.I'@{5  
:Ca]
/]]  
@)h
rj2Jw  
I{rW+<)QGC  
Rq,ST:  
第1章光刻工艺概述 &uX|Ksq  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 J|Af`HJ  
1.2光刻技术的发展史_3 j4C{yk  
1.3投影光刻机的空间成像_5 Lc0yLm  
1.4光刻胶工艺_10 *Y!c6eA  
1.5光刻工艺特性_12 W'0(0;+G/j  
1.6小结_18
wfE%` 1  
参考文献_18 Z3j
tq-y  
O:^m#:[cE  
第2章投影光刻的成像原理 WZ#|?pJ  
2.1投影光刻机_20 PNn-@=%  
2.2成像理论_21 <;T$?J9  
2.2.1傅里叶光学描述_21 rEWPVT  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 F~qiNV  
2.2.3其他成像仿真方法_30 h_w_OCC&2  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 |N^z=g P[  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 Gb?O-z%8*  
2.3.2影响_36 UN,y/V  
2.4小结_39 zSU06Y  
参考文献_39 \q |n0>  
ku`bwS  
第3章光刻胶 HJV8P2f8`  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 pbM"tr_A{  
3.1.1光刻胶的分类_42 Ku W$  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 G\HU%J  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 |ULwUi-r  
3.1.4现象学模型_48 HDTdOG)  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 rwRb _eIj  
3.2.1技术方面_50 GNv5yWQ@  
3.2.2曝光_51 cdH Ug#  
3.2.3曝光后烘焙_54 `6t3D&.u0  
3.2.4化学显影_58 p| #gn<z}  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 lvyD#|P  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 ;~Em,M"o  
3.5小结_68 |B0.*te6  
参考文献_69 $S|2'jc  
VB+sl2V<h  
第4章光学分辨率增强技术 [H3~b=  
4.1离轴照明_74 uy,ySBY  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 [xVE0l*\  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 -6()$cl}0  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 gUrb&#\X  
4.2光学邻近效应校正_81 !iOuIYjV  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 fC$~3v  
4.2.2线端缩短补偿_84 jJ' LM>e  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 F!|?S:X  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 BBg&ZIYEh  
4.3相移掩模_89 {mlJE>~%  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 x_&m$Fh  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 qwb`8o  
4.4光瞳滤波_100 }UzO_&Z#6  
4.5光源掩模协同优化_102 1qs~[7{C1  
4.6多重曝光技术_106 >%"Q]p  
4.7小结_109 JMMsOA_]  
参考文献_110 o6} +5  
10/N-=NG18  
第5章材料驱动的分辨率增强 wmNc)P4  
5.1分辨率极限的回顾_115 `B`/8Cvg  
5.2非线性双重曝光_119 `R}D@  
5.2.1双光子吸收材料_119 V zx%N.  
5.2.2光阈值材料_120 ,]N!I%SI  
5.2.3可逆对比增强材料_121 qdn\8Pn  
5.3双重和多重成形技术_124 6g ,U+~  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 Z{ntF  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 5T[9|zJs  
5.3.3自对准双重成形_126 35Jno<TP'  
5.3.4双色调显影_127 ax0:v!,e  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 mne^PSI:  
5.4定向自组装_129 lA4Bq  
5.5薄膜成像技术_133 4*UoTE-g$  
5.6小结_135 zS:89y<  
参考文献_135 3I_
"vk  
>4d2IO1\  
第6章极紫外光刻 t[6g9e$  
6.1EUV光源_141 '_n{+eR74  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 {-rK:*yP'u  
6.3EUV掩模_146 qj71 rj  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 I(8,D[G.m  
6.5EUV光刻胶_156 HrA6wn\O  
6.6EUV掩模缺陷_157 ou44vKzS  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 ?
lxI& h  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 s0Ii;7fA{  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 blZiz2F  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 PL8{|Q  
6.8小结_167 ^uW!=%D  
参考文献_168 xG_ ;F  
LnJ/t(KV  
第7章投影成像以外的光刻技术 y+RT[*bX5o  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ]xfAdBi  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 #R|M(Z">q  
7.1.2技术实现_179 n=RAE^[
M  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 r^P}xGGK  
7.2无掩模光刻_186 gKg2Ntx
j  
7.2.1干涉光刻_186 NQ<~$+{  
7.2.2激光直写光刻_189 +G&h  
7.3无衍射限制的光刻_194 b?oT|@  
7.3.1近场光刻_195 }>xgzhdT  
7.3.2利用光学非线性_198 {KL<Hx2M  
7.4三维光刻_203 oKTIoTb  
7.4.1灰度光刻_203 w\Q3h`.  
7.4.2三维干涉光刻_205 T\:3(+uK  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 ewgcpV|spn  
7.5浅谈无光刻印_209 9AJ!7J#v"  
7.6小结_210 \%NhggS*  
参考文献_211 w\;=3C`  
/U1GxX:P,  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 (0W%YZ!&  
8.1实际投影系统中的波像差_220 ^h^2='p  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 ew4IAF  
8.1.2波前倾斜_226 _]tR1T5e  
8.1.3离焦像差_226 ,ewg3mYHC&  
8.1.4像散_228 bF'~&<c  
8.1.5彗差_229 n/s!S &  
8.1.6球差_231 <uL?7P  
8.1.7三叶像差_233 v?<x"XKR  
8.1.8泽尼克像差小结_233 C[rYV
a .  
8.2杂散光_234 z$-/yT"M  
8.2.1恒定杂散光模型_235 7&klX  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 #rV=!j||  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 xn@?CP`-y  
8.3.1掩模偏振效应_240 CBSJY&:K  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 %@Ks<"9  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 pP?J(0Q~  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 > Q@*o  
8.3.5偏振照明_248 5]; 8
 
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250
N>Y`>5  
8.5小结_250 F4Ft~:a  
参考文献_251 qPE(Lt1  
$Miii`VS9  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 2O9dU 5b  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 X@9_ukdpu  
9.1.1时域有限差分法_257 yixW>W}  
9.1.2波导法_260 =Mn!
[  
9.2掩模形貌效应_262 U3kf$nbV/J  
9.2.1掩模衍射分析_263 ^Sy\<  
9.2.2斜入射效应_266 8+gx?pb  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 An[*Jx  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 Jkm\{;  
9.2.5各种三维掩模模型_277 :`3b|u=KZ  
9.3晶圆形貌效应_279 PBn(k>=+  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 l,*Q?q  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 7@EYF  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 $'9r=#EH  
9.4小结_283 /gy;~eB01  
参考文献_283 c#"\&~. P  
r-N2*uYtu  
第10章先进光刻中的随机效应 -ZQ3^'f:0J  
10.1随机变量和过程_288 ZFW}Vnl  
10.2现象_291 #4
na>G|  
10.3建模方法_294 V]k!]  
10.4依存性及其影响_297 tO[+O=d  
10.5小结_299 1uV_C[:  
参考文献_299 K/\#FJno  
专业词汇中英文对照表 (= !_5l  
hD>:WJ