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《Essential Macleod中文手册》 .cm$*>LW:x J9/}ZD^ 目 录 Qu@T}Ci NpY zN|W: ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 . vQCX1V( 第1章 介绍 ..........................................................1 6}e"$Ee}9 第2章 软件安装 ..................................................... 3 EXYr_$gRs 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 p'IF2e&z 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 s:#\U!>0` 第5章 软件结构 ............................................................... 21 v/WvT!6V` 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ].<B:]:, 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 Az>gaJ/_ 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 qU,u(El 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ?)B\0` %*' 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ,_2ZKO/k$ 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 YV>]c9!q 第12章 优化和综合 ..................................................................120 4>W ov 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 `>cBR,)r 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 /__@a&9t 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 DJf!{:b) 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ];1Mg 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 :;]iUjiC8 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 =%V(n{7= 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 NJraol 第20章 运行表单 .................................................................... 251 0?
QTi( 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 K=82fF(- 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 >HY(
Ij< 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 u4a(AB>S 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Q4,!N(>D 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 /2e&fxxD 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 "?UBW5nM# 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 kKqb: 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 -r5JP[0kP 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 |B;tv#mKD A7qKY-4B %Z=%E!* e1j3X\ \ @H^Yf a.yCd/ 内容简介 _c4kj Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 $Dm2>:Dmt 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 OF)G2>t 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 $kA'9Y 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 R6A{u( M3U*'A\ 目录 ~S, R`wo Preface 1 j%m9y_rg} 内容简介 2 LzW8)<N 目录 i S_VZ^1X] 1 引言 1 =x/Ap1 2 光学薄膜基础 2 fvDt_g9 oI 2.1 一般规则 2 Hq*\,`b& 2.2 正交入射规则 3 Xv%1W?
