线上培训(第16期)| 名额有限!ZEMAX 成像设计培训7月6日开讲!

发布:ueotek 2022-05-30 14:52 阅读:1421
培训大纲: ~hH REI&  
 'c&Ed  
01 OpticStudio 软件功能介绍;
02 材料库、镜头库介绍;
03 如何定义新材料;
04 如何使用镜头库;
05 像差理论介绍;
06 Zemax 里像差分析图谱;
07 优化;
08 局部优化
09 全局优化;
10 锤形优化;
11 优化函数架构技巧;
12 单透镜优化实例
13 双胶合优化实例;
14 热分析及衍射光学元件的使用;
15 实例设计及分析;
16 MTF
17 双高斯镜头设计及优化;
18 像质评价与图像模拟
19 坐标变换;
20 坐标断点面的使用技巧
21 序列模式棱镜建模; hW' )Sp  
22 扫描反射镜设计实例;
yf)%%&  
23 柯勒照明综合设计实例; e4$H&'b|  
24 投影系统设计 ;a!S!% .h  
25 集光系统设计; >{ ]%F*p4  
^#-l q)  
26 暗盒系统介绍; o 11jca|  
27 分析工具应用; BR_1MG'{)$  
28 寻找最佳非球面 fb7;|LF  
29 曲率套样板; ;}WeTA_-[  
GAzU?a{S  
30 镜头匹配工具; ^0 )g/`H^>  
31 Zemax公差分析功能介绍; )}R0Y=e  
32 加工误差、装配误差; je-!4r,  
33 灵敏度分析; S72+d%$  
34 反灵敏度分析; Y Uc+0  
35 蒙特卡罗分析; g axsv[W>^  
ja'T+!k  
36 公差评价标准; pX<`+t[  
37 公差操作数; ;+_:,_  
38 补偿变量的使用; ~At7 +F[  
39 单透镜公差分析; {W`%g^Z|H  
u#fM_>ML  
40 库克镜头公差分析; MKCsv+   
41 分析报告查看说明; Ny7S  
42 公差脚本的使用; /HEw-M9z  
43 镜头出图、CAD 出图; c):/!Q  
44 小结及答疑。 0o4XUW   
培训信息:主办单位:武汉宇熠科技有限公司 8rGgF]F  
培训主题:Zemax 成像设计 ~_)^X  
培训形式:线上培训 *R,5h2;  
培训时间:2022年7月6~7日 (9:00-17:00) h*a(_11  
培训费用:¥ 1980元 / 人 rKc9b<Ir  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) }K>d+6qk5  
报名方式:扫码报名 X`/k)N>l  
AN m d!  
i"FtcP^  
长按图片识别二维码
aKDKmHd  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。 B@))8.h]  
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1