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《Essential Macleod中文手册》 "`[4(j RTL@WI 目 录 7|)K! E1qf N>0Z ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 8` WaUB% 第1章 介绍 ..........................................................1 NnY+=#j7L 第2章 软件安装 ..................................................... 3 \YsLVOv%:d 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 0!1cHB/c 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 5j5}c`: 第5章 软件结构 ............................................................... 21 $n::w c
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 - KaU@t 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 h]o{>
|d9 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 b X/%Q^Y 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 V?jot<|$ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 8Tp!b
%2. 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ;\Pq 第12章 优化和综合 ..................................................................120 ]Lm?3$u$ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 3rx8" 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 <bh!wf6; 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 e:|Bn>* 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 lfLLk?g3k 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 (;++a9GK 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 73+)> "x> 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 v)v`896S` 第20章 运行表单 .................................................................... 251 l9{.~]V 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 $# J 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 }#` -mRaU 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 6>Is-/hsy 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 .:SY:v r 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 A_|X54}w& 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 hx;0h&L 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311
wD $sKd 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 bN>|4hS 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 9Pdol! -W1Apd%> SD1M`PI JZoH - cGv`% 1u_< 1X3 内容简介 >s>{+6e Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 s-T#-raE 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 c(lG_"q6 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~s)
`y2Y 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 &MP + WCwM+D 目录 *o#P)H Preface 1 UiN6-{v<2 内容简介 2 N7dI}ju 目录 i !u=A9i! 1 引言 1 ?w>-ya 2 光学薄膜基础 2 y-@{ 2.1 一般规则 2 7DWHADr 2.2 正交入射规则 3 <U2Un 0T 2.3 斜入射规则 6 /"7_75
t 2.4 精确计算 7 !mu1e=bY> 2.5 相干性 8 Q>l5:2lq 2.6 参考文献 10 (aSY.#; 3 Essential Macleod的快速预览 10 #CNK [y 4 Essential Macleod的特点 32 =~'{2gsB 4.1 容量和局限性 33
7D\:i1~ 4.2 程序在哪里? 33 YiTVy/ 4.3 数据文件 35 n]v,cfn/=< 4.4 设计规则 35 Cg];UB}k 4.5 材料数据库和资料库 37 ,qK3
3Bn 4.5.1材料损失 38 e<HHgC#J 4.5.1材料数据库和导入材料 39 fO 6Jug 4.5.2 材料库 41 OEXa^M4x
