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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 He @d~9M  
    2K[Y|.u8>q  
    J$Uj@M  
    [Q9#44@{S;  
    建模任务 1U[Q)(P  
    W@Et  
    C^oj/} ^  
    概述 jrJ!A(<)  
    0' j/ 9vm  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 n]{sBI3  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 | >X5@  
    2NMS '"8  
    eLPWoQXt  
    qtlXDgppO  
    光线追迹仿真 v o<'7,  
    S<fSoU+RJ  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 _-mSK/Z  
    •单击go! QfPsF@+-`7  
    •获得了3D光线追迹结果。 Esx"nex  
    r I)Y W0  
    )zn`qaHK@e  
    m/TjXA8_  
    光线追迹仿真 Fq>tl 64A  
    nbd-f6F6  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 LkvR]^u0  
    •单击go! Ix~_.&  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 %?  87#|  
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    @s7ZfV??  
    my|]:(_0d  
    场追迹仿真 l5; SY  
    lJlyfN  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 y(81| c#  
    •单击go! hJ|zX  
    $?`-} wY  
    0o-. m  
    U0X,g(2'  
    场追迹仿真(相机探测器) )DG>omCY  
    _`|te|ccF  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 e97Ll=>  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 '\g-z  
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    IZ2(F,{o  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) ;-]' OiS;  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 1 >}x9D  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) $tm%=g^  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 YmwUl>@{  
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