[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 M%Rr=  
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建模任务 >B~? }@^Gk  
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光线追迹仿真 ,%N[FZ`|  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 _[rQt8zn  
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•点击Go！ \,X)!%6kZ  
•获得3D光线追迹结果。 xyM|q9Gf@  
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光线追迹仿真 rO.[/#p\  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 4ytdcb   
•单击Go！ `{h)-Y``  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 z,E`+a;  
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场追迹仿真 chUYLX}45  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 o3|4PAA/  
•单击Go！ +^esL9RG:  
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场追迹结果（摄像机探测器） @~|;/OY>"  
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Fp@>(M#3  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 d_pIB@J  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 (tVT&eO  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 qWWt5rJ  
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W!O/t^H>  
&k_*Y-l7]  
场追迹结果（电磁场探测器） Cm%I/4  
I}|a7,8   
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 b/R7Mk1  
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