aSK$#Xeu 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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-!}1{ X:e'@]Z)? 建模任务 !PQRlgcG $"UAJ - 
N&ddO-r[s 概观 (*;u{m= AVJF[t , 
pTN_6=Y" 光线追迹仿真 Jg Xbs+. ^Gy l:hN •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
es6e-y@e rcbixOT •点击Go！
vIG,!^*3 •获得3D光线追迹结果。
MUo?ajbqOd bc"{ZL!C 
r'!l`
gm,S #2MwmIeA 光线追迹仿真 3dM6z OK YW 'Y=* 'v,W
gPe •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
"d#s|_n,d) •单击Go！
givK{Yt<B •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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980+Y QxkfP % _g 场追迹仿真 BNByaC ;'Y? wH[ 1dq.UW\ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
v_ J.M ] •单击Go！
5 4OYAkPCk F;ZLoG*U 
Z b1v o O|^ [b# 场追迹结果（摄像机探测器） .dygp"* ;klDt|%3j WDX?|q9rCt •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
f&`*x t/ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
U!'lc} 5 Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
u1"e+4f 646ye Q1 
r" D |1 lz*PNT{E 场追迹结果（电磁场探测器） CxRp$;rk u7;A` •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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