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《Essential Macleod中文手册》 BL}\D;+t Ynj,pl 目 录 <)H9V-5aZ v@L;x [Q ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 p8O2Z?\ 第1章 介绍 ..........................................................1 Ffz,J6b 第2章 软件安装 ..................................................... 3 4xje$/_d
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 !wVM= z^G 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 YK'<NE3 4 第5章 软件结构 ............................................................... 21 77f9(~ZnT 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 %ntRG! 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 Cl7xt}I 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 [}=B8#Jl-C 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 45c$nuZ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 UB@+ck 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 904}Jh, 第12章 优化和综合 ..................................................................120 FcU SE 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ^jZbo{ 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 "ze|W\Bv! 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 "<1{9 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 SY\ gXO8k 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 L#sMSVC+ 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ^hM4j{|&M 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 7R\<inCQ 第20章 运行表单 .................................................................... 251 @qAS*3j 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 O_7|C\] 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 aX'*pK/- 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 Why`ziks 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 JK5gQ3C[ 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 %7.30CA|# 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 hHnYtq 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 $'M!HJxb 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 5U$0F$BBp 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 +[mk<pQ m;QMQeGz xi}skA /y}xX 0x@
mZ `d}2O%P 内容简介 Yc?*dUV Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Tyx_/pJT 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 8&slu{M-
t 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 zQd
2 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 b8 likP"T kt:!
7 目录 [7Oe3= Preface 1 uKHxe~ 内容简介 2 -[.[>&`/ 目录 i (f"4,b^] 1 引言 1 "^%cJAnLX 2 光学薄膜基础 2 h2d(?vOT 2.1 一般规则 2 C LRdm^B 2.2 正交入射规则 3 0 @oJFJrO 2.3 斜入射规则 6 /gP+N2o+} 2.4 精确计算 7 fNFY$:4X 2.5 相干性 8 +CNv l 2.6 参考文献 10 oCz/HQoBk 3 Essential Macleod的快速预览 10 }BP;1y6-r 4 Essential Macleod的特点 32 4.t-i5 4.1 容量和局限性 33 DB,J3bm 4.2 程序在哪里? 33 cbTm'}R(G 4.3 数据文件 35 a&? :P1$ 4.4 设计规则 35 D*d]aC 4.5 材料数据库和资料库 37 Q\Vgl(;lX 4.5.1材料损失 38 oUlVI*~ND 4.5.1材料数据库和导入材料 39 |yPu!pfl 4.5.2 材料库 41 SvF<p3 4.5.3导出材料数据 43 jmZI7?<z 4.6 常用单位 43 a\*yZlXKs 4.7 插值和外推法 46 =T7.~W 4.8 材料数据的平滑 50 }N52$L0[ 4.9 更多光学常数模型 54 =rdV ]{Wc 4.10 文档的一般编辑规则 55 .7X^YKR 4.11 撤销和重做 56 X"%gQ.1|{j 4.12 设计文档 57 DN6Mo<H 4.10.1 公式 58 Xsa]. 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ;RlxD 4p 4.10.3 沉积密度 59 f3y=Wxk[ 4.10.4 平行和楔形介质 60 N"ST@/j.A 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 TB31-
() 4.10.4 性能 61 }0y"F 4.10.5 保存设计和性能 64 do'GlU oMC 4.10.6 默认设计 64 $[ *w"iQ 4.11 图表 64 7b+6%fV 4.11.1 合并曲线图 67 O;3>sLgc 4.11.2 自适应绘制 68 k+*u/neh 4.11.3 动态绘图 68 a d\ot#V 4.11.4 3D绘图 69 zfdl45 4.12 导入和导出 73 MF'JeM;H 4.12.1 剪贴板 73 5[0?g@aO 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 v`T
c}c ' 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 n `Ac 3A 4.13 背景 77 ))Za&S*< 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 JW&gJASGC 4.15 生成Rugate 84 {_*yGK48n 4.16 参考文献 91 E"IZ6)Q 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ~"A0Rs= 5.1 Jobs 92 c &c@M$ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 'Pbr
v 5.3 输入材料 94 :k#HW6p 5.4 设计数据文件夹 95 2~[juWbz 5.5 默认设计 95 uQzXfOq 6 细化和合成 97 `WS&rmq&' 6.1 优化介绍 97 D2O~kNd 6.2 细化 (Refinement) 98 K(|}dl: 6.3 合成 (Synthesis) 100 ;kKyksxlD 6.4 目标和评价函数 101 %a7$QF] 6.4.1 目标输入 102 k}rbim 6.4.2 目标 103 F"mmLao 6.4.3 特殊的评价函数 104 [#iz/q~} 6.5 层锁定和连接 104 N$tGQ@
6.6 细化技术 104 cZ3v=ke^ 6.6.1 单纯形 105 ia?
