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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    J#/L}h;qH  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 jYxmU8  
    pm4'2B|)g  
    > &VY  
         s(?A=JJ  
    建模任务 Vlf=gP  
    Qt~QJJN?oF  
    \'>8 (i~  
    概观 gm1 7VrC  
     L7rEMq  
    RAs5<US:  
    光线追迹仿真 D|gI3i  
    Cvgk67C=$  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 0kiV-yc   
    hLo>jE  
    •点击Go! d^:(-2l-  
    •获得3D光线追迹结果。 < cUaIb;(4  
    qN@-H6D1=  
    8j^3_lD  
    (RM;T@`  
    光线追迹仿真 L>X39R~  
    Y)](jU%o  
    )2Dm{T  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 ;p] f5R^  
    •单击Go! \*r]v;NcP  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 -6yFE- X/  
    Dxx`<=&g  
    Rct=v DU  
         =.9uuF:  
    场追迹仿真 x4e8;A(y  
    ]*\m@lWu  
    iL\eMa  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 n| [RXpAp3  
    •单击Go! 5.o{A#/NTl  
    3B6"T;_  
    fo$A c  
         o0`|r+E\  
    场追迹结果(摄像机探测器) lRr={ >s  
    go[(N6hN  
    NUjo5.7  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 0f]LOg  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 8Z1pQx-P2C  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 *j/[5J0'M  
    cUPC8k.1  
     $% 5f  
    f6O5k8n  
    场追迹结果(电磁场探测器) S-D=-{@  
    l;'#!hC)  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 *LZ^0c:r  
    U%)m [zAw  
     
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