r(UEPGu|~l 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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z9> yg_Q gkxEy5c[ 建模任务 >| d^ Cjvgf.>$
;=rM Ii 概观 a2:Tu \)?mIwo7~
m3|KIUP 光线追迹仿真 FN$hEc! <9za!.(zu •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
]J=S\ B_f0-nKP •点击Go!
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YT& •获得3D光线追迹结果。
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`i{k^Q d<*4)MRN 光线追迹仿真 ,H{
/@|RW eiLtZQ V<} ^n •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
$Cu/!GA4.> •单击Go!
6{O#!o*g •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
jgiP2k[Xom xx}R6VKU.
)9,*s!)9 Y`FGD25` 场追迹仿真 uj.~/W1,! K;2]c3T 9"yBO` •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
Z=: oIAe •单击Go!
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Fxc Z_%}pe39B
Fa(}:Ug S"|sD|xOb 场追迹结果(摄像机探测器) T7;)HFGeW v}6YbY Tq my#qmI •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
uCK!lq- •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
ujcS>XN,1 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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lY}mrb >l$vu-k)~4 场追迹结果(电磁场探测器) PVO9KWv** lwH&4K •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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