[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 M2$.Yom[  
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建模任务 Fv<^\q  
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概观 j& H4L  
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光线追迹仿真 H;~Lv;,g,  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ki8;:m4  
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•点击Go！ @{X<|,W9w  
•获得3D光线追迹结果。 zAZ+'9LB  
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光线追迹仿真  UZV\]Y  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 \C&[BQ\  
•单击Go！ )Z"  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 Jn#05Z
 

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场追迹仿真 vg"$&YX9"  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Y6Mp[=  
•单击Go！ P&=H<^yd  
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场追迹结果（摄像机探测器） D^30R*gV  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 0DB8[#i%:  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 h3`\L4b  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 mWP1mc:M(  
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场追迹结果（电磁场探测器） _-R&A@  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 #1z/rUh`Cr  
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