[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 th<>%e}5c  
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建模任务 [@B!N+P5;  
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概观 _ b</ ::Tp  
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光线追迹仿真 +?[s"(  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 s?&S<k-=fr  
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•点击Go！ l8 $.k5X  
•获得3D光线追迹结果。 fC[~X[H  
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光线追迹仿真 k*C[-5&#  
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R~|(]#com  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 feeHXKD|  
•单击Go！ *65~qAd  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 dWe
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场追迹仿真 @v!#_%J  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 y\[* mgl:  
•单击Go！ 84i0h$Z
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场追迹结果（摄像机探测器） rOj(THoc{  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 aGws?<1$  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ='C;^ Bk  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 D0MW~Y6{  
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场追迹结果（电磁场探测器） [Ls%nz|  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 II[-6\d!  
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