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《Essential Macleod中文手册》 O|m-Uz"+ Rcs7 'q5 目 录 m:5 *:Ii. RE Dh`Wd ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ,uqSq 第1章 介绍 ..........................................................1 ?1?D[7$ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 GQhzQM1HS 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 p/>}{Q )Y 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 $J"}7+ 第5章 软件结构 ............................................................... 21 I&Q.MItW 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 I$xfCu 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 P$S>=*`n
U 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 2c@4<kyfP 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 |UZPn>F~ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 *i|O!h1St 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 N(q%|h<Z/= 第12章 优化和综合 ..................................................................120 ,pE{N&p9 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 = q9>~E{} 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 }&sF
\b 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 jv<BGr=4; 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 w]X~I/6g 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 w G[X*/v 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 YbB8D- 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Uq `B#JI 第20章 运行表单 .................................................................... 251 ~f0Bu:A) 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 SjV;&
1Z/ 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 +!Q <gWb 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ,!_$A}@0
^ 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 M@EML
@~ 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 {rQ6IV3= 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Tu95qL~^ 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Sx?IpcPSm 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ?.~E:8 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 (Em^qN $50A!h <3zA| {;1Mud ysm)B?+k lgFA}p@ 内容简介 Gh}sk-Xk= Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 .)~IoIW= 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Bpt%\LK\~O 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 F+
qRC_C>O 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 #8iRWm0*6 "_t2R &A 目录 8gWifx
#N Preface 1 mlc0XDS%
内容简介 2 `6;%HbP$W+ 目录 i 2iC7c6hc 1 引言 1 /\P3UrQ&] 2 光学薄膜基础 2 B|U*2|e 2.1 一般规则 2 ^[6eo8Ck> 2.2 正交入射规则 3 U86bn(9K 2.3 斜入射规则 6 NF+^ 2.4 精确计算 7 Hh`x>{,|S 2.5 相干性 8 5/4N Y 2.6 参考文献 10 ~ /s(.oji 3 Essential Macleod的快速预览 10 DU(QQ53 4 Essential Macleod的特点 32 &6
.r=,BO 4.1 容量和局限性 33 s<,[xkMB 4.2 程序在哪里? 33 OhMnG@@ 4.3 数据文件 35 EwDFU K 4.4 设计规则 35 F;$z[z 4.5 材料数据库和资料库 37 t@(S=i7}- 4.5.1材料损失 38 |35"V3bs 4.5.1材料数据库和导入材料 39 t;X
!+ 4.5.2 材料库 41 sbn|D\p 4.5.3导出材料数据 43 Ca}T)]// 4.6 常用单位 43 WgX9k J 4.7 插值和外推法 46 "`<tq#&C1 4.8 材料数据的平滑 50 }jTCzqHW] 4.9 更多光学常数模型 54 ,SQmQ6h 4.10 文档的一般编辑规则 55 ^1y (N>W 4.11 撤销和重做 56 Mg3>/! 4.12 设计文档 57 FVw;`{ 4.10.1 公式 58 /J{
e_a 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 5n,?&+*L 4.10.3 沉积密度 59 <j
CD^ 4.10.4 平行和楔形介质 60 m/}(dT; 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 $OEhdz&Fi 4.10.4 性能 61 @BCws) 4.10.5 保存设计和性能 64 W~(4t:hp 4.10.6 默认设计 64 e(nT2E 4.11 图表 64 peW4J<, 4.11.1 合并曲线图 67 6aC'\8{h 4.11.2 自适应绘制 68 ,m ^q> 4.11.3 动态绘图 68 w}2 ;f= 4.11.4 3D绘图 69 fsd,q?{a: 4.12 导入和导出 73 'Pk14`/ 4.12.1 剪贴板 73 5X"y46i,H 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 hH Kd+QpI 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 g=iPv3MG 4.13 背景 77 `Hj{XIOx 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 C'5b)0km 4.15 生成Rugate 84 HCj/x<*F 4.16 参考文献 91 ['1JNUX 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 jm~(OLg 5.1 Jobs 92 [fVtQ@-S! 5.2 创建一个新Job(工作) 93 )X-~+X91S 5.3 输入材料 94 X{2))t%
5.4 设计数据文件夹 95 Py?EA*(d# 5.5 默认设计 95 !l2=J/LJj 6 细化和合成 97 Wp5w}8g 6.1 优化介绍 97 B?o ?LI 6.2 细化 (Refinement) 98 *WS'C}T 6.3 合成 (Synthesis) 100 >wsS75n1 6.4 目标和评价函数 101 {|cuu"j26 6.4.1 目标输入 102 ^uZ!e+ 6.4.2 目标 103 &dA{ <. 6.4.3 特殊的评价函数 104 x.gRTR`7( 6.5 层锁定和连接 104 8Ter]0M& 6.6 细化技术 104 2RW^Nqc9 6.6.1 单纯形 105 f+A!w8E 6.6.1.1 单纯形参数 106 HI+87f_Q 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 fg[]>:ZT. 6.6.2.1 Optimac参数 108 a-nf5w>&q 6.6.3 模拟退火算法 109 e* 2ay1c 6.6.3.1 模拟退火参数 109 h5@v:4Jjo~ 6.6.4 共轭梯度 111 ^uG^XY&ItC 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 p~X=<JM 6.6.5 拟牛顿法 112 o*\cV6 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 i,k.#Vx[m 6.6.6 针合成 113 cSMiNR 6.6.6.1 针合成参数 114 I,rs&m?/m 6.6.7 差分进化 114 Glz yFj 6.6.8非局部细化 115 ^Ob#B!= 6.6.8.1非局部细化参数 115 a04I.5! 6.7 我应该使用哪种技术? 116 8Xo`S<8VS 6.7.1 细化 116 !%v=9muay 6.7.2 合成 117 8[2.HM$Y 6.8 参考文献 117 ]J`yh$a 7 导纳图及其他工具 118 drv"I[}{A 7.1 简介 118 zxo0:dyw7 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ^
W/,Z` 7.2.1 四分之一波长规则 119 kTCWyc 7.2.2 导纳图 120 C3m](%? 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 kaKV{;UM 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 P:`tL)W_ 7.5 斜入射导纳图 141 G/cE2nD 7.6 对称周期 141 ^;KL` 7.7 参考文献 142 C}})dL;( 8 典型的镀膜实例 143 CBj&8#8Z 8.1 单层抗反射薄膜 145 1m$< %t.> 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 CO+[iJ,4C+ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 SL(
WE=H 8.4 W-膜层 148 qa|"kRCO 8.5 V-膜层 149 fF~3"!1#\I 8.6 V-膜层高折射基底 150 wF@mHv 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 \&|zD"* 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 xKol 8.9 四层抗反射薄膜 153 ^+v6?%m 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 fJjtrvNy) 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 bU(H2Fv 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 zAr@vBfC% 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Hcts^zm2u 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 tks3xS 8.15十五层宽带抗反射膜 159 mAI< |