{TL +7kiX/ 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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*=vlqpG .^XHuN& 建模任务 ">6&+^BN' jX|=n.#q
g8yN%)[ 概观 (5;D7zdA K&UE0JO'
7C5pAb: 光线追迹仿真 WOO%YU = cw+g
z!! •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
a{_ KSg Z5>V{o •点击Go!
n(jjvLf •获得3D光线追迹结果。
ck$2Ue2`@w ZPF7m{S
`{G?>z Fp S+FQa7k 光线追迹仿真 C|6{fd4? pGGV\zD^ Dq`~XS* •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
j@C0af •单击Go!
u)7
]1e{ •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
aRKv+{K v[D&L_
pb$fb n{=7 yK 场追迹仿真 _[1^s$ ycjJbL(. =xBT>h; •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
cqk]NL`' •单击Go!
bp Ml =_ a*Jn#Mx<M
-gSj>b7T wA r~< 场追迹结果(摄像机探测器) K_##-6> \ 522,n` -,/3"}<^78 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
L *{QjH •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
"!a`ygqpT Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
?{j@6, *')Q {8`
K6(.KEW 1uC;$Aj6: 场追迹结果(电磁场探测器) #gI&lO*\gr (0g7-Ci •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
K>LpN')d ~B*~'I9b*