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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 '>`bp25> t[an,3
WfO6Fvx% pOS.`rSK 建模任务 #;^.&2Lt Q*KEODR8\ oPWvZI(\& 概述 yiI&>J))
tb@/E •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 *5|\if\ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 *AxKV5[H 4H1s"mP<
XM8C{I1 y4shW|>5_ 光线追迹仿真 pV>/"K }A2@1TTPX •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 O[`n{Vl/ •单击go! X8*q[@$ •获得了3D光线追迹结果。 ^(&:=r.PC g<{~f
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Z 光线追迹仿真 [_H9l) M{z+=c&w •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ZC0F:=/K •单击go! }-8K*A3 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 q+LjWZ+O Em
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;%U`lE0 P^1rNB 场追迹仿真 ]`:Fj|> m'429E]\S •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 lYy0
•单击go! Iem* 'r
?f &*mp )EcF[aO fT'A{&h|U 场追迹仿真(相机探测器) y0=BL L!e@T' •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 (cA=~Bw[= •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 !)&-\!M> u`
`D GO~RMp9 ^{Mx?]z 场追迹仿真(电磁场探测器) TYLf..i< •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 \>jK\j uHwuw_eK` 1lx\Pz@ol 3btciR!N] 场追迹仿真(电磁场探测器) E>7%/TIl 9`vse>,-hg •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Q>z0?%B SZyPl9.b
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