-Mb`I >= 光栅结构广泛用于
光谱仪、近眼显示
系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法（FMM）以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中，可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的，并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中，介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。
QMGMXa Wx ;`=9 
;:nO5VFOg SArSi6vF 本用例展示了......
Z:l.{3J$ •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构，例如：
R cUK e, - 矩形光栅界面
lNcXBtwK@# - 过渡点列表界面
('/5#^%R - 锯齿光栅界面
\($EYhx - 正弦光栅界面
QU/Q5k •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。
F2 /-Wk@ b(lC7Xm 光栅工具箱初始化 >&0)d7Nu8m •初始化
L: H J: - 开始
P
+U=/$o 光栅
qB`zyd8yu 通用光栅光路图
^^[MDjNy@ •注意：使用特殊类型的光栅，例如： 矩形形状，
>&K1+FSmyJ 可直接选择特定的光路图。
bgW=.s 4{Vw30DZ 
%KxL{ HY ?@"B:#l 光栅结构设置 ?QGAiu0 •首先，必须定义基板（基块“Base Block”）的厚度和
材料。
"(uEcS2< 
b?#k •在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈（stack）中定义。
|fXwH> 'sw •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。
'H0b1t1S% p?OwcMT]M 
q' };.tv mOj6
4}_`" •例如，选择第一个界面上的堆栈。
='1J&w~7 Gld|w=qr 堆栈编辑器 zbt >5S_ •在堆栈编辑器(Stack Editor)中，可以从目录中添加或插入界面。
-ec ~ ~95 •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。
r>N5 ^ tcY bM+4e 
Xp <RG p7E a9 =,P 矩形光栅界面 #t
/.fd 30 Vv Zb •一种可能的界面是矩形光栅界面。
^
q]BCOfJ( •此类界面适用于简单二元结构的配置。
V#;6 <H" •在此示例中，由银制成的光栅位于
玻璃基板上。
=/@c9QaV B •为此，增加了一个平面界面，以便将光栅结构与基块分开。
sidSY8j •在堆栈编辑器的视图中，根据折射率（黑暗表示更高），其他颜色表示不同的材料。
' bio: 1 ,^ M A,"8 
C<CE!|sfr KDP7u 矩形光栅界面 q^ ],K' •请注意：界面的顺序始终从基板表面开始计算。
8 UArl3 •所选界面在视图中以红色突出显示。
pEIc ?i* 
=T$-idx1l •此外，此处无法定义光栅前方的介质（指最后一个接界面后面的介质）。 它自动取自光栅元件前面的材料。
~c7}eTJd" •可以在光路编辑器（Light Path Editor）中更改此材质。
T)Byws 
9.R )iA •堆栈周期（Stack Period）允许控制整个配置的周期。
7_ g}t!b` •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。
\HFeEEKH •如果是简单的光栅结构，建议选择“取决于界面周期”（Dependent from Period of Interface）选项，并选择适当的周期性界面索引。
WAlsh _K{hq <g 
*V(TNLIh; '`^<*;w 
iivuH2/~?[ T_CYSS|fX 矩形光栅界面参数 ]qCAog •矩形光栅界面由以下参数定义
is`Eqcj`dr - 狭缝宽度（绝对或相对）
|,F/_ - 光栅周期
W!g'*L /#L - 调制深度
L- [<C/`;t •可以选择设置横向移位和旋转。
cCN[c)[c| E< ;C@B 
Two$wL/ afRUBjs 高级选项和信息 P`wp`HI •在传播菜单中，有几个高级选项可用。
IpQ 51 •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。
l+S08IZ •可以设置总级次数或衰逝波级次数
;Dg8> （evanescent orders）。
T'2(sHk •如果考虑金属光栅，这项功能非常实用。
X_XeI!,b •相反，在介质光栅的情况下，默认设置就足够了。
I 3o6ym-i S2/c2 
o|G.tBpKg 1lu _<?O •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。
c,;-[sn •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。
)}\T~#Q]y •此外，有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。
Q}ho
Y •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。
%^}3:0 G dL5 u- <y& 
E7^r3#s
6JBE=9d-Q 过渡点列表界面 X<J
NwjM% •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。
|) QE+|?P •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。
,6?L .L •同样，平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。
C#X| U2$ 
gl-O"%rMcL !u )ve h3x 过渡点列表参数 E`.dU<8HE •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。
zZD a7 1> •上限（Upper Limit）必须设置为大于所需光栅周期一半的值，但在周期性结构的情况下自动设置。
~0r:Wcj x 1I u^+ 
DWZ!B7Ts i[A$K~f •必须在周期化（Periodization）选项卡中设置此界面的周期。
[#V?]P\uV •此处，可以定义x方向和y方向的周期。
=r cqYPul0 •在这种情况下，可以忽略内部和外部定义区域的设置，因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。
G (Fi *KSQ^.sYh 
\gy39xoW ( k8w }2Vw 高级选项及信息 he;;p ="!* •同样，可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。
7 a 4G: "<x% kD 
9.f/d4 W #E-vi+l 正弦光栅界面 2ku \R 7 •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。
-L(F:
•此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。
jV`xRj h •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料：
0 3kzS ]g - 脊的材料：基板的材料
*j RNpB{)z - 凹槽材料：光栅前面的材料
$5T3JOFz Qp~O!9ph 
_ ] veTAV U7(84k\j 正弦光栅界面参数 { j.5!Nj]B - 正弦光栅界面也由以下参数定义：
B$"CoLC7+ •光栅周期
j-@3jFu •调制深度
|13UJ
vR - 可以选择设置横向移位和旋转。
&m_4# - 由于这是光栅界面（类似于矩形和锯齿借口），因此不必选择周期。
i/`N~r <rV3(qb#]J 
^@e4 m O U~ QIO O 高级选项和信息 mnswG vY •同样，可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。
W>+\ A" {b~l [ 
z6#~B& OD
09XO 高级选项及信息 -R@mnG
5 •如果增加层数（例如，增加2倍），则离散化变得光滑。
`Et)@{iP Kf#9-.}? 
+m kub}<a 锯齿光栅界面 Svj%O( •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。
j h \L)a* •此界面允许配置闪耀结构的光栅。
Xc -'&" •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料：
6tBL?'pG - 脊的材料：基板的材料
S,,,D+4 - 凹槽材料：光栅前面的材料
)e`$' y@L$ (<!Yw|~ 
:G\f(2@ [" VUSa 锯齿光栅界面参数 }S |~^ •锯齿光栅界面也由以下参数定义：
Cc7PhoPK - 光栅周期
dUiv+K)ccQ - 调制深度
aj;OG^(!2_ •此外，闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。
Xi`K`Cu+ •可以选择设置横向移位和旋转。
^3?]S {1/# •由于这是光栅界面（类似矩形和正弦型），因此不必选择周期。
^R riu $\ ]Z%9l ( 
:= !?W^J Kt5;G UV 高级选项和信息 $6Z@0H@X •同样，可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。
}_m/3*x_ 
W=j 探测器位置的注释 | wuUH 关于探测器位置的注释 *C G-F= •在VirtualLab中，探测器默认位于基板后面的空气中。
ak]:ir`o •如果光栅包含在复杂的
光学装置中，则必须这样做。
-)_"7}|u5 •但是，完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应，而实际情况并非如此。
Ux5pw •因此，为了计算光栅效率，应将探测器设置在基板材料内（同样适用于大多数光栅评估
软件）。
|E)-9JSRy •可以避免这些干涉效应的不良影响。
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