yTbBYx9Bi 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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/sJk[5!z hoSk 建模任务 rA{h/T" r_
r+&4n
H${Ym BG 概观 y$\K@B4 f{^n<\Jh
^!Bpev 光线追迹仿真 $W`
&7 QR79^A@5 •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
ZOS{F_2. Wpj.G •点击Go!
KLAnW# •获得3D光线追迹结果。
z36ny o "B)DX*-\?
:UFf6T? \^':(Gu4o 光线追迹仿真 _FAwW<S4B =>-b?F0(c L\hPw{) •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
"D@m/l •单击Go!
@0B<b7Jv •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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u'?t'I `b9oH^}n j 场追迹仿真 0ZPPt(7 unjo& 5dYIL` •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
9n@jK%m •单击Go!
'90B),c{ iAup',AZg
z[OW%(vrm MQ,$'Y5~H 场追迹结果(摄像机探测器) 7W}~c/ % (
B50~it Xb6@;G" •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
{n.g7S~ •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
7B7I'{d Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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Pr Q5 ohaxjF
!gJAK<]iW W,w g@2 场追迹结果(电磁场探测器) F!a YK2 5<d
Y,FvX •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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