;04doub 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
" 9 h]P^ j;1X-
fT/;TK>z> k5=0L_xc 建模任务 ;-@^G
3C:
WU{G_Fqaz
UL(R/yc N(]6pG= 入射平面波
6I72;e^! 波长 2.08 nm
A%oHx|PD 光斑直径: 3mm
P$Xig 沿x方向线偏振
e!ar:>T r3/H_Z 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
O|#^ &d 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
<y \>[7Y D+N{'d?+ 概览 sk$MJSE
~ •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
d;9 X1`" •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
{G/4#r
2> e[yk'E
`K~300-hOb 光线追迹模拟 1N1MD@C?P •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
,F.\ z^\{ •点击Go!
TNUzNA •获得3D光线追迹结果。
<:2El9l! 4At%{E
; a XcGa 5"c#OU 光线追迹模拟 `3SY~&X •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
I/<aY*R4 •单击Go!
OCa74)( •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
7\rz* C\j|+s
bB->\ D^]7/w:$- 光场追迹模拟 5<GC •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
^hq`dr|R= •单击Go!
\eT0d< VjBV2 x
e54wAypPOl 6OF&Q`*4 光场追迹结果(照相机探测器) sikG}p0mx< EQ-r •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
{l%Of •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
tz)aQ6p\X 7;)
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xJa (2[tQ`~ 光场追迹结果(电磁场探测器) {k%*j 4 )AEJ`xC •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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