Rb yF#[} 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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~&vA_/M `8qT['`#R 建模任务 knI*- _-YL!oP
]Sk#a-^~ 概观 7v.#o4nPK ,Uv{dG
)jp{*?^\ 光线追迹仿真 n+:m_2T [ ((h<e •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
vEX|Q\b6' R*zBnHAb! •点击Go!
xop-f#U* •获得3D光线追迹结果。
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" {,\]l&o :%+^} 光线追迹仿真 dVjcK/T< !-
Cs? $4#=#aKW. •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
.`i'gPLkn2 •单击Go!
YMd&To 0s •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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#VP-T; Ahe -k|g04Q? 场追迹仿真 tIc0S!H# tU-#pB>H F}VS) •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
^59YfC<f •单击Go!
YL0WUD_> (25^r
)VV4HoH]8 +8?R+0P 场追迹结果(摄像机探测器) y^0HCp{ v '"1/% L sM);gI14 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
=0jmm(:Jh •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
u(TgWp5WF Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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3C dvrvpDoE.
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ZAg 5 O{Ip- 场追迹结果(电磁场探测器) 9~Y)wz f0N)N}y •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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