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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    r(UEPGu|~l  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 F\pw0^K;N  
    $E=t6WvA  
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    建模任务 >| d^  
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    概观 a2:Tu  
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    m3|KIUP  
    光线追迹仿真 FN$ hEc!  
    <9za!.(zu  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。  ]J= S\  
    B_f0-nKP  
    •点击Go! qg7] YT&  
    •获得3D光线追迹结果。 ?(8z O"  
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    `i{k^Q  
    d<*4)MRN  
    光线追迹仿真 ,H{ /@|RW  
     eiLtZQ  
    V<} ^n  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 $Cu/!GA4.>  
    •单击Go! 6{O#!o*g  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 jgiP2k[Xom  
    xx}R6VKU.  
    )9,*s !)9  
         Y`FGD25`  
    场追迹仿真 uj.~/W1,!  
    K;2]c3T  
    9"yBO`  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 Z=: oIAe  
    •单击Go! >40B Fxc  
    Z_%}pe39B  
    Fa(}:Ug  
         S"|sD|xOb  
    场追迹结果(摄像机探测器) T7;)HFGeW  
    v}6YbY Tq  
    my#qmI  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 uCK!lq-  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ujcS>XN,1  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 mB(*)PwZ  
    l3aG#4jj  
    lY}mrb  
    >l$vu-k)~4  
    场追迹结果(电磁场探测器) PVO9KWv**  
    lwH&4K  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 =#XsY,r  
    3 )f=Z2U>  
     
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