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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 E~@HC 5.M @61N[
&{4Mo,x A&lgiR*ObT 建模任务 -"dy z( RdVis|7o dj&m 概述 N9h@1'> *Qwhi&k •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Qbt>}?- •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 H6CGc0NS+ 7
} MJK)
U W)&Eky b%jG?HSu 光线追迹仿真 >iWf7-: % m5 ^p •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Sfa
m=.l •单击go! 2c`=S5 •获得了3D光线追迹结果。 #.L0]Uqcp <9.7 gwzE
+-YuBVHL }~~^ZtJ\ 光线追迹仿真 MG5Sn*(C I)%jPH:ua •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 Q;,3W+( •单击go! P<JkRX •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 u.4vp]eU |afK"N
;OCI.S8 n zrCOMld 场追迹仿真 BRzWZq%r3 [T#a1! •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 p6l@O3 •单击go! (?3\.tQ}} +C;#Qf Vyq<T(5 ~Q9)Q 场追迹仿真(相机探测器) XoiYtx53 R9-JjG2v •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 N\e@$1 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 2bxMIr T9<nD"=:
2m_M9e\ ^(JbJ@m/ 场追迹仿真(电磁场探测器) 0THAI •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 =(5GU<} u#,'ys gWH9=%! ~@?-|xLqQ 场追迹仿真(电磁场探测器) j3-6WUO vFC=qLz: •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 17]31 YaT+BRh?
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