在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个
图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。
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w !-.-!hBN 建模任务 TdKl`"Iy ;g*X.d
hsqUiB tc6 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
nrt0[E-&~ 2jhVmK 某一位置的Talbot图样 K,IOD
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u'vw Z;>~<#!4 某一位置的Talbot图样 ,6M-xSDs
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t*qA.xc6 e-e{-pB6 不同位置的Talbot图样 oVq@M
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,j\M* COHJJONR 不同位置的Talbot图样 7_K(xmK
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>}4]51s N\uQ-XOi 沿Z轴的强度 %M`|0g}!
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Nl_;l XS!ZTb>[ VirtualLab Fusion的工作流程 F}AbA pTv *$cp" 构建
光栅结构 j2P|cBXu H]-W$V
0l:5hD,)F 1|nB\xgu 通过参数运行计算不同位置的强度
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