线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： f>3)}9?xc}  
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培训大纲： @a,=ApS"  
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杂散光术语 G\^<MR|  
辐射度学基础 [70 5[  
杂散光成因 Y/T-q<ag8  
杂散光影响、杂散光控制 )<qL8#["U  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 ^Y5I OX:  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 |$~]|SK  
散光特性、散射模型 ?Mn~XN4F_  
消光漆/表面处理 9}Ge@a<j  
光学表面污染 34nfL: y  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 IreY8.FND  
衍射杂散光、 <RtyW  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 YHMJ5IM@.  
小孔衍射的杂散光分析
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鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 kE|x'(x  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 p1("  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 _x^rHADp  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 I5`>XfO)  
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培训书籍 oJ`=ob4WDo  

图片:ASAP640.png

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报名培训即可免费赠送此书 w.#z>4#3-  
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培训详情： Sw5:
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， .k +>T*c{  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） pS}IU{#;  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） 1LAd5X  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 oN%zpz;OR  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 }[h]z7e2S  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 [-\U)>MY(p  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠）  :8==Bu  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 \sfc!5G  

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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。