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《Essential Macleod中文手册》 tWy0%
- ^=@L(;Y
目 录 2bwf( ?]SSmZpk ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ]P;Ng=a 第1章 介绍 ..........................................................1 ^w'y>uFM 第2章 软件安装 ..................................................... 3 $Kn{x!,"( 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 $-'p6^5 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 1TeYA6 t 第5章 软件结构 ............................................................... 21 $lmGMljF 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 hs< )< 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 raRb
K8CQ 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 9q;n@q:29 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 hOjy$Z 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 A46z2 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 daS l.:1 第12章 优化和综合 ..................................................................120 9`eu&n@Z 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 v1wMXOR 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 57*`y'CW 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 9BgR@b 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Lq.aM.&;# 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 %7WGodlXW 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ~LqjWU 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 JG-\~'9 第20章 运行表单 .................................................................... 251 }cuU5WQ?% 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ~_R8; b 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 jt5en;AA[ 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ikd~ k>F 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297
c+P.o.k; 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 =z`GC1]bL 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 HC4qP9Gs 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 cC@B\Q 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 *mH++3h 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 H0tjBnu
= rDoXm e7rD,`NiV F"o
K*s \=3V]7\& T;jy2|mLo 内容简介 %!Z9: +;B Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 TV#X@jQ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ##Jg>HL' 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ^p3"_;p)h 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 }cUq1r-bW @AM;58. 目录 (Q~ p"Ch Preface 1 I6!~(ND7 内容简介 2 +zMWIG 目录 i xx[XwN; 1 引言 1 |Et8FR3[m 2 光学薄膜基础 2 "SGq$3D 2.1 一般规则 2 !
*Snx 2.2 正交入射规则 3 ro:B[XE 2.3 斜入射规则 6 S+aXlb 2.4 精确计算 7 1yHlBeEC 2.5 相干性 8 T \d-r#{ 2.6 参考文献 10 WBcnE(zF 3 Essential Macleod的快速预览 10 $J]VY;C! 4 Essential Macleod的特点 32 z^;0{q, 4.1 容量和局限性 33 wB%:RI, 4.2 程序在哪里? 33 A{3VTe4TV 4.3 数据文件 35 %#5yC|o9Pn 4.4 设计规则 35 |ipL.<v7 4.5 材料数据库和资料库 37 4KH8dau.fF 4.5.1材料损失 38 <UI^~Azc# 4.5.1材料数据库和导入材料 39 -nM=^i4) 4.5.2 材料库 41 ,|:TML 4.5.3导出材料数据 43 XEK% \o} 4.6 常用单位 43 U7GgGMw 4.7 插值和外推法 46 `[.b>ztqgJ 4.8 材料数据的平滑 50 B{x`^3qR 4.9 更多光学常数模型 54 t}$WP&XRG< 4.10 文档的一般编辑规则 55 b8Bf,&:ys 4.11 撤销和重做 56 ~=xiMB;oH 4.12 设计文档 57 }2@Aj 4.10.1 公式 58 hn-+]Y: 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 $hND!T+; 4.10.3 沉积密度 59 {w/{)BnPG 4.10.4 平行和楔形介质 60 &d5n_:^
4.10.5 渐变折射率和散射层 60 [w>T.b 4.10.4 性能 61 l~_]k 4.10.5 保存设计和性能 64 +MHsdeGU1W 4.10.6 默认设计 64 t(d$v_*y51 4.11 图表 64 ,gag_o{*a 4.11.1 合并曲线图 67 'MF|(` 4.11.2 自适应绘制 68 {Y0Uln5u 4.11.3 动态绘图 68 BC*)@=7fx 4.11.4 3D绘图 69 . }#R 4.12 导入和导出 73
