《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 d+D~NA[M  
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U]=yCEb8p  
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第1章光刻工艺概述 +[!S[KE  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 e0zP LU}  
1.2光刻技术的发展史_3 lFjz*g2'  
1.3投影光刻机的空间成像_5 r ;RYGLx  
1.4光刻胶工艺_10 i/x |c!E  
1.5光刻工艺特性_12 i6'=]f'{  
1.6小结_18 <l{oE?N  
参考文献_18 uL`
#
@nI  
a)QT#.  
第2章投影光刻的成像原理 q!y.cyL  
2.1投影光刻机_20 |Vx[  
2.2成像理论_21 im2mA8OH  
2.2.1傅里叶光学描述_21 Lq2Q:w'  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 fp' '+R[  
2.2.3其他成像仿真方法_30 "?NDN4l*  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 gwoe1:F:J  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 u7L?9  
2.3.2影响_36 @7twe;07r  
2.4小结_39 A@}5'LzL  
参考文献_39  '"B  
$oBs%.Jp  
第3章光刻胶 yE8D^M|g  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 .<%tu 0  
3.1.1光刻胶的分类_42 r&]XNq'P9  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 D&%8JL  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 9zwD%3Ufn  
3.1.4现象学模型_48 NfV|c~
?d  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 }?s-$@$R  
3.2.1技术方面_50 .G{cx=;  
3.2.2曝光_51 "cKD#  
3.2.3曝光后烘焙_54 JbPkC*.  
3.2.4化学显影_58 $hhXsu=  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 F1#{(uW  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 \sNgs#{7E7  
3.5小结_68 &=g3J4$z  
参考文献_69 cRLw)"|  
Q,KNZxT,q  
第4章光学分辨率增强技术 OcTWq  
4.1离轴照明_74 yYP_TuNa  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 a !VWWUTm?  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 zPaubqB  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 N%dY.Fk  
4.2光学邻近效应校正_81 q\EYsN</;  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 1K Fd ~U  
4.2.2线端缩短补偿_84 xMjhC;i{  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 L7rgkxI7k*  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 [c,V=:Cq  
4.3相移掩模_89 b Hr^_ogN  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 }~ D WB"  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 1&boD\ 7  
4.4光瞳滤波_100 7{m>W!  
4.5光源掩模协同优化_102 ojM'8z0Hn  
4.6多重曝光技术_106 aopPv&jY  
4.7小结_109 t2dsYU/  
参考文献_110 hEZvi   
$JY\q2  
第5章材料驱动的分辨率增强 <
=.6Z*x+  
5.1分辨率极限的回顾_115 l U/Xi  
5.2非线性双重曝光_119 #]}Ii{1?Y  
5.2.1双光子吸收材料_119 :nIMZRJ_!E  
5.2.2光阈值材料_120 05wkUo:9  
5.2.3可逆对比增强材料_121 a=MN:s?Fc0  
5.3双重和多重成形技术_124 Q
!l(2nva  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 2.v{W-D[  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 &|Gg46P7  
5.3.3自对准双重成形_126 UR'[?  
5.3.4双色调显影_127 q;eb  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 b}qfOgd5  
5.4定向自组装_129 &#PPXwmR  
5.5薄膜成像技术_133 *u+DAg'&  
5.6小结_135 |S8$NI2  
参考文献_135 VIF43/>(  
v`|]57?A  
第6章极紫外光刻 1/-3m P
o  
6.1EUV光源_141 YS|Dw'%g /  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 ]9YA~n\  
6.3EUV掩模_146 ._rPM>B?  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 ^%f8JoB  
6.5EUV光刻胶_156 EE"8s7ZF  
6.6EUV掩模缺陷_157 rj=as>6B  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 fu!T4{2  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 rUKg<]&@  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 }b1G21Dc!  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 HYdM1s6vo  
6.8小结_167 V(`
]hH0;T  
参考文献_168 2K:A4)jZ  
irlFB#..  
第7章投影成像以外的光刻技术 YoKE=ln7  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 r?DCR\Jq  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 Vlx.C~WYn  
7.1.2技术实现_179 d|R-K7 ~~  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 cSPQ NYU:  
7.2无掩模光刻_186 89M'klZ   
7.2.1干涉光刻_186 `CWh
jL8^  
7.2.2激光直写光刻_189 @rGY9%E  
7.3无衍射限制的光刻_194 qx#M6\L!  
7.3.1近场光刻_195 F(VVb(\jd  
7.3.2利用光学非线性_198 e|k]te
  
7.4三维光刻_203 9dNB_  
7.4.1灰度光刻_203 *}]#E$  
7.4.2三维干涉光刻_205 ]gBnzh.  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 ZUS-4'"$  
7.5浅谈无光刻印_209  xL15uWk-  
7.6小结_210 vEI{AmogRx  
参考文献_211 Fip 5vrD  
fTj@/"a  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 d[6 'w ?  
8.1实际投影系统中的波像差_220 6k hBT'n  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 =q VT  
8.1.2波前倾斜_226 XZ%[;[  
8.1.3离焦像差_226 (utP@d^  
8.1.4像散_228 `}ak]Z_  
8.1.5彗差_229 uG
ZGI;9f4  
8.1.6球差_231 j sPavY  
8.1.7三叶像差_233 6Amt75RY  
8.1.8泽尼克像差小结_233 CR$wzjP j  
8.2杂散光_234 "6d0j)YO  
8.2.1恒定杂散光模型_235 !H\;X`W|~D  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 /phMrL=  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 i(%2t(wf+  
8.3.1掩模偏振效应_240 g|Lbe4?  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 Pm%xX~H  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 Fv]6an.  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 {@2+oOuYfN  
8.3.5偏振照明_248 2OoANiX  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 4w+AOWjd  
8.5小结_250 _;3,  
参考文献_251 brmSJ7  
U5C]zswL  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 G_1r&[N3  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 AO5&Y.A#  
9.1.1时域有限差分法_257 CT'4.  
9.1.2波导法_260 "73*0'm  
9.2掩模形貌效应_262 4~Qnhv7  
9.2.1掩模衍射分析_263 yP7b))AW9  
9.2.2斜入射效应_266 xT 06*wQ  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 z%E(o%l8  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 'd2 :a2C]  
9.2.5各种三维掩模模型_277 deAV:c  
9.3晶圆形貌效应_279 MiZ<v/L2  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 6CFnE7TQf  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ^mLX}E]  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 7G+!9^  
9.4小结_283 
Gy\]j  
参考文献_283 e
.vt"eRB  
poAJl;T  
第10章先进光刻中的随机效应 l :{q I#Q  
10.1随机变量和过程_288 Jk%5Fw0  
10.2现象_291 CzG[S\{+  
10.3建模方法_294 dm}1"BU<  
10.4依存性及其影响_297 a]*{!V{$i  
10.5小结_299 +d#8/S*  
参考文献_299 _]@u)$  
专业词汇中英文对照表 i[[.
1M
nS  
oz=V|7,