《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 Rl@$xP  
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5:gj&jt;)7  
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第1章光刻工艺概述 |>utWT]S  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 J|j;g!fK  
1.2光刻技术的发展史_3 .9 kyrlm  
1.3投影光刻机的空间成像_5 /7p>7q9g  
1.4光刻胶工艺_10 O~'FR[J  
1.5光刻工艺特性_12 %Y',|+Arx  
1.6小结_18 z\Ui8jo:;  
参考文献_18 cf*zejbw  
dB)9K)  
第2章投影光刻的成像原理 sc 
xLB;  
2.1投影光刻机_20 ^5

)_wUf  
2.2成像理论_21 x;U|3{Io  
2.2.1傅里叶光学描述_21 jH0Bo;  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 1X:&*a"5  
2.2.3其他成像仿真方法_30 &va*IR  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 ~I$}#  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 `p|[rS>  
2.3.2影响_36 #]zhZW4  
2.4小结_39 +qE']yzm!  
参考文献_39 &z ksRX  
W78o*z[O  
第3章光刻胶 $^$ECDOTB  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 j
sWX 6(=  
3.1.1光刻胶的分类_42 a|.20w5  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 6Q$BUL}2?  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 zPBfiK_hV  
3.1.4现象学模型_48 tR O IBq|  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 @XBH.A^7r  
3.2.1技术方面_50 coAW9=o}  
3.2.2曝光_51 j |td,82.  
3.2.3曝光后烘焙_54 B/_6Ieb+  
3.2.4化学显影_58 3kw}CaZ6  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 ZYKd  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 ?#ihJt,  
3.5小结_68 u:5IjOb2^  
参考文献_69 sY^lQN  
{rfte'4;=  
第4章光学分辨率增强技术 `]&*`9IK{  
4.1离轴照明_74 ,RN|d0dE
 
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 T/Q==Q{W:  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 L]>4Nd  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 3{q[q#"  
4.2光学邻近效应校正_81 <?4cWp|i  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 AA.Ys89V  
4.2.2线端缩短补偿_84 ^Fvr f`A'  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 $kv[iI@  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 TU-c9"7M~  
4.3相移掩模_89 x_|>n<Z  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 jMqx   
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 /=ACdJ  
4.4光瞳滤波_100 <4$YO-:E  
4.5光源掩模协同优化_102 Zly-\z_  
4.6多重曝光技术_106 `{L{wJ:&a  
4.7小结_109 19w_tSg  
参考文献_110 xv&S[=Dt  
O(Td:Zdp  
第5章材料驱动的分辨率增强 wO!% q[  
5.1分辨率极限的回顾_115 \gP. \  
5.2非线性双重曝光_119 /Mx.:.A&$  
5.2.1双光子吸收材料_119 F7V6-V{_  
5.2.2光阈值材料_120 :@;6  
5.2.3可逆对比增强材料_121 rFO_fIJno  
5.3双重和多重成形技术_124 ;x16shH   
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 K+-zY[3  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 H}a)^90_  
5.3.3自对准双重成形_126 n5>B LtY  
5.3.4双色调显影_127 _y"a2M  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 WN1Jm:5YV  
5.4定向自组装_129 "Ac~2<V  
5.5薄膜成像技术_133 <oZ(ng@X  
5.6小结_135 d["x= [f  
参考文献_135 EqoASu  
1oB$u!6P  
第6章极紫外光刻 *F|i&2  
6.1EUV光源_141 /t$*W\PL@  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 KZZOi:  
6.3EUV掩模_146 wn{]#n=|l  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 r:
.6"VQu}  
6.5EUV光刻胶_156 "B~WcC  
6.6EUV掩模缺陷_157 yW{mK  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 NQg'|Pt(%  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 &b!vWX1N  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 U-1VnX9m  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 a" ^#!G<+  
6.8小结_167 QYH."7X >  
参考文献_168  u*U_7Uw$  
LH,]vuXh  
第7章投影成像以外的光刻技术 ,T/GW,?  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 "2%y~jrDN  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 R !Fx)xj  
7.1.2技术实现_179 {[my"n2  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 xSx&79Ez<*  
7.2无掩模光刻_186 XNKtL]U}$  
7.2.1干涉光刻_186 *&h6*zP?  
7.2.2激光直写光刻_189 u
/;
_?zI  
7.3无衍射限制的光刻_194 48H5_9>:  
7.3.1近场光刻_195 ]&' jP  
7.3.2利用光学非线性_198 ^4R
O  
7.4三维光刻_203 LgO i3  
7.4.1灰度光刻_203 ?ISI[hoc  
7.4.2三维干涉光刻_205 ;,mBT[_ZO  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 H]VsOr  
7.5浅谈无光刻印_209 8?A@/  
7.6小结_210 i[o&z$JO  
参考文献_211 $^] 9  
=kwb` Z/a  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 >c}:   
8.1实际投影系统中的波像差_220 0BT;"B1  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 FK-}i|di  
8.1.2波前倾斜_226 e',hC0&S  
8.1.3离焦像差_226 l#tS.+B7  
8.1.4像散_228 5<!o{)I  
8.1.5彗差_229 /]pX8 d  
8.1.6球差_231 RA#\x.  
8.1.7三叶像差_233 OY+!aG@.  
8.1.8泽尼克像差小结_233 jG =(w4+  
8.2杂散光_234 7ytm.lU  
8.2.1恒定杂散光模型_235 Xs{/}wc.q;  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236
37J\i ]  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 N9`y,Cos0  
8.3.1掩模偏振效应_240 mipi]*ZfXE  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 A$%@fO.b  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 GTT5<diw  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 zC<'fT/rG  
8.3.5偏振照明_248 (r.$%[,.<  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 58M'r{8_  
8.5小结_250 zfM<x,XdY  
参考文献_251 |3s.;wK  

+I^+k"  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 z:dXc  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 -OHvK
0~  
9.1.1时域有限差分法_257 3FGbQ_  
9.1.2波导法_260 plzE  
9.2掩模形貌效应_262 8yY"x ['  
9.2.1掩模衍射分析_263 B)(p9]q  
9.2.2斜入射效应_266 j:3A;r\  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 R tXF  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272
$I?=.:<+  
9.2.5各种三维掩模模型_277 k/$Ja;  
9.3晶圆形貌效应_279 Rh wt<  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 "
r5'lQI  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 zv$=*  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 BsoFQw4$9  
9.4小结_283 7AZ5%o  
参考文献_283 AlPL;^Y_l  
9'L1KQ  
第10章先进光刻中的随机效应 O[i2A(  
10.1随机变量和过程_288 O+CF/ipX/  
10.2现象_291 yb@X*PW
/z  
10.3建模方法_294 cP}
5}+  
10.4依存性及其影响_297 GV `idFd  
10.5小结_299 I v 80,hW  
参考文献_299 m)tI  
专业词汇中英文对照表 O3slabE#
 
Y{x[N}h