O<E0L&4-& 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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PWmz7*/ 建模任务 v] J# SlF
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RasoOj$ l6 WcnJ 入射平面波
P$QjDu- 波长 2.08 nm
U\
L"\N 7 光斑直径： 3mm
4sAshrUf 沿x方向线偏振
"5YdmBy ##5/%#eZ 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
<2 Q@ ^ 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
"h2Ny# 4W?<hv+k7* 概览 Y; w]u_ •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
VZ,T`8" •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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ZFON]$Zk 光线追迹模拟 l#"alU!<^ •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
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WT|] •点击Go！
Cm4 *sN.&) •获得3D光线追迹结果。
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sfV.X:ev Z C93C7lJ 光线追迹模拟 $imx-H`| •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
64lEB>VNm •单击Go！
Ig<p(G.;} •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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=[q|P 光场追迹模拟 s 2v* •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
`/zt&=`VB •单击Go！
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M@ kZ(Rkv d ]3sC 光场追迹结果（照相机探测器） /6zpV kV cnthtv+(~ •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
1 =<| h •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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qfu2}qUX~% ku?_/-ko] 光场追迹结果（电磁场探测器） .@Uz/j?> E5 oD|'=WA •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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