线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍：  3*@ sp  
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培训大纲： $N$ ZJC6(@  
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杂散光术语 Lf+M +^l  
辐射度学基础 }UwDHq=  
杂散光成因 2z/qbzG7  
杂散光影响、杂散光控制 dZnAdlJ  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 xf1@mi[a  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 x1['+!01  
散光特性、散射模型 e1'<;;; L  
消光漆/表面处理 7P}&<;5zD  
光学表面污染 B+:'Ld](  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 x5q5<-#  
衍射杂散光、 EsA)o 5  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 $~M#msK9  
小孔衍射的杂散光分析 ?)=A[  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 y8T%g(  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 &WW|! 6  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 Z
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散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 ]IQTf5n  
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培训书籍 ;>?
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图片:ASAP640.png

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报名培训即可免费赠送此书 N}0-L$@SL  
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培训详情： LfD70r\  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， {Lj]++`fB]  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） M7R.?nk  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） S]^`Qy)  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 _~m@ SI  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 R +H0+omj  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 w4YuijhW  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） W79wz\a  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 Ii"h:GY;\  

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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。