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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    F`srE6H  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 )eq}MaW+j  
    k>>`fE\K  
    5~U:@Tp  
         y ||@?Y  
    建模任务 O<`,,^4w/  
    0!_*S )  
    k* Pz&8|  
    概观 fYn{QS?  
    b pp*  
    7E(%9W6P  
    光线追迹仿真  f`J|>Vk  
    Yrsp%<qj  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 u>|"28y  
    3agNBF2  
    •点击Go! $iHoOYx]<  
    •获得3D光线追迹结果。 S.hC$0vrj  
    >%h7dC3h  
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    L=m:/qQL  
    光线追迹仿真 0[9I0YBJ  
    /{R3@,D[]  
    oZ-FF'  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 A$<>JVv  
    •单击Go! lR}%)3_k  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 @G(xaU'u  
    \k4pK &b  
    k9&@(G[K3  
         @>:i-5  
    场追迹仿真 XNlhu^jh  
    CO'ar,  
    J[r^T&o  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ?`aTu:1#Z  
    •单击Go! ((cb4IX  
    G * @@K  
    `Hd9\;NJ  
         7V 'Le2T'  
    场追迹结果(摄像机探测器) !&JiNn('  
    R+F,H`  
    ]v GgJ<  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 L~ 2q1  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 yZ~b+=UM  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 1I \tu  
    j8c6[ih  
    s ^3[W0hL  
    Uz $ @(C  
    场追迹结果(电磁场探测器) C Oa.xyp  
    Z8fJ{uOIL  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 6qDfcs  
    _4!{IdR  
     
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