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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    k%c ?$n"  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 _{T`ka  
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    建模任务 bx`(d@  
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    光线追迹仿真 qOkw6jfluh  
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    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ~>)cY{wE_  
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    •点击Go! C%G-Ye|@  
    •获得3D光线追迹结果。 <o p !dS  
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    光线追迹仿真 3",6 E(  
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    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 wxvt:= =  
    •单击Go! Jg: Uv6eN+  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 V@T G"YF  
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         SyTcp?H  
    场追迹仿真 YW>|gE  
    vFy /  
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    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ]uj H7T  
    •单击Go! 'g( R4deCX  
    4W$53LP8  
    @4hxGk=  
         0vDP- qJV-  
    场追迹结果(摄像机探测器) RrGS$<  
    awo=%vJ&  
    vPpbm  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 c]&(h L  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 [Fj h  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 :9]23'Md  
    J:p nmZ`X  
    vk.Y2 :  
    B.|2w  
    场追迹结果(电磁场探测器) ^#XxqVdPk  
    p8o%H-Xk  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 EGU? 54  
    E$*I.i_m  
     
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