Zc%foK{ 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
]~prR? 7 7xq/c[)
CP]S-o}yd xI@$aTGq 建模任务 p2Dh3)&
J+71FP`ZH
%kK
][2e 5e#&"sJ.1 入射平面波
BSfm?ku"! 波长 2.08 nm
SLdN.4idK 光斑直径: 3mm
5?5-;H 沿x方向线偏振
:WK"-v ~[|V3h4v 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
$(@o$%d 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
\K?( lh\ICN\O 概览 /ojO>Y[< •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
=% q?Cr •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
$hjP}- oUX Lj&1K~U
SZ5O89 光线追迹模拟 0%xR<<gir •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
yn/?=
?0 •点击Go!
GOy=p3mQ •获得3D光线追迹结果。
j3x^<a\gJ (C`FicY
""1#bs{n }+91s'/c 光线追迹模拟 AT B\^;n. •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
Q_&}^ •单击Go!
w]>"'o{{ •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
Gnbfy4Z ]d@^i)2LF
0'?V|V=v ixIV=# 光场追迹模拟 _tWJXv~; •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
.FIt.XPzv •单击Go!
:+~KPn>w5 1~}m.ER
uiktdZ/f 0a"igH} 光场追迹结果(照相机探测器) UL86-R! C#MFpT •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
KX?o
n sZ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
3iE-6udCS $[Tt#CJw
I
jZ]_*^! Lw*;tL<, 光场追迹结果(电磁场探测器) H>60D|v[ .6> hD1' •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
C%giv9a L|&'jH)
h ?uqLsRl weNzYMf%
SArfczoB M]}l^m>L
6!P`XTTE H@V 7!d