c0xL 6.6.1.1 单纯形参数 106 Iga024KR 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 vih9KBT 6.6.2.1 Optimac参数 108 E?@m?@*/ 6.6.3 模拟退火算法 109 y1#1Ne_ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 2~2 O V 6.6.4 共轭梯度 111 Ho]su? 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 :23P!^Y
6.6.5 拟牛顿法 112 6S{l'!s' 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -Qe'YBy: 6.6.6 针合成 113 @(lh%@hO 6.6.6.1 针合成参数 114 HVAYPerH 6.6.7 差分进化 114 nr#|b`J] 6.6.8非局部细化 115 2KZneS` 6.6.8.1非局部细化参数 115 nr3==21Om4 6.7 我应该使用哪种技术? 116 moE2G?R 6.7.1 细化 116 GtHivC 6.7.2 合成 117 lLIAw$ 6.8 参考文献 117 C_Wc5{ 7 导纳图及其他工具 118 uw8f ~:LT 7.1 简介 118 cH)";]k*- 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 e}W)LPR! 7.2.1 四分之一波长规则 119 k;W
XB|k 7.2.2 导纳图 120 5-A\9UC*@ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 e#q}F>/L 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 dF2RH)Ud 7.5 斜入射导纳图 141 ")25
qZae 7.6 对称周期 141 o !7va" 7.7 参考文献 142 C9;kpqNG#u 8 典型的镀膜实例 143 yh=N@Z*zP 8.1 单层抗反射薄膜 145 fB,_9K5i 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 *lb<$E]="! 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 :zR!/5 8.4 W-膜层 148 K>
e7pu 8.5 V-膜层 149 !_(Tqyg& 8.6 V-膜层高折射基底 150 : E?V. 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Z6m)tZVM 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 M3Kfd 8.9 四层抗反射薄膜 153 %|4UsWZ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 WF"k[2 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 #fM'>$N 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 wyG;8I 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ;wD)hNLAvR 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 I}Q2Vu< 8.15十五层宽带抗反射膜 159 .wr>]yN 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 c[e}w+uB 8.17 1/4波长堆栈 162 ']oQ]Yx0 8.18 陷波滤波器 163 J8D,ZfPN`d 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 .e5Mnd%$M 8.20 褶皱 165 2"~8Z(0 8.21 消偏振分光器1 169 92-I~
!d 8.22 消偏振分光器2 171 rLT!To 8.23 消偏振立体分光器 172 h7@6T+#WoT 8.24 消偏振截止滤光片 173 NuI9iU 8.25 立体偏振分束器1 174 E)3NxmM# 8.26 立方偏振分束器2 177 !o-@&q 8.27 相位延迟器 178 'f|o{ 8.28 红外截止器 179 q'11^V!0 8.29 21层长波带通滤波器 180 .sA.C]f 8.30 49层长波带通滤波器 181 *|l/6!WM 8.31 55层短波带通滤波器 182 |&jXp%4T 8.32 47 红外截止器 183 Aa]" 8.33 宽带通滤波器 184 SY8C4vb'h 8.34 诱导透射滤波器 186 O9p|a%o 8.35 诱导透射滤波器2 188 "ITIhnE 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 8$|=P!7EO 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 aN=B]{! 8.35 增益平坦滤波器 193 GJUL$9 8.38 啁啾反射镜 1 196 6@Y|"b 8.39 啁啾反射镜2 198 !%>7Dw(kt 8.40 啁啾反射镜3 199 /Q )\ + 8.41 带保护层的铝膜层 200 h.fq,em+H 8.42 增加铝反射率膜 201 J.
