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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    )"aV* "  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 |_aa&v~  
    WuUk9_ g  
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    建模任务 Fgh_9S9J  
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    概观 ~^fZx5  
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    Ata:^qI  
    光线追迹仿真 P'[3Fqe  
    9} M?P  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 }"%?et(  
    3E $f)  
    •点击Go! "2$fi{9  
    •获得3D光线追迹结果。 0 e ~JMUb  
    ;m{1 _1  
    Ep3N&Imp  
    J({Xg?  
    光线追迹仿真 " h~Z u  
    ']z{{UNUN  
    gS]@I0y8 .  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 q"sed]  
    •单击Go! [<6^qla  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 /quc}"__  
    {|_M # w~&  
    ]]9R mh=  
         V0.vQ/  
    场追迹仿真 vB|hZTW  
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    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 sF?TmBQ*  
    •单击Go! {e9@-  
    YPK(be_|I  
    QP8Ei~  
         9gEwh<  
    场追迹结果(摄像机探测器) %wvdn  
    #;q dY[v  
    z] P SpUd  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 _w(7u(Z  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 `nv~NLkl  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 a#y;dK  
    q#ClnG*  
    x_6[P2"PP  
    lVR~Bh  
    场追迹结果(电磁场探测器) xPk8$1meZM  
    wb5baY9  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 z.9U}F  
    G"U9E5O  
     
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