AYHfe#! 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
%hK?\Pg3=E O[RmQ8ll
yjvH)t/!. W(*:8}m,p 建模任务 Vv(!Ki}
o/I <)sa
9%\<x
TQ&%SMCn 入射平面波
T:0X-U 波长 2.08 nm
}Gpw2 光斑直径: 3mm
x&3!z[m@@ 沿x方向线偏振
db"FC3/H RMB?H)p+ 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
sg12C 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
i|>K W38My j! 概览 ?uUK9*N •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
L K9vvQz •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
qs6yEuh# 5YIiO7@4
zypZ3g{vz 光线追迹模拟 <[xxCW(2 •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
uR"srn;^ •点击Go!
`>RJ*_aKEI •获得3D光线追迹结果。
.<v0y"amJ |0(Z)s,
[!{*)4$6 XF2u<sDe 光线追迹模拟 87EI<\mP •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
zMX7 #, •单击Go!
>]"5K<-1 •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
0CY_nn#3 P0$ q{ j
AO;`k]0e ?/"@WP9 光场追迹模拟 9;Ezm<VQ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
GFvZdP`s4 •单击Go!
xkl'Y * +3vK=d_Va
Ig1cf9 : yY*OAC 光场追迹结果(照相机探测器) HKP\`KBCj Js qze'BGY •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
/-4i"| •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
>82Q!HaH 6KhHS@Z
,KkENp_ >8SX , 光场追迹结果(电磁场探测器) [w~teX0! uW4G!Kw28 •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
HhNH"b&