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《Essential Macleod中文手册》 lB9 9J"A ;5qZQ8`4 目 录 - Te+{ H1iewsfzH ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 mm(Ff >O 第1章 介绍 ..........................................................1 7}>7@W8 第2章 软件安装 ..................................................... 3 -0rc4<};h 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Hd
H, 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 y/57 >.3 第5章 软件结构 ............................................................... 21 (D5 dN\ 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 H&`0I$8m 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 2fIHFo\8 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 : p# 5nYi 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 (/TYET_H 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 )Y.H*ca 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 M?m Pi 3 第12章 优化和综合 ..................................................................120 W]b>k lp; 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 jd]Om
r! 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 $m{-I= 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 *9J>3 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 IiW*'0H:/ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 _p0@1 s(U 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 5=Cea 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 4eOS+& 第20章 运行表单 .................................................................... 251 MYyV{W*T> 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 LbCcOkL/@@ 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 WUnz 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 G`1!SEae 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 GHeucG}? 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 E6+c{4 1B 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 a`/\0~ 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 kucH=96 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ?r
P'PUB 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 miWog 8j S9\_ODv a}(xZ\n^D; .8[*`%K> yhTC?sf< #6okd*^ 内容简介 ,j3Yvn W Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 $W} YXLFj? 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 JTg:3<L 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 E~]37!,\\9 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Lt'FA wz[Xay9jW 目录 ":igYh Preface 1 ::<v; `l 内容简介 2 o/dj1a~U 目录 i $W_sIS0\z
1 引言 1 Lp1\vfU<+ 2 光学薄膜基础 2 2g0_[$[m 2.1 一般规则 2 W"3YA+qpI 2.2 正交入射规则 3 GpwoS1#)0| 2.3 斜入射规则 6 J_-K"T|f 2.4 精确计算 7 PvHX#wJ 2.5 相干性 8 YB`1S 2.6 参考文献 10 |f+`FOliP 3 Essential Macleod的快速预览 10 _|^cudRv 4 Essential Macleod的特点 32 8cKP_Ec 4.1 容量和局限性 33 A!GQ4.~% 4.2 程序在哪里? 33 Sm5T/&z 4.3 数据文件 35 J?y0RX 4.4 设计规则 35 /TEE<\" 4.5 材料数据库和资料库 37 Sv#S_jh 4.5.1材料损失 38 ] Hiw+5n 4.5.1材料数据库和导入材料 39 2=]Xe#5J=
4.5.2 材料库 41 \bXusLI!l 4.5.3导出材料数据 43 %+8"-u 4.6 常用单位 43 P >>VBh? 4.7 插值和外推法 46 @sPuc. 4.8 材料数据的平滑 50 %3kS;AaA 4.9 更多光学常数模型 54 Kry^47" 4.10 文档的一般编辑规则 55 #_pQS}$ 4.11 撤销和重做 56 "h\ (a< 4.12 设计文档 57 'nQQqx%v 4.10.1 公式 58 d,XNok{ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Z%4w{T+[ 4.10.3 沉积密度 59 UlD]!5NO 4.10.4 平行和楔形介质 60 d_] sV4[ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 SoJ=[5W 4.10.4 性能 61 v\ <4y P 4.10.5 保存设计和性能 64 -hU1wX%U 4.10.6 默认设计 64 *S= c0 4.11 图表 64 {kOTQG?y 4.11.1 合并曲线图 67 E{8-VmY 4.11.2 自适应绘制 68 !kQJ6U 4.11.3 动态绘图 68 uXuA4o$t- 4.11.4 3D绘图 69 {lO>i&mx 4.12 导入和导出 73 :ceT8-PBRx 4.12.1 剪贴板 73 Y'U]!c9 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 (k$KUP 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ?#0m[k&` 4.13 背景 77 YZ(tjIgQ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 L (@".{T 4.15 生成Rugate 84 X%R ) 4.16 参考文献 91 bNh~=[E 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ^&!iq K2o 5.1 Jobs 92 /r?EY&9G 5.2 创建一个新Job(工作) 93 :8LK}TY7 5.3 输入材料 94 c2~oPUj 5.4 设计数据文件夹 95 oR@1/lV 5.5 默认设计 95 w|[{xn^R 6 细化和合成 97 2qDyb]9 6.1 优化介绍 97 +Ua.\1"6 6.2 细化 (Refinement) 98 q]rqFP0C 6.3 合成 (Synthesis) 100 ,sZ)@?e 6.4 目标和评价函数 101 []<N@a6VA> 6.4.1 目标输入 102 z/P^Bx]r 6.4.2 目标 103 *z
}<eq 6.4.3 特殊的评价函数 104 r"$~Gg.%( 6.5 层锁定和连接 104 )u>/: 6.6 细化技术 104 bFB.hkTP 6.6.1 单纯形 105 YF$nL( 6.6.1.1 单纯形参数 106 _%@ri]u{ov 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ]&_z@Z.i 6.6.2.1 Optimac参数 108 V]W-**j< 6.6.3 模拟退火算法 109 cL+bMM$4r~ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 b~Un=-@5a 6.6.4 共轭梯度 111 %d^ =$Q 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 $TY1'#1U; 6.6.5 拟牛顿法 112
H$!sK 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 `%$l
b:e 6.6.6 针合成 113 z|v/hUrD 6.6.6.1 针合成参数 114 zOn%\ 6.6.7 差分进化 114 8c<OX! 6.6.8非局部细化 115 q vGP$g 6.6.8.1非局部细化参数 115 a+
s%9l 6.7 我应该使用哪种技术? 116 W.7XShwd*2 6.7.1 细化 116 V*%Lc9<d 6.7.2 合成 117 I;UCKoFT 6.8 参考文献 117 ;dquld+q 7 导纳图及其他工具 118 n0vhc; d 7.1 简介 118 fp2uk3Bm[ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 .mvpFdn 7.2.1 四分之一波长规则 119 @WnW
@'*F 7.2.2 导纳图 120
4Ixu% 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 fDrjR6xV 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 5NN`tv 7.5 斜入射导纳图 141 4%>2>5 7.6 对称周期 141 h"4i/L3aAh 7.7 参考文献 142 &w{:
qBa 8 典型的镀膜实例 143 ~mk>9Gp 8.1 单层抗反射薄膜 145 Z ItS(oJ. 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 6I-Qq?L[H 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 S&{#sl#e 8.4 W-膜层 148 LLd5Z44v 8.5 V-膜层 149 _KAg1Ww 8.6 V-膜层高折射基底 150 C7_nA:Rc 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 !Nx'4N`&l 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 T3In0LQ 8.9 四层抗反射薄膜 153 Y~P*
!g 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 =S< |