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《Essential Macleod中文手册》 2v0!` &?M{ D
Irgq|8 目 录 di~]HUZh) K)\(wxv ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 e]lJqC 第1章 介绍 ..........................................................1 !ZFr7Xz 第2章 软件安装 ..................................................... 3 >Bc>IO 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Og,Y)a;= 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 9ky7r;? 第5章 软件结构 ............................................................... 21 n[!;yO 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 AY#wVy 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 9<yAQ?7L 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 )uZoH8? 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 tawe Gc%~ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 HF"Eys 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 EXuLSzQwv 第12章 优化和综合 ..................................................................120 otO
j^xU 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 tAF]2VV(e 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 m#tpbFAsc 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 vxZg &SRK 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 =I2@/, 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 3KSpB;HX 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 JIzY,%`\ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 6?N4l ]l 第20章 运行表单 .................................................................... 251 v?L 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 KU-'+k2s;p 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 j&5G\6: 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 iOX Z]Xj5 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 z
v>Oh# 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 7paUpQit 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 #ZJMlJ:q`" 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 NUCiY\td 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ._?V%/ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 zh\$t]d<I F|>05>8 YTK^ijmU6x sYJL-2JX ;f:gX`"\ `H\)e%] 内容简介 &iNwvA%9D Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 > !L&>OOx 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 g+xw$A ou 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 e+. \pe\ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 DECB*9O^ q/NY72tj0 目录 q*,Q5 Preface 1 |~WYEh 内容简介 2 t6+YXjXK 目录 i !^e =P%S 1 引言 1 Ytao"R/ 2 光学薄膜基础 2 t V03+&jF 2.1 一般规则 2 SR ZL\m} 2.2 正交入射规则 3 V|'1tB=;*1 2.3 斜入射规则 6 rAb&I"\ZY 2.4 精确计算 7 w7FoL 2.5 相干性 8 5r b-U7 / 2.6 参考文献 10 Gh}yb-$N`& 3 Essential Macleod的快速预览 10 0w %[ 4 Essential Macleod的特点 32 UL(
lf}M 4.1 容量和局限性 33 Ye5jB2Z
4.2 程序在哪里? 33 g JjN<&, 4.3 数据文件 35 */z??fI27 4.4 设计规则 35 tu0aD%C 4.5 材料数据库和资料库 37 bUZ_UW 4.5.1材料损失 38 1D F/6y 4.5.1材料数据库和导入材料 39 d;7uFh|o 4.5.2 材料库 41 ]E3<UR 4.5.3导出材料数据 43 Ow:1?Z{4 4.6 常用单位 43 BQ/PGY> 4.7 插值和外推法 46 5|I55CTx 4.8 材料数据的平滑 50 A(8n 4.9 更多光学常数模型 54 yHeEobvb 4.10 文档的一般编辑规则 55 #aar9 4.11 撤销和重做 56 I7n3xN&4" 4.12 设计文档 57 @?kM'*mrZM 4.10.1 公式 58 sbj";h=E 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 rY0u|8.5Q 4.10.3 沉积密度 59 ^B/9{0n' 4.10.4 平行和楔形介质 60 hePPxKQ- 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Wht(O~F 4.10.4 性能 61 g5Z#xszj+ 4.10.5 保存设计和性能 64 1[;;sSp 4.10.6 默认设计 64 ~Rpm-^ 4.11 图表 64 V0*3;n 4.11.1 合并曲线图 67 w%y\dIeI' 4.11.2 自适应绘制 68 X^@I]. 4.11.3 动态绘图 68 445o DkG 4.11.4 3D绘图 69 +Qxu$# 4.12 导入和导出 73 5D Y\:AF 4.12.1 剪贴板 73 #]]Su91BA 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 '?QuJFki 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 S'LZk9E 4.13 背景 77 dRi5hC$ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 | ?yo 3 4.15 生成Rugate 84 3;[DJ5 4.16 参考文献 91 l?8M
p$M 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 6KZf%)$ 5.1 Jobs 92 /9pM>Cd*Z 5.2 创建一个新Job(工作) 93 4|?{VQ 5.3 输入材料 94 *sw7niw 5.4 设计数据文件夹 95 S4^N^lQ] 5.5 默认设计 95 23!;}zHp 6 细化和合成 97 uI~S=;o 6.1 优化介绍 97 Iu@y(wyg 6.2 细化 (Refinement) 98 @}-r&/# 6.3 合成 (Synthesis) 100 SOZPZUUEJ 6.4 目标和评价函数 101 !v.9"!' N 6.4.1 目标输入 102 S=`+Ryc 6.4.2 目标 103 BYrZEVM9 6.4.3 特殊的评价函数 104 FR[ B v 6.5 层锁定和连接 104 h}`!(K^;3 6.6 细化技术 104 |RkcDrB~ 6.6.1 单纯形 105 }x0- V8 6.6.1.1 单纯形参数 106 MPgS!V1 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 4Y> Yi*n 6.6.2.1 Optimac参数 108 %V`F!D<D 6.6.3 模拟退火算法 109 y&m0Lz53Z 6.6.3.1 模拟退火参数 109 %xZG*2vc!B 6.6.4 共轭梯度 111 g7V8D 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ?>c=}I#Ui- 6.6.5 拟牛顿法 112 F>je4S; 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 X~=xXN. 6.6.6 针合成 113 -|k)tvAm 6.6.6.1 针合成参数 114 X?:o;wB 6.6.7 差分进化 114 $''?HjB}T 6.6.8非局部细化 115 =J-5.0Q\_\ 6.6.8.1非局部细化参数 115 57a2^ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ._w8J"E5 6.7.1 细化 116 9>zcBG8f 6.7.2 合成 117 1=sXdcy; 6.8 参考文献 117 /M;#_+VK< 7 导纳图及其他工具 118 VV4Gjc 7.1 简介 118 '>$EOg" 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 i,A#&YDl 7.2.1 四分之一波长规则 119 1OLqL 7.2.2 导纳图 120 RO;Bl:x4 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 D\w h;r 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Pi,QHb`> 7.5 斜入射导纳图 141 \<Sv3xy&O 7.6 对称周期 141 PWRy7d 7.7 参考文献 142 VErv;GyV 8 典型的镀膜实例 143 n\Fp[9+Z\ 8.1 单层抗反射薄膜 145 %W,D;?lEo> 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 .:p2Tbo 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 hz;|NW{u 8.4 W-膜层 148 XC 7?VE 8.5 V-膜层 149 b`yZ|j'ikd 8.6 V-膜层高折射基底 150 ]<(]u#g_d 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 9)xUA;Qw?z 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ~R$~&x |