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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Qy^1*j<@&  
    k. MUdU^  
    Hyb3 ;yQ  
    \>jLRb|7Ts  
    建模任务 MBt9SXM  
    "U!AlZ`g  
    A+::O@_s  
    概述 S{PJUAu  
    P<l&0dPO8  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 mef<=5t  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 dx;Ysn0-  
     ud xZ0  
    G;v8$)Zj  
    p2n0Z\2  
    光线追迹仿真 S4^vpY DeN  
    WF1px%  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 tZ} v%3  
    •单击go! 'oF%,4 !Y  
    •获得了3D光线追迹结果。 r\b3AKrIN  
    1T y<\bZ=  
    &<wuJ%'>)Z  
    YVYu:}e3)  
    光线追迹仿真 sm0xLZ  
    i`Q KH  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 B^j  
    •单击go! w.H%R-Be  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 $ et0s;GBv  
    ^HV>`Pjd}=  
    $nb[G$  
    (8Bk;bd  
    场追迹仿真 ;'5>q&[qbP  
    ]bj&bk#  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 :p]'32FA!  
    •单击go! M,/mE~  
    Fs{x(_LOr  
    ,_Z5m;  
    !G SV6  
    场追迹仿真(相机探测器) v}1QH  
    eZ|%<Wpu  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 f0X_fm_q  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 |+iws8xK?  
     @2Z#x  
    xnmmXtk  
    4*Q#0`um  
    场追迹仿真(电磁场探测器) Y( 3Bp\6  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 B$b +Ymu  
    AtdlZ  
    .WPV dwV4U  
    7w'wjX-  
    场追迹仿真(电磁场探测器) [x9KVd ^d  
    x$1]M DAGb  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 BRlT7grgq  
    Pa~)"u 8  
    p?B=1vn-2  
    vg3=8>#  
     
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