sw' 20I 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
w)&] k#r r5(OH3
N1\u~%AT" g4=}]. 建模任务 >9esZA^';
uWG'AmK_#E
tU!"CX xh#ef=Bw 入射平面波
q_g'4VZv 波长 2.08 nm
pHsp]a 光斑直径: 3mm
|5V#&e\ES 沿x方向线偏振
+&O[}%W b}9K"GT 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
rMTtPuc2 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
$ZK4Ps -$ 4^w>An6 概览 W+H27qsv •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
8/-GrdyE •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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d}>Nl$ 光线追迹模拟 Zu$f-_" •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
lc>nUhj. •点击Go!
.',ikez •获得3D光线追迹结果。
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s+yBxgQ/ =5oFutg` 光线追迹模拟 !!o69 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
{tu* ="d= •单击Go!
"%A/bv\u •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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^\e:j7@z `2J6Dz"W 光场追迹模拟 0"#tK4 •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
)!|K3%9 •单击Go!
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P/2a#a 光场追迹结果(照相机探测器) h}q+Dw.i _S,2j_R9 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
+_Fsiu_b •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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f|Z3VS0x S?OK@UEJ 光场追迹结果(电磁场探测器) zST#X} /w_Sc{ •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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