LAd\ Tvms 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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'+$EhFwD l)!n/x_ ! 建模任务 TW[_Ko86
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/)4I|"}R0I c2e
tc8 入射平面波
GQ9\'z#+ 波长 2.08 nm
wYQ&C{D% 光斑直径: 3mm
>]W)'lnO 沿x方向线偏振
V\^EfQ q~*t@ 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
qU#BJON]BR 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
QoG cWJ `kU/NKq 概览 D?0zhU •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
[]A%<EI7 •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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o]p|-<I Q 光线追迹模拟 FKT1fv[H •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
9\]^|?zQ` •点击Go!
uvV;Mlo] •获得3D光线追迹结果。
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5<ux6,E1{ H8`(O"V 光线追迹模拟 9M1d%jT •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
OBP1B@|l$+ •单击Go!
w);6K[+; •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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k:#P|z$UD NN1$'"@NL 光场追迹模拟 2w-51tqm •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
q7-L53.x •单击Go!
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H03jDM8Q cPU/tkc 光场追迹结果(照相机探测器) vMs$ceq i7utKj*57 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
NbGV1q'] •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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BOA 光场追迹结果(电磁场探测器) _!?Hu/zo LI6hEcM= •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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