Jy
NY * 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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*wyLX9{: Yzx0 [_'u 建模任务 tce8*:rNH
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eC:Q)%$%l &8L\FAY0%9 入射平面波
m|gd9m$,? 波长 2.08 nm
nezbmpL4 光斑直径: 3mm
_jKVA6_E 沿x方向线偏振
n,LKkOG {/!"}{G1e 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
7}85o
J 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
J~`%Nj5> vK~KeZ\,p= 概览 L 'Rapu •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
\`# 0,pLr •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
iFchD\E*o )f&]H}
U MIZ:*j 光线追迹模拟 CUcjJ|MZ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
Qj[O$L0 $ •点击Go!
?E@[~qq_ •获得3D光线追迹结果。
rs+37 (ZsR=:9(
^PpFI \,t<{p_Q 光线追迹模拟 <7) 6*u •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
K7Tell\` •单击Go!
N'.+ezZ;h •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
P#oV ^ W4Q]<<6&
)C6 7qY[P _3>zi.J/ 光场追迹模拟 %W@IB8]Vr •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
5nb6k,+E •单击Go!
LRs;>O uMZf9XUE
- mXr6R? (Ad!hyE( 光场追迹结果(照相机探测器) AW68'G*m M lwQ_5O •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
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f;Ls •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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Xpwom' 4f,x@:Jw 光场追迹结果(电磁场探测器) L,L7WObA F
tjm@:X •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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