[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

y&(#
C:N  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 W"=l@}I  
)at:Xm<s  
*+v*VH  
     8#!g;`~ D  
建模任务 ?j&hG|W9<z  
tR51Pw  

S(@kdL  
概观 |GMo"[  
iM
!Ya!  
")KqPD6k  
光线追迹仿真 _DxHJl  
-k + jMH  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 hh4R  
?22U0UF  
•点击Go！ cr;:5D%_  
•获得3D光线追迹结果。 aEdA'>  
+-tFgXG  
:]:)c8!6  
x[mz`0  
光线追迹仿真 \W=3P[gb  
-sJ1q^;f@  
=]%,&Se  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 et5lfj  
•单击Go！ 7R:j^"I@  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 A~xw:[zy$a  
=r+K2]z,L  
*zUK3&n~I  
     <ll?rPio"  
场追迹仿真 3li$)S1z  
D>k(#vYKB  
TG;[,oa  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 '$Z)2fn7  
•单击Go！ lU 62$2  
=F|9ac9X  
Xz@#,F:@  
     c:7V..  
场追迹结果（摄像机探测器） Hc\C0V<  
#b/L~Bw[  
mrr]{K  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 a0hBF4+6  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 q\@_L.tc[  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 &|Wqzdo?#  

%}(`?  
$y6 <2w%b  
A|LO!P,w  
场追迹结果（电磁场探测器） /a*){JQ5j  
PR5N:Bw  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 T9R#.y,  
H.Z
F~Yuw