《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 4l 67B]o  
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<Kt_ oxK,  
第1章光刻工艺概述 /l$enexSt  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ]PS`"o,pF$  
1.2光刻技术的发展史_3 >~o-6g  
1.3投影光刻机的空间成像_5 ! I:N<  
1.4光刻胶工艺_10 zsp%Cz7T  
1.5光刻工艺特性_12 l*l*5hA  
1.6小结_18 E@GYl85fI  
参考文献_18 >pF*unC;  
UF+Qx/4h0  
第2章投影光刻的成像原理 g~DuK|
+  
2.1投影光刻机_20 3^/w`(-{@  
2.2成像理论_21 M@ U>@x;  
2.2.1傅里叶光学描述_21 ?c#s}IH  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 vhBW1/w&F  
2.2.3其他成像仿真方法_30 03~ ADj  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 JI>Y?1i0O  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 [lzd'  
2.3.2影响_36 ~P|;Y<?3  
2.4小结_39 nXT`7  
参考文献_39 Mq\=pxC@  
H$%MIBz>$  
第3章光刻胶 f"s_dR  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 ^L%_kL_7  
3.1.1光刻胶的分类_42 _/1/{  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 t'U=K>7  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 DP{nvsF  
3.1.4现象学模型_48 -P
pcFLZ|  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 O=jLZ2os  
3.2.1技术方面_50 # 55>?  
3.2.2曝光_51 BA h'H&;V  
3.2.3曝光后烘焙_54 YYQvt  
3.2.4化学显影_58 +(*HDa
|  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 =+iY<~8  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 t'eaR-  
3.5小结_68 cQEUHhRg!  
参考文献_69 !+SL=xy!{  
RRja{*R  
第4章光学分辨率增强技术 L"b&O<No  
4.1离轴照明_74 *^-AOSVt,  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 VlV X  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 }#^Cj;  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 ^5X?WA,Z99  
4.2光学邻近效应校正_81 y-hTTd"{  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 d]0:r]e  
4.2.2线端缩短补偿_84 E&8Nh J  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 \HO)ss)"  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 <D|&)/#  
4.3相移掩模_89 cy^=!EfA  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 k-ZO/yPo  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 |.@!CqJ  
4.4光瞳滤波_100 ~:Rbd9IB  
4.5光源掩模协同优化_102 t=Oq
<r  
4.6多重曝光技术_106 E ASnh   
4.7小结_109 S/E&&{`ls  
参考文献_110 vbmt0df  
] hT\"5&6  
第5章材料驱动的分辨率增强 s~7a-J  
5.1分辨率极限的回顾_115 RiTL(Yx  
5.2非线性双重曝光_119 |[rn/  
5.2.1双光子吸收材料_119
m.+h@  
5.2.2光阈值材料_120 $UzSPhv[  
5.2.3可逆对比增强材料_121 Gi)Vr\Q.  
5.3双重和多重成形技术_124 We y*\@  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 DWU=qD+  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 dq
B,i9--  
5.3.3自对准双重成形_126 E`j' <#V!  
5.3.4双色调显影_127 lc <V_8  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 <6(0ZO%,C!  
5.4定向自组装_129 6_%Cd`4Z  
5.5薄膜成像技术_133 Fn5BWV  
5.6小结_135 2.Z#\6Vj  
参考文献_135 K9@.l~n  
)5@P|{FF  
第6章极紫外光刻 ovp/DM  
6.1EUV光源_141 uUjjAGZ  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 $6n J+  
6.3EUV掩模_146 X2V+c
re  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 O\Huj=  
6.5EUV光刻胶_156 'u.Dt*.Uq  
6.6EUV掩模缺陷_157 OP\jO DX  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 :|(YlNUv  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 ug,AvHEnB  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 bo#xqSGQ  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 0f5
ag&  
6.8小结_167 ]0>  
参考文献_168 vEfj3+e  
Lyc6nP;F  
第7章投影成像以外的光刻技术 N7s0Ua'-v  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 IFBt#]l0  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 <Z.`X7]Uk  
7.1.2技术实现_179 .'=S1|_(  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 d*tWFr|J-  
7.2无掩模光刻_186 vP,pK=5  
7.2.1干涉光刻_186 N~]qQoj,  
7.2.2激光直写光刻_189 w!"A$+~  
7.3无衍射限制的光刻_194 :? )!yI  
7.3.1近场光刻_195 L-- t(G  
7.3.2利用光学非线性_198 9<3( QR  
7.4三维光刻_203 $*eYiz3Ue  
7.4.1灰度光刻_203 f2c<-}wR  
7.4.2三维干涉光刻_205 F9LKO3Rh#u  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 5:r AWq  
7.5浅谈无光刻印_209 .iV=ybMT  
7.6小结_210 ~0,v Q   
参考文献_211 d21thV ,S  
|"K%Tvxe  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 c(1tOQk.  
8.1实际投影系统中的波像差_220 ~ox}e(xy  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 5 Y&`ZJ  
8.1.2波前倾斜_226 T"P}`mT  
8.1.3离焦像差_226 9
X*Z\-  
8.1.4像散_228 Aq(cgTNW  
8.1.5彗差_229 s 4rva G@a  
8.1.6球差_231 (^W}uDPCB  
8.1.7三叶像差_233 S$SCW<LuN  
8.1.8泽尼克像差小结_233 rL\}>VC)  
8.2杂散光_234 HIw)HYF2  
8.2.1恒定杂散光模型_235 `.;U)}Tn  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 Z4G%Ve[  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 ;q'-<O  
8.3.1掩模偏振效应_240 eTjPztdJbx  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 Zsapu1HoL\  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 b$;oty9Y  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 D'[:35z  
8.3.5偏振照明_248 s2L]H  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 ,]\cf  
8.5小结_250 r3x;lICx-  
参考文献_251 "tl{HM5u  
mKtMI!FR  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 \\EX'L
 
9.1严格电磁场仿真的方法_256 H,c1&hb/w  
9.1.1时域有限差分法_257 $`UdG0~  
9.1.2波导法_260 e,#w*|  
9.2掩模形貌效应_262 $MvKwQ/  
9.2.1掩模衍射分析_263 P4)Q5r  
9.2.2斜入射效应_266 5 `TMqrk  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 f'ld6jt|%  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 VEa"^{,w  
9.2.5各种三维掩模模型_277 2wO8;wiA  
9.3晶圆形貌效应_279 78]*Jx>L  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 rZ,3:x-
:  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ag8)^p'9  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 W0x9^'=s\  
9.4小结_283 /*gs]  
参考文献_283 ;^s|n)F#c  
%_n%-Qn  
第10章先进光刻中的随机效应 dSjO12b  
10.1随机变量和过程_288  cL .z{  
10.2现象_291 <- sr&  
10.3建模方法_294 W8`6O2  
10.4依存性及其影响_297 B{0]v-w  
10.5小结_299 U}HSL5v  
参考文献_299 7`~0j6FY  
专业词汇中英文对照表 ^+%bh/2_W  
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