[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

N+75wtLy&  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ,?/<fxIY  
rv%[?Ml  
Zw{tuO7}K  
     ;BVhkWA  
建模任务 +}/!yQtH  
n82Q.M-H  
fC|u  
概观 D|:sSld @  
aB'@8[]z  
4
pT|r6!<  
光线追迹仿真 -P
&e4sV{  
IBh~(6  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 A,)ELVk1F  
?Fpl.t~  
•点击Go！ <DS6-y  
•获得3D光线追迹结果。 dR:iUw:V  
%/zZ~WIf  
3wl>a#
f  
v{Vesf  
光线追迹仿真 qT @IY)e  
E ET 2|*}  
-~f.>@Wb  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Ghc0{M<  
•单击Go！ R2W_/fsG  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 qTF>!o#\:  
c"1d#8J  
4N j?UDa  
     UUqj?'Nv  
场追迹仿真 au*jMcq  
qH"a!  

id'#s  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 )xy6R]_b  
•单击Go！ 6QQ oHYtZ  
2s%M,Nb  
!*6z=:J  
     =:eE!  
场追迹结果（摄像机探测器） P.DWC'IBN  
v19`7qgR(  
F9w&!yW:  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 t@M] ec  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Lm#d.AD)  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 06 s3 b  
pr(\?\a  
[rU8 #4.  
:`1g{8.+  
场追迹结果（电磁场探测器） ypo=y/!  
+to9].O7y  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 !3# }ZC2  
]M;! ])b$