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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    ylkqhs&  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 W uf/LKj  
    0P9Wy!f7  
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    建模任务 1NGyaI  
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    概观 6UI>GQ  
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    光线追迹仿真 f+^c@0que  
    qvTJ>FILT  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 x3;jWg~'  
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    •点击Go! ux&:Rw\  
    •获得3D光线追迹结果。 DvJB59:_}  
    TF)8qHy! u  
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    1 mHk =J~  
    光线追迹仿真 tGqQJT#mr7  
    K#;txzi  
    6puVw-X  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 &vkp?UH  
    •单击Go! 9,KVBO  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 TnxU/)  
    r8+*|$K  
    sZEgsrJh  
         ^#7viZ*  
    场追迹仿真 L"9 Gc  
    4[xA- \  
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    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 H-m`Dh5{  
    •单击Go! uc\.oG;~q  
    mf~Lzp  
    Hz5;Ruw'  
         Y8t Nwh  
    场追迹结果(摄像机探测器) 4UazD_`'  
    o6/Rx#A  
    F\Y,JUn[G  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #a.\P.{L  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 UXQb ={  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 9g4QVo|  
    UMv"7~  
    *seu&  
    Ef-a4Pi  
    场追迹结果(电磁场探测器) ?{n>EvLY  
    2!{N[*)  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 CR.bMF}  
    xV?*!m$V%R  
     
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