>[*4Tjg 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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F;D1F+S C9KWa*3 建模任务 -fIc4u[ 5 d ;|=K 
MC=G "m:_ 概观 [N |xzMe QD<eQsvV 
{K7YTLWY 光线追迹仿真 6f] r Q9 y @apJ;_R- •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
F=&;Y@t @"1}1 6b#f •点击Go！
]h~o],: •获得3D光线追迹结果。
8sw,k A 0# Y, 1 
3eg5oAZ)G8 lfS;?~W0k 光线追迹仿真 BXTN>d27 {j6g@Vd6lx vg^Myn
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
#@_ 1fE •单击Go！
|< N frz •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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= 
c#\-%h |%ZpatZA5 场追迹仿真 /PC` 0/b ="B
n => u7m uaSy •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
wD=am •单击Go！
5\G)Q<A]*L .3g&9WvN!Z 
?L`ZKRD k!13=Gh 场追迹结果（摄像机探测器） cV ]y=q 6 Ed=} Pr E @"8~Y|L93 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
ylkqhs& •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
/ c^e& D Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
: r39wFi K\X : G-C9 
"/y|VTV" n2E4!L|q 场追迹结果（电磁场探测器） l"L+e! B~ j i##$xC •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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