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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    5Se S^kJC  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 !MiH^wP  
    r ]cC4%in  
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         dU~DlaEy(  
    建模任务 mf>cv2+  
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    概观 "c  S?t  
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    光线追迹仿真 ;S FmbZ%~  
    D* oJz3[  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 96.A8o  
    !:[kS1s>M  
    •点击Go! sH>Z{xjr  
    •获得3D光线追迹结果。 H...!c1M@  
    +=y ktf  
    T&2aNkuG  
    -k19BDJ,W  
    光线追迹仿真 IJ%S[>  
    VS#i>nlT  
    Us ]Uy|j  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 bD[6) ITg  
    •单击Go! 4K@`>Y5g*  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 hal3J  
    @'Er&[P  
    S;"7d  
         o 6$Q>g`]  
    场追迹仿真 TT429  
    LW;UL}av  
    FshQ OFW  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 Z' 0Gd@/  
    •单击Go! mySm:ToT  
    *q%)q  
    )p MZ5|+X  
         }31z 35  
    场追迹结果(摄像机探测器) 8u::f`vi  
    -4p^wNR  
    {.We%{4V  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 b|c?xHF}K  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。  _"ysJ&  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 k!]Tg"]JAh  
    {)eV) 2a  
    /hue]ZaQq  
    <dTo-P  
    场追迹结果(电磁场探测器) lA39$oJ  
    8KpG0DC  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 |5}{4k~9J  
    Pl=X<Bp  
     
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