pox\Gu~.0 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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7Q} P}9n 4(2}O-~ 建模任务 yInW?3 b&~rZ
83:m7; 概观 A/%K= H? ~R7rIP8Wr
2pH2s\r<UJ 光线追迹仿真 =&xamA) S #%'Vrp •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
e`'O! jE2k\\<a •点击Go!
e2UbeP •获得3D光线追迹结果。
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Jz 'm&mu lQ!ukl) 光线追迹仿真 ]K?z|&N|HK $
w:QJ~,s 3>yb$ZU"- •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
bSU9sg\ •单击Go!
:}FMauHh •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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YN9ug3O+ u2y?WcMv 场追迹仿真 .VuZ= ,sP7/S)FR e(x1w&8dB •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
C0zE<fl •单击Go!
'y}l9alF Qr1%"^4
h&L+Qx "d/x`Dx 场追迹结果(摄像机探测器) U:c!9uhp M' "S: tx}{E<\>$ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
k]`I3>/L •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
+dSe"W9 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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ko@I]gi2 iW+ZI6@ 场追迹结果(电磁场探测器) w'~f Z* 0Q_AF`" •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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