Rtai? 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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Zy6>i2f4f ))J#t{X/8v 建模任务 ZMch2 U8
;(LC{jY
M
U2]; D+*_iM6[- 入射平面波
AUR{O 波长 2.08 nm
wVUm!Y 光斑直径： 3mm
#F+b^WT R 沿x方向线偏振
,m)YL> k "9 ;Ay@'B 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
wr2F]1bh@ 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
/fxv^C82yv N'8}5Kx5 概览 hle@= e/n •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
Ce PI{`&, •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
0f,Ii_k bT do@BJWo 
qox@ _ 光线追迹模拟 \p!mX| •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
ra{HlB{ •点击Go！
2}.EFQp+ •获得3D光线追迹结果。
( z.\,M 3 yM!BTl X 
!:| D[1m mQ:5(] v 光线追迹模拟 {c=H#- A •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
ffh3okyW0 •单击Go！
Fpntd IU •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
)n$RHt+ :> [ 1.>9ngj 
!,;/JxfgVh $-_@MT~ 光场追迹模拟 )>WSuf
j •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
q6V\n:hKV •单击Go！
OyTp^W`& YXTd^M~@D 
yv.(Oy YnX6U 1/^ 光场追迹结果（照相机探测器） c +]5[6 *7!*kq g!u •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
F0+@FS0 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
2(NN QU@Uz I$1~;!< 
{b26D KkQS 8,&QY%8pX 光场追迹结果（电磁场探测器） -wn(J5NnR ?1/wl;=fm •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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