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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 k=}hY+/=  
    Sa5y7   
    Y.J$f<[R  
    L zC~>Uj  
    建模任务 <KX#;v!I  
    &baY[[N  
    g= 8e.Y*Fr  
    概述 db|$7]!w  
    Ns(F%zkm  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 $-73}[UA 4  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 g;T`~  
    ML-g"wv  
    }$jIvb,3?  
    (B5G?cB9  
    光线追迹仿真 TzJN,]F!M  
    AsOI`@FV  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 (X/JXu{  
    •单击go! C 4,W[L]4"  
    •获得了3D光线追迹结果。 ;7}*Xr|  
    &/p 9+gd  
    l]gf T&  
    Tec6]  :  
    光线追迹仿真 J5wq}<8  
    NG ~sE&,7  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 %O k.XBS)  
    •单击go! gC_U7aw  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 q=U=Y n  
    2cL<`  
    '4EJ_Vhztc  
    TQE_zOa:  
    场追迹仿真 (#~063N,#  
    2\ n6XAQ*  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 h1$,  
    •单击go! ~<-i7uM  
    oID, PB*9  
    ~p&sd)  
    3 }XS| Y  
    场追迹仿真(相机探测器) x\WKsc  
    WD<M U ]  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 kq+L63fZ  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 xQ4Q'9  
    6Y=)12T  
    Q =Z-vTD+  
    3$_wAt4w  
    场追迹仿真(电磁场探测器) 6;Bqu5_Cj  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Onao'sjY  
    yd $y\pN=<  
    pnWDsC~)  
    "\30YO>\  
    场追迹仿真(电磁场探测器) d}1R<Q;F  
    ] '..G-  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 bLg1Dd7Q  
    x(A .^Yz  
    k# /_Zd  
    ?o2L  
     
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