【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

发布:ueotek 2022-03-28 16:15 阅读:1069
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课程大纲: kw!! 5U;7  
Eg ;r]?|6  
01 OpticStudio 软件功能介绍; +] FdgmK:  
02 材料库、镜头库介绍; um[.r,++  
03 如何定义新材料; Hi )n]OE  
04 如何使用镜头库; .(! $j-B  
05 像差理论介绍; gg<lWeS/3  
06 Zemax 里像差分析图谱; Wu:evaZ:i  
07 优化; >2%!=q3)  
08 局部优化 0;)4.*t  
09 全局优化; pJV<#<#Z  
10 锤形优化; #HqXC\~n  
11 优化函数架构技巧; Ug/b;( dJ'  
12 单透镜优化实例 6z~6o0s~  
13 双胶合优化实例; 9OX&;O+5  
14 热分析及衍射光学元件的使用; =ove#3  
15 实例设计及分析; Wq]^1g_  
16 MTF {>90d(j  
17 双高斯镜头设计及优化; j2V^1  
18 像质评价与图像模拟 : x W.(^(d  
19 坐标变换; 6?r}bs6Msx  
20 坐标断点面的使用技巧 &S/KR$^ %  
21 序列模式棱镜建模; h^cM#L^B  
"HlT-0F  
22 扫描反射镜设计实例;
]5wc8Kh"  
23 柯勒照明综合设计实例; y%f'7YZ4  
24 投影系统设计 u`g|u:(r  
25 集光系统设计; (r.[b  
2Lm.;l4YO  
26 暗盒系统介绍; Y'0H2B8  
27 分析工具应用; %A%^;3@  
28 寻找最佳非球面 ~~z} yCl  
29 曲率套样板; ji5c0WH  
n' &:c}zKO  
30 镜头匹配工具; YB*I'm3q  
31 Zemax 公差分析功能介绍; x= X"4Mj0)  
32 加工误差、装配误差; uS;N&6;:  
33 灵敏度分析; <A<N? `"  
34 反灵敏度分析; | bDUekjR  
35 蒙特卡罗分析; T@Mrbravc  
o-c.D=~  
36 公差评价标准; g{RVxGE7  
37 公差操作数; @X5F$=aqZr  
38 补偿变量的使用; 0.!_k )tu  
39 单透镜公差分析; {W,&jC  
r1ao=N  
40 库克镜头公差分析; /?VwoSgV^  
41 分析报告查看说明; BS!VAHO"V  
42 公差脚本的使用; NH~\kV  
43 镜头出图、CAD 出图; muc6gwBp  
44 小结及答疑。
课程信息: l$ ^LY)i  
主办单位:武汉宇熠科技有限公司培训主题:Zemax 成像设计培训形式:线上培训培训时间:2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用:¥ 1980元 / 人 4SlEc|'7@  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) Yv>kToa\^  
报名方式:扫码报名 (l}W\iB' d  
F!ZE4S_  
Y`3V&8X  
/-s-W<S[  
注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
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