7^F?key? 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
.+<K-'&= u(R`}C?P'
;b^@o,= +j,;g#d 建模任务 Sa0\93oa -_3.]o/J
!`gg$9 概观 oaHBz_pg lQzrf"N'
/[OMpP 光线追迹仿真 =ZQIpc n!p&.Mt •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
R~i<* [o~w>,a •点击Go!
-3fvO~ •获得3D光线追迹结果。
+vP1DXtj( >\'yj|
U,
>Ry4Cc ]WG\+1x9 光线追迹仿真 ^6`U0|5mRX h5JXKR.1]c n;U|7it7 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
6= •单击Go!
o|+tRl •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
7;XdTx D|xSO~M5
yVL~SH| AXyuXB 场追迹仿真 bke 1 F
' 0ode&dB d+(~{xK: •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
(w.B_9# •单击Go!
B 5?(gb" r~sGot+sQA
O@[q./VV, */1z=
场追迹结果(摄像机探测器) 4l|Am3vzX dL"v*3Fy 4avM:h •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
{E9Y)Z9 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
/4|qfF3 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
,YoIn i@2?5U>h
' :Te#S rg`"m 场追迹结果(电磁场探测器) b;yhgdFx R}0cO^V •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
(i`DUF'#y ,Zdc