j.rJfbE|X 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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aV8]?E5G <yrl_vl{ 建模任务 ?g' ? Ou
RV:%^=V-
P\H$*6v( )Wm:Ilq 入射平面波
UYb:q 波长 2.08 nm
6jtnH'E/ 光斑直径： 3mm
'`Z5 .<n7p 沿x方向线偏振
7l3sd5 F .JvMy3 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
h=~ TgTv 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
h{cJ S9e} Lm }:` 概览 ZjXpMx, •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
)W/ mt[; •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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^j =n 
ceR zHq= 光线追迹模拟 B@Q Ate7 •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
C_ = WL( •点击Go！
C2< /.jeLa •获得3D光线追迹结果。
q G%'Lt F|XRh 6j 
50.cMms Iw$7f kq 光线追迹模拟 y
ZsC> •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
Q_F8u!qrZ •单击Go！
3R[5prE< •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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spm<t >\ :kP>U 
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gAluJ# _$?SK id|o 光场追迹模拟 n
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•切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
vo[Zuv?<h •单击Go！
["\Y-6"l /K"koV; 
<o";?^0Q (JHL0Z/ 光场追迹结果（照相机探测器） :.IVf Zw 7N / v •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
r-+ .Ax4L" •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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]N^a/&} * nxP>IfSA 光场追迹结果（电磁场探测器） / ,z4tf ^E8XPK]-~ •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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