[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 qL5#.bR  
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建模任务 j /dE6d  
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概观 ]n]uN~)9  
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光线追迹仿真 D7WI(j\  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 4IP\iw#w  
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•点击Go！ m7wc)"`t  
•获得3D光线追迹结果。 a3dzok  
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光线追迹仿真 [zTYiNa  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 OT}Yr9h4  
•单击Go！ _{*$>1q  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 K[LVT]3 n  
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场追迹仿真 ELrZ8&5G  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 j*H;a ?Y  
•单击Go！ XAU_SPAjiw  
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场追迹结果（摄像机探测器） %eJ\d?nw  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 "ji$@b_\?  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 s la*3~?*  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 vTMP&a'5L  
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场追迹结果（电磁场探测器） gY>;|),  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 18O@ 1M  
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