【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

*)H&n>"e  
课程大纲： OlI{VszR  

\r+8}8   01 OpticStudio 软件功能介绍; 2r~&+0sBP   02 材料库、镜头库介绍； !NfN16   03 如何定义新材料； en6oFPG   04 如何使用镜头库； ;\gsd'i   05 像差理论介绍； oI6o$C   06 Zemax 里像差分析图谱； ={a_?l%   07 优化; _Z|3qQ   08 局部优化 E?+MM0   09 全局优化； j/9Uf|z-_   10 锤形优化； "p{cz(   11 优化函数架构技巧； =P.m5e<   12 单透镜优化实例 umo@JWr   13 双胶合优化实例； wWNHZv&   14 热分析及衍射光学元件的使用; 6Wabw:   15 实例设计及分析； @xI:ZtM   16 MTF A/4 HR]   17 双高斯镜头设计及优化； 3_]<H<w   18 像质评价与图像模拟； $SmmrM   19 坐标变换； '!6Py1i   20 坐标断点面的使用技巧 \dz@hJl:   21 序列模式棱镜建模； HX3R@^vo   \|}dlG   22 扫描反射镜设计实例；

'~ {x n   23 柯勒照明综合设计实例； ]O\Oj6C   24 投影系统设计 4mY(*2:HC   25 集光系统设计； -OS&(7   9(/ ;Wutj"   26 暗盒系统介绍； S^Z[w|1   27 分析工具应用； oe:@7stG   28 寻找最佳非球面 $rh{f<   29 曲率套样板； R""P01IZH   ?(^HjRUY   30 镜头匹配工具； fiq4|!^h   31 Zemax 公差分析功能介绍; jB17]OCN   32 加工误差、装配误差； v3i]z9`   33 灵敏度分析; d,G:+   34 反灵敏度分析; BF_R8H,<%   35 蒙特卡罗分析; ?1?zmaS   h o7L@NR   36 公差评价标准； +hIS tA   37 公差操作数； eL-9fld/n   38 补偿变量的使用； SJtQK-%wK>   39 单透镜公差分析； bnz2\C9^   G' ~Z'   40 库克镜头公差分析； D9;2w7v   41 分析报告查看说明； &_^t $To   42 公差脚本的使用； >h0iq   43 镜头出图、CAD 出图； cVt MCgx   44 小结及答疑。

课程信息： 3+_ .I{  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 "Z&-:1tP{9  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) #-_';Er\  
报名方式：扫码报名 )5}=^aqd  
Gyak?.@R