《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 n:!
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Hm^p^,}_x  
第1章光刻工艺概述 V+K.' J ^@  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 E0h!%/+-L  
1.2光刻技术的发展史_3 XAFTLNV>  
1.3投影光刻机的空间成像_5 XKK*RVs#  
1.4光刻胶工艺_10 |)_<JAN  
1.5光刻工艺特性_12 f!Ie  
1.6小结_18 ^ pR&  
参考文献_18 nW%c95E  
Wl2>U(lj  
第2章投影光刻的成像原理 MR6vr.~  
2.1投影光刻机_20 *:_hOOT+[  
2.2成像理论_21 nz&JG~Qfm  
2.2.1傅里叶光学描述_21 aH#|Lrd
J  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 J8D-a!  
2.2.3其他成像仿真方法_30 M
U^Z*r  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 liB>~DVC  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 NV;tsuA|  
2.3.2影响_36 Yb\36|  
2.4小结_39 U5PCj ]-Xt  
参考文献_39 fjJIF%  
1wM p3  
第3章光刻胶 8+W^t I  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 /][U$Q;Ke  
3.1.1光刻胶的分类_42 S9BJjo  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 u@3w$"Pv1  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 =w5w=qB  
3.1.4现象学模型_48 8YJ({ Ou_  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 $_UF9l0  
3.2.1技术方面_50 &Gt9a-ne  
3.2.2曝光_51 ;g*6NzdA  
3.2.3曝光后烘焙_54 Z~gqTB]H  
3.2.4化学显影_58 w$!n8Aqs  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 W2k~N X#@  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 'huLv(Uu  
3.5小结_68 6bn-NY:i  
参考文献_69 ]9:G
3vq  
:[&X*bw[  
第4章光学分辨率增强技术 ;D7jE+  
4.1离轴照明_74 $b$D[4  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 (65p/$Vh  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 l9h;dI{6  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 fYi!Z/Ck2  
4.2光学邻近效应校正_81 3PGyqt(   
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 U8mu<
)  
4.2.2线端缩短补偿_84 ]gW J,  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 V_kE"W)  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 !Z
ZAI_N  
4.3相移掩模_89 yiq#p"Hs  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 .%A2  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 @6SSk=9_S  
4.4光瞳滤波_100 ^b~5zhY&  
4.5光源掩模协同优化_102 loJ0PY'}=  
4.6多重曝光技术_106 Vmc)or*#  
4.7小结_109 6>I.*Qt \l  
参考文献_110 u|c+w)a  
u/f&Wq/  
第5章材料驱动的分辨率增强 AngwBZ@  
5.1分辨率极限的回顾_115 ~e<<aTwN  
5.2非线性双重曝光_119 &?nF';&  
5.2.1双光子吸收材料_119 /["T#`  
5.2.2光阈值材料_120 >e;f{  
5.2.3可逆对比增强材料_121 'Ot[q^,KRG  
5.3双重和多重成形技术_124 8E+l;2  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 O)R0,OPb
  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 fLAF/#\2  
5.3.3自对准双重成形_126 (Nahtx!/9  
5.3.4双色调显影_127 xJ
hbGK  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 D,/9rH  
5.4定向自组装_129 -wfV  
5.5薄膜成像技术_133 C.-a:oQ[  
5.6小结_135 ihrrmlN?  
参考文献_135 3#[I_
 
z sPuLn9G  
第6章极紫外光刻 j+hoj2(  
6.1EUV光源_141 N3<Jh  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 CdO-xL6F  
6.3EUV掩模_146 ay4xOwcR  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 f,>i%.  
6.5EUV光刻胶_156 ?xZmm%JF  
6.6EUV掩模缺陷_157 sBnPS[Oo  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 8B/9{8  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 Gu).*cU  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 s_!Z+D$K  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 'wrpW#  
6.8小结_167 {6sfa?1j  
参考文献_168 5nAF=Bj  
bobkT|s^s  
第7章投影成像以外的光刻技术 ]s@8I2_  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 a7G2C oM8  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 XD}_9p  
7.1.2技术实现_179 rbbu
SI  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 Zd ,=  
7.2无掩模光刻_186 J *?_SnZ  
7.2.1干涉光刻_186 &NeYKh?  
7.2.2激光直写光刻_189 VYo;[ue([  
7.3无衍射限制的光刻_194 D:tZiS=0  
7.3.1近场光刻_195 V&v~kzLr+  
7.3.2利用光学非线性_198 5Suc#0y  
7.4三维光刻_203  a|uZJ*  
7.4.1灰度光刻_203 l0if#?4\r  
7.4.2三维干涉光刻_205 &Ld8Z9IeFp  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 [)>8z8'f  
7.5浅谈无光刻印_209 @!3^/D3  
7.6小结_210 L$Ar]O)  
参考文献_211 I>Fh*2  
Cpv%s 1M  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 \'Kj.EO{?$  
8.1实际投影系统中的波像差_220 C&N4<2b  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 $i~`vu*  
8.1.2波前倾斜_226 C/XyDbH  
8.1.3离焦像差_226 gEHfsR=D6  
8.1.4像散_228 BrMp_M  
8.1.5彗差_229 Q$/FgS  
8.1.6球差_231 XYF~Q9~  
8.1.7三叶像差_233 }AZx/[k |z  
8.1.8泽尼克像差小结_233 l zPS RT  
8.2杂散光_234 6RQCKN)  
8.2.1恒定杂散光模型_235 +\vY;!^  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 <L/vNP  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 dt&Lwf/  
8.3.1掩模偏振效应_240 ]Wt6V^M'@  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 ^Jl!WH=20}  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 .0W4Dp  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 X3iRR{< @  
8.3.5偏振照明_248 iiB)/~!O  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 6@;L$QYY-V  
8.5小结_250 QYw4kD}  
参考文献_251 yPG\ &Bo  
LY:?OGh  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 T-2p`b}hW  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 Y_>-p(IH  
9.1.1时域有限差分法_257 ^^3va)1{!  
9.1.2波导法_260 )wzs~Fn/  
9.2掩模形貌效应_262 |SukiXJZF  
9.2.1掩模衍射分析_263 4m[C-NB!g  
9.2.2斜入射效应_266 '# IuY  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 C"Q=(3  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 V3~a!k  
9.2.5各种三维掩模模型_277 ;6 6_G Sjz  
9.3晶圆形貌效应_279 5@t uo`k  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 JKi@Kw  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 :F w"u4WI  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 xc<eU`-'b  
9.4小结_283 5J\|gZQF  
参考文献_283 n.6 0$kR`  
]op^dW1;0_  
第10章先进光刻中的随机效应 ],}afa!A  
10.1随机变量和过程_288 C\^<v&  
10.2现象_291 1L=Qg4 H  
10.3建模方法_294 6O@ ^`T  
10.4依存性及其影响_297 lJ]\  
10.5小结_299 +'Y(V&  
参考文献_299 y_4krY|Zx  
专业词汇中英文对照表 QD;f
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