《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 W
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y'xB? >|  
第1章光刻工艺概述 3zp)!QJi  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 nZhL  
1.2光刻技术的发展史_3 x
vQJTRk  
1.3投影光刻机的空间成像_5 1j# ~:=I  
1.4光刻胶工艺_10 K& <|94_k  
1.5光刻工艺特性_12 abuHu'73  
1.6小结_18 yJc<;Qx  
参考文献_18 Vc$x?=  
Hu|NS{Ke-  
第2章投影光刻的成像原理 2[LT!TT  
2.1投影光刻机_20 aJ88U69  
2.2成像理论_21 E:T<mI?d  
2.2.1傅里叶光学描述_21 ooreforr  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 1]aM)},  
2.2.3其他成像仿真方法_30 bv
5,Yk  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 :h=];^/E  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 &OK(6o2m;  
2.3.2影响_36 "'p:M,:  
2.4小结_39 F:x" RbbF  
参考文献_39 SfyZ,0  
}H!c9Y  
第3章光刻胶 $SRpFz5y$  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 hf^,  
3.1.1光刻胶的分类_42 9xyj,;P>  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 ZOK2BCoW  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 z 3fS+x:E{  
3.1.4现象学模型_48 {=PO`1H  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 X,:^})]  
3.2.1技术方面_50 ++-HdSHY  
3.2.2曝光_51 6A;V[3  
3.2.3曝光后烘焙_54 ;U<;R  
3.2.4化学显影_58 @X?DHLM  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 L TZ3r/  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 h^D?G2O  
3.5小结_68 fAm^-uq[  
参考文献_69 SGre[+m~m  
G`
9Ud  
第4章光学分辨率增强技术 !JzM<
hyg3  
4.1离轴照明_74 qxf!]jm  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 #Gx%PQ`  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 6!bVPIyYO  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 *BH*   
4.2光学邻近效应校正_81 0#<q]M?hW  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 _?M34&.X  
4.2.2线端缩短补偿_84 ^Wo/vm*]  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 9cp-Rw<tI  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 m.pB]yq&  
4.3相移掩模_89 a$yAF4HR
<  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 ('xIFi  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 C=IT`iom1C  
4.4光瞳滤波_100 u\ro9l  
4.5光源掩模协同优化_102 6X~.J4  
4.6多重曝光技术_106 u n\!K  
4.7小结_109 d&4ve Lu  
参考文献_110 U<gMgA  
8om6wALXB  
第5章材料驱动的分辨率增强 Wf/r@/q  
5.1分辨率极限的回顾_115 1PpZ*YK3z  
5.2非线性双重曝光_119 de1cl<  
5.2.1双光子吸收材料_119 U>w#`Sy[  
5.2.2光阈值材料_120 #<s6L"Z-  
5.2.3可逆对比增强材料_121 =5/ow!u8  
5.3双重和多重成形技术_124 1fm4:xHH  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 Q^prHn*@  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 |tIr?nXSW3  
5.3.3自对准双重成形_126 jj_z#6{  
5.3.4双色调显影_127 0^$L{V  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 1DgRV7  
5.4定向自组装_129 g"ha1<y<  
5.5薄膜成像技术_133 `-W.uOZ0  
5.6小结_135 `-fWN
Hs  
参考文献_135 DXBc 7J  
nF>41 K  
第6章极紫外光刻 -}Zck1  
6.1EUV光源_141 0b6jGa  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 TwlX'iI_;  
6.3EUV掩模_146 FlGU1%]m  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 6D|[3rXr  
6.5EUV光刻胶_156 0`c|ZzY  
6.6EUV掩模缺陷_157 SQ
8xfD*  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161
vz5x{W  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 })W9=xO~  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 M2H +1ic  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 Gu+9R>  
6.8小结_167 %]
7'2  
参考文献_168 01=nS?
 
7irpD7P>  
第7章投影成像以外的光刻技术 Z,zkm{9*  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 [As9&]Bv5  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ]H|O  
7.1.2技术实现_179 c?5?TJpm  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 uN>JX/-  
7.2无掩模光刻_186 cq]JD6937  
7.2.1干涉光刻_186 p3r("\Za,  
7.2.2激光直写光刻_189 aItQ(+y  
7.3无衍射限制的光刻_194 ' ` _TFTO  
7.3.1近场光刻_195 GWFF.Mo^  
7.3.2利用光学非线性_198 `_aX>fw  
7.4三维光刻_203 Drm#z05i[g  
7.4.1灰度光刻_203 /2^"c+/'p  
7.4.2三维干涉光刻_205 !LI6_Oq  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 r$[`A_  
7.5浅谈无光刻印_209 '41'Gn  
7.6小结_210 aeZ$Wu>]W  
参考文献_211 YI+ clh;%9  
4Vtug>  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 "<Ozoo1&w  
8.1实际投影系统中的波像差_220 88Nx/:#Y*  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 8\WV.+  
8.1.2波前倾斜_226 W(pq_H'  
8.1.3离焦像差_226 Z(j"\d!y  
8.1.4像散_228 Hg&.U;n  
8.1.5彗差_229 ^'9.VVyz  
8.1.6球差_231 /RVwhA+c  
8.1.7三叶像差_233 PRJ  
8.1.8泽尼克像差小结_233 ~c,CngeL0  
8.2杂散光_234 8Q%g<jX*  
8.2.1恒定杂散光模型_235 >|X )  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 vB74r]'F  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 |I[/Fl:  
8.3.1掩模偏振效应_240 yPrF2@#XZ/  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 6VUs:iO1j5  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 \?v?%}x  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 (+yH   
8.3.5偏振照明_248 mT:NC'b<9  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 = N&5]Z  
8.5小结_250 GYZP?E p*  
参考文献_251 Hr_5N,  
oyB gF\  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 gY'-C  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 *\.8
*6*$!  
9.1.1时域有限差分法_257 xKR\w!+Z'  
9.1.2波导法_260 arIEd VfNa  
9.2掩模形貌效应_262 ho-#Xbq#g  
9.2.1掩模衍射分析_263 SR$ 'JGfp  
9.2.2斜入射效应_266 7}:+Yx
 
9.2.3掩模引起的成像效应_268 l+#J oc<8  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 Xh}S_/9}5  
9.2.5各种三维掩模模型_277 (C;Q<  
9.3晶圆形貌效应_279 VwudNjL  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 #x qiGK  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 [#=IKsO'R6  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 ]A;.}1'  
9.4小结_283 y\omJx=,  
参考文献_283 rFUR9O.{E  
@Jx1n Q^  
第10章先进光刻中的随机效应 bwM?DY
 
10.1随机变量和过程_288 [ *Dj7zt:  
10.2现象_291 -"NK"nb  
10.3建模方法_294 @U3:9~Q  
10.4依存性及其影响_297 AsD$M*It  
10.5小结_299 6P3h955c  
参考文献_299 ZIKSHC9  
专业词汇中英文对照表 jDb"|l  

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