4.5.3导出材料数据 43 V})b.\"F 4.6 常用单位 43 p JM&R<i: 4.7 插值和外推法 46 2D'$ 4.8 材料数据的平滑 50 ac#I$V- 4.9 更多光学常数模型 54 E6s)J -a 4.10 文档的一般编辑规则 55 5HW'nhE 4.11 撤销和重做 56 j@Y'>3 4.12 设计文档 57 h7o?z! 4.10.1 公式 58 nlR7V. 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ,2Q5'!o 4.10.3 沉积密度 59 #A9rI;"XI 4.10.4 平行和楔形介质 60 9"b =W@ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 s=83a{#K 4.10.4 性能 61 xA]}/* 4.10.5 保存设计和性能 64 k/2TvEV3= 4.10.6 默认设计 64 2#`9OLu8X 4.11 图表 64 n>?eTlO3 4.11.1 合并曲线图 67 %p8#pt\$7 4.11.2 自适应绘制 68 !A&>Eeai 4.11.3 动态绘图 68 9?4:},FRmE 4.11.4 3D绘图 69 _REAzxeS 4.12 导入和导出 73 Q;0g 4.12.1 剪贴板 73 y}GFtRNG 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 hmr 2(f%U 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 +$
0wBU 4.13 背景 77 \??20iz 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 bDT@E,cSi 4.15 生成Rugate 84 o' Kl+gw4 4.16 参考文献 91 G)3Q|Vc 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 tqwAS)v= 5.1 Jobs 92 7~m[:Eg6[s 5.2 创建一个新Job(工作) 93 tu5T^"BqO 5.3 输入材料 94 {P!1VYs5 5.4 设计数据文件夹 95 I7Xm~w!{qk 5.5 默认设计 95 S$ Z?T 6 细化和合成 97 W|AK"vf 6.1 优化介绍 97 *`~]XM@H 6.2 细化 (Refinement) 98 eizni\ 6.3 合成 (Synthesis) 100 QpiA~4 6.4 目标和评价函数 101 U~q2j#pJ 6.4.1 目标输入 102 ['Y"6[1 6.4.2 目标 103 in#lpDa[ 6.4.3 特殊的评价函数 104 ;U]Ym48 6.5 层锁定和连接 104
B*AB@ 6.6 细化技术 104 4{CeV7 6.6.1 单纯形 105 ';KWHk8C 6.6.1.1 单纯形参数 106 8\Kpc;zb 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 KK,
t !a 6.6.2.1 Optimac参数 108 w5*
Z\t5 6.6.3 模拟退火算法 109 ~+CEek 6.6.3.1 模拟退火参数 109 F-%Hw 6.6.4 共轭梯度 111 |}isSCt 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 NY"+Qw@$ 6.6.5 拟牛顿法 112 *1g3,NMA 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 @cu#rWiG 6.6.6 针合成 113 Czb:nyRj 6.6.6.1 针合成参数 114 sny$[!) 6.6.7 差分进化 114 e&-MP;kgW9 6.6.8非局部细化 115 ky@ZEp= 6.6.8.1非局部细化参数 115 usR+ZQaA 6.7 我应该使用哪种技术? 116 j] J-#J 6.7.1 细化 116 WYd9p; k 6.7.2 合成 117 !4+ FN) 6.8 参考文献 117 Hd57Iw 7 导纳图及其他工具 118 ,ut7`_Fy 7.1 简介 118 ;.Y-e
Q, 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 o^v]d7I8b 7.2.1 四分之一波长规则 119 l-$5CO 7.2.2 导纳图 120 4)?s?+ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 8,-U`. 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ]\ t20R{z 7.5 斜入射导纳图 141 9xaieR 7.6 对称周期 141 gubw&W 7.7 参考文献 142 pMd!Jl#(N
8 典型的镀膜实例 143 D-LQQ{!D5 8.1 单层抗反射薄膜 145 eL88lV]I 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 uSUog+i 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 (/KeGgkhv 8.4 W-膜层 148 ~Z' /b|x<3 8.5 V-膜层 149 %>Mcme>(W 8.6 V-膜层高折射基底 150 oaG;i51! 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 3 L:SJskYR 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 `Gh J)WA< 8.9 四层抗反射薄膜 153 |cgc^S/~H 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 13fyg7^JP 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 fLZ mQO 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 6'Q*SO;1gh 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 8(g}/%1mt3 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 +<bvh<]Od 8.15十五层宽带抗反射膜 159 a%r( F 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 Dg*'n 8.17 1/4波长堆栈 162 >~jl0!2z@ 8.18 陷波滤波器 163 -+[~eqRB 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 lUd4`r" 8.20 褶皱 165 BAojP1}+, 8.21 消偏振分光器1 169 BvP++,a&Sa 8.22 消偏振分光器2 171 T_[ 8.23 消偏振立体分光器 172 : +f6:3 8.24 消偏振截止滤光片 173 z}F^HQ1 8.25 立体偏振分束器1 174 T%4yPmY 8.26 立方偏振分束器2 177 5E^P2Mlc 8.27 相位延迟器 178 j{YIVX
8.28 红外截止器 179 8ib e#jlg 8.29 21层长波带通滤波器 180 MavidkS
