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《Essential Macleod中文手册》 :XFr"aSt 9S_PZH 目 录 b<bj5m4fz> dgp1 B\ ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 d.3cd40Q 第1章 介绍 ..........................................................1 o!@}&DE|*L 第2章 软件安装 ..................................................... 3 (<KFA, 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 'nRoa7v( 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 {a9(
Qi 第5章 软件结构 ............................................................... 21 ~;S 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 -g\ ;B 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 "&Rt&S 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 K{EDmC 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 scQnL'\ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 !%X#;{ 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 kWMz;{I5*w 第12章 优化和综合 ..................................................................120 fPBJ%SZ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 U]A JWC6 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ;lP/hG;` 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 A~)# 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 h"3Mj*s 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 sD ,=_q@ 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Em ;2fh 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 q/#pol 第20章 运行表单 .................................................................... 251 OaeX:r+&Q 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 j@u]( nf 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 fvBL? x 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 i@m@]-2 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 E^4}l2m_ 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 l9t|@9 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 q,m+W='
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 fW=vN0Z 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 5RsO^2V: 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 h<<uef9 A@<a')#>) Bw/8-:eb 1Eh6ti 8_Nyy/K#F 572{DC&T 内容简介 \k
6'[ln Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 lc[)O3,,B 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 363KU@` 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 _J"fgxW 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 IqAML|C rU9z? ( 目录 y|/[; Preface 1 `Kbf]"4q 内容简介 2 dym K @ 目录 i RJ1@a 1 引言 1 Dv"HFQuF 2 光学薄膜基础 2 s[bQO1g;* 2.1 一般规则 2 J'C9}7G 2.2 正交入射规则 3 = glF6a 2.3 斜入射规则 6 b/"gUYo 2.4 精确计算 7 i_(6}Y& 2.5 相干性 8 ShesJj 2.6 参考文献 10 [\3W_jR 3 Essential Macleod的快速预览 10 rS8}(lf 4 Essential Macleod的特点 32 &WNIL13DK 4.1 容量和局限性 33 3 <)+)n 4.2 程序在哪里? 33 zfw=U
\ 4.3 数据文件 35 AO238RC!: 4.4 设计规则 35 `a `>Mtl 4.5 材料数据库和资料库 37 Tq?7-_MLC$ 4.5.1材料损失 38 k+BY 3a 4.5.1材料数据库和导入材料 39 @jCMQYR 4.5.2 材料库 41 4sq](!A 4.5.3导出材料数据 43 o3$dl`' 4.6 常用单位 43 8]mRX~ 4.7 插值和外推法 46 hof>:Rk 4.8 材料数据的平滑 50 5PsjGvm.% 4.9 更多光学常数模型 54 l
>~Rzw 4.10 文档的一般编辑规则 55 KM"BHaSkF 4.11 撤销和重做 56 Kr?<7vMT5 4.12 设计文档 57 C8W_f( i~ 4.10.1 公式 58 1~Z
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ,FwpHs $A 4.10.3 沉积密度 59 (&SPMhs_|( 4.10.4 平行和楔形介质 60 ~b@"ir+g4 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 w3;{z ,,T 4.10.4 性能 61 ^5Zka!'X2Z 4.10.5 保存设计和性能 64 xR8y"CpE 4.10.6 默认设计 64 +
