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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 /Fe:h>6 bR`rT4.F
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(A29ZH 建模任务
@8=vFP' G [3k tx0Go'{ 概述 Mny'9hsl F&QTL-pQW •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 )RwBg8 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 2'wr={>W 4l&"]9D
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光线追迹仿真 g4:VR:o e=t<H"& •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 2wx!Lpr<i_ •单击go! xfq]9< •获得了3D光线追迹结果。 FXx.$W W.A1m4l58R
E@w[ LBiowd[ 光线追迹仿真 OlMBMUR: ! FNf>z+ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 x*.Ye5Jb •单击go! *Ph]F$ZP •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 J&M1t#UN fO].e"}
\bhOPK>w c[SU5 66y 场追迹仿真 I4)Nb WQ +}Xr1fr{jw •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 e:N7BZl'c9 •单击go! [2Iau1<@ * R%.a^R I[#U`9Dt 4s9c#nVlu 场追迹仿真(相机探测器) /b.$jnqL D"L|"qJ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 _N98 vf0o •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 [#p&D~Du& n`]l^qE
U.: sK* Bwjg#1 E 场追迹仿真(电磁场探测器) osl=[pm •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 0pD
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|U#DUqw 场追迹仿真(电磁场探测器) R1}IeeZO?& !g8*r"[UJ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 =f>HiF @7-=zt+f
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