线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： hUy\)GsT  
3YF*TxKx  
培训大纲： \[w82%U  
{!hA^[}|  
杂散光术语 C.$`HGv  
辐射度学基础 JY tM1d  
杂散光成因 YQ}bG{V  
杂散光影响、杂散光控制 ?gMxGH:B.&  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 4#m"t?6!  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 +<P%v k  
散光特性、散射模型 3N,
!y  
消光漆/表面处理 T7=~l)I  
光学表面污染 z`D;8x2b  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 ',yY  
衍射杂散光、 NK+iLXC  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 8j}CP  
小孔衍射的杂散光分析 fN TPW]  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 ;Qc_Tf=,  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 Q1Sf
7)  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 zl j%v/9  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 vH+QI  
}pa@qZXh  
培训书籍 /CAi%UH,F  

图片:ASAP640.png

`UpZk?k  
bqxbOQd  
报名培训即可免费赠送此书 0 ej!!WP  
{
Ah\-{]  
培训详情： gekW&tRie  
qmcLG*^,  
本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， 3cNF^?\=  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） 47xJ(yO  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） ruL
i "d  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 ^t=Hl  
Oi=>Usd  
举办单位：武汉墨光科技有限公司 MeqW/!72$L  
K
d _tjWS  
培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 Brh<6Btl  
!tT$}?Ano  
培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） (
ROurq"  
>uuP@j  
报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 "|S \J5-%  

图片:IMG_8530.JPG

9i8D_[  
xGq,hCQHV  
注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。