《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 Q#lFt,
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jJV1 /]TJ  
3'!*/UnU  
oC}2 Z{  
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第1章光刻工艺概述 T:3}W
0s,  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 A2''v3-h8  
1.2光刻技术的发展史_3 F- {hX
M  
1.3投影光刻机的空间成像_5 4ah5}9{g  
1.4光刻胶工艺_10 ut^6UdJ+`  
1.5光刻工艺特性_12 ;v5Jps2^]  
1.6小结_18 =kb/4eRg  
参考文献_18 Ga\kvMtr  
t[:G45].-k  
第2章投影光刻的成像原理 'H(khS  
2.1投影光刻机_20 `S|T&|ad0  
2.2成像理论_21 ]\F}-I[  
2.2.1傅里叶光学描述_21 1IN^,A]r2h  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 lz4M)pL^  
2.2.3其他成像仿真方法_30 9P
*p{O{_  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30  g^))  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 co*XW  
2.3.2影响_36 h]WW?.  
2.4小结_39 P,)\#([vc  
参考文献_39 QPX3a8w*  
|N0RBa4%  
第3章光刻胶 x{3q'2  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 *
0z'!m12  
3.1.1光刻胶的分类_42 MPMAFs  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 G|j8iV O  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 }CvhLjo  
3.1.4现象学模型_48 KMXd  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 FSb4RuD9  
3.2.1技术方面_50 ~b})=7n.  
3.2.2曝光_51 r#w.yg4EX  
3.2.3曝光后烘焙_54 :Fi$-g  
3.2.4化学显影_58 _.xicov  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 %JuT'7VB  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 pDt45   
3.5小结_68 2U) 0k*  
参考文献_69 ASa)xf9  
Qb@i_SX(fs  
第4章光学分辨率增强技术
*z__$!LR  
4.1离轴照明_74 `%$+rbo~  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 ZL'krV  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 G"U^]$(+K  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 Xj$'i/=-+c  
4.2光学邻近效应校正_81 Dyh|F\T  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 $spk.j  
4.2.2线端缩短补偿_84 HxNoV.q  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 R/kF,}^F  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 *#j_nNM4  
4.3相移掩模_89 beFD}`  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 <X ([VZ  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 Q@/Z~xw"'I  
4.4光瞳滤波_100 !fG}<6&i  
4.5光源掩模协同优化_102 ;]_h")4"c  
4.6多重曝光技术_106 < mp_[-c  
4.7小结_109 FvDi4[F#  
参考文献_110 {GG;/Ns{f-  
newURb,-!  
第5章材料驱动的分辨率增强
Tb!jIe  
5.1分辨率极限的回顾_115 :~'R|l  
5.2非线性双重曝光_119 98lz2d/Fcq  
5.2.1双光子吸收材料_119 <P#:dS%r  
5.2.2光阈值材料_120 ^AC2
 zC  
5.2.3可逆对比增强材料_121 FBS]U$1  
5.3双重和多重成形技术_124 `( _N9.>B  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 ilwIqj  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 _c,{}sn  
5.3.3自对准双重成形_126 F87c?Vh)K  
5.3.4双色调显影_127 PBgU/zVn  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 I[bWd{i:  
5.4定向自组装_129 0+Q;a  
5.5薄膜成像技术_133 yo :63CPP  
5.6小结_135 ,&s%^I+CC  
参考文献_135 Vj6w7hz  
B4x@{rtER  
第6章极紫外光刻 HrHtA]  
6.1EUV光源_141 7-d.eNQl  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 &[_D'jm+S0  
6.3EUV掩模_146 _J>!K'Dz  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 =*KY)X  
6.5EUV光刻胶_156 a=M/0N{!  
6.6EUV掩模缺陷_157 '?d5L+9  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 6Tsi^((Li  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 K1zH\wH  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 MC%!>,tC  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 VUzRA"DP|  
6.8小结_167 bkiMF$K,K  
参考文献_168 %Q zk aXJ  
rtz ]PH  
第7章投影成像以外的光刻技术 ]:~z#k|2@6  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 Pp`[E/ qj4  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 a2B9 .;F  
7.1.2技术实现_179 $.3J1DU  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 dlBr2 9  
7.2无掩模光刻_186 z4JhLef%  
7.2.1干涉光刻_186 X-`PF  
7.2.2激光直写光刻_189 t4+bRmS`_  
7.3无衍射限制的光刻_194 ow*^z78M{  
7.3.1近场光刻_195 - @tL]]  
7.3.2利用光学非线性_198 uLrZl0%HT~  
7.4三维光刻_203 C#P7@JE  
7.4.1灰度光刻_203 VMw[M^  
7.4.2三维干涉光刻_205 JdX!#\O  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 E51S#T  
7.5浅谈无光刻印_209 o':K4r;  
7.6小结_210 bZu2.?{  
参考文献_211 Vsd4;  
vGchKN~_  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 Ted!*HKlB  
8.1实际投影系统中的波像差_220 )p[Qj58  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 SyIi*dH  
8.1.2波前倾斜_226 W$:D#;jz`h  
8.1.3离焦像差_226 hHyB;(3~  
8.1.4像散_228 T*92o:^  
8.1.5彗差_229 %FLe@.Ep{D  
8.1.6球差_231 wexa\o  
8.1.7三叶像差_233 U3t)yr h  
8.1.8泽尼克像差小结_233 =4K:l}}  
8.2杂散光_234 /@0  
8.2.1恒定杂散光模型_235 fkD-mRKw
  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 JY$+<`XM  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 rmPJid[8B~  
8.3.1掩模偏振效应_240 c"zE  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 60r0O5=|Fl  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 6o~g3{O
w  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 M>u84|`  
8.3.5偏振照明_248 ]Ryg}DOQ  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 [S?`OF12  
8.5小结_250 )5w#n1  
参考文献_251 j){0>O.V  
9eEA80i7  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 )npvy>C'(  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 |v:fP;zc  
9.1.1时域有限差分法_257 )zu m.6pT  
9.1.2波导法_260 51`*VR]`K  
9.2掩模形貌效应_262 bM"d$tl$?'  
9.2.1掩模衍射分析_263 ;9hS_%ldX4  
9.2.2斜入射效应_266 >[4CQK`U  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 Y/qs\c+  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 rvPmd%nk-  
9.2.5各种三维掩模模型_277 QPKY9.Rvv  
9.3晶圆形貌效应_279 _7,4C?  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 LcGG~P|ML  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 oPrK{flm  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 jk1mP6'P|  
9.4小结_283 /m h #o  
参考文献_283 )V9wU1.  
;qaNIOo9  
第10章先进光刻中的随机效应 wQ '_, d  
10.1随机变量和过程_288 fn Pej?f:  
10.2现象_291 $mn+  
10.3建模方法_294 9HZR%s[J  
10.4依存性及其影响_297 6d;RtCENo  
10.5小结_299 .ViOf){U\  
参考文献_299 \!zM4ppr  
专业词汇中英文对照表 h3MZLPe  
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