07tSXl5! 高数值
孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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h|t\rV^ /N82h`\n 建模任务 fE/|U|5L[ eMV@er|
rCdf*; 概述 1$G'Kg/ G`r*)pdm •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
f'3sT(1& •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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CHRO9 bZsg7[: C 光线追迹仿真 [O"8Tzr <FFaaGiE> •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
]w[T_4l •单击go!
GcYT<pwN6 •获得了3D光线追迹结果。
#[{xEVf vs~lyM/
,HM~Zs PC}m.tE 光线追迹仿真 #yVMC;J?W HfgK0wIi •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
,"W.A •单击go!
@|GKNW# •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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qW6}^aa ]\t+zF>&Y 场追迹仿真 XUyoZl? U\Hd?&`9gz •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
xz$S5tgDQK •单击go!
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N%.DjH 1"82JN|! 场追迹仿真(相机探测器) _("&jfn
1#3 Qa{i •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
MYb^ILz H3 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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a~-^$Fzgy I2wT]L UV 场追迹仿真(电磁场探测器) !F|iL •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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7o4 vf~ K{&b "Ba1 场追迹仿真(电磁场探测器) =!`\=!y iY2%_b!5 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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