线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： O
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培训大纲： tQIz  
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杂散光术语 ||rZ
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辐射度学基础 &=v5M9GR]  
杂散光成因 8"J6(KS  
杂散光影响、杂散光控制 nbU?:=P  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 \Oa11c`6  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 8,?*eYNjb  
散光特性、散射模型 gqACIXR  
消光漆/表面处理 vA0f4W 8+  
光学表面污染 ag"Nf-o/Y  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 sm;\;MP*yH  
衍射杂散光、 -|/*S]6kK  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 m~vEandm  
小孔衍射的杂散光分析 !+ ??3-q  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 MK, $#  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 jg=}l1M"  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 >SHW  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 wy#5p]!u  
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培训书籍 v^(J+d_>   

图片:ASAP640.png

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报名培训即可免费赠送此书 "o$)z'q
 
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培训详情： H@ .1cO  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， ')~[J$qz  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） AR5)Uws  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） h>&t
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为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 ,:?=j80m  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 hO4* X  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 \$D41_Wt|  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） j+NpQ}t:  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 aD
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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。