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《Essential Macleod中文手册》 LIM
cZh ; |q&&"SpA 目 录 qF9z@a JVO,@~~ ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 L~nVoKY*V 第1章 介绍 ..........................................................1 L8"0o 0- 第2章 软件安装 ..................................................... 3 HFV4S]U= 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 V[&4Km9C 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 (7 i@@ 第5章 软件结构 ............................................................... 21 1_}*aQ 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 I"/p^@IX 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 yHS=8! 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 U&W{;myt 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 i|zs
Li/ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 L`>uO1O 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 [UqJ3@> 第12章 优化和综合 ..................................................................120 )m .KV5K! 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 q'u^v PO 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 p
BU,"Yy& 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 YKF5|;} 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 !?t#QDo 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 >>}4b2U 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 B J,U,! 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 "YY6_qQR' 第20章 运行表单 .................................................................... 251 Eg&oAY.U 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 KjK.Sv{N 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 /b3b0VfF 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 QIZ }7 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 +:@lde]/p 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 2)O-EAn 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ;0j 8Xj 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 S!*wK- 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 BEn,py7 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 Ko6>h *;(wtMg S.,om;` 5[^pU$Y 3yT7;~vPj 6y;R1z b 内容简介 ZaxBr Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Yvky=RM 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Jzqv6A3G 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 mJjd2a"vi 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 r*e<`Is @m*^v\q<u 目录 R*m=V{iu` Preface 1
Yxe%: 内容简介 2 N@Ie VF 目录 i [ArPoJt 1 引言 1 )?@X{AN& 2 光学薄膜基础 2 /,G -1E 2.1 一般规则 2 9~AAdD 2.2 正交入射规则 3 .<GU2&;! 2.3 斜入射规则 6 &~ =q1? 2.4 精确计算 7 ?OW! zE: 2.5 相干性 8 Z_Tu*
F 2.6 参考文献 10 7#\\Ava$T 3 Essential Macleod的快速预览 10 K x7'm1 4 Essential Macleod的特点 32 tvh)N{j 4.1 容量和局限性 33 ?V3kIb 4.2 程序在哪里? 33 )~(( 6?k4e 4.3 数据文件 35 xW`,@a} 4.4 设计规则 35 -Xm/sq(i)% 4.5 材料数据库和资料库 37 R?,O h* 4.5.1材料损失 38 DB1F_! 9 4.5.1材料数据库和导入材料 39 HzdtR 4.5.2 材料库 41 (]*otVJ 4.5.3导出材料数据 43 u ##.t 4.6 常用单位 43 b:OQ/ 4.7 插值和外推法 46 Ne6]?\Z 4.8 材料数据的平滑 50 FH"u9ygF 4.9 更多光学常数模型 54 irg%n 4.10 文档的一般编辑规则 55 zkFx2(Hq-f 4.11 撤销和重做 56 '"#W!p 4.12 设计文档 57 dd $}FlT 4.10.1 公式 58 xPuuG{Sm 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 =D 1%-ym 4.10.3 沉积密度 59 Z?IwR 4.10.4 平行和楔形介质 60 hj~nLgpN 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 a!n |/9
6 4.10.4 性能 61 S"*M9*8 4.10.5 保存设计和性能 64 ;cye
'E 4.10.6 默认设计 64 :cx}I 4.11 图表 64 fu}ZOPu 4.11.1 合并曲线图 67 4tv}5llSG 4.11.2 自适应绘制 68 0vu$dxb[ 4.11.3 动态绘图 68 O@$wU9D< 4.11.4 3D绘图 69 ^xB=d S~ 4.12 导入和导出 73 ^#^\@jLm 4.12.1 剪贴板 73 F;I % 9-R 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 'a}<|Et. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 r`t|}m 4.13 背景 77 ]<9KX} B 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 jB"?iC. 4.15 生成Rugate 84 6*!R' 4.16 参考文献 91 m^6& !`CD 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 !|SVRaS 5.1 Jobs 92 Bu:h_sV D 5.2 创建一个新Job(工作) 93 !!jitFHzb 5.3 输入材料 94 /FP;Hsw% 5.4 设计数据文件夹 95 Qxw?D4/Y 5.5 默认设计 95 Q Pel n) 6 细化和合成 97 &mG1V 6.1 优化介绍 97 {$dq7m( 6.2 细化 (Refinement) 98 %fv;C 6.3 合成 (Synthesis) 100 HAkEJgV 6.4 目标和评价函数 101 =vqy5y 6.4.1 目标输入 102 9|;"+jlt 6.4.2 目标 103 x4r=ENO)q 6.4.3 特殊的评价函数 104 |oYqkP| 6.5 层锁定和连接 104 e@Cv')]B 6.6 细化技术 104 _8-iO.T+2 6.6.1 单纯形 105 R:Pw@ 6.6.1.1 单纯形参数 106 Y?1
3_~
K 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 2HxT+|~d6 6.6.2.1 Optimac参数 108 |zJxR_) 6.6.3 模拟退火算法 109 }D/O cp~o 6.6.3.1 模拟退火参数 109 \.@fAgv 6.6.4 共轭梯度 111 ;q8tOvQ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 G`a,(<kT; 6.6.5 拟牛顿法 112 FEd We\E 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Z#J
cNquM 6.6.6 针合成 113 :^G;`T`L 6.6.6.1 针合成参数 114 Lc0U-!{G 6.6.7 差分进化 114 }qqE2;{ND 6.6.8非局部细化 115 zOkIPv52~ 6.6.8.1非局部细化参数 115 2+Y8b:: 6.7 我应该使用哪种技术? 116 MS_@
Xe 6.7.1 细化 116 `|t X[': 6.7.2 合成 117 6:(R/9!P 6.8 参考文献 117 _tl,-}~ 7 导纳图及其他工具 118 C(ay7 7.1 简介 118 ( %i)A$i6a 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Qh3V[br 7.2.1 四分之一波长规则 119 YY&3M 7.2.2 导纳图 120 cz2guUu 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Ql%0%naq1 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 xh7[{n[; 7.5 斜入射导纳图 141 IQ& |