WA]c=4S 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
[|P!{?A43| Eq$&qV-?( FL(6?8zK B*4}GPQ 建模任务 Ggl~nxz
}e2(T
U>V&-kxtV \2ZPj)&-E 入射平面波
?*?RP)V 波长 2.08 nm
A,\6nO67 光斑直径: 3mm
Fx5d:!]:$? 沿x方向线偏振
~=8uN< KN7^:cC 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
#ggf' QIHp 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
H2
$GIY 2zVJ vn7 概览 YyTSyP4 •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
cU{e`<xjA •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
Kv.>Vf.T}_ -8r TJ:]SB 光线追迹模拟 Ku\Y'ub •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
SfJ./ny •点击Go!
~_Lr=C D;4 •获得3D光线追迹结果。
Nluv/?< @y82L8G/ @J5Jpt*IE oqLfesV~ 光线追迹模拟 KN tt •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
ZQ_xDKqRV •单击Go!
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•结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
p98~&\QT (9<guv ~er\~kp /ODXV`3QYI 光场追迹模拟 )//I'V •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
oS7(s •单击Go!
9lGOWRxR) \MjJ9u `8 1Wm)rXW[x AJSx%?h:6 光场追迹结果(照相机探测器) cs1l~bl +T=(6dr •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
7\f\!e < •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
d'/TdVM 5v?;PX ~(pmLZ<GW} _R.B[\r@ 光场追迹结果(电磁场探测器) TQ{Han! jCrpL~tWT •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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