[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ?#nk}=;g8  
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建模任务 jxYze/I  
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概观 i~5'bSqc  
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光线追迹仿真 mT;  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 BgB0  
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•点击Go！ whGtVx|zR
 
•获得3D光线追迹结果。 9PaV*S(\TR  
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光线追迹仿真 p`!<yq2_  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 @Yw42`>!s  
•单击Go！ i@%a!].I  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 zW[HGI6w  
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场追迹仿真 &F'n >QT9q  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 'S9jMyZrZ  
•单击Go！ fEGnI
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场追迹结果（摄像机探测器） T]\'D&P~D  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Q*e\I8R}  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 `y{[e j  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 {c<cSrfI  
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场追迹结果（电磁场探测器） `<hMrhfh  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 tK6=F63e  
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