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《Essential Macleod中文手册》 N~=p+Ow[H Rs$k3 目 录 xrFFmQ<_W 9r+]V= ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 "W?<BpV~@! 第1章 介绍 ..........................................................1 Mm;kB/1 第2章 软件安装 ..................................................... 3 /EZF5_`bT 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6
:,h47'0A 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 l&R~I6^E 第5章 软件结构 ............................................................... 21 }Dc0 Y 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 +[<|TT 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 Fo|6 PoSo 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ,edX;`# 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 Uf}s6# 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 xX.fN7[ 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 |JC/A;ZH 第12章 优化和综合 ..................................................................120 D1}Bn2BM$ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 f"\G"2C 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 s2FJ^4 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 \DI%/(? 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 bS=aFl# 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 JS]6jUB<B 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ]?whx&+ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Uo>pV9xRG 第20章 运行表单 .................................................................... 251 oJE~dY$Q 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 'H+H4( 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 /GCI`hx>" 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 9*pH[vH 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 o?BcpWp 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 &ejJf{id 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 q+<X*yC 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 +F=j1*'& 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 rtd&WkU
rD 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 l*V]54|ON3 `irz'/"p a NhI<.v biLx-F c yAz`n[ f_2tMiy5 内容简介 \Ld/'Z;w Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 r%QTUuRXC3 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 29p`G1n 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 do@`(f3g 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 -T3 z@k 5i `q 目录 X%w` :c& Preface 1 ye!}hm=w 内容简介 2 " |ZC2Zu< 目录 i +0)s{? 1 引言 1 @Cg%7AF 2 光学薄膜基础 2 N.R,[K 2.1 一般规则 2 y;aZMT.YI 2.2 正交入射规则 3 mhU ?N 2.3 斜入射规则 6 *Y'nDv6_P 2.4 精确计算 7 W?is8r: 2.5 相干性 8 U-!+Cxjs 2.6 参考文献 10 4JV/Ci5 3 Essential Macleod的快速预览 10 T:k-`t0":N 4 Essential Macleod的特点 32 GF]V$5.ps 4.1 容量和局限性 33 LE$_qX`L 4.2 程序在哪里? 33 ^~\cx75D 4.3 数据文件 35 )%H@.;cD_r 4.4 设计规则 35 r:.3P 4.5 材料数据库和资料库 37 'e
@`HG
4.5.1材料损失 38 7:iTx;,v 4.5.1材料数据库和导入材料 39 l`"i'P 4.5.2 材料库 41 2UqLV^ZY 4.5.3导出材料数据 43 R
<Mvwu 4.6 常用单位 43 vw(X9xa 4.7 插值和外推法 46 D2<(V,h9 4.8 材料数据的平滑 50 JAEn
72 4.9 更多光学常数模型 54 b7;`A~{9v 4.10 文档的一般编辑规则 55 v',% 4.11 撤销和重做 56 'VVEd[ 4.12 设计文档 57 m+&)eQ: 4.10.1 公式 58 }_,1i3Rip 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 .%Pt[VQ 4.10.3 沉积密度 59 YKCd:^u 4.10.4 平行和楔形介质 60 fH{ _X 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 fviq}. 4.10.4 性能 61 j'xk[bM 4.10.5 保存设计和性能 64 woI.1e5 4.10.6 默认设计 64 )o4B^kq 4.11 图表 64 +q*Cw>t / 4.11.1 合并曲线图 67 !mX-g]4E 4.11.2 自适应绘制 68 '8RBR%)y 4.11.3 动态绘图 68 $"#2hVO 4.11.4 3D绘图 69 :`U@b
