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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 eM<N?9s  
    \jiE :Qt  
    GOc   
    5skN'*oG  
    建模任务 G4@r_VP\  
    _eKO:Y[e  
    ,u `xneOs  
    概述 7[1Lh'u  
    #dZs[R7h  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 .^wpfS  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 u"HGT=Nl  
    CVfV    
    +Uq|Yh'Q  
    ai_ve[A  
    光线追迹仿真 zKd@Ab  
    f;{Q ~  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 axnlI*!  
    •单击go! /pj[c;aO  
    •获得了3D光线追迹结果。 v&d1ACctJ  
    \V>5)R n  
    = QBvU)Ki  
    OXEEpoU?V  
    光线追迹仿真 ^p3 GT6  
    E8!`d}\#  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 OS z71;j  
    •单击go! KnG7w^  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 no*)M7  
    $:~;U xh=  
    MNu0t\`p4  
    )pHtsd.eP  
    场追迹仿真 YbZbA >|  
    s)E  \  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 g+#awi7  
    •单击go! MKBDWLCB  
    yqx5_}  
    jri"#H  
    UY(T>4H+h  
    场追迹仿真(相机探测器) \qG ?'Iy  
    <A,V/']  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 pkn^K+<n,  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 q}LDFsU  
    G=:/v  
    I\mF dE  
    ~[%CUc"  
    场追迹仿真(电磁场探测器) E=8'!  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 j*.;6}\o  
    %B$ftsYXmu  
    Ev7.!  
    Y ^+x<  
    场追迹仿真(电磁场探测器) /*#o1W?wQZ  
    '9}&@;-_  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 {'IO  
    ~IhM(Q*mO!  
    tj13!Cc}e`  
    DB|1Sqjsn  
     
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