R!x
/,6,_ 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
SmAF+d Cv`dK=n>
)@.0ai iVM% ]\ 建模任务 {'?PGk%v
W#x~x| (c
"Z-YZ>2 @<
0c 入射平面波
' |yBz1uL 波长 2.08 nm
P@Pe5H"o 光斑直径: 3mm
Te>m9Pav 沿x方向线偏振
EPEn"{;U \LM{.gzT 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
?y~"\iP 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
f Q2U| Z?."cuTt 概览 0(A&m , •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
nc#} \ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
XpT~]q} ?Vi U%t8J5
|7miT!y8 光线追迹模拟 94[8~_{fG •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
zhI"++ •点击Go!
t8 ~isuiK •获得3D光线追迹结果。
)=#zMdK& *MXE>
R)]+>M-. 90a!_8o 光线追迹模拟 U/{#~P5s •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
:CXm@yF~4= •单击Go!
@dhnpR:L •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
R'B-$:u ,Y0qGsV
zi+NQOhR G,@Jo[e 光场追迹模拟 xGw|@d
•切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
=n_>7@9l •单击Go!
?Pt*4NaT; AhNz[A
SA,+oq( ]P4?jKI 光场追迹结果(照相机探测器) ;fm>
\f aydf# [F •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
:io[9B [ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
Y]"lcr} rCdTn+O2
Pt7yYl&n7^ qo:t"x^ 光场追迹结果(电磁场探测器) cg}lF9;d X[1w(d U[ •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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