K%g\\uo 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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m&\Gz *)3 &A9+%kOk> 建模任务 k"U4E
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kb6v2 ^8H 概观 3_-# EAI[J&c 
1@ina`!1O 光线追迹仿真 r~;N(CG *vb)d0}P •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
V~wmGp.e w5;EnI •点击Go！
8 2qe|XD4p •获得3D光线追迹结果。
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'71btd1 83 h3C EQ 光线追迹仿真 $@x kKe" pxF!<nN1, 9D<HJ ( •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
{\e}43^9N •单击Go！
G pd:k •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
okv7@8U#p @|@43}M]C- 
ieI-_]|[ j oG>=o 场追迹仿真 . .t= Y# BpC Sf.zZ "&%Hb's •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
g :EU\ •单击Go！
_H,Rcpy J 1K`A.J:Uy 
*"
)[ Srbg J]UH q$B 场追迹结果（摄像机探测器） ~I XfID!8 twn@~$
Ojs\2('u •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
`et< Z •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
yV. P.Q Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
.EdV36$n 8M|Q^VeT,1 
l.BNe)1!22 PjHm#a3zg% 场追迹结果（电磁场探测器） 6yb<4 @LOb UO wNcY •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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