线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： ~o # NOfYi  
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培训大纲： 9h0|^ttF  
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杂散光术语 sg6cq_\  
辐射度学基础 -5>g 0o2  
杂散光成因 =~EQ3uX  
杂散光影响、杂散光控制 `HJwwKd  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 7L<oWAq  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 R>0ta
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散光特性、散射模型 *M`[YG19!e  
消光漆/表面处理 RgRcW5VxK  
光学表面污染 *v5y]E%aW  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 /?6y2t  
衍射杂散光、 6)bfd^JYn  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 SfR!q4b=  
小孔衍射的杂散光分析  E;|\?>
 
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 G:
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遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 ?b7vc^E&  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 [R:O'AP}@}  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 K 6Gn  
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培训书籍 eBN>|mE4N  

图片:ASAP640.png

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报名培训即可免费赠送此书 <_Lo3WGwc  
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培训详情： 2'}2r ~6  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， :m~lgb<  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） r-0 7!A  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用）
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为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 %FRkvqV*  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 Pb`sn5;  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 e,4G:V'NX  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） D"WkD j"M  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 %B?5l^W@  

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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。