【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： 9}Z;(,6/.\  

ur=:Ha   01 OpticStudio 软件功能介绍; AkdO:hVtG   02 材料库、镜头库介绍； P/^@t+KC   03 如何定义新材料； x>tm[k   04 如何使用镜头库； ~-uf%=   05 像差理论介绍； |!7leL   06 Zemax 里像差分析图谱； `-R&4%t%   07 优化; %|^,Q -i,   08 局部优化 v^F00@2I   09 全局优化； b!Nr   10 锤形优化； 7 /k7V)   11 优化函数架构技巧； oSf`F1;)HQ   12 单透镜优化实例 gyV`]uqG   13 双胶合优化实例； a#[gNT~[   14 热分析及衍射光学元件的使用; 4,h)<(d{   15 实例设计及分析； }Qe(6'l_   16 MTF :hW(2=%   17 双高斯镜头设计及优化； d#$Pf=}   18 像质评价与图像模拟； e 6tU8`z   19 坐标变换； PYs0w6o   20 坐标断点面的使用技巧 L:mE)Xq2   21 序列模式棱镜建模； :%j"l7=>   H"k\(SPVS   22 扫描反射镜设计实例；

U:eX^LE7   23 柯勒照明综合设计实例； !7Qj8YmS   24 投影系统设计 8g-Z~~0W1   25 集光系统设计； P$N5j~*   iC^G^~V+H   26 暗盒系统介绍； %[9ty`UE   27 分析工具应用； 0T#z"l<L   28 寻找最佳非球面 2Q@Jp`#,4   29 曲率套样板； -)Vy)hD,   D+! S\~u   30 镜头匹配工具； =OV5DmVmQ   31 Zemax 公差分析功能介绍; <RbfW'<G   32 加工误差、装配误差； *=v%($~PK6   33 灵敏度分析; l,(:~KH|   34 反灵敏度分析; MZcvr9y   35 蒙特卡罗分析; ydY 7 :D   t0v>J9   36 公差评价标准； #Dz"g_d   37 公差操作数； qdKqc,R1{   38 补偿变量的使用； Ie=gI+2   39 单透镜公差分析； x%goyXK   %hZX XpuO   40 库克镜头公差分析； v dB2T2F   41 分析报告查看说明； (JnEso-V   42 公差脚本的使用； >=:mtcph   43 镜头出图、CAD 出图；  m$(OQ,E   44 小结及答疑。

课程信息： QlR~rFs9t  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 @p^EXc*|  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) DTo"{!  
报名方式：扫码报名 h"Wpb}FT  
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