《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 =f23lA  
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第1章光刻工艺概述 8C?E1f
H\  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ktRGl>J  
1.2光刻技术的发展史_3 G*,7pc  
1.3投影光刻机的空间成像_5 ef!f4u\  
1.4光刻胶工艺_10 ^go3F{;4i  
1.5光刻工艺特性_12 ;JMmr-@  
1.6小结_18 1|AY&u%fiP  
参考文献_18 dt>9mF q  
j/F('r~L  
第2章投影光刻的成像原理 m>3\1`ZF~<  
2.1投影光刻机_20 :6Tv4ZUvcG  
2.2成像理论_21 =diGuIB  
2.2.1傅里叶光学描述_21 }$sTnea  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 xJnN95`R@  
2.2.3其他成像仿真方法_30 NTO.;S|2%  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 W`P>vK@=  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 MttFB;Tp  
2.3.2影响_36 uRYq.`v,  
2.4小结_39 nywC]T  
参考文献_39 ]rNxvFN*j  
d{7)_Sbky  
第3章光刻胶 UI'fzlB  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 vP+qwvpGr  
3.1.1光刻胶的分类_42 $dWYu"2CD  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 (i?9/8I  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 FD~ UF;VQ  
3.1.4现象学模型_48 1~},}S]id  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50
)D)4=LJ  
3.2.1技术方面_50 fU\;\  
3.2.2曝光_51 6#.9T;&  
3.2.3曝光后烘焙_54 F~hH>BH9  
3.2.4化学显影_58 .TDg`O24c,  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 VR%*8=  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 ykH@kv Qt  
3.5小结_68 xP
;>p| M  
参考文献_69 1C]BaPbL  
NB86+2stu  
第4章光学分辨率增强技术 Y*O Bky  
4.1离轴照明_74 $9xp@8b\_  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 vA[7i*D{w  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 HD1/1?y!@q  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 |5&7;;$  
4.2光学邻近效应校正_81 q}0I`$MU  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 iel@"E 4  
4.2.2线端缩短补偿_84 !&`\MD>;~R  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 c,M"a  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88  B@*!>R  
4.3相移掩模_89 }RYPr  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 Ts|;5ya5m  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 <OJqeUo+*\  
4.4光瞳滤波_100 -j:yEZ4Oy  
4.5光源掩模协同优化_102 )K`tnb.Pf  
4.6多重曝光技术_106 AxF$7J(  
4.7小结_109 rusYNb1J  
参考文献_110 QFoCi&  
L/%{,7l<^?  
第5章材料驱动的分辨率增强 Fg}t{e]3a  
5.1分辨率极限的回顾_115 T&bB8tQk  
5.2非线性双重曝光_119 tp }Bz&V  
5.2.1双光子吸收材料_119 #`l&HV  
5.2.2光阈值材料_120 s8qpK; O  
5.2.3可逆对比增强材料_121 \" m&WFm  
5.3双重和多重成形技术_124 '<*%<J{(  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 ,^<39ng  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 1,U)rx$H  
5.3.3自对准双重成形_126 86dz Jh  
5.3.4双色调显影_127 @+)T"5_Y[  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 "Vp:Sq9y  
5.4定向自组装_129 yX%> %#$  
5.5薄膜成像技术_133 Ol>/^3a=  
5.6小结_135 Ge=\IAj  
参考文献_135 q|IU+r:! 3  
hstGe>f[6  
第6章极紫外光刻 ~ahu{A4Bw  
6.1EUV光源_141
V`YmGo  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 A`>^A]%  
6.3EUV掩模_146 Z@$'fX?
~9  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 e 0Z2B2  
6.5EUV光刻胶_156 ]"YXa~
b  
6.6EUV掩模缺陷_157 &Fjyi"8(r  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 a5d_= :S;  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 :<0lCj  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 kGakdLl  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 Qv;b$by3  
6.8小结_167 >?G!>kw  
参考文献_168 c?GV  
TC@F*B;  
第7章投影成像以外的光刻技术 N+H[Y4c?F&  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 6Bexwf<u  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 De>,i%`Q,D  
7.1.2技术实现_179 ]=/?Ooh  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 }jFRuT;35  
7.2无掩模光刻_186 "-AFWWKtx  
7.2.1干涉光刻_186 g:p`.KuB  
7.2.2激光直写光刻_189 [D?d~pB  
7.3无衍射限制的光刻_194 V>UlL&V  
7.3.1近场光刻_195 8= 82x
 
7.3.2利用光学非线性_198 >fkV65w{*  
7.4三维光刻_203 f}ch1u>  
7.4.1灰度光刻_203 s.KfMJ"u[  
7.4.2三维干涉光刻_205 3Q)"  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 ra_TN;(  
7.5浅谈无光刻印_209 |RqCI9N6  
7.6小结_210 Ys?0hd<cn  
参考文献_211 M-F{I%Vx  
+#A
~O4%t  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 73{<;z}i  
8.1实际投影系统中的波像差_220 Gf9O\
wrs  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 T8W^qrx.v  
8.1.2波前倾斜_226 )oM% N  
8.1.3离焦像差_226 km`";gUp>  
8.1.4像散_228 TQ[J,  
8.1.5彗差_229 &XXr5ne~C  
8.1.6球差_231 2n#H%&^?a  
8.1.7三叶像差_233 ]~ S zb  
8.1.8泽尼克像差小结_233 1Vz3N/AP%?  
8.2杂散光_234 lYr4gFOs  
8.2.1恒定杂散光模型_235 ,zJ:a
>v  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 R?}%rP+^e  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 q%)."10}]  
8.3.1掩模偏振效应_240 0U#m7j  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 .R@XstQ  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 Vyc  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 ld5+/"$
 
8.3.5偏振照明_248 wNNg"}&P  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 aqQ  U7  
8.5小结_250 zU4*FXt  
参考文献_251 (&_^1  
1&Mpx!K*T  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 "-G7eGQ  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 SK*<H~2  
9.1.1时域有限差分法_257 , 0?_? GO  
9.1.2波导法_260 5B3sRF}  
9.2掩模形貌效应_262 &k`lbkq  
9.2.1掩模衍射分析_263 bZj5qjl`x  
9.2.2斜入射效应_266 +]~}kvk:  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 z$(`{ o%a  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 *w6F0>u  
9.2.5各种三维掩模模型_277 wX!0KxR/Z  
9.3晶圆形貌效应_279 _5OxESE  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 Vp1Nk#H  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 KsqS{VVCh  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 wawJZ+V  
9.4小结_283 gXY]NWI  
参考文献_283 U_UN& /f  
$2Bll5!]  
第10章先进光刻中的随机效应 fEGnI
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10.1随机变量和过程_288 ':f,RG  
10.2现象_291 H#T&7X_<  
10.3建模方法_294 1DH P5q  
10.4依存性及其影响_297 >3I|5kZ6  
10.5小结_299 i\#?M "  
参考文献_299 DJ1!Xuu  
专业词汇中英文对照表 vSCJ xSt#e  
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