《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 3aq'JVq  
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s21} a,eB  
第1章光刻工艺概述 6 ]x?2P%  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 U1r]e%df)  
1.2光刻技术的发展史_3 5csh8i'V  
1.3投影光刻机的空间成像_5 12lX-~[["  
1.4光刻胶工艺_10 jM\{*!7b  
1.5光刻工艺特性_12 SyVGm@  
1.6小结_18 :C>7HEh-2_  
参考文献_18 h&i*=&<HP6  
1*=ev,Z  
第2章投影光刻的成像原理 sm-[=d%@L  
2.1投影光刻机_20 JVuju$k  
2.2成像理论_21 &MSU<S?1  
2.2.1傅里叶光学描述_21 M?lh1Yu"  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 H<Sf0>OA  
2.2.3其他成像仿真方法_30 dO82T3T  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 Z8v8@Y  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 
)bFl-  
2.3.2影响_36 2#7|zhgb  
2.4小结_39 Dylm=ZZa  
参考文献_39 X6cn8ak3  
w&?XsO@0W  
第3章光刻胶 y`va6 %u{  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 w5 .^meU  
3.1.1光刻胶的分类_42 cp@Fj"  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 8Nzn%0(Q  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 |4mvB2r  
3.1.4现象学模型_48 5e+j51  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 zz*P
AYl.  
3.2.1技术方面_50 AU\=n,K7  
3.2.2曝光_51 Bg]VaTm[=  
3.2.3曝光后烘焙_54 itzUq,T  
3.2.4化学显影_58 (%fQhQ  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 ~Y/A]N86,  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 OV]xo8a;  
3.5小结_68 ^f,4=-  
参考文献_69 i]c{(gd`  
NTt4sWP!I  
第4章光学分辨率增强技术 ;NA5G:eQ  
4.1离轴照明_74 G^Gs/- f  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 .u)KP*_  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 |3FI\F;^q  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 `Xos]L'w  
4.2光学邻近效应校正_81 ya&=UoI  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 3wv@wqx  
4.2.2线端缩短补偿_84 ]pvHsiI:  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 DKS1Sm6d0  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 &|XgWZS5  
4.3相移掩模_89 %<>:$4U@]  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 I#MPJ@*WT  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 z[f]mU  
4.4光瞳滤波_100 i?/Q7D<P  
4.5光源掩模协同优化_102 9&* 7+!  
4.6多重曝光技术_106 S
l8+A+  
4.7小结_109 ]ltCJq  
参考文献_110 :Vxt2@p{  
hA ){>B<;  
第5章材料驱动的分辨率增强 )3CM9P'0  
5.1分辨率极限的回顾_115 E.*hY+kGZ  
5.2非线性双重曝光_119 SPV+ O{  
5.2.1双光子吸收材料_119 edMCj  
5.2.2光阈值材料_120 d7kE}{,  
5.2.3可逆对比增强材料_121 QKP #wR  
5.3双重和多重成形技术_124 ,?yjsJd.  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 ;((t|  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 $}(Z]z}O;  
5.3.3自对准双重成形_126 c6F?#@?   
5.3.4双色调显影_127 eA1g}ipm  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 ,&,%B|gT]  
5.4定向自组装_129 h^(
U:M=A  
5.5薄膜成像技术_133 e&x)g;bn  
5.6小结_135 wxHd^b  
参考文献_135 #+o$Tg  
_AF$E"f@  
第6章极紫外光刻 gqv+|:#  
6.1EUV光源_141 ]lA}5  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 IrZjlnht  
6.3EUV掩模_146 =-oP,$k  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 Y!j/,FU  
6.5EUV光刻胶_156 _t-6m2A  
6.6EUV掩模缺陷_157 l0G{{R0Y  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 yr+QV:oVA  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 )s>|;K{  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 6|p8_[e`  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 YQD`4ND  
6.8小结_167 <p<6!tdO  
参考文献_168 0i}.l\  
n}Z%-w$K#  
第7章投影成像以外的光刻技术 uB+#<F/c  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ^JxVs 7  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 fP<==DK  
7.1.2技术实现_179 RK@K>)"f  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 P>q
~ocq<  
7.2无掩模光刻_186 pImq<Z  
7.2.1干涉光刻_186 r4u,I<ZbH  
7.2.2激光直写光刻_189 ?MywA'N@x  
7.3无衍射限制的光刻_194 ^N7cXK*  
7.3.1近场光刻_195 iJh{,0))g  
7.3.2利用光学非线性_198 8o:h/F  
7.4三维光刻_203 2.nT k  
7.4.1灰度光刻_203 O)^F z:  
7.4.2三维干涉光刻_205 #.u&2eyqQ  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 JQ ?8yl  
7.5浅谈无光刻印_209 Z<|x6%  
7.6小结_210 /QS Nv  
参考文献_211 }{:Jj/d p  
W ~MNst?  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 R}(Rv3>Xx  
8.1实际投影系统中的波像差_220 d3a!s  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 MX*4d{l  
8.1.2波前倾斜_226 I[A<e]uK  
8.1.3离焦像差_226 !JdZ0l  
8.1.4像散_228 V9ZM4.,OCN  
8.1.5彗差_229 [6K[P3UZx  
8.1.6球差_231 @RB^m(> 5  
8.1.7三叶像差_233 &iD&C>;pf  
8.1.8泽尼克像差小结_233 0xi2VN"X  
8.2杂散光_234 M`7lYw\Or!  
8.2.1恒定杂散光模型_235 Jm=3%H  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 TyO
]|Q5  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 VSO(DCr"L  
8.3.1掩模偏振效应_240 D|Tz{DRG  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 KY2z)#/  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 F'wG%  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 ~Q^.7.-T  
8.3.5偏振照明_248 A~{vja0?  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 Z[!kEW  
8.5小结_250 e2%mD.I  
参考文献_251 ]/p>p3@1C  
;<o?JM  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 q+qF;7dN@  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 kN*I_#  
9.1.1时域有限差分法_257 guCCu2OTA%  
9.1.2波导法_260 &n?RKcH}d  
9.2掩模形貌效应_262 0WZd$  
9.2.1掩模衍射分析_263 wg k[_i  
9.2.2斜入射效应_266 o=![+g  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 xA;)02  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 y'6lfThT  
9.2.5各种三维掩模模型_277 w$]wd`N}  
9.3晶圆形貌效应_279 }]1C=~lC  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 {qSMJja!t  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ?]*"S{Cqv  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 o]]tH  
9.4小结_283 _`*G71PS  
参考文献_283 K{Nj-Rqd  
D0_CDdW%7  
第10章先进光刻中的随机效应 Dm?:j9o]g  
10.1随机变量和过程_288 Jzp|#*~$E  
10.2现象_291 iu0'[  
10.3建模方法_294 vytO8m%U  
10.4依存性及其影响_297 L;Ynq<x  
10.5小结_299 Ke[`zui@?  
参考文献_299 .2|(!a9W  
专业词汇中英文对照表 i6FJG\d  
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