6 4.12 导入和导出 73 =]Gw9sge@ 4.12.1 剪贴板 73 -l)u`f^n| 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 .r=F'i}-j* 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 cviPCjM 4.13 背景 77 e$
pXnMx7 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ]!%
p21e 4.15 生成Rugate 84 YC,)t71l{ 4.16 参考文献 91 O:G5n 5J 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 =H8
LBM 5.1 Jobs 92 >s*ZT%TF 5.2 创建一个新Job(工作) 93 b"J J3$D 5.3 输入材料 94 /^Ckk 5.4 设计数据文件夹 95 fm u;Pb]r 5.5 默认设计 95 ^}VAH#c 6 细化和合成 97 yDl{18~zv 6.1 优化介绍 97 E![Ye@w 6.2 细化 (Refinement) 98 DAvF ND$= 6.3 合成 (Synthesis) 100 coG_bX?e 6.4 目标和评价函数 101 Wjf,AjL\ 6.4.1 目标输入 102 6!& DH#M 6.4.2 目标 103 V1h&{D\" 6.4.3 特殊的评价函数 104 3]z%C' 6.5 层锁定和连接 104 * |dz.Tr 6.6 细化技术 104 >5%;NI5
G 6.6.1 单纯形 105 /);S?7u. 6.6.1.1 单纯形参数 106 p]lZ4#3 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 2*[Gm e 6.6.2.1 Optimac参数 108 ?q lpi( 6.6.3 模拟退火算法 109 Gt|m;o 6.6.3.1 模拟退火参数 109 39!$x[ 6.6.4 共轭梯度 111 4Y.o RB 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 655OL)|cD6 6.6.5 拟牛顿法 112 C]- !uLy 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 45
\W%8 6.6.6 针合成 113 ZYMacTeJjg 6.6.6.1 针合成参数 114 v-utDQT3 6.6.7 差分进化 114 wR(>'? 6.6.8非局部细化 115 ,JU3w 6.6.8.1非局部细化参数 115 :U{$G(
< 6.7 我应该使用哪种技术? 116 zxD~W"R:s 6.7.1 细化 116 d~hN`ff 6.7.2 合成 117 B)v|A 6.8 参考文献 117 9$~a&lXO5 7 导纳图及其他工具 118 P #PRzt 7.1 简介 118 /%F}vW(! 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 g##yR/L 7.2.1 四分之一波长规则 119 x 8_nLZ 7.2.2 导纳图 120 *mVQN1 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 2d60o~E 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Sy0-tK4 7.5 斜入射导纳图 141 U)sw
Iis E 7.6 对称周期 141 pRez${f.(s 7.7 参考文献 142 <Na .6P 8 典型的镀膜实例 143 ey/=\@[p 8.1 单层抗反射薄膜 145 6o
cTQ}= 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 SJai<>k h 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #
9@K 8.4 W-膜层 148 b;2[E/JKB 8.5 V-膜层 149 J=`2{
'l 8.6 V-膜层高折射基底 150 s~tZN 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 `P43O gA 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *U}cj A:ZN 8.9 四层抗反射薄膜 153 . l>. 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 &e%eIz 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 t3VZjO 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
25H=RTw 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 zu!# 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 K @h94Ni6 8.15十五层宽带抗反射膜 159
e&\+o}S 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 G^W'mV$xl 8.17 1/4波长堆栈 162 PHh4ZFl]_I 8.18 陷波滤波器 163 PFSh_9.q 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 dm~Uj 8.20 褶皱 165
$*S&i(z 8.21 消偏振分光器1 169 9\S,$A{{* 8.22 消偏振分光器2 171 2,^U8/ 8.23 消偏振立体分光器 172 i%3q*:A]2 8.24 消偏振截止滤光片 173 "IA:,j.#g 8.25 立体偏振分束器1 174 x
T{s%wE 8.26 立方偏振分束器2 177 I*`;1+` 8.27 相位延迟器 178 GS@Zc2JPF 8.28 红外截止器 179 Gl]z@ZXWIw 8.29 21层长波带通滤波器 180
B'QcD 8.30 49层长波带通滤波器 181 KfkU_0R+~v 8.31 55层短波带通滤波器 182 3[cGSI"+ 8.32 47 红外截止器 183 dhCrcYn 8.33 宽带通滤波器 184 wN2D{Jj 8.34 诱导透射滤波器 186
s*9lYk0 8.35 诱导透射滤波器2 188 +zINnX 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ~LU$ n o^ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 {9;x\($&a 8.35 增益平坦滤波器 193 4DV@- 8.38 啁啾反射镜 1 196 ,1e\}^ 8.39 啁啾反射镜2 198 4V7=VZ,@3 8.40 啁啾反射镜3 199 N${Wh|__^l 8.41 带保护层的铝膜层 200 j|DjO?._' 8.42 增加铝反射率膜 201 $X ]t}= 8.43 参考文献 202 v"8i2+j 9 多层膜 204 <6STw 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 lDVw2J'p 9.2 内部透过率 204 q!Q*T^-rO 9.3 内部透射率数据 205 |rL#HG 9.4 实例 206 a2. @Zyz 9.5 实例2 210 F [S'l 9.6 圆锥和带宽计算 212 & oj$h 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 )n{9*{Ch 10 光学薄膜的颜色 216 2=`}:&0l 10.1 导言 216 mXJ`t5v^l 10.2 色彩 216 mBON>Z[4. 10.3 主波长和纯度 220 %j.
