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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 k=}hY+/= Sa5 y7
Y.J$f<[R L zC~> Uj 建模任务 <KX#;v!I
&baY[[N g=8e.Y*Fr 概述 db|$7]!w Ns(F%zkm •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 $-73}[UA 4 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 g;T`~
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}$jIvb,3? (B5G?cB9 光线追迹仿真 TzJN,]F!M AsOI`@FV •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 (X/JXu{ •单击go! C4,W[L]4" •获得了3D光线追迹结果。 ;7}*Xr| &/p9+gd
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: 光线追迹仿真 J5wq}<8 NG ~sE&,7 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 %Ok.XBS) •单击go! gC_U7a w •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 q=U=Y
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'4EJ_Vhztc TQE_zOa: 场追迹仿真 (#~063N,# 2\n6XAQ* •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 h1$, •单击go! ~<-i7uM oID,PB*9 ~p&sd) 3 }XS|Y 场追迹仿真(相机探测器) x\WKsc WD<M
U ] •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 kq+L63fZ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 xQ4Q '9 6Y=)12T
Q =Z-vTD+ 3$_wAt4w 场追迹仿真(电磁场探测器) 6;Bqu5_Cj •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Onao'sjY yd$y\pN=< pnWDsC~) "\30YO>\ 场追迹仿真(电磁场探测器) d}1R<Q;F ] '..G- •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 bLg1Dd7Q x(A.^Yz
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