[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 R(Y4nw+Y-  
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建模任务 D^1H(y2zp  
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概观 XKqUbi  
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光线追迹仿真 H6Q1r[(B  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 NWCJ|  
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•点击Go！ N- E)b  
•获得3D光线追迹结果。 KCG-&p$v@s  
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光线追迹仿真 ptXCM[Z+  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 m}Z=m8  
•单击Go！ mu
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•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 -DgJkyt+<  
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场追迹仿真 Z~O1$,Z  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 9L+dN%C  
•单击Go！ ]AjDe]  
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场追迹结果（摄像机探测器） w>M8FG(4]  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 9\F:<Bf$#  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Qp9)Rc5  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 EN^C'n  
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场追迹结果（电磁场探测器） sBozz#  
NijvFT$V1  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 FOz7W  
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