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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    \En"=)A  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 4S4gK   
    EhW"s%Q  
    q*tGlM@R?  
         7GS 4gSd3  
    建模任务 U| ?68B3  
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    概观 _1mpsY<k  
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    e\^}PU  
    光线追迹仿真 %*o  
    6R guUDRQ  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 lrL:G[rt  
    :U/]*0b  
    •点击Go! pzaU'y#PM  
    •获得3D光线追迹结果。 ^q#[oO  
    Ul6|LTY  
    ef_H*e  
    X Q CE`m  
    光线追迹仿真 (:O6sTx-hE  
    X6_ RlV]Sk  
    ob'" ^LO\  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 fM|s,'Q1x  
    •单击Go! A?$-Uqb"  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 !3\$XK]5ZT  
    [@JK|50|K  
    KUK.;gG*Z  
         4:^MSgra  
    场追迹仿真 t;/uRN*.  
    6 eu7&Kj'  
    )?7/fF)@|  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ~WORC\kCW  
    •单击Go! B3D}'<  
    ;\6@s3  
    #5kclu%L$  
         7Z~JuTIZ  
    场追迹结果(摄像机探测器) V5i}^%QSs  
    5f?GSHA}  
    68(^*  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 '/t9#I@G\  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 aXG|IN5 *m  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 XjP &  
    =:xX~,qmv  
    Pk;yn;  
    l6 }+,v@#  
    场追迹结果(电磁场探测器) 7R m\#  
    ;|Hpg_~%>  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 B$YoglEW:  
    `LLmdm 6i  
     
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