Evb %<`gd 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
0v'FE35~s J G3#(DVc;
9{XC9\~ ylBjuD+ 建模任务 m{C
~91) DNaE
Bd-@@d.H< 2]/[ 入射平面波
LGF5yRk 波长 2.08 nm
_S;Fs|p_ 光斑直径: 3mm
)|CF)T- 沿x方向线偏振
>Mc,c(CvU l[Rl:k! 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
>(39K 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
1"P^!N 3( `NHS~h 概览 )%=oJ!) •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
ecG,[1]; •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
5p`.RWls 3CArUP
Zh,{e/j 光线追迹模拟 lgaE2`0 [3 •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
n*vzp?+Y •点击Go!
1.y|bB+kB •获得3D光线追迹结果。
>)p8^jX tp3]?@0
z~y=(T Uel^rfE` 光线追迹模拟 YqSkz|o}m •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
+ZK12D} •单击Go!
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|"- •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
c1L0#L/F6" j`A 3N7;
6o!Y^^/U !HPye@Ua 光场追迹模拟 ygn]f*;?kw •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
HE0@`(mCpa •单击Go!
U#=5HzE <W<>=vDzyE
dZ"w2ho cgevP`*] 光场追迹结果(照相机探测器) u>W:SM sj& j\<( •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
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^$w?j •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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krI@N}OU E|K~WO]>o 光场追迹结果(电磁场探测器) JNZ O7s =2rkaBFC •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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