《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 %M05& <  
ve= nh]N  
R~BW=Dz,e  
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第1章光刻工艺概述 \Ng[lN  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 \V.U8asfI  
1.2光刻技术的发展史_3 H*>5ne=x  
1.3投影光刻机的空间成像_5 lnntb3q  
1.4光刻胶工艺_10 ~3m} EL  
1.5光刻工艺特性_12 ymyk.#Z<%  
1.6小结_18 gJBk&SDgtP  
参考文献_18 `#N7ym;s@  
HLM"dmI   
第2章投影光刻的成像原理 G{oM2`c'#8  
2.1投影光刻机_20 4:v{\R  
2.2成像理论_21 <i1P~  
2.2.1傅里叶光学描述_21 cV)~%e/  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 w+tO@  
2.2.3其他成像仿真方法_30 HnfTj5J@  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 =t-503e.J  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 Tk4"qGC.  
2.3.2影响_36 zX/9^+p:  
2.4小结_39 eM`"$xc Oe  
参考文献_39 N DV_/BI  
FKB)o7  
第3章光刻胶 $(%t^8{a~G  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 D$c4's`5  
3.1.1光刻胶的分类_42 "A9 c]  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 .c.#V:XZ#U  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 5bKn6O)K  
3.1.4现象学模型_48 jDc5p3D&[]  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 |4a#O8d  
3.2.1技术方面_50
_&m   
3.2.2曝光_51 ;q$O^r~  
3.2.3曝光后烘焙_54 Q}jl1dIq  
3.2.4化学显影_58 :!Tb/1  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 lq!l{[Xp  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 c =i6  
3.5小结_68 VIxcyp0X  
参考文献_69 CR$5'#11)  
?5 d3k%  
第4章光学分辨率增强技术 "2bCq]I0  
4.1离轴照明_74 I2'UC) 0  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 C,D~2G  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 w~g)Dz2G  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 1jozM"H7Q  
4.2光学邻近效应校正_81 z7J2O  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 5<ycF_  
4.2.2线端缩短补偿_84 w#,C{6  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ~(`iRxK  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 f"5vpU^5*  
4.3相移掩模_89 H;$OCDRC  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 &u_f:Pog  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 uIvE~<  
4.4光瞳滤波_100 ""ICdZ_A  
4.5光源掩模协同优化_102 `=Hh5;ep  
4.6多重曝光技术_106 O=St}B\!m  
4.7小结_109 #\$R^u]!  
参考文献_110 xGeRoW(X  
pemb2HQ'4j  
第5章材料驱动的分辨率增强 P-QZ=dm  
5.1分辨率极限的回顾_115 X}xy v  
5.2非线性双重曝光_119 e? fFh,a  
5.2.1双光子吸收材料_119 eJ#q! <  
5.2.2光阈值材料_120 wvA@\-.+  
5.2.3可逆对比增强材料_121 #^v|u3^DD  
5.3双重和多重成形技术_124 g%Ap<iT  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 pVt8z|p_;{  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 x,z+l-y  
5.3.3自对准双重成形_126 yA!#>u%g  
5.3.4双色调显影_127 
vd9><W  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 n-{G19?  
5.4定向自组装_129 ,r
{\aW@  
5.5薄膜成像技术_133 "el}@  
5.6小结_135 N$H0o+9-Y  
参考文献_135 </|I
gN$w`  
_{6QvD3kg.  
第6章极紫外光刻 :'!,L0I|t  
6.1EUV光源_141 C_Y^
<  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 |[?"$g9v  
6.3EUV掩模_146 Sf)VQ5U!Y  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 4*_9Gl
 
6.5EUV光刻胶_156 @U(D&_H,K  
6.6EUV掩模缺陷_157 YZdp/X6x  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 -Vk+zEht  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 _.OajE\T  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 Z| Z447_  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 >v`lsCGb  
6.8小结_167 0I4RZ.2*Y  
参考文献_168 hd.^ZD7  
QdL ;|3K9  
第7章投影成像以外的光刻技术 o@r+Y  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 1_!*R]aq  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 [MYd15  
7.1.2技术实现_179 ewSFB< N  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 SqTO~zGC  
7.2无掩模光刻_186 =9e()j  
7.2.1干涉光刻_186 DQd~!21\|  
7.2.2激光直写光刻_189 INsc!xOQ  
7.3无衍射限制的光刻_194 b}p0&%I
 
7.3.1近场光刻_195 hp!UW  
7.3.2利用光学非线性_198 [: X  
7.4三维光刻_203 PWOV~`^;  
7.4.1灰度光刻_203 |Z<NM#1  
7.4.2三维干涉光刻_205 6yKr5tH4  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 ;Id%{1  
7.5浅谈无光刻印_209 2Tt@2h_L  
7.6小结_210 T&I*8 R~  
参考文献_211 c.Pyt  
E@aR5S>  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 oW(p (>  
8.1实际投影系统中的波像差_220 &)OX*y  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 7$+n"Cfm  
8.1.2波前倾斜_226 #vYdP#nWb  
8.1.3离焦像差_226 |0ahvsrtW  
8.1.4像散_228 tB4- of3+  
8.1.5彗差_229 !dYkvoQNn  
8.1.6球差_231 <XX\4[wb  
8.1.7三叶像差_233 iVzv/Lqm1  
8.1.8泽尼克像差小结_233 H?8KTl=e  
8.2杂散光_234 NA>h$N  
8.2.1恒定杂散光模型_235 @!&\Z[",  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 l=[<gPE  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 p mcy(<  
8.3.1掩模偏振效应_240 |_8-3  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 EX7cjQsml  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 s(J,TS#I]  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 I2(5]85&]s  
8.3.5偏振照明_248 4r`u@  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 .HF+JHIUu  
8.5小结_250 mF[w-<:.d  
参考文献_251 _`|Hk2O  
3Ln~"HwP  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 &F*s.gL  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 kN>%y&cK  
9.1.1时域有限差分法_257 h
gX@?WWR
 
9.1.2波导法_260 (X@JlAfB  
9.2掩模形貌效应_262 pj G6v(zK  
9.2.1掩模衍射分析_263 v_"p)4
&'  
9.2.2斜入射效应_266 7-.YVM~R  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 E$; =*0w  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 :O)\v!Z  
9.2.5各种三维掩模模型_277 MbC7`Sp&i  
9.3晶圆形貌效应_279 &/}]9 #  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 _ro^<V$%  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 }x`W+r  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 >XjSVRO  
9.4小结_283 YA O, rh  
参考文献_283 kXA o+l  
|\%[e@u  
第10章先进光刻中的随机效应 *+re2O)Eh'  
10.1随机变量和过程_288 T~7i:<E^  
10.2现象_291 =0TnH<`  
10.3建模方法_294 R:P'QM   
10.4依存性及其影响_297 QpwOrxI}
 
10.5小结_299 uA7~`78  
参考文献_299 2i*-ET  
专业词汇中英文对照表 
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