4 uShM0qa 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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SF0Jb"kS 4>l0V< 建模任务 =+`D D4d]3|/T 
OO$| 9`a 概观 DQcWq'yY^ Yi[4DfA 
k@7kN Ml 光线追迹仿真 gEE9/\>%- eVTO#R*'| •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
"X`Qe!zk4 cY{I:MA+h@ •点击Go！
;jF%bE3 •获得3D光线追迹结果。
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ZH% we Dp^95V@ 光线追迹仿真 |%-YuD cFw3Iw"JJ ,b$z!dvhl •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
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AjV •单击Go！
g2A"1w<-AH •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
l4zw]AYk+X 5|5=Y/ 
r-*l 1([eW | "_ )zQ 场追迹仿真 [~t yDLC ::ri3Tu KLW&bJ$|j •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
=ydpU<aS •单击Go！
&u("|O)w$ 'bl%Y).9w 
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PaNeu1cO 场追迹结果（摄像机探测器） I-TlrW=t FQ1arUOFW, L(;.n>/ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
2HSb.&7-G •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
E_]k>bf\ Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
M = atls 6oYIQ'hc 
,2,W^ HJ %iX/y 场追迹结果（电磁场探测器） pcNSL'u+ QsM*wT&aa •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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