0j@nOj(3 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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*/8b)I}yY ]6)~Sj$ 5 建模任务 {DP%=4 .k_>
BD];
_BC%98:WP 概观 `B1r+uTP~ B<V8:vOam
\:7G1_o 光线追迹仿真 7IEG%FY
T IF>dsAAI< •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
Nj p?/r p'@|Oq& •点击Go!
Bsr;MVD •获得3D光线追迹结果。
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u*W6fg/" pgp@Zw)r)k 光线追迹仿真 O6
:GE'S ^0x0 rY JI)@h 4b •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
W{)RJ1 •单击Go!
a;GuFnfn, •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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v@qU<\Y> "A4.2 场追迹仿真 ?QbxC,& i w6Owfq'v fV>12ici •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
[9-&Lq_ g •单击Go!
O7})1|>1 2#y-3y<G
[?QU'[ h?D>Dfeg% 场追迹结果(摄像机探测器) 8lNkY`P7s Hv3<gyD F{'lF^Dc •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
P{2ue`w[ •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
sMZ90Q$ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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2T48
Yg~$1b@ ukInS:7 场追迹结果(电磁场探测器) 0]~'} }Dc7'GZ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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