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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    RbyF#[}  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 =k_XKxd  
    1@s^$fvW  
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         `8qT['`#R  
    建模任务 knI*-  
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    概观 7v.#o4nPK  
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    光线追迹仿真 n+:m _2T  
     [ ((h<e  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 vEX|Q\b6'  
    R*zBnHAb!  
    •点击Go! xop-f#U*  
    •获得3D光线追迹结果。 ?nj"Ptzs  
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    光线追迹仿真 dVjcK/T<  
    !- Cs?  
    $4#=#aKW.  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 .`i'gPLkn2  
    •单击Go! YMd&To0s  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 }L{_xyi>#  
    Fv5x6a  
    #VP-T; Ahe  
         -k|g04Q?  
    场追迹仿真 tIc0S!H#  
    tU-#pB>H  
    F}VS)  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ^59YfC<f  
    •单击Go! YL0WUD_>  
    (25^r  
    )VV4HoH]8  
         +8?R+0P  
    场追迹结果(摄像机探测器) y^0HCp{  
    v '"1/% L  
    sM);gI14  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 =0jmm(:Jh  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 u(TgWp5WF  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 T7WZ(y 3C  
    dvrvpDoE.  
    6qmo ZAg  
    5 O{Ip-  
    场追迹结果(电磁场探测器) 9~Y)wz  
    f0N)N}y  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 Dn{19V. L  
    f6dE\  
     
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