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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 ]h,rgO ;  
    Q# B0JT1  
    2aM7zP[Z  
    k9;^|Cm k  
    建模任务  1[SG.  
    Fye>H6MU  
    pZ.b X  
    概述 uX6yhaOp|  
    P"Al*{:J  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 (h3L=  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 EsMX #1>/m  
    wfmM`4Y   
    =n5'~1?X?  
    kUf i  
    光线追迹仿真 #s\@fp7A  
    P0n1I7|  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 9 %T??-  
    •单击go!  oBkhb  
    •获得了3D光线追迹结果。 X/,) KTo7  
     yfZNL?2x  
    Cq\XLh `  
    x=oV!x  
    光线追迹仿真 G.rz6o;  
    ^viabkf C  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 mn/)_1',  
    •单击go! cq4~(PXT g  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 VVas>/0qr  
    .S/ 5kLul  
    <+QQiFj  
    0<uek  
    场追迹仿真 ^m|@pp  
    ;Bs~E  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 >rCD5#DG  
    •单击go! _=Gj J~2n  
    m4mE7Wn.3  
    ><<>4(eF p  
    8 "l PiW3  
    场追迹仿真(相机探测器) ~3F'X  
    yQK{ +w  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 1M]=Nv  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 SYCL\b   
    y[8;mCh  
    4S<M9A}  
    W [ l  
    场追迹仿真(电磁场探测器) >JyS@j}  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 PI9,*rOy  
    vMTf^V  
    'C1lP)S5  
    $UR:j8C{p$  
    场追迹仿真(电磁场探测器) q/#e6;x  
    $DY#04Je\=  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 -S'KxC  
     ldA_mj{  
    M@Th^yF+8H  
    1BSd9Ydj  
     
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