【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： ZWV|# c<G  

m"c :"I6   01 OpticStudio 软件功能介绍; 4\.V   02 材料库、镜头库介绍； 52zGJ I*   03 如何定义新材料； weMww,:^[   04 如何使用镜头库； 'cDx{?   05 像差理论介绍； #$vRJ#S}U   06 Zemax 里像差分析图谱； ;evCW$G=   07 优化; URcR   08 局部优化 }2)DPP:ic   09 全局优化； !~<siy   10 锤形优化； a=GM[{og   11 优化函数架构技巧； ,G^[o,hS   12 单透镜优化实例 xa( m5P   13 双胶合优化实例； 64Gi8|P   14 热分析及衍射光学元件的使用; p<WFqLe(":   15 实例设计及分析； 3HyhEVR-#~   16 MTF YEjY8]t   17 双高斯镜头设计及优化； !/K8xD$   18 像质评价与图像模拟； 151tXSzLT   19 坐标变换； F)$K   20 坐标断点面的使用技巧 'UM!*fk7C   21 序列模式棱镜建模； ghk5rl$     H'RL62!   22 扫描反射镜设计实例；

-jg (GGJ   23 柯勒照明综合设计实例； ;)DzCc/   24 投影系统设计 '!vc/Hw   25 集光系统设计； j_?cpm{~ml   zvv:dC/p<   26 暗盒系统介绍； Q"a2.9 Eo   27 分析工具应用； jj\[ 7 O*   28 寻找最佳非球面 qU hRu>    29 曲率套样板； c)C5KaiPG   b`cYpcs   30 镜头匹配工具； go)p%}s   31 Zemax 公差分析功能介绍; fUag1d   32 加工误差、装配误差； MBk"KF   33 灵敏度分析; nN`"z3o   34 反灵敏度分析; 7x.%hRk   35 蒙特卡罗分析; @kngI7=E   r - f   36 公差评价标准； >3;^l/2c   37 公差操作数； h"QbA"   38 补偿变量的使用； FN"rZWM   39 单透镜公差分析； nYv#4*   >L2*CV3p   40 库克镜头公差分析； zCXqBuvu1   41 分析报告查看说明； `rWB`q|i<   42 公差脚本的使用； ((3t:   43 镜头出图、CAD 出图； 4".J/I5u   44 小结及答疑。

课程信息：  0V11#  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 #t71U a  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) qc!xW,I  
报名方式：扫码报名 3_qdJ<,  
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