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线上培训（第18期）| ZEMAX 成像设计线上培训  01 OpticStudio 软件功能介绍; 02 材料库、镜头库介绍； 03 如何定义新材料； 04 如何使用镜头库； 05 像差理论介绍； 06 Zemax 里像差分析图谱； 07 优化； 08 局部优化 09 全局优化； 10 锤形优化； 11 优化函数架构技巧； 12 单透镜优化实例； 13 双胶合优化实例； 14 热分析及衍射光学元件的使用; 15 实例设计及分析； 16 MTF； 17 双高斯镜头设计及优化； 18 像质评价与图像模拟； 19 坐标变换； 20 坐标断点面的使用技巧； 21 序列模式棱镜建模； 22 扫描反射镜设计实例； 23 柯勒照明综合设计实例； 24 投影系统设计； 25 集光系统设计； 26 暗盒系统介绍； 27 分析工具应用； 28 寻找最佳非球面； 29 曲率套样板； 30 镜头匹配工具； 31 Zemax 公差分析功能介绍; 32 加工误差、装配误差； 33 灵敏度分析; 34 反灵敏度分析; 35 蒙特卡罗分析; 36 公差评价标准； 37 公差操作数； 38 补偿变量的使用； 39 单透镜公差分析； 40 库克镜头公差分析； 41 分析报告查看说明； 42 公差脚本的使用； 43 镜头出图、CAD 出图； 44 小结及答疑。 02【课程信息】 主办单位：武汉宇熠科技有限公司 培训主题：Zemax 成像设计 培训形式：线上培训 培训时间：2022年8月27~28日 (9:00-17:00；周末两天) 培训费用：￥ 1980元 / 人 (三人及以上组团报名可享八折优惠)、 报名方式：扫码报名  注：为了让大家能有更多的机会参与我们的线上直播课程，武汉宇熠即将开展 周末 线上培训，以便工作日没有时间来看直播的朋友们也能够参与进来，与老师和学员们交流经验。 分享到：
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