线上培训(第18期)| ZEMAX 成像设计线上培训

发布:ueotek 2022-07-29 15:30 阅读:951
【课程大纲】 UW. F1)  
mAX]m1s  
01 OpticStudio 软件功能介绍;
02 材料库、镜头库介绍;
03 如何定义新材料;
04 如何使用镜头库;
05 像差理论介绍;
06 Zemax 里像差分析图谱;
07 优化
08 局部优化
09 全局优化;
10 锤形优化;
11 优化函数架构技巧;
12 单透镜优化实例;
13 双胶合优化实例;
14 热分析及衍射光学元件的使用;
15 实例设计及分析;
16 MTF;
17 双高斯镜头设计及优化;
18 像质评价与图像模拟
19 坐标变换;
20 坐标断点面的使用技巧;
21 序列模式棱镜建模; sO~N2  
22 扫描反射镜设计实例;
s"=e (ob  
23 柯勒照明综合设计实例; [yf2_{*0T  
24 投影系统设计; WIQt5=-  
25 集光系统设计; -~p@o1k0  
`[C8iF*Y"  
26 暗盒系统介绍; Z: &"Ax  
27 分析工具应用; /1gKc}rB2  
28 寻找最佳非球面; q;}^Jpb;  
29 曲率套样板; rPZ<  
^{zwIH2I]  
30 镜头匹配工具; OHR9u  
31 Zemax 公差分析功能介绍; Ddghw(9*H  
32 加工误差、装配误差; lva]jh2  
33 灵敏度分析; T=A7f6`  
34 反灵敏度分析; :nd }e  
35 蒙特卡罗分析; P zzX Ds6  
EN+WEMro  
36 公差评价标准; t'Nu^_#  
37 公差操作数; v}M, M&?  
38 补偿变量的使用; $xvEYK  
39 单透镜公差分析; H2zd@l:R  
/#G^?2o M  
40 库克镜头公差分析; mRW(]OFIai  
41 分析报告查看说明; "a?k #!E  
42 公差脚本的使用; MV e5j+8  
43 镜头出图、CAD 出图; KJ.ra\F  
44 小结及答疑。
AA^3P?iD  
q@8Rlc&  
%$:js4  
02【课程信息】 wpb6F '  
 /d0LD  
主办单位:武汉宇熠科技有限公司 Fu^^Jex  
) Z0  
培训主题:Zemax 成像设计 <Lyz7R6  
培训形式:线上培训 o{ f n}  
培训时间:2022年8月27~28日 (9:00-17:00;周末两天) \@*cj8e  
培训费用:¥ 1980元 / 人 * ,_Qdr^F  
(三人及以上组团报名可享八折优惠)、 ^r(2 r  
报名方式:扫码报名
H \.EK Z  
jSaEwN  
注:为了让大家能有更多的机会参与我们的线上直播课程,武汉宇熠即将开展 周末 线上培训,以便工作日没有时间来看直播的朋友们也能够参与进来,与老师和学员们交流经验。
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