<m'W{n% Pp 光栅结构广泛用于
光谱仪、近眼显示
系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法（FMM）以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中，可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的，并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中，介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。
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{{qu:(_g s^#B * 本用例展示了......
x. 8fxogz •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构，例如：
5<YV`T{5Kl - 矩形光栅界面
T,r?% G{XE - 过渡点列表界面
7_HFQT1.N - 锯齿光栅界面
a]]eQ(xQ - 正弦光栅界面
}]<0!q &xB •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。
A`71L V% tn E ), 光栅工具箱初始化 Kl_(4kQE_ •初始化
|h%= a8 - 开始
nvbzC tC 光栅
wDR/Vr"f 通用光栅光路图
Ogv9_ X8 •注意：使用特殊类型的光栅，例如： 矩形形状，
{^8?fJ/L 可直接选择特定的光路图。
-Gy=1W`09 Z-:T')#Cf 
R#HVrzOO|T 2D U Y4Ti 光栅结构设置 [ n4nnmM •首先，必须定义基板（基块“Base Block”）的厚度和
材料。
B`|f" +. 
ncrg`<'/, •在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈（stack）中定义。
zG{P5@:.R •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。
Wn2'uZ5If bb M^J 
GXG 7P,p, 9 HB+4q[ •例如，选择第一个界面上的堆栈。
?8N^jjG _ _!LTpp 堆栈编辑器 . do8\ •在堆栈编辑器(Stack Editor)中，可以从目录中添加或插入界面。
9TX2h0U? •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。
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{7jl) x3 l zZ6m`]{B9? 矩形光栅界面 <?s@- mpgN =^1jVaAL •一种可能的界面是矩形光栅界面。
^"<x4e9+j •此类界面适用于简单二元结构的配置。
.' }jd# •在此示例中，由银制成的光栅位于
玻璃基板上。
k4a51[SYBK •为此，增加了一个平面界面，以便将光栅结构与基块分开。
4sRM" w; •在堆栈编辑器的视图中，根据折射率（黑暗表示更高），其他颜色表示不同的材料。
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w"5Eyz-eO fLnwA|n= 矩形光栅界面 rY 6x):sC •请注意：界面的顺序始终从基板表面开始计算。
C$q};7b1N •所选界面在视图中以红色突出显示。
>TMd1? , 
;plBo%EBV •此外，此处无法定义光栅前方的介质（指最后一个接界面后面的介质）。 它自动取自光栅元件前面的材料。
_V 4O#;%? •可以在光路编辑器（Light Path Editor）中更改此材质。
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yX4 Vv{g •堆栈周期（Stack Period）允许控制整个配置的周期。
t L3R<' •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。
&Ts !#OcB, •如果是简单的光栅结构，建议选择“取决于界面周期”（Dependent from Period of Interface）选项，并选择适当的周期性界面索引。
3m= _ a +j{(NwsX 
"I66 @d? cI P.5)Ca 
D'< L6w` <3!Al,!ej@ 矩形光栅界面参数 6#7hMQ0&;O •矩形光栅界面由以下参数定义
HdN5zl,q - 狭缝宽度（绝对或相对）
o3V\ - 光栅周期
FY^2 Y - 调制深度
E447'aJ •可以选择设置横向移位和旋转。
JcUU#> w] t'2p-' 
("\{=XA Q ] L97k(:Ib 高级选项和信息 +@=V}IO •在传播菜单中，有几个高级选项可用。
u8T@W} FX •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。
E{EO9EI •可以设置总级次数或衰逝波级次数
~4khIz （evanescent orders）。
}%p:Xv@X! •如果考虑金属光栅，这项功能非常实用。
H.\`(`6 •相反，在介质光栅的情况下，默认设置就足够了。
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5 JM 
wn.~ Dx W?5') •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。
PFuhvw~? •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。
Iz1x| EQ •此外，有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。
[EDX@Kdq) •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。
N2O *g`Y C Hl`OT5 pNf 
tsAV4 6S ?>Sv_ 0 过渡点列表界面 T [Zs {S •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。
=}0Uw4ub(u •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。
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Xr •同样，平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。
-T,?'J0 2 
9a=Ll]=\ gom!dB0J 过渡点列表参数 R3~, &ab •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。
>x{("``D0y •上限（Upper Limit）必须设置为大于所需光栅周期一半的值，但在周期性结构的情况下自动设置。
8@;]@c)m g%&E~V/g$ 
7pm'b,J< !HvA5'|:} •必须在周期化（Periodization）选项卡中设置此界面的周期。
#7 3p ryXV •此处，可以定义x方向和y方向的周期。
[3jJQ3O, •在这种情况下，可以忽略内部和外部定义区域的设置，因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。
U?#wWbE1 h+}BtKA 
xj3 qOx$ 1( gs({ 高级选项及信息 hyH[`w iq •同样，可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。
5dm ~yQN/ 0 53bM)qW 
#RBrii-, 3PE.7-HF 正弦光栅界面 {Sf[<I •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。
C(ij_> •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。
@|\9<S •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料：
hx9{?3# - 脊的材料：基板的材料
a_RY Yj - 凹槽材料：光栅前面的材料
iApq!u, m\56B P-AM 
( zWBrCX uzBQK 正弦光栅界面参数 C^L+R 7 - 正弦光栅界面也由以下参数定义：
krUtOV I •光栅周期
xqt?z n •调制深度
<E2 IU~e - 可以选择设置横向移位和旋转。
*%Rmdyn - 由于这是光栅界面（类似于矩形和锯齿借口），因此不必选择周期。
\baY+,Dr+ 3YHEH\60^ 
$-}&RW9 4!I uTPmr 高级选项和信息 (`1i o •同样，可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。
)0VL$A "+(|]q "W 
4>d4g\Z0 L iFd
!ED 高级选项及信息 1&| ]8=pG7 •如果增加层数（例如，增加2倍），则离散化变得光滑。
UzxL" `^7 {7o3wxsS 
l7 |z]v- 锯齿光栅界面 gXxi ; g •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。
# L*\ ^ c •此界面允许配置闪耀结构的光栅。
"`>6M&`U •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料：
2_q/<8t - 脊的材料：基板的材料
32wtN8 kx - 凹槽材料：光栅前面的材料
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2][9Wp Gy q 6? 锯齿光栅界面参数 BJjic% V •锯齿光栅界面也由以下参数定义：
t7f(%/] H0 - 光栅周期
0V:H/qu8> - 调制深度
*ERV\/ •此外，闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。
N3%#JdzZ$ •可以选择设置横向移位和旋转。
1SEx l U •由于这是光栅界面（类似矩形和正弦型），因此不必选择周期。
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g88k@<Y 7m2iL#5[ 高级选项和信息 c,a8#Og •同样，可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。
;/Hr ZhOE 
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+ 探测器位置的注释 s<!A< +Sh 关于探测器位置的注释 |{#St-!- 7 •在VirtualLab中，探测器默认位于基板后面的空气中。
dla_uXtM6 •如果光栅包含在复杂的
光学装置中，则必须这样做。
C~ &E7w •但是，完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应，而实际情况并非如此。
Qc7*p]E& •因此，为了计算光栅效率，应将探测器设置在基板材料内（同样适用于大多数光栅评估
软件）。
hIV9 .{J •可以避免这些干涉效应的不良影响。
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