[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 .v+W>
 
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建模任务 (44L8)I.D  
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概观 B-$zioZ  
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光线追迹仿真 ~%eE%5!k  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 "5'eiYms  
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•点击Go！ eVB43]g  
•获得3D光线追迹结果。 \I^"^'CP  
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光线追迹仿真 ^:mKTiA-  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 F
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•单击Go！ g1_z=(i`Z  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 o|c&$)m  
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场追迹仿真 !0UfX{.  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 cKOXsdH?SL  
•单击Go！ Pn4jI(  
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场追迹结果（摄像机探测器） DMs8B&Y=  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 bY*_6SPK4  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 k6GQH@y!  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 (n_.bSI  
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场追迹结果（电磁场探测器） k>8OxpaWv?  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ,
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