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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 #mKF)W "`Q&s
Yo%ph%e EDAtC 建模任务 8ShIn@|32 FQTAkkA_! Ua hsX 概述 6mV-+CnYC (vP<} •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 *T6*Nxs0k •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 !,lk>j.V HTz5LAe~b7
hk+8s\%- H #Hhi<2 光线追迹仿真 wxJu=#!M [[$dPa9 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 uwl_TDc>% •单击go! %lq[,6?>5 •获得了3D光线追迹结果。 7+9o<j@@o &R5zt]4d&
ONVhB xO[V>Ud 光线追迹仿真 {x{~%)- ]A%]W ^G •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 +Jm~Um! •单击go! t)|~8xpP •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 D*&#}c,* n
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LS|S] 场追迹仿真 `^ZhxFX {8I,uQO •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Ptm=c6H(' •单击go! :6MV@{;PJ v-Tkp
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qV05 场追迹仿真(相机探测器) A(_HMqA] Jxf>!\:AZu •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 v%rmfI U •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 9>ajhFyOhX |k$6"dXSO
Q.?(h! )9 J#W*,%8O 场追迹仿真(电磁场探测器) !RP0W •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 >?O?U=:< G2<$to~{ qj9[mBkP" jW]"Um-] 场追迹仿真(电磁场探测器) V0NLwl
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•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 m%0_fNSJ 0K'{w]Q
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