[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 * 4GJ<  
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建模任务 yInW?3  
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概观 A/%K=H?  
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光线追迹仿真 =&xamA)  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 e`'O!  
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•点击Go！ e2UbeP  
•获得3D光线追迹结果。 9mwL\j  
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光线追迹仿真 ]K?z|&N|HK  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 bSU9sg\  
•单击Go！ :}FMauHh  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 {_|~G|Z  
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场追迹仿真  .VuZ=  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 C0zE<fl  
•单击Go！ 'y}l9alF  
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场追迹结果（摄像机探测器） U:c!9uhp  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 k]`I
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•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 +dSe"W9  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 $TtCVR  
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场追迹结果（电磁场探测器） w
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 POfvs]  
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