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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    yTbBYx9Bi  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ;2%3~L8?V  
    Gf]oRNP,N  
    /sJk[5!z  
         hoSk  
    建模任务 rA{h/T"  
    r_ r+&4n  
    H${Ym BG  
    概观 y$\K@B4  
    f{^n<\Jh  
    ^!Bpev  
    光线追迹仿真 $W` &7  
    QR79^A@5  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ZOS{F_2.  
    Wpj.G  
    •点击Go! KLA nW#  
    •获得3D光线追迹结果。 z36nyo  
    "B)DX*-\?  
    :UFf6T?  
    \^':(Gu4o  
    光线追迹仿真 _FAwW<S4B  
    => -b?F0(c  
    L\hPw{)  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 "D@m/l  
    •单击Go! @0B<b7Jv  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 }qb z&%R  
    7_q"%xH  
    u'?t'I  
         `b9oH^}n j  
    场追迹仿真 0ZPPt(7  
    unjo&  
    5dYIL`  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 9n@jK%m  
    •单击Go! '90B),c{  
    iAup',AZg  
    z[OW%(vrm  
         MQ,$'Y5~H  
    场追迹结果(摄像机探测器) 7W}~c/%  
    ( B50~it  
    Xb6@;G"  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 {n.g7S~  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 7B7I'{d  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 Jz3q Pr  
    Q5ohaxjF  
    !gJAK<]iW  
    W,wg@2  
    场追迹结果(电磁场探测器) F!aYK2  
    5<d Y,FvX  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 w8> T ~Mv  
    xx/DD%IZ  
     
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