《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 NT2XG&$W>  
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pTaC$Ne  
第1章光刻工艺概述 /Xj{]i3{  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1
Wy\^}  
1.2光刻技术的发展史_3 Rp;"]Q&b  
1.3投影光刻机的空间成像_5 7O8 @T-f+2  
1.4光刻胶工艺_10 aS[y\9(**  
1.5光刻工艺特性_12 w_V A:]j4  
1.6小结_18 wpp!H<')  
参考文献_18 :IU<AG6  
P*i'uN  
第2章投影光刻的成像原理 w2!:>8o:  
2.1投影光刻机_20 j\wZjc-j  
2.2成像理论_21 e|W;(@$<  
2.2.1傅里叶光学描述_21 -[J4nN&N  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 bHcBjk.\  
2.2.3其他成像仿真方法_30 C:t?HLY)fG  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 urE7ZKdI  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 ~%lA!tsek  
2.3.2影响_36 Niu |M@  
2.4小结_39 =>lX brJ  
参考文献_39 `\|@w@f|;  
l]~9BPsR  
第3章光刻胶 BeLqk3'/  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 B|V!=r1%  
3.1.1光刻胶的分类_42 Tt9cX}&&  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 K2e68GU  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 8(&6*-7=  
3.1.4现象学模型_48 <7>1Z 82)  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 WO{7/h</  
3.2.1技术方面_50 0'THL%lK  
3.2.2曝光_51 WUjRnzVM  
3.2.3曝光后烘焙_54 l.]wBH#RS  
3.2.4化学显影_58 3UmkFK<  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 "g)bNgGV}  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 &SPY'GQ!  
3.5小结_68 {chZ&8)f  
参考文献_69 mn=b&{')e  
TDbSK&w :s  
第4章光学分辨率增强技术 q5S_B]|  
4.1离轴照明_74 <wb6)U.  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 7
.Z-  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 %WKBd\O  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 w&T\8k=  
4.2光学邻近效应校正_81 z. X hE \  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82
[B
`4I  
4.2.2线端缩短补偿_84 }:YL'$:5!  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 
7]{t^*  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 k H<C9z2=  
4.3相移掩模_89 S
rB>_0**  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 
K!qOO  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 V=5S=7 Z:  
4.4光瞳滤波_100 rM,f7hm[S*  
4.5光源掩模协同优化_102 yGNpx3H  
4.6多重曝光技术_106 2HSFMgy  
4.7小结_109 x7<NaMK\  
参考文献_110 !hM`Oe`S  
h~]e~u V  
第5章材料驱动的分辨率增强 N8df1>mW  
5.1分辨率极限的回顾_115 ]\ !ka/%  
5.2非线性双重曝光_119 Fbu4GRgJ3  
5.2.1双光子吸收材料_119 JFO,Q -y\  
5.2.2光阈值材料_120 rv(N0p/  
5.2.3可逆对比增强材料_121 E
I*~VFx  
5.3双重和多重成形技术_124 N>YSXh`W`y  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 3) d}3w {  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 i/n ee_  
5.3.3自对准双重成形_126 [;7zg@Sa  
5.3.4双色调显影_127 B|"/bQ  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 Ipq0 1 +  
5.4定向自组装_129 ^'`(E_2u  
5.5薄膜成像技术_133 i ]8bj5j{  
5.6小结_135 VD@$y^!H  
参考文献_135 nyqX\m-  
$#+D:W)az  
第6章极紫外光刻 J^CAQfcx  
6.1EUV光源_141 ilVi  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 MZX)znO  
6.3EUV掩模_146 82ixv
<B  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 ZzgzeT+bv  
6.5EUV光刻胶_156 eGg6wd  
6.6EUV掩模缺陷_157 p`A2^FS)  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 Rc{R^5B  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 2)}*'_
E9  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 (0#$%US\  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 w' J`$=  
6.8小结_167 T(Q ~b  
参考文献_168 `pCy:J?d>l  
[jlum>K  
第7章投影成像以外的光刻技术 F)X`CG ;t  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 Kw;gQk~R!  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 <z2.A/L  
7.1.2技术实现_179 / [49iIzC  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 x:~XZX\mwH  
7.2无掩模光刻_186 `?R{sNr.  
7.2.1干涉光刻_186 0M&n3s{5I  
7.2.2激光直写光刻_189 #oa>Z.?_V  
7.3无衍射限制的光刻_194 P2f^]z  
7.3.1近场光刻_195 aXqig&:  
7.3.2利用光学非线性_198 d9U)O6=  
7.4三维光刻_203 &PL=nI\)  
7.4.1灰度光刻_203 Mb[4_D
c  
7.4.2三维干涉光刻_205 *_YR*e0^nN  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 F.a
G7  
7.5浅谈无光刻印_209 1aIGC9xQ`  
7.6小结_210 t7u*j
-YE  
参考文献_211 &}Wi@;G]2
 
r9N?z2X  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 b(R.&X  
8.1实际投影系统中的波像差_220 s+fxv(,"c  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 CP;<B1  
8.1.2波前倾斜_226 ~' 955fK>  
8.1.3离焦像差_226 `
5h^!="  
8.1.4像散_228 fVY I  
8.1.5彗差_229 D6?h 6`J  
8.1.6球差_231 @w.DN)GPo  
8.1.7三叶像差_233 7bO>[RQB  
8.1.8泽尼克像差小结_233 v@GhwL  
8.2杂散光_234 +:ms`Sr>  
8.2.1恒定杂散光模型_235 ?.F^Oi6 u  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 [sk n9$  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 F5YoE
WS  
8.3.1掩模偏振效应_240 3b0|7@
_E  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 z7:* ,X  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 vxk0@k_  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 2bw), W  
8.3.5偏振照明_248 O%>*=h`P  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 @|t]9  
8.5小结_250 ^swj!da  
参考文献_251 f'5 6IT  
$MQ<Q
P  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 .),9qz`  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 _oG%bNM  
9.1.1时域有限差分法_257 GT]>  
9.1.2波导法_260 Ut'T!RD  
9.2掩模形貌效应_262 { ?jXPf  
9.2.1掩模衍射分析_263 #W8?E_iu  
9.2.2斜入射效应_266 V3cKdlu Na  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 o^(I+<el  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 u1UCe  
9.2.5各种三维掩模模型_277 hO3 q|SL  
9.3晶圆形貌效应_279 >jmHe^rH  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 XY? Cl  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 0L3
2sFy  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 wL:7G  
9.4小结_283 O>nMeU  
参考文献_283 iJoY
xx  
+L'Cbv="  
第10章先进光刻中的随机效应 :tnW ivrwR  
10.1随机变量和过程_288 xq,ql@7  
10.2现象_291 BGj!/E  
10.3建模方法_294 V0 Z8VqV  
10.4依存性及其影响_297 n^|xp;] :  
10.5小结_299 `'XN2-M8  
参考文献_299 {`M\}(E  
专业词汇中英文对照表 F|m &n&  
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