wv6rjg:7 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
vT&xM faqh }4
jcY:a0 [{D @71n{9 建模任务 ;FI"N@z
>&`S$1 o
U`-]U2" xGU~FU 入射平面波
\{Yi7V
Xv 波长 2.08 nm
zHT22o56X 光斑直径: 3mm
GK>. R<[ 沿x方向线偏振
.w@o%AO_ ~\C.Nm 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
AlH\IP 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
>E:V7Fa e; #"t 概览 BPH-g\q •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
[og_0; •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
"F.0(<4) vnrP;T=^
Ck;>9> 光线追迹模拟 Kj+=?R~}S •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
w QnW2)9! •点击Go!
;n"Nv}<C •获得3D光线追迹结果。
EU0b>2n4 o/6'g)r*
(n>gC
lCznH?[ 光线追迹模拟 ux
7^PTgcO •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
*$4 EXwt' •单击Go!
H`XE5Hk)P% •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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bV~z}V& `RriVYc< 光场追迹模拟 T]#S=]G •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
kg@Okz N% •单击Go!
o(w xu) I<["ko,t@?
~%8T_R /3 Z%t"~r0PS 光场追迹结果(照相机探测器) %( tu< yGN2/>] •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
&/}reE* •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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7v8V0Gp Tw{}Ht_Qq 光场追迹结果(电磁场探测器) NukcBH x bsk •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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