\q^dhY>) 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
-- IewW $bBUL C
AT2D+Hi=E LJ 9#!r@H 建模任务 &Ot9"Aq:
?i!d00X
V,\}|_GY \[8uE,=| 入射平面波
An,TunX 波长 2.08 nm
DGz}d,ie 光斑直径: 3mm
8Bxb~* 沿x方向线偏振
s%m?Yh3 63t'|9^5 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
<K/iX%b? 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
NID2$ p &4M,)Q ( 概览 `Cy;/95m •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
|h((SreO •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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X&@>M} 光线追迹模拟 n2["Ln mO •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
&##JZ •点击Go!
/CbM-jf •获得3D光线追迹结果。
iRv\:.aQ. M{Vi4ehOq
=}e{U&CX 6}\J-A/ 光线追迹模拟 lZ`@ }^& •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
hsI9{j]f •单击Go!
I Vw'YtZ •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
-.Z;n1'^ 2e({%P@2?
"M %WV> H]M[2C7#N 光场追迹模拟 H~0B5Hl!F •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
K2tOt7M! •单击Go!
Ik=bgEF SK,UW6h
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),-MrL8c% 光场追迹结果(照相机探测器) "T>;wyGW P Qi= •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
i[vOpg]J •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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d! _8+~ -e *(+ 光场追迹结果(电磁场探测器) wPJA+ i| *r/ •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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