jX0^1d@ 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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$y{.fj y3 6s>io%,: 建模任务 ?_r{G7|D
? dXAHY
YP[8d, .<Ays? 入射平面波
zN9#qlfv 波长 2.08 nm
iRx `Nx<@ 光斑直径： 3mm
eJ6 #x$I, 沿x方向线偏振
- 3 S b%V\ &DjA?0`J 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
U2LD_-HZ 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
t|s(V-Wq V5p^]To! 概览 j7$xHnV4 •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
XMz*}B6GQ •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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*>2e4j] 光线追迹模拟 7rYBFSp •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
RF;[:[*W •点击Go！
|Qcj +HH. •获得3D光线追迹结果。
@n=&muC} 6=qC/1,l 
dkY JO! a :O M I 光线追迹模拟 `,]_r 4~ ~ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
HAo=t •单击Go！
>?_}NZ,y •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
59p'U /| aX zb]"> 
A6J:!sY4A ? JTTl; 光场追迹模拟 1GIBqs~- •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
2h#.:!/SMw •单击Go！
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m U >ts}\.(] 光场追迹结果（照相机探测器） oRJ!TAbD 'Z:wEt ! •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
o4OB xHKy •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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?6>* mdpl Ujlbcv6+ 光场追迹结果（电磁场探测器） !
2knS S =v 'Aub •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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