8.30 49层长波带通滤波器 181 #j'7\SV 8.31 55层短波带通滤波器 182 (t5vBUj 8.32 47 红外截止器 183 mYbu1542'n 8.33 宽带通滤波器 184 VFq7nV/O 8.34 诱导透射滤波器 186 /9o6R:B 8.35 诱导透射滤波器2 188 w|f@sB>j 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 iUq_vQ@}} 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 =R*IOJ 8.35 增益平坦滤波器 193 wb ^>/ 8.38 啁啾反射镜 1 196 ZEs^b 8.39 啁啾反射镜2 198 +mN8uU~(kx 8.40 啁啾反射镜3 199 9<.8mW^68 8.41 带保护层的铝膜层 200 zEh&@{u? 8.42 增加铝反射率膜 201 )}u?ftu\ 8.43 参考文献 202 qv[w
1;U" 9 多层膜 204 NR"C@3kD]o 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 A@Cvx7X 9.2 内部透过率 204 r`i.h ^2De 9.3 内部透射率数据 205 A4/gVi| 9.4 实例 206 3zv0Nwb, 9.5 实例2 210 ra8AUj~RX 9.6 圆锥和带宽计算 212 *Ag3qnY 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 lo-VfKvy 10 光学薄膜的颜色 216 mR$0Ij/v 10.1 导言 216 zXk^ugFy 10.2 色彩 216 8 %p+:6kP5 10.3 主波长和纯度 220 jOZ>^5} 10.4 色相和纯度 221 ` 5n^DP*X 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 t ?05 10.6 色差 226 yq!peFu 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 2OjU3z<J 10.8 颜色渲染指数 234 VVfTFi< 10.9 色差计算 235 r@PVSH/ 10.10 参考文献 236 _o&NbDH 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 V P(JV 11.1 短脉冲 238 t"OP* 11.2 群速度 239 _Td#C1g3 11.3 群速度色散 241 AC!yc(^< 11.4 啁啾(chirped) 245 \eAV: qV 11.5 光学薄膜—相变 245 h@J3+u< 11.6 群延迟和延迟色散 246 n8JM
0 U- 11.7 色度色散 246 wbI1~/ 11.8 色散补偿 249 }GHCu 11.9 空间光线偏移 256 k%iwt]i% 11.10 参考文献 258 ?xuWha@: 12 公差与误差 260 dh1 N/[ 12.1 蒙特卡罗模型 260 ~du U& \ 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 5Q: %f 12.2.1 误差工具 267 @'y8* _ 12.2.2 灵敏度工具 271 (B%[NC6 12.2.2.1 独立灵敏度 271 ) )t]5Ys%; 12.2.2.2 灵敏度分布 275 M !X^2 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 OGO\u# 12.3 参考文献 276 ?Ss~!38 13 Runsheet 与Simulator 277 :ciD!Ly 13.1 原理介绍 277 q
s:TR 13.2 截止滤光片设计 277 uo(LZUjPbN 14 光学常数提取 289 rC_saHo>#R 14.1 介绍 289 y1[@4TY] 14.2 电介质薄膜 289 Eo6qC?5< 14.3 n 和k 的提取工具 295 &he:_p$x 14.4 基底的参数提取 302 c2L\m*^o 14.5 金属的参数提取 306 d(9-T@J 14.6 不正确的模型 306 ;f=.SJF 14.7 参考文献 311 ?}= $zN 15 反演工程 313 :B\$7+$v 15.1 随机性和系统性 313 /2MZH 15.2 常见的系统性问题 314 aj=-^iGG 15.3 单层膜 314 50a';!H 15.4 多层膜 314 s'OK])>` 15.5 含义 319 [.w `r>kZI 15.6 反演工程实例 319 ^ >
?C 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 s#8T46? 15.6.2 反演工程提取折射率 327 43 <i3O 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 p*Yx1er1 16.1 光学性质的热致偏移 329 G[u{! 2RS 16.2 应力工具 335 Tt=;of{ 16.3 均匀性误差 339 (y1S*_D
16.3.1 圆锥工具 339 87m`K Str7 16.3.2 波前问题 341 IkxoW:L 16.4 参考文献 343 F?ps?
e 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 cl |}0Q5 17.1 引言 345 *SpE
XO 17.2 操作数 345 0fK#:6 18 如何在Function中编写脚本 351 x(p/9$.# 18.1 简介 351 G:`So 18.2 什么是脚本? 351 P>^$X 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 y=jZ8+M 18.4 基础 352 r;E5e]w*- 18.4.1 Classes(类别) 352 %!A-K1Z\D 18.4.2 对象 352 /!y;h- 18.4.3 信息(Messages) 352 5=}CZYWB 18.4.4 属性 352 `:jF%3ks+0 18.4.5 方法 353 )-Z*/uF^ 18.4.6 变量声明 353 A
PrrUo 18.5 创建对象 354 3#GIZL}!x 18.5.1 创建对象函数 355 nZG
zez 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 <I 0om(P 18.5.3 丢弃对象 356 h
cu\c+ A 18.5.4 总结 356 &> R:oYN 18.6 脚本中的表格 357 G*~CB\K_ 18.6.1 方法1 357 V|*3*W 18.6.2 方法2 357 zQUNvPYM 18.7 2D Plots in Scripts 358 9[DlJ@T} 18.8 3D Plots in Scripts 359 >%slzr 18.9 注释 360 .9Dncsnf,` 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 ;7QG]JX 18.11 一个更高级的脚本 362 & |