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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    YQH=]5r  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 M2$.Y om[  
    A=PJg!  
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         =o!1}'1}}  
    建模任务 Fv<^\q  
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    -lb,0   
    概观 j& H4L  
    kL7n`o  
    Bh#?:h&f  
    光线追迹仿真 H;~Lv;,g,  
    |h7 d #V>  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ki8;:m4  
    ?f8)_t}^\  
    •点击Go! @{X<|,W9w  
    •获得3D光线追迹结果。 z AZ+'9LB  
    v>[U*E  
    BM vGw  
    wDvG5  
    光线追迹仿真  UZV\]Y  
    |*T`3@R;3  
    _oILZ,  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 \C&[BQ\  
    •单击Go! )Z"  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 Jn#05Z  
    eXYf"hU,  
    l!d |luqbA  
         !lnRl8oV  
    场追迹仿真 vg"$&YX9"  
    }g9g]\.!a  
    z{q|HO  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 Y6Mp[=  
    •单击Go! P&=H<^yd  
    ,u<oAI`  
    2LTMt?  
         %*A|hK+G:W  
    场追迹结果(摄像机探测器) D^30R*gV  
    &Rp/y%9  
    }<9IH%sgF  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 0DB8[#i%:  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 h 3`\L4b  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 mWP1mc:M(  
    b)(rlX  
    ;S5J"1)O~  
    >* )fmfY  
    场追迹结果(电磁场探测器) _-R&A@  
    I;g>r8N-Bu  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 #1z/rUh`Cr  
    (rE.ft5$9  
     
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