YQH=]5r 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
M2$.Yom[ A=PJg!
"CX@a" =o!1}'1 }} 建模任务 Fv<^\q y^*o%2/
-lb,0 概观 j&
H4L kL7n`o
Bh#?:h&f 光线追迹仿真 H;~Lv;,g, |h7 d#V> •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
ki8;:m4 ?f8)_t}^\ •点击Go!
@{X<|,W9w •获得3D光线追迹结果。
zAZ+'9LB v>[U*E
BM
vGw wDv G5 光线追迹仿真 UZV\]Y |*T`3@R;3 _oILZ, •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
\C&[BQ\ •单击Go!
)Z" •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
Jn#05Z eXYf"hU,
l!d |luqbA !lnRl8oV 场追迹仿真 vg"$&YX9" }g9g]\.!a z{q|HO •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
Y6Mp[= •单击Go!
P&=H<^yd ,u<oAI`
2LTMt? %*A|hK+G:W 场追迹结果(摄像机探测器) D^30R*gV &Rp/y%9 }<9IH%sgF •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
0DB8[#i%: •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
h3`\L4b Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
mWP1mc:M( b)(rlX
;S5J"1)O~ >* )fmfY 场追迹结果(电磁场探测器) _-R&A@ I;g>r8N-Bu •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
#1z/rUh`Cr (rE.ft5$9