线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： cO+qs[ BQ  
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培训大纲： Ma']?Rb`  
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杂散光术语 s.QwSbw-g  
辐射度学基础 =M[bnq*\  
杂散光成因 +YKi,  
杂散光影响、杂散光控制 1POmP&fI(  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 b;W3j  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 &P}_bx  
散光特性、散射模型 }Gm>`cw-  
消光漆/表面处理 x$.^"l-vX  
光学表面污染 )9'K($  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 U175{N%3  
衍射杂散光、 ;yLu R  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 6"O+w=5B  
小孔衍射的杂散光分析 kY|utoAP  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 bL+_j}{:N  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 _~J {wM  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 `O!X((  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 e L^|v  
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培训书籍 s_OF(o  
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报名培训即可免费赠送此书 .B]MpmpK  
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培训详情： $=8 NED5  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， qYjce]c  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） HV!m8k=6  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） gx8ouOh  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 t?x<g<PJ4  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 :bu/^mW[  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 2G67NC?+  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） ,]ma+(|  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 0d"[l@UU0  
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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。