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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    @98SC}}u  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 yW?%c#9D  
    8{ %9%{  
    %0]b5u  
         '/g+;^_cB  
    建模任务 Fjt,  
    *%'7~58ObS  
    >[4|6k|\x  
    概观 y4rJ-  
    B-'BJ|*4I  
    (Gc`3jJ  
    光线追迹仿真 J&65B./mD9  
    bI6wE'h  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 +{!t~BW  
    DeQ'U!?+N  
    •点击Go! .0W4Dp  
    •获得3D光线追迹结果。 Ds,"E#?  
    *1S.9L  
     >E ;o"  
    hs_|nr0;[  
    光线追迹仿真 mW0&uSM D  
    X3L[y\  
    ';|>`<  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 !2U7gVt"*  
    •单击Go! qs1.@l("  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 JKi@Kw  
    7a]Zws  
    _.*4Y  
         3/IWO4?_  
    场追迹仿真 cc(r,ij~4  
    s]<r  
    Q1I_=fT  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 +9 p`D  
    •单击Go! 2DC cGKa"  
    kPX2e h  
    3auJ^B}  
         .UhBvHH  
    场追迹结果(摄像机探测器) +b,31  
    _QMHPRELk  
    'UvS3]bSYW  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Sd<@X@iU8D  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 @+\S!o3m  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 E4v_2Q -w  
    F`BgKH!  
    _z(5e  
    Neo^C_[vN  
    场追迹结果(电磁场探测器) `k}l$ih`X  
    kF+}.x%  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 @X|i@{<';  
    Iz GB  
     
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