-L zx3" 4.12.1 剪贴板 73 O$
p 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 \L6kCY 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ]'
ck!eG 4.13 背景 77 \&[Jtv * 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 >d/DXv
3 4.15 生成Rugate 84 ZeB"k)FI> 4.16 参考文献 91 JI"&3H")g% 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 q$#5>5& 5.1 Jobs 92 PIo8m f/ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 0-s[S 5.3 输入材料 94 YTb/ LeuT 5.4 设计数据文件夹 95 U;PGBoe 5.5 默认设计 95 G0e]PMeFl 6 细化和合成 97 1u9*)w 6.1 优化介绍 97 VaV(+X 6.2 细化 (Refinement) 98 -MA/:EB 6.3 合成 (Synthesis) 100 ]H%SGQPn 6.4 目标和评价函数 101 Ll2yJ
.C4 6.4.1 目标输入 102 2b&&3u8 6.4.2 目标 103 CO%o.j=1 6.4.3 特殊的评价函数 104 qwf97pg$ 6.5 层锁定和连接 104 ON.1'Wk? 6.6 细化技术 104 ca@?-) 6.6.1 单纯形 105 7dg2-4 6.6.1.1 单纯形参数 106 te<lCD6 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 {hP_"nN# 6.6.2.1 Optimac参数 108 Q/u2Q;j> 6.6.3 模拟退火算法 109 6ct'O**k*& 6.6.3.1 模拟退火参数 109 XWuHH;~*L 6.6.4 共轭梯度 111 By&ibN), 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 sWG_MEbu 6.6.5 拟牛顿法 112 -gq,^j5, 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 %I`%N2ss 6.6.6 针合成 113 o.o$dg(r! 6.6.6.1 针合成参数 114 F"G]afI9+ 6.6.7 差分进化 114 #8{U0 7]" 6.6.8非局部细化 115 M15jwR!:M 6.6.8.1非局部细化参数 115 p-qt?A 6.7 我应该使用哪种技术? 116 .+.'TY-- 6.7.1 细化 116 3EVAB0/$ 6.7.2 合成 117 {S$]I)tV 6.8 参考文献 117 [yyL2=7 7 导纳图及其他工具 118 bF"1M#u: 7.1 简介 118 9ZYT#h 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 <3SO1@? 7.2.1 四分之一波长规则 119 ]YF_c,Q 7.2.2 导纳图 120 bE6:pGr 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Y|3n^%I 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Q
1:7 9 7.5 斜入射导纳图 141 mS]& 7.6 对称周期 141 Szb#:C 7.7 参考文献 142 uXm_ pQpF
8 典型的镀膜实例 143 R= co2 5 8.1 单层抗反射薄膜 145 ua8Burl7 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 VfFXH,j 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 G+SMH`h 8.4 W-膜层 148 ';vLj1v 8.5 V-膜层 149 y~r5KB6w 8.6 V-膜层高折射基底 150 141G~@- 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 >[qoNy; 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 BYKONZu 8.9 四层抗反射薄膜 153 lx H3a :gm 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 .@kjC4m 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 "<=HmE-; 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 yh'uH 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 R2Y.s^ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 yh'P17N|q 8.15十五层宽带抗反射膜 159 r9vO(m~ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 X$0&tmum 8.17 1/4波长堆栈 162 4?c4GT9(6S 8.18 陷波滤波器 163 H[e=^JuD 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 )J>-;EYb8 8.20 褶皱 165 _@/nc:)H 8.21 消偏振分光器1 169 nX>HRdC 8.22 消偏振分光器2 171 ?E6C|A$I 8.23 消偏振立体分光器 172 j96\({;k 8.24 消偏振截止滤光片 173 #*zl;h1( 8.25 立体偏振分束器1 174 M/LC:, 8.26 立方偏振分束器2 177 P: QSr8K 8.27 相位延迟器 178 SKdh!*G 8.28 红外截止器 179 |.~0Ulk, 8.29 21层长波带通滤波器 180 Xf/qUao 8.30 49层长波带通滤波器 181 2l.qINyz 8.31 55层短波带通滤波器 182 lmbC2\GT 8.32 47 红外截止器 183 ( kFg2kG 8.33 宽带通滤波器 184 of<(4<T 8.34 诱导透射滤波器 186 Ni
Y.OwKr 8.35 诱导透射滤波器2 188 $8;`6o` 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 @ r G=>??k 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 \ 0J&^C 8.35 增益平坦滤波器 193
rsPo~nA 8.38 啁啾反射镜 1 196 QG8X{' 8.39 啁啾反射镜2 198 Pq<]`9/w^w 8.40 啁啾反射镜3 199 F&6Xo]? 8.41 带保护层的铝膜层 200 ,+U,(P5>s 8.42 增加铝反射率膜 201
