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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-11-22
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    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 ,Hik(22  
    j\XX:uU_  
    x:f|3"\s  
         F'V +2,.  
    建模任务 o{ ,ba~$.w  
    t-v^-#  
    O0K@M  
    概述 7i-W*Mb:  
    ir?Uw:/f  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 u\Nw:Uu i  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 9pVf2|5hj  
    ROJ'-Vde9  
    x?k  
    afxj[;p!  
    光线追迹仿真 "<cB73tY  
    +t7c&td\  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 RT.wTJS;  
    •单击go! '_TJ"lOZ  
    •获得了3D光线追迹结果。 *@\?}cX  
    d&[M8(  
    ;[WSf{k  
    OH-~  
    光线追迹仿真 S7Iu?R_I  
    +P> A P&  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 [[*0MA2Y  
    •单击go! Ux%\Y.PPI  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ="#:=i]  
    Lyf? V(S  
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    Rk437vQD,  
    场追迹仿真 oP|pOs\$p  
    e B(S+p?  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 (!XYH@Mz<w  
    •单击go! < tu[cA>  
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    p5twL  
         ;EE&~&*w  
    场追迹仿真(相机探测器)  H3/Y  
    K-"HcHuF  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ^ RcIE (  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 s0`|G|.}  
    RF,=bOr19  
    "a0u-}/D  
    7{kpx$:_  
    场追迹仿真(电磁场探测器) JEm?26n X  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 lH,]ZA./  
    FkJ>]k  
    $8X tI  
         Fl#VKU3h  
    场追迹仿真(电磁场探测器) JT.\f,z&  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Q[ 9rA  
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