[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

mKsj7  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 h[Iu_#HMa  
Nb];LCx  
?1N0+OW  
     O]Kb~jkd  
建模任务 tLvli>y@  
/ruf1?\,R  
cw5YjQ8 9  
概观 `PW=_f={  
z=K5~nU  
KbUX(9+B  
光线追迹仿真 ##s!-.T  
 ;etQ  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 T^nX+;:|  
xlwsZm{V  
•点击Go！ 9{TOFjsF  
•获得3D光线追迹结果。 I"!gzI`Sd  
[e}]K:  
bv+e'$U3  
#!5Nbe  
光线追迹仿真 7q^/.:wlf  
Tb)x8-0  
RyhR#  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 b?Jm)  
•单击Go！ kdHql>0  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 %om7h$D=`  
B_&PK7vA  
}fCM_w  
     ('lnQD.Hd  
场追迹仿真 !6%G%ZG@3-  
ZF t^q/pw  
q@sH@-z4]  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 z<fEJN  
•单击Go！ x$Oz0[  
'" tieew  
:RQ[(zD]  
     #NE^f2  
场追迹结果（摄像机探测器） sy`s$Ed!  
BdKtpje  

u#,]>;  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 :$tW9*\KY  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Y{yr-E #~M  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 CS{9|FNz  
z K(5&u  
w7D:0SGD  
b910Z?B^L  
场追迹结果（电磁场探测器） c[y8"M5  
VM!x)i9z  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 =z/F=1^<  
@j (jOe