PP+{zy9Sb 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
=Qt08,.bW (bfHxkR.
],ow@} ebk{p< 建模任务 lk $S"OH!
\0%)eJ
fMjn8. h.Cr;w,2R 入射平面波
*uYnu|UQH 波长 2.08 nm
.e2qa 光斑直径: 3mm
?#@JH 沿x方向线偏振
H-%)r&"vn *&X. 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
&gc8"B@V 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
ajy.K'B* uMm/$#E 概览 '>:mEXK}w •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
fo])=KM •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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]JQk,<l5E 光线追迹模拟 [3`T/Wm •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
1nh2()QI[ •点击Go!
tN|sHgs •获得3D光线追迹结果。
G!~[+B L2>UA<@mZ
M 7j0&>NTG ^6v ob 光线追迹模拟
\M>+6m@w •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
pyK|zvr-r •单击Go!
s MAc+9G9k •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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\nV|Y=5 Ww*='lz 光场追迹模拟 mLM$dk3 •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
L{$ZL & •单击Go!
^.Y"<oZSS o"@y=n/
2BOe,giy Z(AI]wk3< 光场追迹结果(照相机探测器) ADRjCk}I }fw;{&s{z •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
}Jt( H •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
HxJKS*H; =%AFn9q
)AOD~T4s7 =?UCtYN,P 光场追迹结果(电磁场探测器) s)%RmsdL "H>L!v •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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