Z+El(f x 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
q-JTGCFl f$o^Xu
0^ODJ7 rwF$aR>9 建模任务 ,9P-<P SyvoN,;Q
J/je/PC 概观 M~:_^B mTE(JZt
ED&nrd1P 光线追迹仿真 b(*\4n J2=4%#R! •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
lMFR_g?r \;{ ]YX •点击Go!
#fuUAbU0X •获得3D光线追迹结果。
g3tE.!a5- 24jf`1XFW
{D4FYr
J 8rsc@]W 光线追迹仿真 Fz7t84g( F9r.DG$} Z.\q$U7'9 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
QQl.5'PP •单击Go!
pR
S! •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
")Fd'&58 cbJgeif
[6!k:-t+ <]rayUyaf 场追迹仿真 nrl?<4_ .zO^"mXjS /q9I^ ztV •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
|qNe_) •单击Go!
'UhoKb_p
UleT9 [M
qOo4T@t3 sVFO&|L 场追迹结果(摄像机探测器) Bz]tKJ =g#PP@X]D! UsE\p9mCuV •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
-"[4E0g0 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
/@9Q:'P Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
fbq$:Q44 `d_T3^ayu
ytcLx77`: ,&o9\|ih7] 场追迹结果(电磁场探测器) I{IB>j}8 n`5Nf •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
IK -vcG Ic/hVKYG5