jV}8VK*`+ 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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BEaF-*?A ?) y}HF 建模任务 8+[Vo_] vQ*[tp#qU
=Mx"+/Yo* 概观 y-3'qq'E jXeE]A"
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N 6r 光线追迹仿真 J1}\H$*X c`xNTr01 •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
~Tt@v`} *,Bm:F<m •点击Go!
<Ja&z M •获得3D光线追迹结果。
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>Y08/OAI.2 G~1;_' 光线追迹仿真 -0CBMoe jcqUY+T$ id:,\iJ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
ym{@w3"S •单击Go!
O(W"QY •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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%8n<#0v-|4 Z2M(euzfi3 场追迹仿真 +H3~Infr4f Cw(e7K7& MOQ6&C`7q •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
q?7''xk7 •单击Go!
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67rY+u% "v:k5a( 场追迹结果(摄像机探测器) Nx.9)MjI ltuV2.$ 9Do75S{( •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
.rk5u4yK •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
r[V%DU$dj Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
&)k=ccm /^xv1F{
29J|eBvxx n'mrLZw 场追迹结果(电磁场探测器) Ij(<(y{?Q1 IaeO0\
4E •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
9 wR D=a LKvX~68