@98SC}}u 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
yW?%c#9D 8 {%9%{
%0]b5u '/g+;^_cB 建模任务
Fjt, *%'7~58ObS
>[4|6k|\x 概观 y4rJ- B-'BJ|*4I
(Gc`3jJ 光线追迹仿真 J&65B./mD9 bI6wE'h •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
+{ !t~BW DeQ'U!?+N •点击Go!
.0W4Dp •获得3D光线追迹结果。
D s,"E#? *1S.9L
>E ;o" hs_|nr0;[ 光线追迹仿真 mW0&uSMD X3L[y\ ';|>`< •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
!2U7gVt"* •单击Go!
qs1.@l(" •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
JKi@Kw 7a]Zws
_.*4Y 3/IWO4?_ 场追迹仿真 cc(r,ij~4 s]<r Q1I_=fT •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
+9
p`D •单击Go!
2DCcGKa" kPX2e h
3auJ^B} .UhBvHH 场追迹结果(摄像机探测器) +b,31 _QMHPRELk 'UvS3]bSYW •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
Sd<@X@iU8D •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
@+\S!o3m Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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-w F`BgKH!
_z(5e Neo^C_[vN 场追迹结果(电磁场探测器) `k}l$ih`X
kF+ }.x% •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
@X|i@{<'; IzGB