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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 He @d~9M 2K[Y|.u8>q
J$Uj@M [Q9#44@{S; 建模任务 1U[Q)(P W@Et C^oj/}^ 概述 jrJ!A(<) 0'j/ 9vm •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 n] {sBI3 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 |>X5@ 2NMS'"8
eLPWoQXt qtlXDgppO 光线追迹仿真 vo<'7, S<fSoU+RJ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 _-mSK/Z •单击go! QfPsF@+-`7 •获得了3D光线追迹结果。 Esx"nex r I)Y
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)zn`qaHK@e m/TjXA8_ 光线追迹仿真 Fq>tl 64A nbd-f6F6 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 LkvR]^u0 •单击go! Ix~_.& •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 %?
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@s7ZfV?? my|]:(_0d 场追迹仿真 l5;
SY lJlyfN •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 y(81| c# •单击go! hJ|zX $?`-} wY 0o-.m U0X,g(2' 场追迹仿真(相机探测器) )DG>omCY _`|te|ccF •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 e 97Ll=> •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 '\g-z V7~tIhuJH
IZ2(F,{o kz30! L 场追迹仿真(电磁场探测器) ;-]' OiS; •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 1 >}x9D kfc5ra>& cpLlkR O ."X}A
t 场追迹仿真(电磁场探测器) $tm%=g^ 9Ub##5$[, •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 YmwUl> @{ 9I1D'7wI^^
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