Bag2sk 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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r{YyKSL1*K .sbU-_ij@U 建模任务 ngsax1xO >QE^KtZ
ojs&W]r0Z 概观 Zj<oh8 p0qQ(
'uo `-Y 光线追迹仿真 q-o=lU" @7u4v%,wB •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
;wL* p$?c>lim •点击Go!
>u*woNw(XM •获得3D光线追迹结果。
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YH={jJ fX[,yc;
7Kk rfJqN <j ;HRm 光线追迹仿真 :`:<JA3, Wq<>a;m **_VNDK+ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
%f6l"~y •单击Go!
D'fP2?3FK •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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H`m,
sx*1D9s_ I;P?P5H 场追迹仿真 E0xUEAO puZ<cV
e/ Ef%8+_ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
p\+#`] Q7} •单击Go!
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%bDd e!tgWYN 场追迹结果(摄像机探测器) ?=r!b{9 Qbl6~>T _9!Ru!u~ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
"Y(S G •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
aI8wy-3 I Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
+bdkqdB9 )@R:$l86
LaN4%[;X1- "5{Yn!-: 场追迹结果(电磁场探测器) s$H5W`3 hXz"}X n •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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