}$(j#h 4.11 图表 64 &NOCRabc 4.11.1 合并曲线图 67 V?)YQB 4.11.2 自适应绘制 68 lid0
YK- 4.11.3 动态绘图 68 k
t'[ 4.11.4 3D绘图 69 d_!}9 4.12 导入和导出 73 !jf!\Uu[U 4.12.1 剪贴板 73 {#~A `crO 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 V-3;7 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 AZf69z 4.13 背景 77 YYL3a=;`a 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 c/^l2CJ0 4.15 生成Rugate 84 j\"d/{7Q 4.16 参考文献 91 yuC|_nL 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 M3Qi]jO98 5.1 Jobs 92 l$[,V:N 5.2 创建一个新Job(工作) 93 m%'T90mi 5.3 输入材料 94 hXvC>ie(i 5.4 设计数据文件夹 95 L1WvX6 5.5 默认设计 95 Xvk+1:D 6 细化和合成 97 \r9E6LLX' 6.1 优化介绍 97 5`@yX[G 6.2 细化 (Refinement) 98 /;vHAtt;f 6.3 合成 (Synthesis) 100 nch#DE82 6.4 目标和评价函数 101 el\xMe^SY 6.4.1 目标输入 102 )3 R5cq 6.4.2 目标 103 YeVo=hYH@ 6.4.3 特殊的评价函数 104 2'@D0L 6.5 层锁定和连接 104 );h 6.6 细化技术 104 u@P1`E1Q 6.6.1 单纯形 105 aK_k'4YTm 6.6.1.1 单纯形参数 106 :;c`qO4 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 bN6i *)} 6.6.2.1 Optimac参数 108 qQIX:HWDKZ 6.6.3 模拟退火算法 109 YI;MS:Qj 6.6.3.1 模拟退火参数 109 c$lZ\r" 6.6.4 共轭梯度 111 unNN&m#@ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 JNT|h zV 6.6.5 拟牛顿法 112 _[Sh`4`r 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ZmycK:f 6.6.6 针合成 113 2R
^6L@fw 6.6.6.1 针合成参数 114 -knP5"TB 6.6.7 差分进化 114 8Q"1I7U 6.6.8非局部细化 115 UkXa mGoy3 6.6.8.1非局部细化参数 115 11k}Ly 6.7 我应该使用哪种技术? 116 p>f?Rw_ 6.7.1 细化 116 of
GoaH*h 6.7.2 合成 117 u%6b|M@P 6.8 参考文献 117 hd,O/-m# 7 导纳图及其他工具 118 -r]L MQ 7.1 简介 118 7G7"Zule*j 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Jw>na _FJ 7.2.1 四分之一波长规则 119 Sx (E'?] 7.2.2 导纳图 120 :6Tv4ZUvcG 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 So75h*e 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 l_8ibLyo 7.5 斜入射导纳图 141 xJnN95`R@ 7.6 对称周期 141 NTO.;S|2% 7.7 参考文献 142 W`P>vK@= 8 典型的镀膜实例 143 MttFB;Tp 8.1 单层抗反射薄膜 145 sl(go^ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 OEX\]!3_Fm 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Dd,i^,4Gj 8.4 W-膜层 148 g>#}(u!PH 8.5 V-膜层 149 KfPgj 8.6 V-膜层高折射基底 150 B9Wd
' 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 G'';VoW= 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 I~Qi):&x 8.9 四层抗反射薄膜 153 |7 Ab_ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 NxDVU?@p* 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 yjq|8.L[
G 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 RTDplv; ] 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 f! )yE`4- 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 cct/mX2&~ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 SSyARR+;c 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 Zz]/4 4t 8.17 1/4波长堆栈 162 G:wO1f6 8.18 陷波滤波器 163
=zDvZ(5 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ?A24h!7 8.20 褶皱 165 "q!*RO'a 8.21 消偏振分光器1 169 ZR"qrCSw` 8.22 消偏振分光器2 171 e\f\CMb 8.23 消偏振立体分光器 172 vA[7i*D{w 8.24 消偏振截止滤光片 173 !,rF(pz 8.25 立体偏振分束器1 174 WS?Y8~+{5 8.26 立方偏振分束器2 177 _^ic@h3'X~ 8.27 相位延迟器 178 B-"F67 : 8.28 红外截止器 179 9'(m"c_ 8.29 21层长波带通滤波器 180 l<<9H-O 8.30 49层长波带通滤波器 181 t<$J
