线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： r[GH#vF;7  
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培训大纲： C"s-ttP   
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杂散光术语 E:A!tu$B  
辐射度学基础 vW?/:  
杂散光成因 5e7\tBab  
杂散光影响、杂散光控制 7(^F@,,@  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 :!?Fq/!  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 !g=b=YK  
散光特性、散射模型 V+l7W  
消光漆/表面处理 OTJMS_IT  
光学表面污染 !)W#|sys&  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 tw\1
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衍射杂散光、 R>;&4Sjr  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 g4+Hq *  
小孔衍射的杂散光分析 J}#2Wy^{  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 +StsSZ  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 U&a(WQV9&  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 rwgj]  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 e5 zi"~  
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培训书籍 ;<GxonIV  
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报名培训即可免费赠送此书 |Sua4~yL(  
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培训详情： ^}wF^ _  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， BD86t[${W  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） DUF$-'A  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） u!F\`Gfm_  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 bz~aj}"`  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 e-\/1N84  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 N#$]W"U  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） ozl!vf# kv  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 X(3| (1;sV  
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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。