}b9#.H9 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
rK*s/mX < /EU v=89{! 
#e.2m5T QZBXI3%#s 建模任务 ~U :{~z
:&= TE 2
d 7A08l{ 4C(v BKl 入射平面波
A> 6 b
6 波长 2.08 nm
i0 uBb%GMT 光斑直径： 3mm
^R.#n[-r2 沿x方向线偏振
XD`QU m 0lNVQxG 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
U,C
L*qTF 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
?) #dP8n P>=~\v nN# 概览 y
D.S" •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
\5^#5_< •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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sk~rjH]-g$ 光线追迹模拟 .~V0>r~my •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
DCb\ =E •点击Go！
%}cGAHV •获得3D光线追迹结果。
%3'4QmpR eL9 RrSX z 
@<--5HbX TX]4Y953D 光线追迹模拟 0SV#M6`GX •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
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[7wR •单击Go！
;C%40;Q •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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CG IcuHp `rC9i5: 光场追迹模拟 %4U;Rdq&Ud •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
yk Sn=0 •单击Go！
_`WbR&d2Id )((Jnm D 
<Mo_GTOC! 3ik 光场追迹结果（照相机探测器） ;]?1i4p) v$"#9oh •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
~#iRh6 ^98 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
@D8c-`LC"* cTm oz.0 
EA%(+tJ^0 eX 9{ wb( 光场追迹结果（电磁场探测器） -UkP{x) S 5n1;@Vr •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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