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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    K%g\\uo   
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 zb4g\H 0  
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    建模任务 k"U4E J{  
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    概观 3_-#  
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    光线追迹仿真 r~;N(CG  
    *vb)d0}P  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 V~wmGp.e  
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    •点击Go! 8 2qe|XD4p  
    •获得3D光线追迹结果。 %{{#Q]]&  
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    光线追迹仿真 $@x kKe"  
    pxF!<nN1,  
    9D<HJ(  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 {\e}43^9N  
    •单击Go! G pd:k  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 okv7@8U#p  
    @|@43}M]C-  
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    场追迹仿真 ..t=Y#  
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    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 g:EU\  
    •单击Go! _H,RcpyJ  
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    *" )[Srbg  
         J]UH q$B  
    场追迹结果(摄像机探测器) ~IXfID!8  
    twn@~$  
    Ojs\2('u  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 `et<Z  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 yV. P.Q  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 .EdV36$n  
    8M|Q^VeT,1  
    l.BNe)1!22  
    PjHm#a3zg%  
    场追迹结果(电磁场探测器) 6yb<4@LOb  
    UOwNcY  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ?]z ._I`E  
    0#JBz\  
     
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