\.mVLLtG 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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jlj ge=#c2 +;~o R_p 建模任务 Nj4CkMM[3 >; MJm
}"T Q\v$ 概观 i4|R0>b AaYH(2m-
-fPiHKJ 光线追迹仿真 @6'~RD. `Jc/ o=] •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
IADHe\. &K0b3AWc •点击Go!
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a •获得3D光线追迹结果。
We{@0K/O L6_%SGY_iE
-SM_JR3< +Xs E 光线追迹仿真 I%J>~=]n_ N 5*Qnb8 q|<B9Jk •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
33DP?nI} •单击Go!
csW\Q][ •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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)7*'r@ ni2#20L 场追迹仿真 /8e}c` "M5 9PKXQp •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
{d[Nc,AMb •单击Go!
^Ye(b7Gd eY :"\c3
Z}$sY>E P_5aHeiJ 场追迹结果(摄像机探测器) '*y(F*7+ E'aOHSAg /7D5I\ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
HMF2sc$N •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
qt@/ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
ym{@w3"S O(W"QY
ndLEIqOY #1haq[Uv7 场追迹结果(电磁场探测器) ;F258/J &AJ bx •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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