[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

\En"=)A  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 4S4gK   
EhW"s%Q  
q*tGlM@R?  
     7GS4gSd3  
建模任务 U| ?68B3  
y4$$*oai&  
?\(qA+iP0  
概观 _1mpsY<k  
HF"TS*  
e\^}PU  
光线追迹仿真 %*o  
6RguUDRQ  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 lrL:G[rt  
:U/]*0b  
•点击Go！ pzaU'y#PM  
•获得3D光线追迹结果。 ^q#[oO  
Ul6|LTY  
ef_H*e  
X Q CE`m  
光线追迹仿真 (:O6sTx-hE  
X6_ RlV]Sk  
ob'" ^LO\  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 fM|s,'Q1x  
•单击Go！ A?$-Uqb"  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 !3\$XK]5ZT  
[@JK|50|K  
KUK.;gG*Z  
     4:^MSgra  
场追迹仿真 t;/uRN*.  
6 eu7&Kj'  
)?7/fF)@|  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ~WORC\kCW  
•单击Go！ B3D}'<  
;\6@s3  
#5kclu%L$  
     7Z~JuTIZ  
场追迹结果（摄像机探测器） V5i}^%QSs  
5f?GSHA}  
68(^
*  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 '/t9#I@G\  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 aXG|IN5 *m  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 XjP&  
=:xX~,qmv  
Pk;yn;  
l6 }+,v@#  
场追迹结果（电磁场探测器） 7R m\#  
;|Hpg_~%>  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 B$YoglEW:  
`LLmdm 6i