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《Essential Macleod中文手册》 A,s .<TG *Cgd?*\7 目 录 M+TF0c 8m"5J-uIi ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 DWH)<\? 第1章 介绍 ..........................................................1 #TSLgV'U 第2章 软件安装 ..................................................... 3 CSooJ1Ep~' 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 &hYjQ&n 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 -0doL^A 第5章 软件结构 ............................................................... 21 SB[,}h<u1 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Cx/duodp 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 B1Iq:5nmoS 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 t`mLZ
<X 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 $rC`)"t 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 8Lpy`He 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ZvO:!u0+" 第12章 优化和综合 ..................................................................120 9? W38EF 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 .*g;2.-qv& 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 8)k.lPoo. 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 4[&6yHJ^ 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 GS3ydN<v 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 J=U7m@))Y# 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 $mOK|=tI_ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 yx }Z:t 第20章 运行表单 .................................................................... 251 Ic/<jFZXM 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 K~WwV8c9; 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 U\~[ 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 hTn
}AsfLY 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 9aC>gye! 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 t>v']a +k 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 /aJl0GL4! 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 i9)y| 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 `czXjZE 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ()>\D MU&5&)m Ck.GN<#-^P 9H3#8T] ; Aq|LeH 5J&n<M0G1 内容简介 XfsCu> Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ^J~}KOH 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Qzh:*O 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 D\V}Eo';6 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 1
)j%]zd2 j`'=K_+nU 目录 g}qK$>EPS Preface 1 D0k7)\puQ 内容简介 2 d*>M<6b- 目录 i ($W9
? 1 引言 1 ak;Z; 2 光学薄膜基础 2 p-;]O~^ 2.1 一般规则 2 l1wxs@]( 2.2 正交入射规则 3 O.K8$ 2.3 斜入射规则 6 ?0;b}Xl-
2.4 精确计算 7 t8)Fkx#8} 2.5 相干性 8 ^LC5orO 2.6 参考文献 10 6OTxtk 3 Essential Macleod的快速预览 10
]aakEU 4 Essential Macleod的特点 32 |k+&weuY 4.1 容量和局限性 33 "msg./iC 4.2 程序在哪里? 33 3iEcLhe"4 4.3 数据文件 35 vP~F+z
@g 4.4 设计规则 35 kh,M'XbTo 4.5 材料数据库和资料库 37 tc,7yo\". 4.5.1材料损失 38 _mkI;<d]$T 4.5.1材料数据库和导入材料 39 *j*jA/ 4.5.2 材料库 41 nf
G:4k, 4.5.3导出材料数据 43 s_*eX N 4.6 常用单位 43 !J6s^um 4.7 插值和外推法 46 n'h
)(^ 4.8 材料数据的平滑 50 \iE'E 4.9 更多光学常数模型 54 <WbD4Q<3? 4.10 文档的一般编辑规则 55 }>
1h+O 4.11 撤销和重做 56 Dk"M8_-_ 4.12 设计文档 57 /w!' [ 4.10.1 公式 58 Nm081ic2< 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 "4?hK 4.10.3 沉积密度 59 I]
"$h]T 4.10.4 平行和楔形介质 60 h.Dk>H_G 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 pM7BdMp 4.10.4 性能 61 J/=A f
[ 4.10.5 保存设计和性能 64 mpF_+Mn 4.10.6 默认设计 64 2E1TJ.[BS 4.11 图表 64 ,/ig8~u'c 4.11.1 合并曲线图 67 ;_SS3q 4.11.2 自适应绘制 68 <|`@K|N 4.11.3 动态绘图 68 slmxit 4.11.4 3D绘图 69 D!sSe|sL^ 4.12 导入和导出 73 Cg|uHI* 4.12.1 剪贴板 73 0Its;| 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ^#Y6
E 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 jh?7+(Cw 4.13 背景 77 Y}#^n7*w~ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 zg
j35 4.15 生成Rugate 84 /g9{zR [ 4.16 参考文献 91 !fV6KkV 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?^!dLW 5.1 Jobs 92 i|O7nB@ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 B*AMo5 5.3 输入材料 94 w:LCm `d 5.4 设计数据文件夹 95 .5ycO 5.5 默认设计 95 [O)Zof 6 细化和合成 97 2Ee1mbZVw8 6.1 优化介绍 97 $P@cS1sB 6.2 细化 (Refinement) 98 xq)/ QR 6.3 合成 (Synthesis) 100 PmY:sJ{M 6.4 目标和评价函数 101 >V$#Um?AXj 6.4.1 目标输入 102 W.R'2R# 6.4.2 目标 103 ri;M7rg`.{ 6.4.3 特殊的评价函数 104 Ww@;9US 3 6.5 层锁定和连接 104 o'4@]ae 6.6 细化技术 104 d&u/7rm 6.6.1 单纯形 105 :&-}S>pC 6.6.1.1 单纯形参数 106 _Kj. 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 \xZBu" 6.6.2.1 Optimac参数 108 Ny'v/+nQ 6.6.3 模拟退火算法 109 #]N9/Hij#g 6.6.3.1 模拟退火参数 109 KEN-G 6.6.4 共轭梯度 111 csM|VNE> 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 }"x*xN 6.6.5 拟牛顿法 112 {4 d$]o0V 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 4<K`yU]" 6.6.6 针合成 113 I`kp5lGD2 6.6.6.1 针合成参数 114 ]e`_.>U 6.6.7 差分进化 114 `4q}D-'TF8 6.6.8非局部细化 115 sN}@b8o@ 6.6.8.1非局部细化参数 115 9GwsQ \ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ;wxt< 6.7.1 细化 116 kf!/9 6.7.2 合成 117 =k7\g / 6.8 参考文献 117 N8q Z{CWn 7 导纳图及其他工具 118 PZR%8 m}]u 7.1 简介 118 wIj2 IAD 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 5;
[|k$ v 7.2.1 四分之一波长规则 119 IR8&4qOs 7.2.2 导纳图 120 =*}Mymhk( 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 !q\w"p0X 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 {:X];A$ 7.5 斜入射导纳图 141 9y*!W 7.6 对称周期 141 ]r1{%:8 7.7 参考文献 142 %Nl(Y@dD* 8 典型的镀膜实例 143 26VdRy{[ 8.1 单层抗反射薄膜 145 ;j>d"i36& 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 8#u_+;,p 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 BQ:Kx _
8.4 W-膜层 148 kte.E%.PE 8.5 V-膜层 149 7NC8< |