{U(h]' 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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Mm[%v
t40 O:BP35z_F 建模任务 @i)tQd!s
mifYk>J^9
D@JHi'F =k/n 入射平面波
7e=a D~f 波长 2.08 nm
wFd*6% 光斑直径: 3mm
W>Rv 沿x方向线偏振
vo(?[[ <m6I)}K 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
25~$qY_ 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
Ph%s.YAZ~ 0'~b<>G% 概览 z
vYDE] •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
<NAR'{f •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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8
[."%rzN 光线追迹模拟 IIR?@/q •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
Em]T.'y •点击Go!
?rK%;GTo •获得3D光线追迹结果。
JWn{nJ$] d!LV@</
.6;B3 dDuA%V0 光线追迹模拟 T8(wzs •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
$tKATL* •单击Go!
Zn} )&Xt •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
{pg@JA jbGH3 L
g`6wj|@ =W 7w$R-Y/E 光场追迹模拟 /uc/x+(_ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
Iw:("A&~ •单击Go!
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k6 te''sydUS 光场追迹结果(照相机探测器) ^U?(g0<" e ^qnUjMy •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
"$'~=' [ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
(j I|F-i *u>\&`h=
prs<ZxbQb dtBV0$ 光场追迹结果(电磁场探测器) (R}X(u W9Lg}[>:) •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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