《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 .~Fp)O:!  
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SfJA(v@E  
S;~g3DCd  
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第1章光刻工艺概述 smdZxFl  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 AtU v71D:  
1.2光刻技术的发展史_3 u$*56y  
1.3投影光刻机的空间成像_5 E Q4KV  
1.4光刻胶工艺_10 X/
z6"*(|/  
1.5光刻工艺特性_12 TpmwD{c[\  
1.6小结_18 T21ky>8E  
参考文献_18 AjJURn0`,!  
P&j(,7  
第2章投影光刻的成像原理 hX`hs-*qM  
2.1投影光刻机_20 3uZJ.Fb  
2.2成像理论_21 YY&l?*M<  
2.2.1傅里叶光学描述_21 4(Ov1a>  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 G2]4n T  
2.2.3其他成像仿真方法_30 +
Vo}F  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 : p{+G  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 j.*VJazb;  
2.3.2影响_36 c9kzOQ2n  
2.4小结_39 %1.]c6U  
参考文献_39 }tH[[4t
w,  
ZDD..j  
第3章光刻胶 [zL7Q^~  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 masT>vM  
3.1.1光刻胶的分类_42 ?lbH02P{v  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 ({-GOw46  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 |\n@3cIK  
3.1.4现象学模型_48 V?P,&c?
84  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 Di@GY!  
3.2.1技术方面_50 1G0fp:\w  
3.2.2曝光_51 uK
z,SqX  
3.2.3曝光后烘焙_54 PzV@umC1#f  
3.2.4化学显影_58 s:2|c]wQ#R  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 sp7*_&'J  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 MZpK~c1`  
3.5小结_68 v
1|Bf8  
参考文献_69 /0W9g  

pG34Qw  
第4章光学分辨率增强技术 ]J* ,g,  
4.1离轴照明_74 cFN'bftH4  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 *\wp?s>-t  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 < -uc."6\  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 bae\Zk%`^  
4.2光学邻近效应校正_81 7}GK%H-u  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 U
9&k;`  
4.2.2线端缩短补偿_84 sK"9fU  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 Yz4_vePh+5  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 N7b1.]<  
4.3相移掩模_89 \":?xh_H  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 ari7iF~j  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 &n[~!%(  
4.4光瞳滤波_100 ]l@ qra  
4.5光源掩模协同优化_102 Bd^"=+c4  
4.6多重曝光技术_106 .fi/I  
4.7小结_109 >Jw6l0z  
参考文献_110 T"p(]@Ng  
zOHypazOTq  
第5章材料驱动的分辨率增强 `/"nTB  
5.1分辨率极限的回顾_115 WEa2E?*  
5.2非线性双重曝光_119 @v}B6j b;  
5.2.1双光子吸收材料_119 jSOS}!=  
5.2.2光阈值材料_120 dL
vJh#`o  
5.2.3可逆对比增强材料_121 @)>D)
)+  
5.3双重和多重成形技术_124 aZe
t0?Qr  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 {/LZcz[  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 :^'O}2NP  
5.3.3自对准双重成形_126 T# lP!c  
5.3.4双色调显影_127 FZ|CqD"#  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 dl5=q\1=  
5.4定向自组装_129 5tv<8~:K  
5.5薄膜成像技术_133 !ph" mf$-  
5.6小结_135 :s-o0$PlJ  
参考文献_135 DY{cQb  
nRb^<cZf  
第6章极紫外光刻 wNNB;n`l  
6.1EUV光源_141 )9B:wc"
 
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 #5&jt@NS  
6.3EUV掩模_146 -h-oMqgu(  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 G){g  
6.5EUV光刻胶_156 3L_I[T$s  
6.6EUV掩模缺陷_157 ~P
-*}q2J  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 {ub/3Uh  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 EPX8Wwf  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 Q
M5 .f+/  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 aV`&L,Q)7E  
6.8小结_167 /u`3VOn  
参考文献_168 z[#Fog  
mxFn7.|r~  
第7章投影成像以外的光刻技术 zTo8OPr  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 }wwe}E-e  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 'PlaMOy  
7.1.2技术实现_179 )9=(|Lp  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 "R9Yb,tIN  
7.2无掩模光刻_186 h?UVDzI!O  
7.2.1干涉光刻_186 b8BD8~;  
7.2.2激光直写光刻_189 i3mAfDF  
7.3无衍射限制的光刻_194 ]lS@}W\  
7.3.1近场光刻_195 i2Jq|9,g  
7.3.2利用光学非线性_198 |%D%0TR&Q  
7.4三维光刻_203 K3mAXC,d  
7.4.1灰度光刻_203 Gzt=u"FV  
7.4.2三维干涉光刻_205 b!$}ma;B  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 U5/qf8)yO  
7.5浅谈无光刻印_209 JmOW~W  
7.6小结_210 GZ}/leR  
参考文献_211 5V-jMB  
%do1i W  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 #T~&]|{,  
8.1实际投影系统中的波像差_220 4B-yTyO  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 DFe;4BdC  
8.1.2波前倾斜_226 ~!+ _[uJ  
8.1.3离焦像差_226 Nm]% }  
8.1.4像散_228 $E(XjuS  
8.1.5彗差_229 -NM0LTF  
8.1.6球差_231 \ Aq;Q?  
8.1.7三叶像差_233 zuL7%qyv  
8.1.8泽尼克像差小结_233 xi'<y  
8.2杂散光_234 6ri#Lw  
8.2.1恒定杂散光模型_235 W7UtA.2LT  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 Jm(ixekp  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 G+"8l!dC?  
8.3.1掩模偏振效应_240 V!|e#}1/  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 ^[-> )  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 _MYx%Z  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 
_zC (J  
8.3.5偏振照明_248 @qK<T  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 LxJ6M/".  
8.5小结_250 3vJ12=  
参考文献_251 mVm4fHEYwU  
J\W-dI  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 oEzDMImJ5  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 's@MQ! *  
9.1.1时域有限差分法_257 6E9N(kFYs  
9.1.2波导法_260 #i@h{R01  
9.2掩模形貌效应_262 l+ T,2sd  
9.2.1掩模衍射分析_263 aIvBY78o  
9.2.2斜入射效应_266 2eok@1  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 [}""@?  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 q#1X[A()  
9.2.5各种三维掩模模型_277 D6=HYqdj  
9.3晶圆形貌效应_279 & 5 <**  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 %"7WXOv&z  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 {y);vHf$  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 ` %' z  
9.4小结_283 R "E<8w  
参考文献_283 kl{6]39  
Hbr^vYs5  
第10章先进光刻中的随机效应 0K3Hf^>m  
10.1随机变量和过程_288 k\(4sY M  
10.2现象_291 5~\Kj#PBx  
10.3建模方法_294 bf98B4<  
10.4依存性及其影响_297 &d 3HB=x  
10.5小结_299 G:Hj;&'2  
参考文献_299 MTB@CP!u  
专业词汇中英文对照表
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