3h/" 8.31 55层短波带通滤波器 182 >6@,L+-6r 8.32 47 红外截止器 183 dTlEEgR 8.33 宽带通滤波器 184 Kb-m 8.34 诱导透射滤波器 186 _34%St!lg 8.35 诱导透射滤波器2 188 GU 9p'E 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Pj_DI)^ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 oIMS >& 8.35 增益平坦滤波器 193 -w8?Ur1x: 8.38 啁啾反射镜 1 196 tA'5ufj*: 8.39 啁啾反射镜2 198 Y=O-^fL 8.40 啁啾反射镜3 199 }jU)s{>fb 8.41 带保护层的铝膜层 200 h|ib*%P_ 8.42 增加铝反射率膜 201 9C7HL;MF 8.43 参考文献 202 Dkh=(+> < 9 多层膜 204 Fpwhyls 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 Nez '1 9.2 内部透过率 204 :_nGh]% 9.3 内部透射率数据 205 %K06owV(S) 9.4 实例 206 qV,x )y:V 9.5 实例2 210 B(6*U~Kn% 9.6 圆锥和带宽计算 212 ]1|7V|N6 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 l8_RA 10 光学薄膜的颜色 216 _\=
/~>Xl 10.1 导言 216 II[-6\d! 10.2 色彩 216 /11CC \ 10.3 主波长和纯度 220 ^ P
A|RFP 10.4 色相和纯度 221 {a9.0N :4 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Tu,nX'q]m 10.6 色差 226 ~Ga{=OM?? 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 4!-R&<TLve 10.8 颜色渲染指数 234 BO6XY90( 10.9 色差计算 235 mv`b3 $ 10.10 参考文献 236 78<fbN5}r 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 /OMgj7olD 11.1 短脉冲 238 ~x@V"rxGw 11.2 群速度 239 y&\t72C$Fi 11.3 群速度色散 241 -Ekf T_ 11.4 啁啾(chirped) 245 "T<7j.P? 11.5 光学薄膜—相变 245 wAzaxeV= 11.6 群延迟和延迟色散 246 +%~me? 11.7 色度色散 246 se}$/Y}t 11.8 色散补偿 249 X &G]ci 11.9 空间光线偏移 256 XaoVv2=G~ 11.10 参考文献 258 D5].^*AbZ 12 公差与误差 260 ymnK `/J!Q 12.1 蒙特卡罗模型 260 O`N,aYo 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 > %Hw008 12.2.1 误差工具 267 pL> Yx> 12.2.2 灵敏度工具 271 G
Uh<AG*+ 12.2.2.1 独立灵敏度 271 +UTBiB R 12.2.2.2 灵敏度分布 275 <'A-9y]-v 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 -yu$Mm 12.3 参考文献 276 02(Ob 13 Runsheet 与Simulator 277 #G?",,&dM 13.1 原理介绍 277 `bn@;7`X 13.2 截止滤光片设计 277 t#-4edB, 14 光学常数提取 289 B)0;gWK 14.1 介绍 289 &g0r#K 14.2 电介质薄膜 289 AI,E9 14.3 n 和k 的提取工具 295 beV+3HqB8 14.4 基底的参数提取 302 Eq=JmO'gHs 14.5 金属的参数提取 306 o"A?Aq 14.6 不正确的模型 306 { Q!Xxe>6 14.7 参考文献 311 t+^__~IX 15 反演工程 313 at2)%V) 15.1 随机性和系统性 313 ]XL=S|tIq 15.2 常见的系统性问题 314 x8wsx
F 15.3 单层膜 314 e ]2GAJLI
15.4 多层膜 314 CwyE8v 15.5 含义 319 :x^e T 15.6 反演工程实例 319 J @IKXhb7_ 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ?[DVYP 15.6.2 反演工程提取折射率 327 jxYze/I 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 NpbZt;%t 16.1 光学性质的热致偏移 329 gl2l%]=\' 16.2 应力工具 335 W&3,XFnI_ 16.3 均匀性误差 339 -KG1"g,2 16.3.1 圆锥工具 339 !RjC0, 16.3.2 波前问题 341 .hoVy*I 16.4 参考文献 343 XG5T`>Yl 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 kn`O3cW/ 17.1 引言 345 0fV}n:4Pq 17.2 操作数 345 N%=,S?b 18 如何在Function中编写脚本 351 N&(MM.\`^ 18.1 简介 351 0[8uuqV[cB 18.2 什么是脚本? 351 O
>@Q>Z8W? 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 Fa{[kJ8z 18.4 基础 352 e#WASHZN 18.4.1 Classes(类别) 352 UA4MtTp` 18.4.2 对象 352 nS Vr,wU 18.4.3 信息(Messages) 352 zqRps8= 18.4.4 属性 352 ;:Tb_4Hr 18.4.5 方法 353 u_o]\D~ 18.4.6 变量声明 353 ogV v 8Xb 18.5 创建对象 354 VmXXj6l& 18.5.1 创建对象函数 355 SxkY ;^-U 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 [EQTrr(
D 18.5.3 丢弃对象 356 (ti E%nF+ 18.5.4 总结 356 M`)3(|4 18.6 脚本中的表格 357 zOy_qozk 18.6.1 方法1 357 "od2i\ 18.6.2 方法2 357 7dR]$~+*e 18.7 2D Plots in Scripts 358 vJX0c\e 18.8 3D Plots in Scripts 359 uOh 18.9 注释 360 o,$K=#Iv 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 )t2 eg1a: 18.11 一个更高级的脚本 362 h66mzV:` 18.12 <esc>键 364 BJp~/H`vd 18.13 包含文件 365 ajf(Ii\/ 18.14 脚本被优化调用 366 L;6{0b58$ 18.15 脚本中的对话框 368 $9W,1wg 18.15.1 介绍 368 )d{fDwrx1 18.15.2 消息框-MsgBox 368 mKUm*m#< |