《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 iGB1f*K%x  
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第1章光刻工艺概述 F]e`-;  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 (rqc_ZU5  
1.2光刻技术的发展史_3 ]8q#@%v}  
1.3投影光刻机的空间成像_5 ~hD!{([  
1.4光刻胶工艺_10 x1]J
  
1.5光刻工艺特性_12 v+Eub;m   
1.6小结_18 0DtewN{Z  
参考文献_18 F-AU'o *  
oC ?UGY~xL  
第2章投影光刻的成像原理 j5m KJC  
2.1投影光刻机_20 +7\$wc_1I@  
2.2成像理论_21 -p.c8B  
2.2.1傅里叶光学描述_21 ,]`|2j  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 -Vg
(aD  
2.2.3其他成像仿真方法_30 }Q$}LR@  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 }
`KK  
2.3.1分辨率极限和焦深_31  _
U.|$pU  
2.3.2影响_36 /]j^a:#"6t  
2.4小结_39 ;)~}/nR<a  
参考文献_39 )5T82=[h<  
,w`g+ 9v  
第3章光刻胶 GuK3EM*_  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 Kb
X&E0  
3.1.1光刻胶的分类_42 1lo.X_  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 V>Dqw!  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 E{;F4wT_@  
3.1.4现象学模型_48 Hlhd6be  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 nQGl]2  
3.2.1技术方面_50 Cj%n?-
  
3.2.2曝光_51 e!W U
 
3.2.3曝光后烘焙_54 cWtuI(.  
3.2.4化学显影_58 [Ef6
@  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 mR|L'[l  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 I(<9e"1O  
3.5小结_68 |L/EH~|
O  
参考文献_69 [)+wke9  
e,kxg^  
第4章光学分辨率增强技术 :FTx#cZ  
4.1离轴照明_74 (+yH   
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 ziDvDu=  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 b5Q|$E   
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 Mj&G5R~_  
4.2光学邻近效应校正_81 f=k_U[b4>  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 0=0,ix7?#  
4.2.2线端缩短补偿_84 N0DzFXp  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 }!Y=SP1e  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 l~]D|92  
4.3相移掩模_89 <
Y]e  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 ;NOmI+t0w&  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 .k:heN2-x  
4.4光瞳滤波_100 },n?  
4.5光源掩模协同优化_102 ?g\emhG  
4.6多重曝光技术_106 ;6eBfMhL  
4.7小结_109 /#WvC;B  
参考文献_110 1:JwqbZKJ  
5U-SIG*  
第5章材料驱动的分辨率增强 vPz$+&{I  
5.1分辨率极限的回顾_115 O1D|T"@  
5.2非线性双重曝光_119 P_4E<"eK  
5.2.1双光子吸收材料_119 9X?RJ."J  
5.2.2光阈值材料_120 Ptz##o'{5  
5.2.3可逆对比增强材料_121 FnKC|X  
5.3双重和多重成形技术_124 Fc#Sn2p*  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 ^T:L6:  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 v,C~5J3h)  
5.3.3自对准双重成形_126 Sn S$5o  
5.3.4双色调显影_127 z&cM8w:  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 6Df*wi!jI  
5.4定向自组装_129 k".kbwcaF  
5.5薄膜成像技术_133 <UF0Xc&X'  
5.6小结_135 Xp] jF^5  
参考文献_135 nY7gST  
QChncIqc  
第6章极紫外光刻 LSo*JO6  
6.1EUV光源_141 ta6>St7.  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 @DIEENiM  
6.3EUV掩模_146 eTFep^[  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 O6
/:J#X%  
6.5EUV光刻胶_156 y XKddD  
6.6EUV掩模缺陷_157 EK= y!
>  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 RC}m]!Uz  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 #i.,+Q  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 "u]&~$  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 C6EGM/m8  
6.8小结_167 ,{m
v6?_  
参考文献_168 D Qz+t  
wZZ~!"
O&  
第7章投影成像以外的光刻技术 re_nb)4g  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 81"` B
2  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 >+Ig<}p  
7.1.2技术实现_179 =\_gT=tZ  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 Q-<Qm?  
7.2无掩模光刻_186 <}:` Y"  
7.2.1干涉光刻_186 JO`r)_  
7.2.2激光直写光刻_189 ;W+8X-B  
7.3无衍射限制的光刻_194 %YK xdp  
7.3.1近场光刻_195 ^D5Jqh)
 
7.3.2利用光学非线性_198 (8aj`> y  
7.4三维光刻_203 #M{qMJHDo  
7.4.1灰度光刻_203 `3i<jZMG  
7.4.2三维干涉光刻_205 ,cL;,YN  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 )l$}plT4  
7.5浅谈无光刻印_209 y+T[="W  
7.6小结_210 ;}iB9 Tl  
参考文献_211 "!D y[J  
'AX5V-t  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 5wmd[YL  
8.1实际投影系统中的波像差_220 O>pv/Ns  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 Yb-{+H8{J  
8.1.2波前倾斜_226 e*qGrg(E  
8.1.3离焦像差_226 X3a9-  
8.1.4像散_228 .=9WY_@SZ  
8.1.5彗差_229 ;:j1FOj  
8.1.6球差_231 zxx\jpBBk  
8.1.7三叶像差_233 |dqHpogh  
8.1.8泽尼克像差小结_233 OtoM  
8.2杂散光_234 vjS=ZinN"  
8.2.1恒定杂散光模型_235 ;<N:!$p  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 }rI:pp^KS  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 Hc=QSP  
8.3.1掩模偏振效应_240 'St6a*  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 =V]0G,,\  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 n Syq}Y3  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 r":anR( ;  
8.3.5偏振照明_248 IC&P-X_aP  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 A $gn{ c  
8.5小结_250 3q}j"x?  
参考文献_251 /$CTz xd1  
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第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 t|eH'"N%o  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 t$z[ja=  
9.1.1时域有限差分法_257 E Izy  
9.1.2波导法_260 7n6g;8xE  
9.2掩模形貌效应_262 hp)^s7H  
9.2.1掩模衍射分析_263 _%- +"3Ll  
9.2.2斜入射效应_266 N"G aQ  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 {?eUAB<  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 nq]6S$3 6  
9.2.5各种三维掩模模型_277 Q}|K29Y:p  
9.3晶圆形貌效应_279 W\k8f+Ke  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 UMR?q0J  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 }a||@unr  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 +q}t%K5  
9.4小结_283 @wgd 3BU  
参考文献_283 PQkw)D<n]_  
bsF_.S*k@  
第10章先进光刻中的随机效应 (
tX3?[ii  
10.1随机变量和过程_288 Ha`N  
10.2现象_291 Y@0'0  
10.3建模方法_294 4MzQH-U>/  
10.4依存性及其影响_297 (MI>7| ';  
10.5小结_299 iyl i/3|  
参考文献_299 X
`KSj N&(  
专业词汇中英文对照表 t`
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