|.y>[+Qb* 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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M_qP!+Y +]A+!8%Z 建模任务 _2]e1_= g!p+rq_f 
tU9rCL:P 概观 <+<)xwOQ ] 2ZU@>W 
n wY2BIB 光线追迹仿真 & 6` $/4Wod*l •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
mw:3q6 v>JB
rIb$ •点击Go！
<FXQxM5" •获得3D光线追迹结果。
Bx\# `Y :X3rd|;kc 
{[l'S 7'-)/Pk 光线追迹仿真 {fAh@:{@ z2rQ$O -# ;6DR .2}?> •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
~Y1"k]J •单击Go！
tfi2y]{A •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
wlm3~B\64 j)6@q@P/ 
Q.j-C}a M3hy5 j(b 场追迹仿真 sL!;hKK &@mvw=d ^JYF1 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
>g5T;NgH9 •单击Go！
0-8ELX[# $=\oJ-(!@S 
@/_XS4 (Q}PeKM?jq 场追迹结果（摄像机探测器） ]3gYuz| )OARO / e~ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
`77;MGg* •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
S#dyRTmI Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
!1ie:z>s tEi@p;Z> 
[+ %p!T m
_t(rn~f6 场追迹结果（电磁场探测器） Pur"9jHa4 S+` !%hJ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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