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《Essential Macleod中文手册》 %n}.E304 s*9tWSd 目 录 iI&SI#;
_ !hH6!G ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 @oRYQ|.R 第1章 介绍 ..........................................................1 p'w[5' 第2章 软件安装 ..................................................... 3 cjN4U [ 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 F$ h/k^ 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 * n!0 第5章 软件结构 ............................................................... 21 G|O"Kv6 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ]}v`#-Px( 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 [ z$J 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 %7|qnh6 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 e9B, 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 g<.8iW 'c 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 &tRnI$D 第12章 优化和综合 ..................................................................120 <K\F/`c 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 jB1\L<P 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 dfJ7Dhn 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 vY;Lc 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 !m(6/*PAl 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 0N
T3 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Z#J{tXZc 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 gSe{S 第20章 运行表单 .................................................................... 251 l%w7N9 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 F 1zc4l6 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Ow^%n(Ezh 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 j_H
T 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 33;|52$ 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 EEo+# 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 x4( fW\ 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 x)U; 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 87>Qw,r 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 -"nYCF +es6c') hWW<]qzA, 6?iP z?5 |$w-}$jq5 e.kt]l 内容简介 bG&qgbN> Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 `dNb%f> 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ,Z^GN%Q7a 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
CFA> 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 DtN6.9H2` E<4}mSn) 目录 0zxeA+U Preface 1 :)yM9^<D 内容简介 2 Dm^kuTIG 目录 i "O
'I 1 引言 1 +]zP $5_e 2 光学薄膜基础 2 6qDD_:F 2.1 一般规则 2 '[E_7$d 2.2 正交入射规则 3 qs b4@jt+ 2.3 斜入射规则 6 iTvCkb48m 2.4 精确计算 7 \*
#4 2.5 相干性 8 =>J#_Pprn 2.6 参考文献 10 )5v .9N6v 3 Essential Macleod的快速预览 10 ,'6GG+ 4 Essential Macleod的特点 32 TDGzXJf[ 4.1 容量和局限性 33 ?yb{DZ46 4.2 程序在哪里? 33 :F\f}G3 4.3 数据文件 35 OY#_0p)i 4.4 设计规则 35 m>!#}EJ| 4.5 材料数据库和资料库 37 Q!{Dw:7 4.5.1材料损失 38 t*#&y:RG 4.5.1材料数据库和导入材料 39 h:NXO' 4.5.2 材料库 41 u5_fM*Ka 4.5.3导出材料数据 43 5S?yj 4.6 常用单位 43 3Cl9,Z"&6$ 4.7 插值和外推法 46 5=986ci$U 4.8 材料数据的平滑 50 [ub\DLl 4.9 更多光学常数模型 54 a40BisrD~6 4.10 文档的一般编辑规则 55 #*/h*GNMs 4.11 撤销和重做 56 :<gk~3\ 4.12 设计文档 57 c53`E U 4.10.1 公式 58 hdL2`5RFF 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 t_dg$KB 4.10.3 沉积密度 59 J|IDnCK 4.10.4 平行和楔形介质 60 ~dLZ[6Z 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 3\G=J 4.10.4 性能 61 AlxS?f2w 4.10.5 保存设计和性能 64 {@%(0d{n} 4.10.6 默认设计 64 pAuwSn#i 4.11 图表 64 sCl,]g0{ 4.11.1 合并曲线图 67 t@n (a 4.11.2 自适应绘制 68 <k6xScy$} 4.11.3 动态绘图 68 bYc qscW 4.11.4 3D绘图 69 Se`N5hQ 4.12 导入和导出 73 z-G (!]: 4.12.1 剪贴板 73 R.T-Pt ene 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 i#=X#_
+El 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 3(&F.&C$$ 4.13 背景 77 Qknc.Z} 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 )M 0O=Cl1 4.15 生成Rugate 84 <UdD@(iZ# 4.16 参考文献 91 jYz3(mM'J 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 !?/bK[
P, 5.1 Jobs 92 *Rh .s!@4 5.2 创建一个新Job(工作) 93 9A(K_d-!H 5.3 输入材料 94 Q8oo5vqQ#C 5.4 设计数据文件夹 95 O$/swwB! 5.5 默认设计 95 f :5/y^M& 6 细化和合成 97 CF"3<*%x 6.1 优化介绍 97 "n,ZP@M;
6.2 细化 (Refinement) 98 {B.]w9 6.3 合成 (Synthesis) 100 2v1&%x:y# 6.4 目标和评价函数 101 J|24I4 6.4.1 目标输入 102 hp4(f W 6.4.2 目标 103 ie5ijkxZ( 6.4.3 特殊的评价函数 104 MA#!<b(' 6.5 层锁定和连接 104 TWEqv<c 6.6 细化技术 104 `&zobbwq 6.6.1 单纯形 105 vh8Kd' y 6.6.1.1 单纯形参数 106 Xy<f_ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 !
