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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 93-UA.+g S`Jo^!VJ4
3Ms`
ajJ xm}9(EJ 建模任务 (3DjFT3
w :@:i*2= 3iHUG^sLW 概述 iyF~:[8 R#ABda9 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ad "yo=%1 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 )T1U!n?^x QkXnXu
%T hY6y( i NX%Zk[ 光线追迹仿真 wo($7'.@
0j^QY6 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ^tS{a *Yn •单击go! I%]~]a •获得了3D光线追迹结果。 Bb5|+bP *C81DQ
2lVJ"jg ~c&ygL3 光线追迹仿真 B{UL(6\B DQ'=$z •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 5OUGln5 •单击go! 'Vwsbm
tY •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 _MF:?p,l A"(XrL-pV
b&AGVWhh J#h2~Hz! 场追迹仿真 {E6M_qZ f)`_su
U •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 L *a:j •单击go! Tm!pAD ]ow$VF{y [D!-~]5 Gk<M@d^hQ 场追迹仿真(相机探测器) ;VhilWaF- %49P<vo`? •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 %gK@R3p •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 }I3 ZNd ^|u7+b'|t
d']CBoK :{:R5d(_I 场追迹仿真(电磁场探测器) O*;$))<wX •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 q1rBSlzN ~ IPel L#t^:% #b u]@/ 场追迹仿真(电磁场探测器) ( (.b& K fM6(f: •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 D<V[:~-o MR= dQc
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