线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： vL_yM  
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培训大纲： ;\th.!'rn  
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杂散光术语 F(1E@xs  
辐射度学基础 p@78Xmu?q  
杂散光成因 (g;O,`|c,  
杂散光影响、杂散光控制 $x}R2  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 3sV$#l P  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 ox SSEs  
散光特性、散射模型 ;*rGZ?%*  
消光漆/表面处理 7s%D(;W_Mo  
光学表面污染 &</)k|.A6\  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 8@vq.z}  
衍射杂散光、 5!ngM  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 "6]oi*_8  
小孔衍射的杂散光分析 ~d&&\EZ  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 kQU4s)J
 
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 "`K_5"F  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 yPfx!9B  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 i$pUUK  
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培训书籍 tV4yBe<``  

图片:ASAP640.png

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报名培训即可免费赠送此书 e3n^$'/\r  
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培训详情： )Fd)YJVR  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， ],AtR1k  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） 4+qo=i  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） x=0Ak'1M  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 qh bagw~  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 dDiy_Q6  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 .z CkB86  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） @/aJi6d"^E  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 :hOB  

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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。