hr@{CD 6.6.2.1 Optimac参数 108 _|:bac8pL 6.6.3 模拟退火算法 109 {{%8|+B 6.6.3.1 模拟退火参数 109 =Gz>ZWF 6.6.4 共轭梯度 111 ss8v4@C 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 i6 ?JX@I 6.6.5 拟牛顿法 112 <h51KPo^P 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 M&c1iK\E8 6.6.6 针合成 113 Aq'E:/ 6.6.6.1 针合成参数 114 l:yAgm` 6.6.7 差分进化 114 ^3o8F 6.6.8非局部细化 115 m(:qZW 6.6.8.1非局部细化参数 115 K0=E4>z,`q 6.7 我应该使用哪种技术? 116 <9tG_ 6.7.1 细化 116 /
i2-h 6.7.2 合成 117 X]"OW 6.8 参考文献 117 kGV`Q 7 导纳图及其他工具 118 g
'a? 7.1 简介 118 E*CQG;^=N 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Ytwv=;h- 7.2.1 四分之一波长规则 119 -L?%
o_ 7.2.2 导纳图 120 A!Ct,%
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 U2lC !j%K 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 /~cL L 7.5 斜入射导纳图 141 b\m(0/x 7.6 对称周期 141 Z*)Y:tk)b 7.7 参考文献 142 "sX?wTag 8 典型的镀膜实例 143 Nw&}qSN 8.1 单层抗反射薄膜 145 FXEfD" 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 DB'KIw 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @/NZ>. 8.4 W-膜层 148 [mzF)/[_2 8.5 V-膜层 149 LEnP"o9ZW 8.6 V-膜层高折射基底 150 4qXRDsbCf 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 V^/^OR4k 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 )TG0m= * 8.9 四层抗反射薄膜 153 7"NJraQ6 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 '!h0![OH 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 C{i;spc!bi 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Bp{`%86SE 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ::R00gd 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 +Z~!n 8.15十五层宽带抗反射膜 159 #33RhJu5, 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 8Pr7aT:, 8.17 1/4波长堆栈 162 SJc@iffS 8.18 陷波滤波器 163 gIM'bA<~ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 yP9wYF^A\ 8.20 褶皱 165 }cK~=@7tK 8.21 消偏振分光器1 169 v:Z4z6M- 8.22 消偏振分光器2 171 rjQhU%zv 8.23 消偏振立体分光器 172 Cm<j*Cnl 8.24 消偏振截止滤光片 173 .C;_4jE 8.25 立体偏振分束器1 174 \j})Kul 8.26 立方偏振分束器2 177 #Q7x:,f 8.27 相位延迟器 178 OPt;G,$ta 8.28 红外截止器 179 a(DZGQ-as
8.29 21层长波带通滤波器 180 DcR}pQ(e 8.30 49层长波带通滤波器 181 -YjgS/g 8.31 55层短波带通滤波器 182 <CKmMZ{ 8.32 47 红外截止器 183 kxqc6 8.33 宽带通滤波器 184 #!u51P1 8.34 诱导透射滤波器 186 ,\9m At1O 8.35 诱导透射滤波器2 188 V;hwAQbF 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 i@R$g~~-D 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 dGD^op,6g 8.35 增益平坦滤波器 193 jM1%6 8.38 啁啾反射镜 1 196 i|]Va44 8.39 啁啾反射镜2 198 b' oGt, 8.40 啁啾反射镜3 199 u6Qf*_- K 8.41 带保护层的铝膜层 200 fw|+7 O 8.42 增加铝反射率膜 201 =_m9so 8.43 参考文献 202 PSf5p\<5 9 多层膜 204 -llx: 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 dbuJ~?D, 9.2 内部透过率 204 q&Tn>B 9.3 内部透射率数据 205 eBC%2TF 9.4 实例 206 cI%"Ynq"3 9.5 实例2 210 KA-/k@1& 9.6 圆锥和带宽计算 212 vG<pc_ak 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 7Cd_zZ 10 光学薄膜的颜色 216 g?[&0r1 10.1 导言 216 s\C8t0C 10.2 色彩 216 E_D ^O 10.3 主波长和纯度 220 sL AuR 10.4 色相和纯度 221 iA3>X-x
10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 euj8p:+X 10.6 色差 226 8lWH=kA\ 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 >'}=.3\ 10.8 颜色渲染指数 234 'uKkl(==% 10.9 色差计算 235 I' ! r 10.10 参考文献 236 RE>ks[ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 V@_-H
gg 11.1 短脉冲 238 mYh5#E41J 11.2 群速度 239 ?)'
2l6 11.3 群速度色散 241 p>:ef<.i 11.4 啁啾(chirped) 245 )b&-3$? 11.5 光学薄膜—相变 245 jkF+g$B 11.6 群延迟和延迟色散 246 V'"I9R'1 11.7 色度色散 246 {;&B^uz
] 11.8 色散补偿 249 %/y`<lJz( 11.9 空间光线偏移 256 Zgg'9E 11.10 参考文献 258 6hM]% 12 公差与误差 260 1X::0;3 12.1 蒙特卡罗模型 260 & |