)"aV* " 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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lBvR+9Qw * kDC liL 建模任务 Fgh_9S9J UIN<2F_
0Y{yKL 概观 ~^fZx5 =QiI :|eRA
Ata:^qI 光线追迹仿真 P'[3Fqe 9} M?P •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
}" %?et( 3E $f) •点击Go!
"2$fi{9 •获得3D光线追迹结果。
0e ~JMUb ;m{1_ 1
Ep3N&Imp J({Xg? 光线追迹仿真 " h~Zu ']z{{UNUN gS]@I0y8
. •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
q" sed] •单击Go!
[<6^qla •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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]]9R mh= V0.vQ/ 场追迹仿真 vB|hZTW Tc &z: tla
5B_ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
sF?TmBQ* •单击Go!
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QP8Ei~ 9gEwh< 场追迹结果(摄像机探测器) %wvdn #;qdY[v z] PSpUd •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
_w(7u(Z •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
`nv~NLkl Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
a# y;dK q#ClnG*
x_6[P2"PP lVR~Bh 场追迹结果(电磁场探测器) xPk8$1meZM wb5baY9 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
z.9U}F G"U9E5O