qtVgjT2#H 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
a)Ht(*/B }c9RDpjh~
ow (YgM>t zwUZ*Se 建模任务 BpFXe7
Yc[vH=gV}
wD kazgI>"Q8 入射平面波
#?M[Q: 波长 2.08 nm
g>ke;SH%KY 光斑直径: 3mm
J|V*g]#kP 沿x方向线偏振
IwXQbJ3v_
CU\r
I 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
=`}|hI 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
jbOwpyH N}z]OvnZH 概览 %> YRNW@% •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
V+'zuX •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
+A
6kw%" &z\?A2Mw%
gvjy'Rm 光线追迹模拟 *Q-uE •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
9Z2aFW9 •点击Go!
sN[<{;K4 •获得3D光线追迹结果。
4[r:DM|8 q/7T-"q/G
4}Os>M{k ayf;'1 光线追迹模拟 ]R"n+LnI:= •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
;cv\v(0 •单击Go!
!M6Km(> •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
A8nf"mRD: PVq y\i
c@O7,y:`I @!\lt$ 光场追迹模拟 sBN4:8 •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
XC[AJ!q` •单击Go!
vO;:~ 5zJ#d}%}S"
d$D3iv^hyx u"q!p5P%q 光场追迹结果(照相机探测器) L~M6ca" q>a/',m •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
XKBQH( •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
:; 3y^! n
QOLR?%
~:4Mf/Ca SP|Dz,o 光场追迹结果(电磁场探测器) {bp~_`O B&lF!
] •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
y?s#pSX;N SI l<\
W-"FRTI4 bJ.68643
")qO#b4 !B*d,_9c
0K^G>)l A.S:eQvS%