<`6-J `. 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
g*Cs/w Yng9_w9Y
d*q_DV 5%tIAbGW 建模任务 9dKrE_zK:
zZ;tSKL
+twBFhS7k Fp@eb8Pl 入射平面波
ce+\D'q[ 波长 2.08 nm
1iF
|t5>e 光斑直径: 3mm
Kj-:'jzW 沿x方向线偏振
@iWIgL hQ<" 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
I:mJWe 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
oX?2fu- mE^6Zu 概览 "%>/rh2Iq •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
$lV0TCgba8 •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
sVh!5fby& RJBNY;0
m0=CD 光线追迹模拟 LX*T<|c`' •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
nX?fj<oR| •点击Go!
K
7YpGGd5 •获得3D光线追迹结果。
wPqIy}- )5yZSdA
?CmW{9O V=E9*$b] 光线追迹模拟 :Q&8DC#] •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
{I(Euk>lR •单击Go!
j##IJm •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
sfVtYIu b/O~f8t
vK2L"e ,gkxZ{Eh 光场追迹模拟 JrCm >0g •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
hnG'L*HooE •单击Go!
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'SOp!h$ ze,HNFg@> 光场追迹结果(照相机探测器) `wk#5[Y_ W@pVP4F0xM •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
3G5i+9Nt.L •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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vco:6Ab$ Fwho.R-. 光场追迹结果(电磁场探测器) bU_9GGG| C Q3;NY=o •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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