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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-11-22
    ^2C0oX  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 c1pq]mz|z  
    z\xiACIc  
    }f<fgY  
         A/ 7r:yO  
    建模任务 ) j{WeG7L  
    `G_(xN7O  
    73&]En  
    概述 dE 3i=  
    "z^BKb5  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 qk_p}l-F1  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 d9`3EP)n  
    3~cS}N T  
    ,ma Aw}=  
    f}L>&^I)  
    光线追迹仿真 [z W_%O kP  
    >P<k[vF  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 @4G.(zW  
    •单击go! hEyX~f  
    •获得了3D光线追迹结果。 Paae-EmC  
    ?&whE!  
    !L &=?CX  
    n/KI"qa]9  
    光线追迹仿真 g_rA_~dh  
    \SYPu,ZT  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 I}*]m%'-Y  
    •单击go! kGB#2J  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ""25ay  
    >XD02A[  
    JxX jDYrU  
    sDzD 8as  
    场追迹仿真 !~Hafn-1  
    n4ds;N3Hd  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 LU-#=1Q  
    •单击go! C5:dO\?O  
    hW0,5>[7%  
    gt2>nTJz.Z  
         ?=/}Ft  
    场追迹仿真(相机探测器) "ay,Lr  
    #U ",,*2  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 %4|n-`:  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 (5f5P84x  
    USnD7I/b  
    /tId#/Y  
    ;[WSf{k  
    场追迹仿真(电磁场探测器) w*&n(zJF>  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ? e9XVQ*  
    !Zk%P  
    bMK#^ZoH  
         zVc7q7E  
    场追迹仿真(电磁场探测器) !T#8N7J>  
    9sfB+]}h  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 (/9.+V_  
    %#S"~)  
     
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