【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： Wf5ohXm>  

KU)~p"0[6]   01 OpticStudio 软件功能介绍; uI+^8-HZ;   02 材料库、镜头库介绍； ^RE("'+   03 如何定义新材料； UeN+}`!l   04 如何使用镜头库； cj9<!"6   05 像差理论介绍； D7OPFN7`   06 Zemax 里像差分析图谱； yZqX[U   07 优化; wsyAq'%L   08 局部优化 Nt P=m @   09 全局优化； v="2p8@F   10 锤形优化； -+Ab[   11 优化函数架构技巧； qo5WZ be   12 单透镜优化实例 ahx*Ti/e   13 双胶合优化实例； 0ZjinWkR[   14 热分析及衍射光学元件的使用; e$=0.GWT   15 实例设计及分析； br_D Orq|   16 MTF mybvD   17 双高斯镜头设计及优化； m{C   18 像质评价与图像模拟； 5_= HtM[v]   19 坐标变换； Qr$Ay3#k   20 坐标断点面的使用技巧 H?W8_XiN   21 序列模式棱镜建模； R[{s\   #ybtjsu'"U   22 扫描反射镜设计实例；

<R@w 0b>   23 柯勒照明综合设计实例； tP]-u3   24 投影系统设计 Pq)C(Z   25 集光系统设计； 0ntf%#2{   QzX|c&&>u2   26 暗盒系统介绍； L[cl$pYV   27 分析工具应用； O'~;|-Z<   28 寻找最佳非球面 >r ~!'Pd!   29 曲率套样板； 9|9Hk1   6[l{@*r"   30 镜头匹配工具； !;~6nYY   31 Zemax 公差分析功能介绍; TEt+At`]   32 加工误差、装配误差； sqP (1|9   33 灵敏度分析; @?\[M9yK   34 反灵敏度分析; lgaE2`0 [3   35 蒙特卡罗分析; jj8h>"d    2/v9   36 公差评价标准； Rw#4 |&   37 公差操作数； Qfd4")zhG   38 补偿变量的使用； :{ Q[kYj   39 单透镜公差分析； tf_<w?~   'o.A8su,   40 库克镜头公差分析； (zL(   41 分析报告查看说明； ^E349c-|   42 公差脚本的使用； )Me$BK>   43 镜头出图、CAD 出图； O0Sk?uJ<   44 小结及答疑。

课程信息： gS$?#!f  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人
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(三人及以上组团报名可享八折优惠) 5$.e5y<&(  
报名方式：扫码报名 }*s%|!{H  
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