[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

GN+,9  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 |B2>}Y/  
ZV-Yq !|t  
83)m#  
     3)(uC+?[  
建模任务 b: I0Zv6  
cNy*< Tv  
!H9zd\wc  
概观 !Okl3 !f
C  
[|C  
&5%~Qw..  
光线追迹仿真 P (fWJ
VF7  
>5t]Zlb`  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 5E${  
a{.-qp  
•点击Go！ , LqfwA|  
•获得3D光线追迹结果。 aMxM3"  
g(o^'f  
;
;432^jD  
anH]]  
光线追迹仿真 u*T#? W?  
iW[%|ddk  
fz+dOIU3\L  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ?:7$c  
•单击Go！  Q6r  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 7v`~;}5  
UQBc$`v  
mU>lm7'  
     %)o;2&aD  
场追迹仿真 i\ )$  
L~Xzo  
xr^fP~V|)0  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 "Q[?W(SA  
•单击Go！ Se!B,'C%  
Z..s /K{  
{w v{"*Q9Q  
     aM\Ph&c7e'  
场追迹结果（摄像机探测器） OXV9D:bIa  
'lgS;ItpKu  
u)Vn7zh  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 6
MQyr2c  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 C]krJse@  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 8?hj}}H  
#*+$
o<Q]9  
kM
76?M  
[qxDCu
xq  
场追迹结果（电磁场探测器） cu4|!s`#  
Lv-
M.  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 6^z):d#u  
Co:Rg@i(F