Ke_ & dgsq 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
mJ>@Dh3>G Q] ?Lg 
^J([w ~& g.cD3N 建模任务 uMB|x,X I
e-taBrl;
jMT];% $[ pxF<L\L?: 入射平面波
iTt#%Fs)4M 波长 2.08 nm
nt"8kv 光斑直径： 3mm
jv"^_1 沿x方向线偏振
`#m>3 ]/_GHG9 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
Fe4QWB6\U 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
NW$C1(oT OZw<YR 概览 #2F 6} •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
Z1 (-FT6O •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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/!r#=enG7 
lu GEBPi 光线追迹模拟 Qe~2'Hw#9 •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
W[dMf!( •点击Go！
Dm3/i |Y •获得3D光线追迹结果。
bEXm@-ou Wgh4DhAW 
%7_c|G1 gAx8r-` ` 光线追迹模拟 8\M%\]_ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
%Jrdr`< •单击Go！
yrDWIU(8;6 •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
4LCgQS6 3b_tK^|' 
DIk\=[{2q -zeodv7 光场追迹模拟 doCWJ •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
8tc9H}> •单击Go！
I<w`+<o( gc'C"(TO( 
&M)S~Hb^ >! j= {hK 光场追迹结果（照相机探测器） q4k )E @~!1wPvF`I •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
&h7q=-XU •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
~u rV`J + *YGsM`E9 
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vDl=. 9`8\<a'rU 光场追迹结果（电磁场探测器） 728}K^7: u}QB-oU •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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