[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 x_x|D|@wM  

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建模任务 /S%!{;:  
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概观 )auuk<  
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光线追迹仿真 i<{/r-w=E  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Y^uYc}  
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•点击Go！ Rj,M|9Y)o  
•获得3D光线追迹结果。 CV6W)B%Se  
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光线追迹仿真 2)>Ty4*  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 1z=}`,?>  
•单击Go！ DZ0\pp?S  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 }F (lffb  
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场追迹仿真 vghn+P8  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 @GE:<'_:{  
•单击Go！ g3,F+  
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场追迹结果（摄像机探测器） +l_$}UN  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Y{ 2xokJ N  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 G6x
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Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 9<I;9.1S?^  
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场追迹结果（电磁场探测器） Gu9x4p  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 E.~~.2   
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