""^9WLH4g- 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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Ar'}#6 dY~3YD[ 建模任务 90k|W>
}1`Rq?@J
~1S7\e7{ 37ll8 入射平面波
.'lc[iI9)d 波长 2.08 nm
ynw^nmM 光斑直径: 3mm
T?) U| 沿x方向线偏振
G 8uX[-L1 L-Xd3RCD 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
&&ecq 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
-v&Q'a C]WVH\Pp 概览 L -b~# •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
|E53
[:p •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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*{C:Y =V"ags
Cs^o- g!L 光线追迹模拟 <!y_L5S| •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
/Or76kE •点击Go!
J%aW^+O •获得3D光线追迹结果。
3cT Yl&eeM
UldK lQ8 IqfR`iAix 光线追迹模拟 5`^"<wNI •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
V3yO_Iqa •单击Go!
&m'O :ZS2 •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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WN>.+qM~8 g|"z'_ 光场追迹模拟 cC"7Vt9b •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
U(3LeS;mr •单击Go!
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bkmX@+Pe #@2 `^1 光场追迹结果(照相机探测器) 5Lum$C
c} W;~^3Hz6 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
U,RIr8 G •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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d^ipf*aLC DQ9 <N~l 光场追迹结果(电磁场探测器) |8`}yRsQ '!yyg# •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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