《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 #s9aI_  
!TcJ)0   
-7|H}!DFT  
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第1章光刻工艺概述 %SUQ9\SEs  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ;9'OOz|+1  
1.2光刻技术的发展史_3 $`'/+x"%  
1.3投影光刻机的空间成像_5 ;GD]dW#  
1.4光刻胶工艺_10 (Awm9|.{+  
1.5光刻工艺特性_12 
kvj#c  
1.6小结_18 3=;<$+I6  
参考文献_18 (4-CF
3D  
(uidNq
 
第2章投影光刻的成像原理 ]
}X  
2.1投影光刻机_20 Dum9l
j  
2.2成像理论_21 @|T'0_'  
2.2.1傅里叶光学描述_21 {(?4!rh  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 l9H!au=  
2.2.3其他成像仿真方法_30 (C)p9-,  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 Uoix  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 >c}u>]D  
2.3.2影响_36 )BfAw  
2.4小结_39 YZJyk:H\  
参考文献_39 2I{"XB  
,"79P/C  
第3章光刻胶 _h1mF<\ X^  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 ygl0k \  
3.1.1光刻胶的分类_42 [=`q>|;pOv  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 U,1-A=Og{o  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 11;zNjD|  
3.1.4现象学模型_48 MnW+25=N  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 )}O8?d`  
3.2.1技术方面_50 P0jtp7)7  
3.2.2曝光_51 8*a&Jl  
3.2.3曝光后烘焙_54 g< .qUBPKX  
3.2.4化学显影_58 UJ6v(:z<  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 uFga~&#g  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 Eu04e N  
3.5小结_68 hehFEyx  
参考文献_69 jmW7)jT8:  
o*hF<D$Y  
第4章光学分辨率增强技术 b5n'=doR/I  
4.1离轴照明_74 A\5L 7  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 3"\lu?-E  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 8DaL,bi*.  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 Q#zmf24W  
4.2光学邻近效应校正_81 Pg7Yp2)Oli  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 &b& ,  
4.2.2线端缩短补偿_84 r",GC]  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ^K@C"j?M/  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 ]e@Oiq  
4.3相移掩模_89 $L]lHji  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 ;sFF+^~L  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 geCM<]  
4.4光瞳滤波_100 FaJ&GOM,  
4.5光源掩模协同优化_102 .#pU=v#/[  
4.6多重曝光技术_106 v/=}B(TDF  
4.7小结_109 jRV/A!4  
参考文献_110 SasJic2M  
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C'BIr  
第5章材料驱动的分辨率增强 >[*qf9$  
5.1分辨率极限的回顾_115 _:27]K:  
5.2非线性双重曝光_119 @f_+=}|dc  
5.2.1双光子吸收材料_119 /&94 eC  
5.2.2光阈值材料_120 6)Lk-D  
5.2.3可逆对比增强材料_121  ;4~hB  
5.3双重和多重成形技术_124 Y:a]00&)#Y  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 pz>>)c`  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 I~XSn>-H  
5.3.3自对准双重成形_126 Z#\P&\`1z  
5.3.4双色调显影_127 q'82qY  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 -3Vx76Y  
5.4定向自组装_129 Z?QC!bW
b  
5.5薄膜成像技术_133 5XBH$&Td  
5.6小结_135 n.0fVV-A  
参考文献_135 R
~$qo)v  
gB'6`'  
第6章极紫外光刻 8X|-rM{  
6.1EUV光源_141 sON|w86B  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 'b{]:Y  
6.3EUV掩模_146 D}X\Ca"h  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 S^\Vgi(  
6.5EUV光刻胶_156 lU8`F(Mn  
6.6EUV掩模缺陷_157 B`J~^+`[*  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 CizX<Cr}  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 Jze:[MYS  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 )hfpwdQ  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 L/G6Fjg^  
6.8小结_167 c\ lkD-\  
参考文献_168 WI-1)1t  
9zy!Fq  
第7章投影成像以外的光刻技术 r<^HmpUJ  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ;;N9>M?b  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ^ (zYzd  
7.1.2技术实现_179 ^$hH1H+V  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 |8tilOqI  
7.2无掩模光刻_186 H~1jY4E  
7.2.1干涉光刻_186 QB'aON\S  
7.2.2激光直写光刻_189 z~/` 1  
7.3无衍射限制的光刻_194 03#lX(MB  
7.3.1近场光刻_195 G*P#]eO  
7.3.2利用光学非线性_198 7%eK37@u  
7.4三维光刻_203 [E juUElr  
7.4.1灰度光刻_203 ,1o FPa{?  
7.4.2三维干涉光刻_205 uk<9&{  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 v #j$;  
7.5浅谈无光刻印_209 JrRH\+4K  
7.6小结_210 :!!at:>  
参考文献_211 ?+}_1x`  
eV?2LtT#5  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 RdRp.pb8  
8.1实际投影系统中的波像差_220 *wB1,U{  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 %/#NK1&M  
8.1.2波前倾斜_226 _^%,x  
8.1.3离焦像差_226 '@k+
4y9q?  
8.1.4像散_228 ZRU{[4  
8.1.5彗差_229 VQ9/Gxdeo  
8.1.6球差_231 8NAON5.!  
8.1.7三叶像差_233 C1 GKLl~  
8.1.8泽尼克像差小结_233 6zuTQ^pz  
8.2杂散光_234 H*'IK'O  
8.2.1恒定杂散光模型_235 %2V?,zY@  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 [j/9neaye  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 pJ'"j 6Q  
8.3.1掩模偏振效应_240 0[?Xxk}s0  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 fSvM(3Y<Qh  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 dE{dZ#Jfi  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 [~c|mOk  
8.3.5偏振照明_248 jLHkOk5{:  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 }l} Bo.C  
8.5小结_250 VY=jc~c]v  
参考文献_251 dn$!&
  
Gm^U;u}=f  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 |~mOfuQb  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 >$/>#e~  
9.1.1时域有限差分法_257 ;RPx^X~  
9.1.2波导法_260 p}pjfG  
9.2掩模形貌效应_262 HJ[cM6$2  
9.2.1掩模衍射分析_263 XW)lDiJl  
9.2.2斜入射效应_266 "CQa.%  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 L2i_X@/  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 SP_75BJ
  
9.2.5各种三维掩模模型_277 F8,RXlGfA[  
9.3晶圆形貌效应_279 j[J-f@F \Y  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 i#Bf"W{F  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 (m(JK^  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 ">,|V-H  
9.4小结_283 XnMvKPerv'  
参考文献_283 kxIF#/8  
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第10章先进光刻中的随机效应 >rmqBDKaQ  
10.1随机变量和过程_288 >7T'OC  
10.2现象_291 w4{<n/"  
10.3建模方法_294 ]dmrkZz:  
10.4依存性及其影响_297 Ee%%d  
10.5小结_299 5 ,B_u%bb  
参考文献_299 ,~@X{7U  
专业词汇中英文对照表 WUXx;9>  
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