ylkqhs& 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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Opry`}5h <|V'pim 建模任务 1NGyaI -kc(u1!
_m7co : 概观 6UI>GQ LR\zy8y]
;fx1!:;. 光线追迹仿真 f+^c@0que qvTJ>FILT •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
x3;jWg~' ZvyjMLf •点击Go!
ux&:Rw\ •获得3D光线追迹结果。
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gA:[3J,[; 1 mHk =J~ 光线追迹仿真 tGqQJT#mr7 K#;txzi 6puVw-X •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
&vkp?UH •单击Go!
9,KVBO •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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sZEgsrJh ^#7viZ* 场追迹仿真 L"9 Gc 4[xA-
\ ,0.|P`|w •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
H-m`Dh5{ •单击Go!
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Nwh 场追迹结果(摄像机探测器) 4UazD_`' o6/Rx#A F\Y,JUn[G •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
# a.\P.{L •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
UXQb={ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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*se u& Ef-a4Pi 场追迹结果(电磁场探测器) ?{n>EvLY 2!{N[*) •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
CR.bMF} xV?*!m$V%R