>@/ 2.3 斜入射规则 6 {m)$ b 2.4 精确计算 7 $6evK~ 2.5 相干性 8 }9GD'N?4 2.6 参考文献 10 *?a rEYc8 3 Essential Macleod的快速预览 10 j[Y$)HF 4 Essential Macleod的特点 32 VM1`:1Z:$ 4.1 容量和局限性 33 `EUufTYi 4.2 程序在哪里? 33 ueyz@{On~ 4.3 数据文件 35 +y$%S4>0tp 4.4 设计规则 35 Nj<}t/e 4.5 材料数据库和资料库 37 i*Wekr3Wo 4.5.1材料损失 38 *t JgQ[ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 d@a FW 4.5.2 材料库 41 [!ghI%VK 4.5.3导出材料数据 43 "+g9}g 4.6 常用单位 43 XvU^DEfW 4.7 插值和外推法 46 9Q<8DMX^ 4.8 材料数据的平滑 50 Ca&5"aki 4.9 更多光学常数模型 54 c&{1Z&Y 4.10 文档的一般编辑规则 55 QU]&q`GE 4.11 撤销和重做 56 RpAqnDX) 4.12 设计文档 57 'Olp2g8= 4.10.1 公式 58 BB?vc(d 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ZH:-.2*cj 4.10.3 沉积密度 59 ETw7/S${ 4.10.4 平行和楔形介质 60 p5C:MA~* 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 yM*-em 4.10.4 性能 61 aL9yNj}2 4.10.5 保存设计和性能 64 OD*\<Sc 4.10.6 默认设计 64 WUwH W 4.11 图表 64 X0\2q D 4.11.1 合并曲线图 67 G234UjN% 4.11.2 自适应绘制 68 INi9`M.h 4.11.3 动态绘图 68 eF[CiO8F2 4.11.4 3D绘图 69 Aj854 L(! 4.12 导入和导出 73 0h[pw 4.12.1 剪贴板 73 bjQp6!TsZ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 #Sxk[[KwH* 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 pSjJ u D 4.13 背景 77 wxa?. 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 r\OunGUP 4.15 生成Rugate 84 =6XJr7Ay8u 4.16 参考文献 91 oNyVRH ZH 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
:!SVpCt3 5.1 Jobs 92 s$cr|p;7# 5.2 创建一个新Job(工作) 93 }e7os0;s 5.3 输入材料 94 X"4 :#s 5.4 设计数据文件夹 95 D5o[z:V7" 5.5 默认设计 95 P=.yXirm? 6 细化和合成 97 O%g
Q 6.1 优化介绍 97 L}E~CiL0n 6.2 细化 (Refinement) 98 #Tz$ona 6.3 合成 (Synthesis) 100 V`/E$a1& 6.4 目标和评价函数 101 ae1?8man 6.4.1 目标输入 102 #GDnV/0) 6.4.2 目标 103 )\
`AD# 6.4.3 特殊的评价函数 104 tx,_0[hZi 6.5 层锁定和连接 104 <G9HVMiP 6.6 细化技术 104 +-DF3( 6.6.1 单纯形 105 V`c"q.8 6.6.1.1 单纯形参数 106 eGwO!Lv}B 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 scf.>K2 6.6.2.1 Optimac参数 108 N~""Lc& 6.6.3 模拟退火算法 109 -6Y@_N 6.6.3.1 模拟退火参数 109 "!V-@F$@N 6.6.4 共轭梯度 111 f9" M^i 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {iGy@?d)zt 6.6.5 拟牛顿法 112 HE;}B!> 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 {7kJj(Ue 6.6.6 针合成 113 \dm5Em/ 6.6.6.1 针合成参数 114 [>2iz 6.6.7 差分进化 114 IhIz 7.| 6.6.8非局部细化 115 Kyf,<zF 6.6.8.1非局部细化参数 115 %^bHQB% 6.7 我应该使用哪种技术? 116 u|ph_?6o 6.7.1 细化 116 {\1:2UKkr 6.7.2 合成 117 x7<2K( 6.8 参考文献 117 jmp0 %:+L 7 导纳图及其他工具 118 B(pxyv) 7.1 简介 118 Z<wJ!|f 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 i\zVP.c])* 7.2.1 四分之一波长规则 119 TpAE 9S 7.2.2 导纳图 120 ]u]BxMs 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 `D%U5Jb 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Wc*jTip 7.5 斜入射导纳图 141 &RJ*DAmL 7.6 对称周期 141 wtl3Ex,DO 7.7 参考文献 142 e3#0r 8 典型的镀膜实例 143 ?*zDsQ 8.1 单层抗反射薄膜 145 uPT2ga ] 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 uc<JF= 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 |)+ s, LT5 8.4 W-膜层 148 X[ 6#J 8.5 V-膜层 149 ){nOM$W 8.6 V-膜层高折射基底 150 afw`Heaa2( 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 _o52#Q4 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 o2 ; 8.9 四层抗反射薄膜 153 *;&[q{hz 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 AMw#_8Y 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 qj7}]T_ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 S-f
