qjTz]'^BpM 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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^DIN(0u) [S$)^>0 建模任务 spFsrB
%L~X\M:Qk
Lw-j#}&6E =.tsz.:c 入射平面波
(|bht 0 波长 2.08 nm
@NX^__sa 光斑直径: 3mm
-4X,x 沿x方向线偏振
7tfFRUw @dcW0WQ\ 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
!y*V;J 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
(<1DPpy95O LscAsq<H< 概览 ~\XB' •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
QmgwIz_ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
l65'EO| @Z.Ne:*J
?J)%.~! 光线追迹模拟 gR1X@j$_ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
`DJIY_{-2 •点击Go!
R_Eu*Quj •获得3D光线追迹结果。
8l)l9;4 6 J"[OH,/_
hRA.u'M B&L{/.v_z\ 光线追迹模拟 @#o$~'my •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
^hbh|Du •单击Go!
~|!q>z •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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8N|*n"`} f1\x>W4z~\ 光场追迹模拟 SHwl^qVk[ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
FRfMtxvU •单击Go!
R]ppA=1*_l RRq*CLj
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Zh6/n#q eKu&_q 光场追迹结果(照相机探测器) {uckYx-A gqe
z- •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
]qpcA6%a| •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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}Efp{E 5^%^8o 光场追迹结果(电磁场探测器) -"a]) -
j pX*mX] •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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