线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： wrviR  
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培训大纲： R$v[!A+:'  
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杂散光术语 @>u}eB>Kn  
辐射度学基础 #r$cyV!k  
杂散光成因 Hfv7LM  
杂散光影响、杂散光控制 Yf:IKY  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 =MSr/O2  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 ]5mnew  
散光特性、散射模型 ~Uj=^leYO  
消光漆/表面处理 yZ @"\Z!  
光学表面污染 tW.9yII  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 kh!FR u h  
衍射杂散光、 Z|%_&M  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 Bz^jw>1b  
小孔衍射的杂散光分析 >c1!p]&V  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 hmvfw:Nq4  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 \}+_Fo/  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 XQ#;Zs/l  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 E8!e:l =Q  
B+Rm>^CBm  
培训书籍 W~6
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报名培训即可免费赠送此书 bhID#&  
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培训详情： |pm7_[  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， C`K?7v3$m  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） &?W0mW(  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） c
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为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 < nXL  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 #G.ulX  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） 2n3W=dF  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 %9w::hav  
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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。