《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 =E&b=  
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第1章光刻工艺概述 E)C.eW /  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ! G*&4V3Mg  
1.2光刻技术的发展史_3 ;$vLq&(}  
1.3投影光刻机的空间成像_5 nAIH`L"X  
1.4光刻胶工艺_10 !cRfZ  
1.5光刻工艺特性_12 gzVtxDh  
1.6小结_18 ;c1relR2  
参考文献_18 Ee{`Y0  
Wu4ot0SZ  
第2章投影光刻的成像原理 tS?a){^:c  
2.1投影光刻机_20 qOW#Q:T  
2.2成像理论_21 5,S,\O9>X  
2.2.1傅里叶光学描述_21 j3 6,w[Y:  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 y&1%1 #8F  
2.2.3其他成像仿真方法_30 7e1dEgn  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 lwVk(l Z  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 8jRs=I  
2.3.2影响_36 yC W*fIaq  
2.4小结_39 F7\BF  
参考文献_39 8h@q
 
Ks#A<! ;=  
第3章光刻胶 5gSylts8  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 1hR (N  
3.1.1光刻胶的分类_42 o*X]b]  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 <x0)7xX  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 BYS lKTh  
3.1.4现象学模型_48 ndr)3tuYu  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 `AR"!X  
3.2.1技术方面_50 jk )Vb  
3.2.2曝光_51 ^pj>9%  
3.2.3曝光后烘焙_54 u+m4!`  
3.2.4化学显影_58 PkTfJQP8  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 a.?v*U@z@#  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 (qUK7$  
3.5小结_68 3 -tO;GKb  
参考文献_69 %MN.O-Lc  
\SOeTn+  
第4章光学分辨率增强技术 sm1;MF]/u  
4.1离轴照明_74 6JSY56v  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 7Re-5vz R  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 TtPr)F|  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 I FsE!oDs4  
4.2光学邻近效应校正_81 b vRB  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 \b$<J.3  
4.2.2线端缩短补偿_84 J_PH7Z*=,  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 %%&e"&7HE  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 1SUzzlRx  
4.3相移掩模_89 ZZ("-#?  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 i E9\_MA  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 T^]7R4Fg  
4.4光瞳滤波_100 ?W!ry7gXO  
4.5光源掩模协同优化_102 +i.u< T  
4.6多重曝光技术_106 \]8VwsP  
4.7小结_109 'd/*BjNp)  
参考文献_110 Q ]"jD#F  
4d`+CD C  
第5章材料驱动的分辨率增强 G6V/SaD  
5.1分辨率极限的回顾_115 9OyNi  
5.2非线性双重曝光_119 xI
L#h@dz  
5.2.1双光子吸收材料_119 Yl~$V(  
5.2.2光阈值材料_120 Jt]&;0zn2  
5.2.3可逆对比增强材料_121 -w]/7cH  
5.3双重和多重成形技术_124 @r<b:?u  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 $3k "WlRG  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 :3^dF}>  
5.3.3自对准双重成形_126 d;=u  
5.3.4双色调显影_127 Efx=T$%^&  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 `*aBRwvK~  
5.4定向自组装_129 t`YWwI.  
5.5薄膜成像技术_133 ,[X_]e;  
5.6小结_135 O9^T3~x[V  
参考文献_135  WK==j1  
XQ?fJWLU  
第6章极紫外光刻 
)3%@9  
6.1EUV光源_141 ,?(ciO)  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 jXp. qK\"  
6.3EUV掩模_146 Y5Z!og  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 ;iU%Kt  
6.5EUV光刻胶_156 j (ygQ4T  
6.6EUV掩模缺陷_157 CZ(`|;BC*  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 m5*[t7@%  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 SkHYXe"]  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 . I==-|  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 aGK@)&h$  
6.8小结_167 ZzcPiTSO  
参考文献_168 oa`#RC8N  
}pawIf4V  
第7章投影成像以外的光刻技术 W`M
6J}oG  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 .'T40=7  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 Kkv<"^H  
7.1.2技术实现_179 "IFgRaP=  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 `/4:I  
7.2无掩模光刻_186 S^N{wZo  
7.2.1干涉光刻_186  hw=GR_,  
7.2.2激光直写光刻_189 1nI^-aQ3  
7.3无衍射限制的光刻_194 {^m
Kvc  
7.3.1近场光刻_195 ?djQZ*  
7.3.2利用光学非线性_198 rN5tI.iC  
7.4三维光刻_203 ashar&'  
7.4.1灰度光刻_203 zN!j%T.e  
7.4.2三维干涉光刻_205 V%NeZ1{ e  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 H}ZQ?uK;  
7.5浅谈无光刻印_209 |PP.<ce\-  
7.6小结_210 a#[-*ou`  
参考文献_211 YGk9b+`  
V.=lGhi  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 #;Tz[0  
8.1实际投影系统中的波像差_220 8-Me.2K  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 LFf`K)q  
8.1.2波前倾斜_226 M%`\P\A  
8.1.3离焦像差_226 )D/ 6%]O  
8.1.4像散_228 nidr\oFUIn  
8.1.5彗差_229 {mTytT  
8.1.6球差_231 X`JVR"=4  
8.1.7三叶像差_233 )Gk`[*q ;  
8.1.8泽尼克像差小结_233 314=1JbL  
8.2杂散光_234 }]6f+  
8.2.1恒定杂散光模型_235 XP
3xJm3  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 _
O]xey^r  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 Q5a)}6-5  
8.3.1掩模偏振效应_240 nwmW.(R4  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 d@ Ja}`  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 :/N+;- 18  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 'V&Y[7Aeq  
8.3.5偏振照明_248 xDLG=A%]z  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 _Z
Y\,_  
8.5小结_250 |E)aT#$f'  
参考文献_251 ",Cr,;]  
HM9fjl[  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 <AoXEuD  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ]$b2a&r9  
9.1.1时域有限差分法_257 oBQm05x"  
9.1.2波导法_260 e'9r"<>i  
9.2掩模形貌效应_262 Y.6SOu5$]  
9.2.1掩模衍射分析_263 xTz%nx  
9.2.2斜入射效应_266 g(4bBa9y  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 yxWO
[ Z  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 bBc-^  
9.2.5各种三维掩模模型_277 !|Q5Zi;aX7  
9.3晶圆形貌效应_279 8V/L:h#7  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 9 ;i\g=  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ti@kKz  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 Kg\R+i@#<  
9.4小结_283 7:E!b=o#  
参考文献_283 /
e@H^Cgo  
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&'Dti  
第10章先进光刻中的随机效应 \}0-^(9zd  
10.1随机变量和过程_288 ""iaGH+Cxw  
10.2现象_291 dt\jGD  
10.3建模方法_294 {R6HG{"IS6  
10.4依存性及其影响_297 Di.3113t  
10.5小结_299 TI|/u$SJ<Z  
参考文献_299 @~td`Z?1y  
专业词汇中英文对照表 5s{j=.O  
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