0RUk^ 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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@/2Kfr %)ho<z:7U 建模任务 dG\wW@}J LQ+/|_(.
Z>[7#;; 概观 vOQ%f?%G\ 80xr zv
\2SbW7"/;P 光线追迹仿真 ;b~ S/ g:
i5%1 •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
>lI7]hbIs U|^xr~q!f- •点击Go!
ui8 Q2{z •获得3D光线追迹结果。
v2T2/y% 3h:j.8Z
eA!o#O. X>q`F;W 光线追迹仿真 ]WT@&F Q7%4 `_$! 7[m?\/K~ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
SZyk G[ •单击Go!
H4/wO •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
c9(3z0!F? }^"6 :;,
YQVo7"`% .`or^`X3 场追迹仿真 m]p{]6h .RD<]BxJ 4l D$'` •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
(In{GA7; •单击Go!
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c`6c)11K [Nyt0l "z 场追迹结果(摄像机探测器) ^-o{3Q(w aSR-.r U,P_bz*) •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
e`*}?N4d •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
[KDxB>R<{ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
`L1,JE`
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3%WB?kc bS_#3T 场追迹结果(电磁场探测器) STKL Zxk~X}K\P •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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