[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ZeB"k)FI>  
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建模任务 {DP%=4  
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概观 `B1r+uTP~  
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光线追迹仿真 7IEG%FY T  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Njp?/r  
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•点击Go！ Bsr;MVD  
•获得3D光线追迹结果。 htgtgW9 ^P  
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光线追迹仿真 O6 :GE'S  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 W{)RJ1  
•单击Go！ a;GuFnfn,  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 G8sxg&bf{  
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场追迹仿真 ?QbxC,& i  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 [9-&Lq_ g  
•单击Go！ O7})1|>1  
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场追迹结果（摄像机探测器） 8lNkY`P7s  
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F{'lF^Dc  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 P{2ue`w[  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 sMZ90Q$  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Z<Rhn  
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场追迹结果（电磁场探测器） 0]~'}  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 SJ%h.u@&@F  
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