Kc,i$FH 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
~G 3txd .y<u+)
54=*vokX_ &x7iEbRs 建模任务 zd/kr
K&eT*JW>
8OiCldw:HN Q-z `rW 入射平面波
Da8
|eN} 波长 2.08 nm
<w`EU[y_ 光斑直径: 3mm
{@6:kkd 沿x方向线偏振
voQJ!h1 +lb&_eD 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
e;g7Ek3n 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
%%NT m t<o7 S:a" 概览 \&b 9 •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
@JGFG+J} •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
5RAhm0Op~. Em !%3C1r
p6V#!5Q 光线追迹模拟 5z =}o/? •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
YxrMr9>l1 •点击Go!
%-a;HGbZn •获得3D光线追迹结果。
@T:J<, lV$CBS
@<`V q QO^V@"N 光线追迹模拟 g9fYt& •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
T<"Bb[kH •单击Go!
(T%?@'\ •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
R:$E'PSx 8d_J9Ho
r8?p6E 8&M<?oe 光场追迹模拟 |L`U2.hb •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
mP Hto-=fB •单击Go!
?|98Y"w 6aOyI;Ux
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g{8 ,n[<[tkCR 光场追迹结果(照相机探测器) } C:i0Q Il Qk W< •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
OTE,OCB[ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
'%wSs,HD @_?2iN?4Z
]A5Y/dd @6|<c 光场追迹结果(电磁场探测器) Xdx8HB@L ~^jPE) •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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