[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Mm@G{J\\  
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建模任务 8+[Vo_]  
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概观 y-3'qq'E  
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光线追迹仿真 J1}\H$*X  

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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ~Tt@v`}  
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•点击Go！ <Ja&z M  
•获得3D光线追迹结果。 j<~Wp$\i7>  
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光线追迹仿真 -0CBMoe  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ym{@w3"S  
•单击Go！ O(W"QY  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 ndLEIqOY  
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场追迹仿真 +H3~Infr4f  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 q?7''xk7  
•单击Go！ VF2,(f-*  
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场追迹结果（摄像机探测器） Nx.9)MjI  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 .rk5u4yK  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 r[V%DU$dj  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 &)k=ccm  
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场追迹结果（电磁场探测器） Ij(<(y{?Q1  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 9wR D=a  
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