As}eI! 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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P&>!B,f b p[wr 建模任务 s~z~9#G(6
gNWTzz<[f>
'%H\k5^ 'bd|Oww1u 入射平面波
@#j?Z7E| 波长 2.08 nm
W0I)< S 光斑直径: 3mm
K9HXy*y49 沿x方向线偏振
f-!P[6bY (^G@-eh 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
X([8TR 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
^t$xR_ 8PB 8h 概览 m8T< x> •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
t=;P1d?E; •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
4:I'zR5 HM]mOmL90N
nOCCOTf 光线追迹模拟
TwI'}J|w •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
(
kKQs") •点击Go!
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•获得3D光线追迹结果。
Hrg~<-.La W{is 2s
+F4SU(T 6Mj(B*c 光线追迹模拟 0! W$Cz[ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
n/6qc3\5i •单击Go!
W\pO`FL •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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Tb[1\ >Y6iLQ$X 光场追迹模拟 ?r'2GR2Sk4 •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
k0v&U@+-J •单击Go!
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ZnAXb S )j+G4 光场追迹结果(照相机探测器) y,xJ5BI$ M(Tlkr •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
c9:8KMF) •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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J=t@2 mHF?t.y 光场追迹结果(电磁场探测器) eUVhNg V^%P}RFMc •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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