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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 o;Ijv\Em  
    }yqRz6=YB  
    47I:o9E  
     ~WuElns  
    建模任务 Qu]0BVIe  
    s# w+^Mw$  
    Bp\io$(%  
    概述 ';V(sRU@  
    OXDlwbwL  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 7HPLD&WPt  
    •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 O;[PEV ~  
    ($(6]?J(?7  
     ih `/1n  
    ~l!(I-'?g  
    光线追迹仿真 !mBsDn(J  
    0kgK~\^,.O  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ]6OrL TmP  
    •单击go！ L5T)_iQ5  
    •获得了3D光线追迹结果。 (Wr;:3i  
    zc J]US  
     D{o1G?A  
    `.a L>hf  
    光线追迹仿真 [2w3c4K  
    )xQxc.  
    •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 y:4Sw#M%(  
    •单击go！ yG&kP:k<  
    •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 |}Mkn4  
    $Br^c< y  
     x+B~t4A  
    7~\Dzcfk"P  
    场追迹仿真 :'y  
    @usQ*k  
    •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ([|5(Omd\  
    •单击go！ y NV$IN%  
    JoW*)3Z  
    XeDU ,  
     :Tuy]]k  
    场追迹仿真（相机探测器） u-UUF  
    ?d+B]VYw  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ^S ,E"Q  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 SNvK8,"g  
    ("/*k  
     !P@u4FCs  
    "EEE09~l\  
    场追迹仿真（电磁场探测器）  QN_5q5  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 \(T; @r  
    W\.f:"2qr  
    q,nj|9z V  
     R5]R pW=G  
    场追迹仿真（电磁场探测器） L*FmJ{Yf  
     ?Tuh22J{Q  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 s^C*uP;R  
    A!^K:S:@  
     6/4OFvL1  
    W\eB   
     
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