【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： /w[B,_ZKTk  

.0ov>4,R   01 OpticStudio 软件功能介绍; R{6~7<m.   02 材料库、镜头库介绍； b{+7sl   03 如何定义新材料； CB!5>k+mC   04 如何使用镜头库； Q5K<ECoPk   05 像差理论介绍； ^lw0} i   06 Zemax 里像差分析图谱； HV0!G-h   07 优化; d; :H#F+ (   08 局部优化 xvpCOoGsz   09 全局优化； Ku'OM6D<   10 锤形优化； WF#3'"I   11 优化函数架构技巧； 8)KA {gN}   12 单透镜优化实例 ^jph"a C   13 双胶合优化实例； %KjvV<f-a   14 热分析及衍射光学元件的使用; XEX."y   15 实例设计及分析； p*LG Y+   16 MTF -9D2aY_>   17 双高斯镜头设计及优化； k 'CM^,F&   18 像质评价与图像模拟； /Ko{S_3<I   19 坐标变换； 0oC5W?>8s   20 坐标断点面的使用技巧 h eR$j   21 序列模式棱镜建模； E\$7tXQK6   n8K FP   22 扫描反射镜设计实例；

_0GM!Cny   23 柯勒照明综合设计实例； (Ci{fY6`   24 投影系统设计 mQ$a^28=qR   25 集光系统设计； <]w(1{q(   ;~^9$Z@%Q   26 暗盒系统介绍； &7 0o4~Fr   27 分析工具应用； 'L k&iph   28 寻找最佳非球面 'gD,HX   29 曲率套样板； {?+dVLa^;   J 7/)XS   30 镜头匹配工具； isF jJPe   31 Zemax 公差分析功能介绍; H Z)an   32 加工误差、装配误差； J$+K't5BZ   33 灵敏度分析; W]TO%x{   34 反灵敏度分析; M~!DQ1u   35 蒙特卡罗分析; {J[5 {]Je[   7,v}Ap]Pa   36 公差评价标准； ZH s' #   37 公差操作数； 1woBw>g   38 补偿变量的使用； {>]7xTpwZ   39 单透镜公差分析； Vi:<W0:   v:xfGA nP   40 库克镜头公差分析； j34L*?   41 分析报告查看说明； CS\ E]f   42 公差脚本的使用； 0*4h}t9j   43 镜头出图、CAD 出图； *z3wm-z1&   44 小结及答疑。

课程信息： bMjE@S&  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 13f@Ox$  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) G&DL)ePu]m  
报名方式：扫码报名 7O\sQ]i6  
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