Q8O38uZ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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@|M10r9E +`ZcYLg)# 建模任务 v{I:Wxe RNPqW,B!0 
A ="h} 9ok 概观 >q}EZC @0aUWG!k 
^+pmZw9 0 光线追迹仿真 b"J(u|Du` TJCoID7a8 •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
3Z`oI#-x *l|CrUa •点击Go！
~-,<`VY •获得3D光线追迹结果。
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r"xo 9&| " jy'Dpy0m 光线追迹仿真 :R _(+EK1 R+5x:mpHy X(/W|RY{@ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
Hkpn/,D5 •单击Go！
%H:!/'45 •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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<53~Y e+S%` Sg 场追迹仿真 H -`7T;t~ `w&| ~xT k;" =y )@o •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
?g!py[CrE •单击Go！
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x3]es"4Q #Ez>]`]TB 场追迹结果（摄像机探测器） Lt_ 7pb% D=e&"V a ,1od]]>(O •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
R Xh/[t+ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
\4mw>8wA Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
6kHAoERp s fazrz`h 
>0{ { loqq ze]2- B4 场追迹结果（电磁场探测器） =d`,W9D D guAeK •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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