主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模
干涉耦合器,主要步骤如下:
W/3,vf1 • 定义MMI耦合器的
材料;
J.r^"K\ • 定义布局设定;
]{Ytf'bG • 创建一个MMI耦合器;
N<|_tC+ct • 插入输入面;
1gwnG& • 运行
模拟;
Sd!!1as • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。
h2SVDKj _bi]Bpxf 1. 定义MMI耦合器的材料 McRAy%{z 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作:
[<+A?M= 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“
S4m??B 图1.初始性能对话框
Pd<s# -_bnGY%, 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)”
7S_rN!E1i* 图2.轮廓设计窗口
ZH:-.2*cj ETw7/S${ 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口
p5C:MA~* yM*-em 图3.电介质材料创建窗口
aL9yNj}2 OD*\<Sc 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料:
^u?#fLr − Name : Guide
Uq:WW1=kh − Refractive Index (Re) : 3.3
`K ,{Y_ − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
H]6i1j 图4.创建Guide材料
_.9):i2<SF Ry@QJn I< 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料:
[z2XK4\e1T − Name : Cladding
g[Z$\A?ZbZ − Refractive Index (Re) : 3.27
p(jY2&g − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
"$->nC. 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 66P'87G
WF)(Q~op0U 6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道:
0Jz5i4B − Name : Guide_Channel
n9
LTrhLqp − 2D profile definition: Guide
JnWG_|m) − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口
w1aev 图6.构建通道
LH=gNFgzt 2. 定义布局设定 O_zW/# 为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作:
emhI1
*} 1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签
8T7ex(w − Width:2.8
i`m&X6)\j 注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度
!e8OC9_x − Profile:Channel-Guide
1ZL91'U 'jw?XtG 
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
y9K U&