@9zA& 8.43 参考文献 202 XZwK6F)L 9 多层膜 204 BluVmM3Vj 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 |D.ND%K& 9.2 内部透过率 204 $7uA%|\ 9.3 内部透射率数据 205 8i,K~Bu= 9.4 实例 206 %K
QQ,{ b 9.5 实例2 210 iyog`s c 9.6 圆锥和带宽计算 212 (tQc 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 %%wNZ{ 10 光学薄膜的颜色 216 Ca3~/KrM 10.1 导言 216 PxE3K-S)G 10.2 色彩 216 ]9,;K;1< 10.3 主波长和纯度 220 8.~kK<)! 10.4 色相和纯度 221 PYzvCf`? 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ~v"L!=~G;a 10.6 色差 226 C8 \^#5 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 bJ;'`sw1 10.8 颜色渲染指数 234 -`t^7pr 10.9 色差计算 235 [fIg{Q 10.10 参考文献 236 'P}0FktP` 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 m#F`] { 11.1 短脉冲 238 8JD,u 11.2 群速度 239 ]0\MmAJRn 11.3 群速度色散 241 CWS4lx 11.4 啁啾(chirped) 245 4H<lm*!^ 11.5 光学薄膜—相变 245 ri.I pRe 11.6 群延迟和延迟色散 246 V470C@ 11.7 色度色散 246 DFTyMB1H 11.8 色散补偿 249 j8`BdKg 11.9 空间光线偏移 256 :,I:usW" 11.10 参考文献 258 :a)u&g@G 12 公差与误差 260 {qMIGwu 12.1 蒙特卡罗模型 260 1!gbTeVlY 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 z$xo$R( 12.2.1 误差工具 267 PiYxk+N 12.2.2 灵敏度工具 271 ofv)SCjd 12.2.2.1 独立灵敏度 271 = 9]~yt 12.2.2.2 灵敏度分布 275 BVO<e \>3 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 Tu 7QCr5* 12.3 参考文献 276 veh<R]U 13 Runsheet 与Simulator 277 O1mKe%'| 13.1 原理介绍 277 xZv#Es%# 13.2 截止滤光片设计 277 *=c1do%F 14 光学常数提取 289 :08,JL{ 14.1 介绍 289 nj53G67y 14.2 电介质薄膜 289 I
2|Bg,e 14.3 n 和k 的提取工具 295 (J!+(H8 14.4 基底的参数提取 302 uRr o?m< 14.5 金属的参数提取 306 ^`>/.gL 14.6 不正确的模型 306 >oe]$r 14.7 参考文献 311 9*?oYm;dX 15 反演工程 313 `^y7f 15.1 随机性和系统性 313 zI<<Q2 15.2 常见的系统性问题 314 e@OX_t_ 15.3 单层膜 314 }U9G 15.4 多层膜 314 ox (%5c)b| 15.5 含义 319 Q)[C?obd v 15.6 反演工程实例 319 tC9n
k5~ 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 q%?in+l 15.6.2 反演工程提取折射率 327 %- 0t?/> 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 KyQX!,rV 16.1 光学性质的热致偏移 329 qm o9G 16.2 应力工具 335 ~`:L?Jkb6H 16.3 均匀性误差 339 NPe%F+X 16.3.1 圆锥工具 339 `^Em&6!! 16.3.2 波前问题 341 l2P=R)@{ 16.4 参考文献 343 C-[eaHJ'$ 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 'y3!fN=h 17.1 引言 345 X(-4<B 17.2 操作数 345 ';=O 0)u 18 如何在Function中编写脚本 351 %n: k# 18.1 简介 351 kq,ucU%>p 18.2 什么是脚本? 351 K&K |