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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    230ijq3Y G  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 X..<U}e  
    G2 0   
    f0@4 >\g  
         jdf3XTw  
    建模任务 GHR r+  
    =/m$ayG  
    ubs>(\`q"  
    概观 frRO?  
    " ?=$(7uc  
    GdVrl[  
    光线追迹仿真 O0_kLH$.  
    m;cgX#k5  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 OrY^?E  
    &HBC9Bx/(  
    •点击Go! dZkj|Ua~  
    •获得3D光线追迹结果。 duV\Kt/g^  
    |hD)=sCj  
    X:JU#sI  
    cT|aQM@iW  
    光线追迹仿真 ne|N!!Dmk  
    2l}H=DZV  
    p~yGp] yJ9  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 M@=VIrX,m  
    •单击Go! Z8I0v$LjR  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 `^df la  
    tjJi|  
    gxc8O).5vY  
         lho0Xy gn  
    场追迹仿真 Gt$PBlq0  
    F;8Uvj  
    ]sD lZJX<M  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 f {j`d&|  
    •单击Go! gaU(ebsE  
    5ajd$t  
    (mgv:<c;BA  
         Ay|K>8z   
    场追迹结果(摄像机探测器) cD'|zH]  
    bL2b^UB~%  
    -5y=K40  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 y4%[^g~-  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 i#I7ncX  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 "?>hQM1R  
    {JtfEna  
    RG6U~o1  
    E*s8 nQ"  
    场追迹结果(电磁场探测器) lZJbQ=K{  
    8Z>=sUMQ  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 4tlLh`-8  
    c JOT{  
     
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