$ylxl"Y 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
VHL[Y iA'p!l|P
Ku3NE-) !8RJHMX& 建模任务 !Uhc jfq`e
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V@1,((,l ?b]f$
2 入射平面波
;BHIss7 波长 2.08 nm
ZMK1V)ohn 光斑直径: 3mm
S@4bpnhK 沿x方向线偏振
bF +d_t W)Yo-% 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
s>TC~d82 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
4!?4Tc!X 5?E;YyA 概览 o+S?j*mv@ •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
ksYPF&l •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
2D3mTpw = mhg@N4
QX.U:p5C 光线追迹模拟 g+C~}M_7 •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
T7M];@q •点击Go!
SNH AL F •获得3D光线追迹结果。
^)3=WD'! 7~H$p X
b1Ba} )_Iu7b 光线追迹模拟 [-#q'S •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
]\3<UL •单击Go!
L 1q] •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
:QMpp}G 1L3 $h0i
2W63/kRbU GbC JGqOR 光场追迹模拟 hCj8y.X|E( •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
8:
VRq •单击Go!
miY=xwK& pJQ_G`E
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? 光场追迹结果(照相机探测器) ]TsmW ob ^3Z~RK\} •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
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•下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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)fc+B_ IXR%IggJA 光场追迹结果(电磁场探测器) `Z
(` t&G #% •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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} G-DOI
Ys@\~?ym+ )79F"ltzh