-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-01-28
- 在线时间1922小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
《Essential Macleod中文手册》 U7H9/<&o }9&9G% 目 录 j*zD0I] 9%!dNnUk ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Mqv[XHfB 第1章 介绍 ..........................................................1 Dp!zk}f| 第2章 软件安装 ..................................................... 3 $<w)j! 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 '*R%^RK 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 (-"`,8K 2} 第5章 软件结构 ............................................................... 21 i@zY9,b 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 QUOKThY? 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 N 8t=@~] 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ;/sHWI
f+Z 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 QxpKX_@Q5 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 -t3i^&fj8 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 JP'=
UZ' 第12章 优化和综合 ..................................................................120 PW)aLycPK 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ,]$A\+m' 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 m{(+6-8|m 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Vb)zZ^va+ 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 &;>4N"] 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 m,tXE%l 第18章 堆栈 ......................................................................... 213
CL3xg)x6 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 u%2KwRQ 第20章 运行表单 .................................................................... 251 $f-hUOuyo 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 MR;X&Up6! 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Kf.T\V4% 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 5Op_*N{V 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 2 ZG@!Y| 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 %Fft
R1" 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 pFO^/P' 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 (?Q|s, 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 `X
-<$x 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 U Cb02h J@#?@0]F <avQR9'& fRHKQ(a# KoHGweKl# F
?=9eISLJ 内容简介 CqoG.1jJS Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 -dRFA2Y 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 5*G%IR@@LK 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 @ 4UxRp6+ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Zb(t3I>n , =y#m-9 目录 [1(FgyE Preface 1 ^v:Z o 内容简介 2 r"]'`qP, 目录 i .eF_cD7v 1 引言 1 E1*QdCV2 2 光学薄膜基础 2 qd6fU^)i 2.1 一般规则 2 =m tY 2.2 正交入射规则 3 n-afDV 2.3 斜入射规则 6 +^ yq;z 2.4 精确计算 7 id,NONb\ 2.5 相干性 8 )K0i@hM(n 2.6 参考文献 10 wCb(>pL0 3 Essential Macleod的快速预览 10 yyP-=Lhmo= 4 Essential Macleod的特点 32 ^jyD# 4.1 容量和局限性 33 H3O@9YU 4.2 程序在哪里? 33 ht6244: 4.3 数据文件 35 aC^$*qN-) 4.4 设计规则 35 9- )qZ 4.5 材料数据库和资料库 37 {IM! Wb 4.5.1材料损失 38 $c9k*3{<+A 4.5.1材料数据库和导入材料 39 u, kU$ 4.5.2 材料库 41 J;QUPpHZ 4.5.3导出材料数据 43 5Ec/(-F 4.6 常用单位 43 ;Icixu'O 4.7 插值和外推法 46 ls|LCQPx 4.8 材料数据的平滑 50 lU.Kc 4.9 更多光学常数模型 54 %1}6q`:w 4.10 文档的一般编辑规则 55 >k(MUmhX 4.11 撤销和重做 56 ;Yts\4BSM 4.12 设计文档 57 H lB]38 4.10.1 公式 58 =r4!V> 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ,+1m`9} 4.10.3 沉积密度 59 j8$Zv%Ca% 4.10.4 平行和楔形介质 60 Poy^RpnX 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Mr3-q 4.10.4 性能 61 |g&ymFc 4.10.5 保存设计和性能 64 w *!wQ,o 4.10.6 默认设计 64 C"eXs#A 4.11 图表 64 s] au/T6b 4.11.1 合并曲线图 67 {"}V&X160o 4.11.2 自适应绘制 68 ;hDa@3|]34 4.11.3 动态绘图 68 Q!'qC*Gyfn 4.11.4 3D绘图 69 GDhM<bVqM* 4.12 导入和导出 73 eSy(~Y 4.12.1 剪贴板 73 wEEn? 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 C/@LZ OEL 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 cxyM\@QB3 4.13 背景 77 ?S[Y:<R{: 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 #I0pYA2m 4.15 生成Rugate 84 \:_3i\2p 4.16 参考文献 91 dE(tFZx 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 SNY (* 5.1 Jobs 92 vmZ"o9-{#X 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ?dq#e9 5.3 输入材料 94
vNDu9ovs- 5.4 设计数据文件夹 95 wNWka7P* 5.5 默认设计 95 gPXa>C 6 细化和合成 97 FfFak@H 6.1 优化介绍 97 }*wLEa 6.2 细化 (Refinement) 98 u=NG6G 6.3 合成 (Synthesis) 100 {})$
9 9"x 6.4 目标和评价函数 101 [M+tB"_ 6.4.1 目标输入 102 `=)2<Ca;~@ 6.4.2 目标 103 E3l*8F%<3 6.4.3 特殊的评价函数 104 E`;;&V q- 6.5 层锁定和连接 104 3vic(^Qh 6.6 细化技术 104 ~^US/" 6.6.1 单纯形 105 v}(6 <wnnS 6.6.1.1 单纯形参数 106 KtN&,C )lJ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 -1%OlKC 6.6.2.1 Optimac参数 108 +pmu2}E.3 6.6.3 模拟退火算法 109 [0@`wZ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 grom\ 6.6.4 共轭梯度 111 URTzX
2'[ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 >,5i60Q 6.6.5 拟牛顿法 112 .qD@
Y3- 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 S-Fo 6.6.6 针合成 113 }VCI=?- 6.6.6.1 针合成参数 114 Ol@_(U 6.6.7 差分进化 114 #5ax^p2*~ 6.6.8非局部细化 115 }SfbCa)UO 6.6.8.1非局部细化参数 115 g.DLfwI| 6.7 我应该使用哪种技术? 116 1= VJ&D; 6.7.1 细化 116 Z|m`7xeCy 6.7.2 合成 117 >)nS2bOE 6.8 参考文献 117 '+y_\ 7 导纳图及其他工具 118 fw-\|fP 7.1 简介 118 vT{ kL 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
gwB\<rzG 7.2.1 四分之一波长规则 119 zqySm)o] 7.2.2 导纳图 120 '-PC7"o 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 7=}F{U 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 -_A$DM!^=w 7.5 斜入射导纳图 141 lFG9=Wf 7.6 对称周期 141 /R8p] 7.7 参考文献 142 > 0> 8 典型的镀膜实例 143 %5'6Tj 8.1 单层抗反射薄膜 145 +Wn& |