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(4\d]*u5-c 内容简介 +3&zN( Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Y_]De3:V0B 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 F35#dIs`& 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 cKn`/\.H mWyqG*-Hb 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 g7&9" 目录 h68]=KyK Preface 1 VwEb7v,^0\ 内容简介 2 PI*82,f3dE 目录 i 4[BG# 1 引言 1 bO&7-Z~:= 2 光学薄膜基础 2 yB3; 2.1 一般规则 2 =b[_@zq] 2.2 正交入射规则 3 XfKo A0 2.3 斜入射规则 6 efD)S92 2.4 精确计算 7 ;r6jx"i 2.5 相干性 8 NNF>Xa`9, 2.6 参考文献 10 7^M9qTEHp 3 Essential Macleod的快速预览 10 e4G4GZH8 4 Essential Macleod的特点 32 /RyR>G! 4.1 容量和局限性 33 OKHX)"j\\ 4.2 程序在哪里? 33 Cn_$l> 4.3 数据文件 35 jn:NYJv 4.4 设计规则 35 h1(j2S`: 4.5 材料数据库和资料库 37 c)Ic#<e( 4.5.1材料损失 38 NWd<+-pC6 4.5.1材料数据库和导入材料 39 kvh&d| 4.5.2 材料库 41 -!)xQvagD. 4.5.3导出材料数据 43 siTX_`0 4.6 常用单位 43 zvvP81$W 4.7 插值和外推法 46 )?2e 4.8 材料数据的平滑 50 U#n#7G6fRp 4.9 更多光学常数模型 54 .0G6flD 4.10 文档的一般编辑规则 55 !;Jmg 4.11 撤销和重做 56 KIeT!kmDl 4.12 设计文档 57 ~w</!s 4.10.1 公式 58 SSBg?H 'T 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 dDDGM:] 4.10.3 沉积密度 59 %Rh;=p` 4.10.4 平行和楔形介质 60 NWfAxkz{/ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 }YOL"<,:o 4.10.4 性能 61 j$da8] ! 4.10.5 保存设计和性能 64 XCsiEKZ_i 4.10.6 默认设计 64 *[eL~oN.c 4.11 图表 64 jxgj,h"}9` 4.11.1 合并曲线图 67 LwuF0\ 4.11.2 自适应绘制 68 ZAuWx@} 4.11.3 动态绘图 68 ]ALc;lb-} 4.11.4 3D绘图 69 B`$L' 4.12 导入和导出 73 fQnwy!-\ 4.12.1 剪贴板 73 x\s,= n3z 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 *FR$vLGn 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 "tS'b+SJ-S 4.13 背景 77 ]+DI.% 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 M!M!Ni 4.15 生成Rugate 84 K:y^OAZfV 4.16 参考文献 91 w(nHD*nm 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 jx_4B%kzq 5.1 Jobs 92 >i,iOx|E- 5.2 创建一个新Job(工作) 93 3UUGblg`~ 5.3 输入材料 94
Aw!gSf) 5.4 设计数据文件夹 95 tGcya0RL 5.5 默认设计 95 pL1s@KR 6 细化和合成 97 M] V.!z9B 6.1 优化介绍 97 K_-d( 6.2 细化 (Refinement) 98 J?:[$ C5 6.3 合成 (Synthesis) 100 g+zJ? 6.4 目标和评价函数 101 ET^ |z 6.4.1 目标输入 102 ?Ce#BwQ> 6.4.2 目标 103 VU!w!GN]Y 6.4.3 特殊的评价函数 104 1@sM1WMX 6.5 层锁定和连接 104 @fn6<3 6.6 细化技术 104 &;q<M_< 6.6.1 单纯形 105 YwT-T,oD 6.6.1.1 单纯形参数 106 vrl[BPI 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 XbvDi+R2A 6.6.2.1 Optimac参数 108 >X Qv?5 6.6.3 模拟退火算法 109 :9d\Uj, 6.6.3.1 模拟退火参数 109 _ptP[SV^j 6.6.4 共轭梯度 111 d;suACW 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 jD<pIHau 6.6.5 拟牛顿法 112 ?s{C// 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 w^VSj%XH! 6.6.6 针合成 113 Z(!pYhLq 6.6.6.1 针合成参数 114 saK;[&I* 6.6.7 差分进化 114 2)LX^?7R 6.6.8非局部细化 115 wa3F 6.6.8.1非局部细化参数 115 V2`;4d X*2 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ua& @GXvZ 6.7.1 细化 116 IKm&xzV- 6.7.2 合成 117 1$["79k 6.8 参考文献 117 }$)&{d G 7 导纳图及其他工具 118 !UNNjBBP7 7.1 简介 118 OlcP( 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 i,OKfXp 7.2.1 四分之一波长规则 119 $N\+,? 7.2.2 导纳图 120 ~/c5hyTx 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (|0b7|'T 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 5#u.pu 7.5 斜入射导纳图 141 o>u!CL< 7.6 对称周期 141 )fCMITq.| 7.7 参考文献 142 _7 `E[&v 8 典型的镀膜实例 143 )5i*/I\ 8.1 单层抗反射薄膜 145 Qp 69Sk@H{ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 @.o@-3k 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 3:" &Z6t# 8.4 W-膜层 148 u%aFb* 8.5 V-膜层 149 hT=f;6$ 8.6 V-膜层高折射基底 150 (w2(qT& |