线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： p,g1eb|E  
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培训大纲： sM[I4.A3  
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杂散光术语 07g':QU@
 
辐射度学基础 !5@_j,lW(  
杂散光成因 T GB_~Bqe  
杂散光影响、杂散光控制 d%@~mcH>  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 vl Ez9/H  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 R8ONcG  
散光特性、散射模型 `Hx
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消光漆/表面处理 T\s)le  
光学表面污染 tMx}*l|]  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 6M.;@t,Y  
衍射杂散光、 V D?*h  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 ?|{XZQ~  
小孔衍射的杂散光分析 <|Yj%f  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 2Se?J)MN  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 v60^4K>  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 3-Dt[0%{  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 o\otgyoh  
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培训书籍 /.Nov  

图片:ASAP640.png

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报名培训即可免费赠送此书 Mp$@`8X`  
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培训详情： ^vs=f95  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， 3ss6_xd+  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） ^>y@4qB  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） 22P$ ~ch  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 W,@ If}  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 O#EV5FeF.  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 Fk;oE'"D  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） fEE /-}d  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 \,Lo>G`!  

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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。