i)PV{3v$J 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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BRXb<M^;_ 'L|GClc6) 建模任务 C2=iZ`Z>T
/,N!g_"Z
[aZ v?Z t^_{5 入射平面波
oT (:33$ 波长 2.08 nm
6 #x)W 光斑直径: 3mm
}-q`&1!t 沿x方向线偏振
VIYksv
}A)36 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
^HlLj# 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
OV("mNh [q+e]kD 概览 y(3c{y@~X •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
Xtu`5p_Qv •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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}#W`<,*rL. 光线追迹模拟 'W?v.W & •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
Cs[7% j •点击Go!
[X">vaa •获得3D光线追迹结果。
q]i(CaKh <V:<x
AXh3LA (4/]dTb 光线追迹模拟 yg+IkQDf4U •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
}EedHS •单击Go!
>4|c7z4 •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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5h|m4)$ ( ztim 光场追迹模拟 L;--d`[ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
aq0iNbv@ •单击Go!
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bQdSX8: !R $vTAF-~Ql 光场追迹结果(照相机探测器) \>Ga-gv6/ )zW%\s*' •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
,u&tB|,W, •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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.@i0U t8DL9RW' 光场追迹结果(电磁场探测器) LmXF`Y$ KM/U?`6>: •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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