9?6$ 2I 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
IGQ8-#= 'm:B(N@+
UGgi) ajr8tp' 建模任务 PS1~6f"D
8A_(]Q
u9(AT>HxT A/aQpEb% 入射平面波
c5pG?jr+d 波长 2.08 nm
XPKcF I= 光斑直径: 3mm
MG>;|*$% 沿x方向线偏振
_>I5Ud8(- UPF=X)!M 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
6 H.Da]hk 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
;<H2N0qJ( L4%LE/t|e 概览 0jH2.d= •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
g=Jfp$*[ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
g.Q ?Z{ j*}xe'#
J.d<5`7 光线追迹模拟 >{Djx •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
we3t,?`rk7 •点击Go!
Re_.<_$ •获得3D光线追迹结果。
\&fK 8H1 3V]a "C
T28#?Lp6] I]58;|J 光线追迹模拟 =
4L. •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
wB@A?&UY •单击Go!
kmwFw># •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
3c)xNXq m :v`o="
pB`<4+"9 HXX"B,N 光场追迹模拟 |yr}g-m •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
?]S*=6 •单击Go!
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K7|BXGL8r8 y7JJ[:~~ 光场追迹结果(照相机探测器) +m_quQ/ys h8Gp>b •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
[1Rs~T" •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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?o2L +]G;_/[2 光场追迹结果(电磁场探测器) /) N[tv2 =Z 2sQQVS •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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