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上海光机所在倾斜沉积制备宽带减反射膜方面取得新进展 为了减少光学元件表面的反射，增加光在工作波段的透过率，获得更好的光学性能，宽带减反射膜被广泛应用于许多光学系统中。传统的宽带增透涂料是采用高、低折射率薄膜叠加制备的，其能实现的减反射带宽受限于材料折射率和膜系，很难实现超宽带范围内减反射效果。传统防反射涂层的另一种替代方法是蛾眼效应，它通过蛾眼结构产生亚波长表面浮雕，可以在更宽的波长和角度范围内实现防反射效果，但是浮雕的制备工艺复杂。而使用倾斜沉积制备薄膜，由于自遮挡效应，使得在大沉积角度下膜层是疏松多孔的，薄膜折射率发生变化，使薄膜折射率可调，可以实现更宽的减反射增透的效果。 利用这一特性，课题组采用沉积角度从0°至80°时制备了不同沉积角度SiO2薄膜。给出了不同角度沉积SiO2薄膜的透过率曲线，根据这些曲线，得到不同倾斜沉积角度下膜层的折射率，根据拟合的折射率，设计了折射率和厚度非连续变化的变折射率膜系，并进行了增透膜的制备。其中，在400nm-1800nm范围内，平均剩余反射率为0.41%，增透效果明显，并且对于测试角度的变化体现出了角度不敏感的特性。变折射率制备的宽带增透膜因其光谱范围宽，光谱特性好，角度不敏感，在光学系统中有广泛的应用。  图1. 不同沉积角度下的薄膜透过率曲线  图2. 增透膜在不同入射角度下的测量残余剩余反射率曲线  图3. 宽带增透膜的截面形貌图 该项研究获得了国家自然科学基金的支持。 原文链接：https://doi.org/10.1016/j.optmat.2020.110720 分享到：
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