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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    jV}8VK*`+  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 Mm@G{J\\  
    > mO*.'Gm  
    BEaF-*?A  
         ?) y}HF  
    建模任务 8+[Vo_]  
    vQ*[tp#qU  
    =Mx"+/Yo*  
    概观 y-3'qq'E  
    jXeE]A"  
     J| N 6r  
    光线追迹仿真 J1}\H$*X  
     c`xNTr01  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ~Tt@ v`}  
    *,Bm:F<m  
    •点击Go! <Ja&z M  
    •获得3D光线追迹结果。 j<~Wp$\i7>  
    f/J/tt  
    >Y08/OAI.2  
    G~1;_'  
    光线追迹仿真 -0CBMoe  
    jcqUY+T$  
    id:,\iJ  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 ym{@w3"S  
    •单击Go! O(W"QY  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 ndLEIqOY  
    #1haq[Uv7  
    %8n<#0v-|4  
         Z2M(euzfi3  
    场追迹仿真 +H3~Infr4f  
    Cw(e7K7&  
    MOQ6&C`7q  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 q?7''xk7  
    •单击Go! VF2,(f-*  
    .9vS4C  
    67rY+u%  
         "v:k5a(  
    场追迹结果(摄像机探测器) Nx.9)MjI  
    ltuV2.$  
     9Do75S{(  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 .rk5u4yK  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 r[V%DU$dj  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 &)k=ccm  
    /^xv1F{  
    29J|eBvxx  
    n' mrLZw  
    场追迹结果(电磁场探测器) Ij(<(y{?Q1  
    IaeO0\ 4E  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 9wR D=a  
    LKvX~68  
     
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