[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Uv)B  
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建模任务 "
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概观 ~Z`Cu~7  
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光线追迹仿真 &M>o  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 .QU]  
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•点击Go！ +R8G*2  
•获得3D光线追迹结果。 :y.~IQN  
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光线追迹仿真 w2H^q
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 j=dGNi)R  
•单击Go！ B ({g|}|G+  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 V]Rt[l]  
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场追迹仿真 Xhs*nt%l  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 []jbzVwS2  
•单击Go！ <v6W l\  
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场追迹结果（摄像机探测器） 3#?53s  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Zi?:< H}  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 >,ABE2t5  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 R=<%!  
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场追迹结果（电磁场探测器） U.WXh(`%  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ;t M  
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