*YvveW 10.4 色相和纯度 221 C)(/NGf 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ,wB)hp 10.6 色差 226 9FcH\2J 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 W+'f|J= 10.8 颜色渲染指数 234 ewOe A| 10.9 色差计算 235 /?B%,$~ 10.10 参考文献 236 9|x{z 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 R&@NFin 11.1 短脉冲 238 wCw_aXqq 11.2 群速度 239 }:1*@7eR 11.3 群速度色散 241 HbMD5( 11.4 啁啾(chirped) 245 DP08$Iq 11.5 光学薄膜—相变 245 `^'0__<M 11.6 群延迟和延迟色散 246 &2//\Qz 11.7 色度色散 246 Xp?WoC N 11.8 色散补偿 249 &.chqP(| 11.9 空间光线偏移 256 VmP5`):?b 11.10 参考文献 258 ^wW{7Uq> 12 公差与误差 260 =(Pk7{ 12.1 蒙特卡罗模型 260 ofy)}/i 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ~M9&SDT/lB 12.2.1 误差工具 267 evro]&N{ 12.2.2 灵敏度工具 271 8ps1Q2| 12.2.2.1 独立灵敏度 271 .&;:X ) 12.2.2.2 灵敏度分布 275 dhmrh5Uf 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 .s`7n
*xz 12.3 参考文献 276 0ra+MQBg 13 Runsheet 与Simulator 277 XEb+Z7L 1 13.1 原理介绍 277 t6! B 13.2 截止滤光片设计 277 o!sHK9hvJ) 14 光学常数提取 289 JTdcLmL 14.1 介绍 289 f,:2\b?. 14.2 电介质薄膜 289 2|D<0d#W 14.3 n 和k 的提取工具 295 ?a{>QyL 14.4 基底的参数提取 302 Igb%bO_ 14.5 金属的参数提取 306 fk'DJf[M 14.6 不正确的模型 306 .Dt.7 G 14.7 参考文献 311 Cg&:+ 15 反演工程 313 7f\/cS^ 15.1 随机性和系统性 313 )O$T; U 15.2 常见的系统性问题 314 ^y2}C$1V 15.3 单层膜 314 drd5oZ 15.4 多层膜 314
dEK bB 15.5 含义 319 G^A }T3 15.6 反演工程实例 319 `V=F>s$W 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ~NBlJULS 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Bt(U,nFB 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 -MuKeCgi 16.1 光学性质的热致偏移 329 VNHt ]Ewj 16.2 应力工具 335 `(VVb@:o 16.3 均匀性误差 339 WS2@;
8.N 16.3.1 圆锥工具 339 YnW,6U['{g 16.3.2 波前问题 341 9}#9i^%} 16.4 参考文献 343 GpGq' 8|( 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 ldNWdz 17.1 引言 345 VCc57Bo 17.2 操作数 345 ,Laz515 18 如何在Function中编写脚本 351 ;-d2~1$ 18.1 简介 351 X,ok 3c4X 18.2 什么是脚本? 351 f\c%G=y 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 zD):
yEc 18.4 基础 352 Na{&aqdz 18.4.1 Classes(类别) 352 #r;uM+ 18.4.2 对象 352 W0s3nio 18.4.3 信息(Messages) 352 2X|nPhNi 18.4.4 属性 352 Yy4l -} " 18.4.5 方法 353 S@6 :H" 18.4.6 变量声明 353 u!9bhL` 18.5 创建对象 354 rj-Q+rgup 18.5.1 创建对象函数 355 "Tc[1{eI 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 'jjJ[16"d 18.5.3 丢弃对象 356 %nT & 18.5.4 总结 356 z:p9&mi |