[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

cpr{b8Xb8&  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 5'{qEZs^QU  
aPY>fy^8D  
clR?< LO  
     k#IS,NKE  
建模任务 WacU@L $A  
7(+OsE  
^J#*n;OQ3A  
概观 ~Uwr689N  
<x>k
3bD  
1O'*X  
光线追迹仿真 f!uA$uLc  
E{+c*sz  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 `DWi4y7  
yuy+}]uB@  
•点击Go！ \^;|S  
•获得3D光线追迹结果。 1K*f4BnDr~  
0Z1H6qn  
q.,p6D  
r:8]\RU  
光线追迹仿真 ~Hyyq-  
e8P!/x-y  
`1[Sv"  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Hq"<
vp  
•单击Go！ uz#eO|z@o  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 ;+TF3av0zq  
~\@<8@N2a6  
tmY-m,U  
     }
{gWTp  
场追迹仿真 /F8\%l+  
1$3XKw'  
r3BDq  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ` HE:D2b  
•单击Go！ 13>3R+o  
zoJkDr=jn  
=Zb"T5E  
     13_+$DhU-L  
场追迹结果（摄像机探测器） >gOI]*!5  
Edn$0D68u_  
2 Zjb/  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 yK>0[6l  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 1A/c/iC  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Pguyf2/w  
.5[LQR  
He71h(BHm  
lA Ck$E  
场追迹结果（电磁场探测器） yY@s(:  
,d [b"]Zy  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 
+O!M>  
fFTvf0j