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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 fWb+08}C X4+H8],)
\#IKirf? `5"3Cj"M 建模任务 ML0_Uc3en rU(-R@[" abCxB^5VL 概述 KUpj.[5qo m# -&<= •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 *_P'> V#p •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ^8YBW<9 Vol}wc
;/kmV~KG IM,4Si2 光线追迹仿真 <;uM/vSi z: •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 {;6a_L@q;| •单击go! Z[0/x.pp$ •获得了3D光线追迹结果。 $=`d[04 <_]W1V:0
WQ9Q:F2 t*dq*(3"c 光线追迹仿真 URt+MTU[ ;),,Hk •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 N1.fV - •单击go! 6'.)z,ts •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 I$4>_D Rg+#(y
EEo I| Se37- 场追迹仿真 j(}pUV B iX WB •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 UJ(UzKq8 •单击go! >>"@0tO #sk~L21A ruyQ}b:zS n,LM"N:
场追迹仿真(相机探测器) ,el[A`b xE$lx:C"FU •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 $o9@ ?2 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 t;-F] =BJe}AV
Koj9]2<0 K4+|K:e 场追迹仿真(电磁场探测器) dV16' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 FjLMN{eH/ k@h0 }% ,oPxt pf+VYZ#) 场追迹仿真(电磁场探测器) VE1j2=3+o Aon.Y Z •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 z#rp8-HUDS Plhakngj
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