.NC}:i 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 e=cb% 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 u |mTF>L 8.15十五层宽带抗反射膜 159 tEN8S]X 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 [.(,vn?6 8.17 1/4波长堆栈 162 `j1b5&N;7 8.18 陷波滤波器 163 y}F;~H~P 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 k-Z:z?M 8.20 褶皱 165 4St-Q]Y _ 8.21 消偏振分光器1 169
Ki\\yK 8.22 消偏振分光器2 171 l(y,lK=YP1 8.23 消偏振立体分光器 172 6!`GUU 8.24 消偏振截止滤光片 173 A_\`Gj!s% 8.25 立体偏振分束器1 174 )n&6= Li 8.26 立方偏振分束器2 177 Tc.QzD\ 8.27 相位延迟器 178 :cxA 8.28 红外截止器 179 cBD#F$K2 8.29 21层长波带通滤波器 180 4
Aj<k 8.30 49层长波带通滤波器 181 IAHQT<] 8.31 55层短波带通滤波器 182 :5X^t 8.32 47 红外截止器 183 +8|9&v` 8.33 宽带通滤波器 184 E!9(6G4 8.34 诱导透射滤波器 186 P;G]qV% 8.35 诱导透射滤波器2 188 YNB7`: 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 !(F?Np Am 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 .6LlkM6[g 8.35 增益平坦滤波器 193 3#0y.. F 8.38 啁啾反射镜 1 196 6U0BP 8.39 啁啾反射镜2 198 Zsn@O2 8.40 啁啾反射镜3 199 {pc (b 8.41 带保护层的铝膜层 200 WfXwI 'y 8.42 增加铝反射率膜 201 noso* K7 8.43 参考文献 202 wVq9t|V 9 多层膜 204 TVM19)9 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 X<D fzd oI 9.2 内部透过率 204 n)j0h- 9.3 内部透射率数据 205 rE Me=>^
9.4 实例 206 P6I<M}p 9.5 实例2 210 }1DzWS-hh 9.6 圆锥和带宽计算 212 =)s~t|@v 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 iR!]&Oh 10 光学薄膜的颜色 216 o%,?v
9 10.1 导言 216 wmA TV/ 10.2 色彩 216 '
<?=!&\D 10.3 主波长和纯度 220 9X&=?+f 10.4 色相和纯度 221 gN2oUbf8 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 gZ|!' 10.6 色差 226 r1Hh @sxn 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 c*y*UG 10.8 颜色渲染指数 234 H_JE)a:+ 10.9 色差计算 235 (5;nA' 10.10 参考文献 236 (hBph+ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 1%C EUE 11.1 短脉冲 238 Ifokg~X~G 11.2 群速度 239 *b_Iby-ZD 11.3 群速度色散 241 lCgzQZ 11.4 啁啾(chirped) 245 po(pi| 11.5 光学薄膜—相变 245 Fi'ZId 11.6 群延迟和延迟色散 246 |~ytAyw 11.7 色度色散 246 Zd'Yu{<_2N 11.8 色散补偿 249 qW4DW4 11.9 空间光线偏移 256 zBK"k]rz 11.10 参考文献 258 4TI` 12 公差与误差 260 RU=\eD 12.1 蒙特卡罗模型 260 <5"&]!
. 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 +_{cq@c 12.2.1 误差工具 267 |
TG 6-e_ 12.2.2 灵敏度工具 271 ,6X__Z#rGT 12.2.2.1 独立灵敏度 271 <d"nz:e 12.2.2.2 灵敏度分布 275 "UreV 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 jhPbh5E 12.3 参考文献 276 [W*M#00_&4 13 Runsheet 与Simulator 277 =''WA:,=h 13.1 原理介绍 277 T`MM<+^G 13.2 截止滤光片设计 277
F3K<-JK+ 14 光学常数提取 289 #jzF6j%G 14.1 介绍 289 Q@W!6]*\
14.2 电介质薄膜 289 KxD/{0F 14.3 n 和k 的提取工具 295 cIQbu#[@ 14.4 基底的参数提取 302 yMu G? x+ 14.5 金属的参数提取 306 x[$KZGK+GL 14.6 不正确的模型 306 eXD~L&s[ 14.7 参考文献 311 ]l C2YD} 15 反演工程 313 7M
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mR Vh 15.1 随机性和系统性 313 4x&Dz0[[S 15.2 常见的系统性问题 314 }K@m4`T 15.3 单层膜 314 P(FlU]q 15.4 多层膜 314 "O-X*>?f 15.5 含义 319 SSCs96 15.6 反演工程实例 319 ul~6zBKO 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 b !y 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Dn@ZS _f 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 Yi,`uJKh 16.1 光学性质的热致偏移 329 S~ Z<-@S 16.2 应力工具 335 t#@z_Mn\ 16.3 均匀性误差 339 G[JWG 16.3.1 圆锥工具 339 NP\mzlI~@ 16.3.2 波前问题 341 =4'V}p 16.4 参考文献 343 KO7& |