[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

\.mVLLtG  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Sxq@W8W  
w&L~+Z<  
jlj ge=#c2  
     +;~o R_p  
建模任务 Nj4CkMM[3  
>;MJm  
}"TQ\v$  
概观 i4|R0>b  
AaYH(2m-  
-fPiHKJ  
光线追迹仿真 @6'~RD.  
`Jc/ o=]  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 IADHe\.  
&K0b3AWc  
•点击Go！ GmR3 a  
•获得3D光线追迹结果。 We{@0K/O
 
L6_%SGY_iE  
-SM_J
R3<  
+Xs
E  
光线追迹仿真 I%J>~=]n_  
N5*Qnb8  
q|<B9Jk  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 33DP?nI}  
•单击Go！ csW\Q][  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 :*KTpTa  
F^gTID  
)7*'r@  
     ni2#20L  
场追迹仿真 /8e}c`  
"M5  
9PKXQp  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 {d[Nc,AMb  
•单击Go！ ^Ye(b7Gd  
eY :"\c3  
Z}$sY>E  
     P_5aHeiJ  
场追迹结果（摄像机探测器） '*y(F*7+  
E'aOHSAg  
/7D5I\  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 HMF2sc$N  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 qt@/  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ym{@w3"S  
O(W"QY  
ndLEIqOY  
#1haq[Uv7  
场追迹结果（电磁场探测器） ;F258/J  
&AJ bx  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 our ^J8
  
QWOPCoUet