《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 4Cu\
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baD063P;  
1OExa<Zq  
N$e mS  
]B;`Jf  
第1章光刻工艺概述 w>cqsTq  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 #8M?y*<I  
1.2光刻技术的发展史_3 CR23$<FC  
1.3投影光刻机的空间成像_5 c*7|>7C$i  
1.4光刻胶工艺_10 vu@.;-2E%  
1.5光刻工艺特性_12 NA2={RB;  
1.6小结_18 .-iW T4Dn  
参考文献_18 7'esJ)2  
^%zhj3#  
第2章投影光刻的成像原理 L,.~V
Ny-  
2.1投影光刻机_20 , d $"`W2  
2.2成像理论_21 D|Q7dI
Zm  
2.2.1傅里叶光学描述_21 q=->) &D%  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 pl3ap(/  
2.2.3其他成像仿真方法_30 vE^tdzAG  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 JDR_k  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 q\?p' i  
2.3.2影响_36 p%meuWV%5  
2.4小结_39 M1WD^?tKQ.  
参考文献_39 r@C~_LgL)  
]i(/T$?~  
第3章光刻胶 3e'6A^#  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 ws9IO ?|&G  
3.1.1光刻胶的分类_42 SWx: -<  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 JMt*GFd  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 R+NiIoa  
3.1.4现象学模型_48 hZHM5J~  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 bKmwXDv'  
3.2.1技术方面_50 N8pL2y:R[P  
3.2.2曝光_51 -->0e{y  
3.2.3曝光后烘焙_54 ,.0bE 9\o  
3.2.4化学显影_58 In_"iEo
,  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 3%?t
Ut  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 ou-UR

5  
3.5小结_68 C^LxuUW  
参考文献_69 Y&yfm/Ru  
9x@|%4Zm"  
第4章光学分辨率增强技术 ;x\oY6:  
4.1离轴照明_74 g=4^u
*  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 Gqd|F>  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 RVV`  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 1b1Ab zN
 
4.2光学邻近效应校正_81 =W3 K6w  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 <9ucpV  
4.2.2线端缩短补偿_84 <$e|'}>A  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ?< b{  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 @T\n@M]  
4.3相移掩模_89 #}y8hzS$  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 dWQs
C|  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 :CE4< {V  
4.4光瞳滤波_100 a)ry}E =f  
4.5光源掩模协同优化_102 z4SJxL  
4.6多重曝光技术_106 '+_>PBOc  
4.7小结_109 gEj#>=s  
参考文献_110 WuU
wd#e  
|~BnE  
第5章材料驱动的分辨率增强 B%;MGb o  
5.1分辨率极限的回顾_115 4l  ZK@3  
5.2非线性双重曝光_119 oV:oc,  
5.2.1双光子吸收材料_119 [o#% Eg;  
5.2.2光阈值材料_120 ia'z9  
5.2.3可逆对比增强材料_121 =|agW.l  
5.3双重和多重成形技术_124 >E+g.5 ,:W  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 L_!ShE
  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 CfU|]<  
5.3.3自对准双重成形_126 pc*)^S  
5.3.4双色调显影_127 :Mu*E5  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 p5#x7*xR6  
5.4定向自组装_129 p@G7}'|eyA  
5.5薄膜成像技术_133 x>[]Qk^?q  
5.6小结_135 Y/.C+wW2  
参考文献_135 y,nmPX?]n  
4uIYX  
第6章极紫外光刻 2; ^ME\  
6.1EUV光源_141 h) Wp  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 2DCQ5XewYe  
6.3EUV掩模_146 4MS<t FH)  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 J|q(HpB  
6.5EUV光刻胶_156 ]j*2PSJG  
6.6EUV掩模缺陷_157 ~+dps i  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 YGyv)\  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 {=[>N>"  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 :ZrJL&  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 )JS6W  
6.8小结_167
a<G&
}|6  
参考文献_168 27eG8  
lv 8EfN  
第7章投影成像以外的光刻技术 5YD~l(,S1]  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ~w>h#{RB  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 2 kDsIEA  
7.1.2技术实现_179 o&q>[c  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 !?>V^#c  
7.2无掩模光刻_186 I$7eiW @  
7.2.1干涉光刻_186 O_:l;D#i  
7.2.2激光直写光刻_189 lxhb)]c ^>  
7.3无衍射限制的光刻_194 Z4VFfGCTL  
7.3.1近场光刻_195 jn2=)KBa_  
7.3.2利用光学非线性_198 *1dDs^D#|  
7.4三维光刻_203 KG'i#(u[  
7.4.1灰度光刻_203 !K>iSF
<  
7.4.2三维干涉光刻_205 sT\:**  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 yn62NyK  
7.5浅谈无光刻印_209 T`EV uRJ  
7.6小结_210 GI%&.Vd  
参考文献_211 PE%$g\#?  
7PY$=L48A  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 J$3g3%t  
8.1实际投影系统中的波像差_220 @[n#-!i  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 UPh#YV 0/,  
8.1.2波前倾斜_226 K!-OUm5A  
8.1.3离焦像差_226 p>B2bv+L  
8.1.4像散_228 VPUVPq~&  
8.1.5彗差_229 3"y 6|e/5  
8.1.6球差_231 bHwEd%f  
8.1.7三叶像差_233 i5 rkP`)j  
8.1.8泽尼克像差小结_233 \/NF??k,jk  
8.2杂散光_234 T D_@0Rd  
8.2.1恒定杂散光模型_235 Q7s@,c!m_  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236  js_`L#t  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 ~ nsb  
8.3.1掩模偏振效应_240 Gnkar[oa&  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 WTvUz.Et  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 5>x_G#W  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 k +-w%  
8.3.5偏振照明_248 `geHSx_  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 }E 'r?N  
8.5小结_250 ~G!JqdKJ0  
参考文献_251 |YJ83nSO~  
1 R5pf  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 -#|D>  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 kka5=u  
9.1.1时域有限差分法_257 un{ZysmtB6  
9.1.2波导法_260 g*Y,.  
9.2掩模形貌效应_262 Y2H-D{a27  
9.2.1掩模衍射分析_263 V ;T :Q%  
9.2.2斜入射效应_266 Wq1>Bj$J8  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 EApKN@<"  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 gYKz,$  
9.2.5各种三维掩模模型_277 d ]P~  
9.3晶圆形貌效应_279 TQa}Ps  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 PVCoXOqh  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ;P@]7vkff  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 f9De!"*&  
9.4小结_283 R?{+&r.X  
参考文献_283 $]v}X},,  
t^rw@$"}  
第10章先进光刻中的随机效应 ?"B]"%M&  
10.1随机变量和过程_288  F!omkN  
10.2现象_291 !|cg=  
10.3建模方法_294 ~Z\:Nx  
10.4依存性及其影响_297 uDF;_bli)H  
10.5小结_299 G.W !   
参考文献_299 kBu{ bxL  
专业词汇中英文对照表 9njwAKF?  
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