.% {4B,d$ 8.43 参考文献 202 (d?sFwOt\ 9 多层膜 204 CS\T@)@t 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 7dq*e4z) 9.2 内部透过率 204 `F,*NESv 9.3 内部透射率数据 205 +)U>mm, 9.4 实例 206 ^E}};CsT 9.5 实例2 210 Z%9_vpWc 9.6 圆锥和带宽计算 212 V'm4DR#M 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 1@6FV x 10 光学薄膜的颜色 216 -d8U Hc 10.1 导言 216 E%np-is{1 10.2 色彩 216 M
#)@! 10.3 主波长和纯度 220 [7sy}UH 10.4 色相和纯度 221 :@c\a99Kx 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 >21f%Z 10.6 色差 226 u0?,CQPL 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 01&J7A2 10.8 颜色渲染指数 234 tv\_&
({ 10.9 色差计算 235 D\9-MXc1 10.10 参考文献 236 dHJ#xmE!pP 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 r{
}&* Y 11.1 短脉冲 238 {OGv1\ol& 11.2 群速度 239 W, -fnJk 11.3 群速度色散 241 ]zUvs6ksLG 11.4 啁啾(chirped) 245 tZ*z.3\< 11.5 光学薄膜—相变 245 M9dOLM. 11.6 群延迟和延迟色散 246 T$vDw|KSVP 11.7 色度色散 246 qpZR-O 11.8 色散补偿 249 se]q~<& 11.9 空间光线偏移 256 ]<g`rR7} 11.10 参考文献 258 #z&@f 12 公差与误差 260 M~"93 Q`f^ 12.1 蒙特卡罗模型 260 si,W.9rU 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ! 1wf/C;= 12.2.1 误差工具 267 nhb: y 12.2.2 灵敏度工具 271 _X"G( 12.2.2.1 独立灵敏度 271 60Szn]z'8[ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 ^f_4w|u,+ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 ,I^:xw_ 12.3 参考文献 276 riz[AAB 13 Runsheet 与Simulator 277 x!^u$5c 13.1 原理介绍 277 Udl8?EVSz 13.2 截止滤光片设计 277 PH6NU&H 14 光学常数提取 289 s$PPJJT{b 14.1 介绍 289 V^/]h
u 14.2 电介质薄膜 289 k%2Rv4)hU 14.3 n 和k 的提取工具 295 "79"SSfOc 14.4 基底的参数提取 302 MzX4/*ba 14.5 金属的参数提取 306 } Rs@ 14.6 不正确的模型 306 jc-$l 14.7 参考文献 311 b@?pofZ`k 15 反演工程 313 V+- ]txu| 15.1 随机性和系统性 313 y>jP]LR4 15.2 常见的系统性问题 314 ,,o5hD0V9 15.3 单层膜 314 b@
S. 15.4 多层膜 314 .Mz'h9@ 15.5 含义 319 4b<>gpQ 15.6 反演工程实例 319 o'auCa,N 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Yj/[I\I"m 15.6.2 反演工程提取折射率 327 29~Bu5 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 ;fl3'.S[ 16.1 光学性质的热致偏移 329 Ks_B%d 16.2 应力工具 335 ux=0N]lc 16.3 均匀性误差 339 T2p;#)dP 16.3.1 圆锥工具 339 nr>Os@\BU 16.3.2 波前问题 341 9W+RUh^W 16.4 参考文献 343 <V_P)b8$1 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 .M zAkZ= 17.1 引言 345 /@`kM'1:
17.2 操作数 345 QxS=W2iN 18 如何在Function中编写脚本 351 _zF*S]9
X 18.1 简介 351 X^c2 18.2 什么是脚本? 351 ^j>w<ljzz 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 #yi&-9B 18.4 基础 352 t~(|2nTO5 18.4.1 Classes(类别) 352 Exu>% 18.4.2 对象 352 6<>T{2b:(p 18.4.3 信息(Messages) 352 Yp(F}<f? 18.4.4 属性 352 .QVZ! 18.4.5 方法 353 C]'ru 18.4.6 变量声明 353 lS!uL9t. 18.5 创建对象 354 eGr;P aG 18.5.1 创建对象函数 355 h-+GS% 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 z [9f 18.5.3 丢弃对象 356 f&ri=VJY\T 18.5.4 总结 356 75?z" i 18.6 脚本中的表格 357 iB0#Z_ 18.6.1 方法1 357 ;(I')[R" 18.6.2 方法2 357 M>LgEc-v67 18.7 2D Plots in Scripts 358 5i|DJ6 18.8 3D Plots in Scripts 359 r< ~pSj 18.9 注释 360 \#O}K 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 tQSJ"Q 18.11 一个更高级的脚本 362 j,@@[{tu 18.12 <esc>键 364 6xq/ 18.13 包含文件 365 R m^$Dn 18.14 脚本被优化调用 366 waRK$/b
( 18.15 脚本中的对话框 368 *s1^s;LR 18.15.1 介绍 368 _j Ck)3KO 18.15.2 消息框-MsgBox 368 |b^+=
" 18.15.3 输入框函数 370 #ssSs]zl 18.15.4 自定义对话框 371 \:vHB! 2E 18.15.5 对话框编辑器 371 {.mPe| 18.15.6 控制对话框 377 q47:kB{d 18.15.7 更高级的对话框 380 1
|T{RY5 18.16 Types语句 384 !${7 )=|=1 18.17 打开文件 385 14Y<-OO:
k 18.18 Bags 387 & cV$`L 18.13 进一步研究 388 M|DVFC 19 vStack 389 +$y%H 19.1 vStack基本原理 389
BWG*UjP
M 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 qGVf!R 19.3 五棱镜 393 r=74'g 19.4 光束距离 396 *}< |