《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 :W1B"T<  
ohB@ijC!  
G+Zm  
3gba~}c)  
H*EN199  
第1章光刻工艺概述 8<X; 8R  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ,S=ur%  
1.2光刻技术的发展史_3 n]WVT@  
1.3投影光刻机的空间成像_5 ,tHV H7[  
1.4光刻胶工艺_10 s\ YHT.O?  
1.5光刻工艺特性_12 [`|gj  
1.6小结_18 ;XGO@*V5T  
参考文献_18 e:RgCDWL  
|`ZW(}~  
第2章投影光刻的成像原理 #uH%J<U  
2.1投影光刻机_20 1ihdH1rg[  
2.2成像理论_21 7 +kU8}  
2.2.1傅里叶光学描述_21 rTtxmw0  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 =E-V-?N\  
2.2.3其他成像仿真方法_30 :0j_I\L  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 IX 2 dic'  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 xE
qr3(  
2.3.2影响_36 #qdfr3  
2.4小结_39 lH
1gWe  
参考文献_39 IkJ-*vI6  
Dt*/tVF  
第3章光刻胶 I=9sTR)  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 UB|}+WA3  
3.1.1光刻胶的分类_42 di]TS9&9  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 ~k'SP(6#C  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 c R6:AGr  
3.1.4现象学模型_48 OS$^>1f"  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 yk&PJ;%O<  
3.2.1技术方面_50 qO}Q4a+  
3.2.2曝光_51 tsN,yI]-VA  
3.2.3曝光后烘焙_54 %*Lv  
3.2.4化学显影_58 x
h9Os <  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 QL`Hb p  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 )TzQ8YpO}  
3.5小结_68 R>n=_C  
参考文献_69 K+@R [  
Iju9#b6  
第4章光学分辨率增强技术 7Nt6}${=z  
4.1离轴照明_74 <#F@OU  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 \*5${[  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 h@yn0CU3.  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 /V$U%0  
4.2光学邻近效应校正_81 7FGi+  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 E]dmXH8A  
4.2.2线端缩短补偿_84 M.?[Xpa  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 6#(==}Sm+  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 k}FmdaPI'  
4.3相移掩模_89 =WM^i86  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 CWw#0  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 OV,t|  
4.4光瞳滤波_100 )4e?-?bK!  
4.5光源掩模协同优化_102 T1=T  
4.6多重曝光技术_106 +Fa!<txn  
4.7小结_109 z^^)n  
参考文献_110 _UGR+0'Q\  
@p ZjJ<9QM  
第5章材料驱动的分辨率增强
]-"G:r  
5.1分辨率极限的回顾_115 XDo
hfa_  
5.2非线性双重曝光_119 )J{.z  
5.2.1双光子吸收材料_119 "kd)dy95H  
5.2.2光阈值材料_120 h'
ik19  
5.2.3可逆对比增强材料_121 ]+A%37  
5.3双重和多重成形技术_124 O QGKH6q  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 R,dbq4xkl  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 7]H
<ou  
5.3.3自对准双重成形_126 'M!M$<j  
5.3.4双色调显影_127 IRyZ0$r:e\  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 2mEvoWnJ  
5.4定向自组装_129 a&RH_LjM  
5.5薄膜成像技术_133 D$
Eq~VQ  
5.6小结_135 Fj4>)!^kM  
参考文献_135 vb`R+y@  
ACOn}yH  
第6章极紫外光刻 )k.}>0K |  
6.1EUV光源_141 ZXl_cq2r  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 ]p!)8[<  
6.3EUV掩模_146 gy>B 5ie  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 d$hBgJe>N  
6.5EUV光刻胶_156 je85G`{DC  
6.6EUV掩模缺陷_157 Z5|BwM  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 fPPC`d&Q3  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 @2g <d  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 S#:l17e3  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 Q$(Fma4a  
6.8小结_167 rld8hFj  
参考文献_168 [ylRq7^e  
8PR\a!"  
第7章投影成像以外的光刻技术 D$N;Qb  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 o$Ju\(Y$<+  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ^B:;uyG]M  
7.1.2技术实现_179 -}3nIk<N  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 =;Dj[<mJ45  
7.2无掩模光刻_186 <*(^QOM  
7.2.1干涉光刻_186 jn(%v]
 
7.2.2激光直写光刻_189 CEW1T_1U<\  
7.3无衍射限制的光刻_194 eG7Yyz+t$  
7.3.1近场光刻_195 T@A Qe[U'v  
7.3.2利用光学非线性_198 ?4^ 0xGyE  
7.4三维光刻_203 m!5Edo-;<  
7.4.1灰度光刻_203 McpQ7\*h  
7.4.2三维干涉光刻_205 %=!] 1  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 _b$ yohQ  
7.5浅谈无光刻印_209 T'{9!By,P  
7.6小结_210 Gk]ZP31u  
参考文献_211 <
RKT |  
df!i}L  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 c?N,Cd~q  
8.1实际投影系统中的波像差_220 Q':hmulT!  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 6$[7hlE  
8.1.2波前倾斜_226 |nE4tN#J<  
8.1.3离焦像差_226 stUUez>  
8.1.4像散_228 Ss%1{s~ok  
8.1.5彗差_229 .cbC2t95  
8.1.6球差_231 PD&gC88
  
8.1.7三叶像差_233 (zh[1[a  
8.1.8泽尼克像差小结_233 HItN
d  
8.2杂散光_234 bF6J>&]!  
8.2.1恒定杂散光模型_235 f}J(nz>Sh  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 A; wT`c  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 sM+~x<}0  
8.3.1掩模偏振效应_240 L$BV`JWPw  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 tj$[szo  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 'ZB^=T  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 z_N"
;Rn  
8.3.5偏振照明_248 \5 rJ  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 X8">DR&>Y  
8.5小结_250 5VJe6i9;  
参考文献_251 X =%8*_  
|R1T;J<[  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 0Ni{UV? k  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 Fn7OmxfD  
9.1.1时域有限差分法_257 *= ?|n  
9.1.2波导法_260 vENf3;o0  
9.2掩模形貌效应_262 Px&_6}Y
Wy  
9.2.1掩模衍射分析_263 P:t .Nr"  
9.2.2斜入射效应_266 }zx ~  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 a]T&-#c,}  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 O`Gq7=X  
9.2.5各种三维掩模模型_277 J|]
.h  
9.3晶圆形貌效应_279 W"^=RY  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 !Av9?Q:  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 DL?nvH  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 r34MDUZdI  
9.4小结_283 ]jFl?LA%7  
参考文献_283 31@Lr[!  
{eV8h}KIl  
第10章先进光刻中的随机效应 .z.4E:Iq  
10.1随机变量和过程_288 {*AA]z?zo  
10.2现象_291 i5t6$|u:&m  
10.3建模方法_294 mr^3Y8$s  
10.4依存性及其影响_297 -X~mW  
10.5小结_299 =jJEl=*S  
参考文献_299 
,_fz)@)  
专业词汇中英文对照表 +)iMJ]>  
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