在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个
图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。
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CizX<Cr} }9fTF:P 建模任务 [HZv8HU| BR yl4
]GQG~H^ 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
y_lU=(%Jd B_m8{44zM 某一位置的Talbot图样 hZ
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Hja3a{LH ;@|n @ax 某一位置的Talbot图样 [E juUElr
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Fy-t T]Q9 2a Q[zK 不同位置的Talbot图样 YglmX"fLf
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光栅结构 [MM~H0=s 7CURhDdk uGK.\PB$ ,Ae6/D$h/ 通过参数运行计算不同位置的强度
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1FL~ndJs !")tU+: VirtualLab Fusion技术 0#Y5_i|p
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