78&(>8@m 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
w&<-pIa` 6cH.s+
A+v6N>}* uz-O%R- 建模任务 mTXeIng?
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@9S3u#vP zMlW)NB' 入射平面波
?IgM=@ 波长 2.08 nm
L-Qc[L 光斑直径: 3mm
{ ]Tb 沿x方向线偏振
MNd8#01q` iV<4#aBg 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
w5zrEk# 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
FVw;`{ /J{
e_a 概览 *b#00)d
•样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
NKyaR_q` •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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oAaUXkQE 光线追迹模拟 W
&wqN •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
cb|cY Co5 •点击Go!
*$+k-BV •获得3D光线追迹结果。
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%T9'dcM
*^ag wQ` [!Uzw2 光线追迹模拟 o2p;$W4` •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
tx0`#x •单击Go!
+<qmVW^X •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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e'%"G{(D
DVNx\t 光场追迹模拟 q u>5 rg- •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
x@^Kd*fo •单击Go!
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79}voDFd E1'|
;}/ 光场追迹结果(照相机探测器) }?PvNK]", ::'DWD1 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
2@!Ou $W •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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IC5[:UZ5] .4I"[$?Q 光场追迹结果(电磁场探测器) s
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-w7g} •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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