【线上培训】Zemax 成像设计课程招生中

发布：ueotek 2022-03-28 16:15 阅读：1141

课程大纲：

01 OpticStudio 软件功能介绍;
02 材料库、镜头库介绍；
03 如何定义新材料；
04 如何使用镜头库；
05 像差理论介绍；
06 Zemax 里像差分析图谱；
07 优化;
08 局部优化
09 全局优化；
10 锤形优化；
11 优化函数架构技巧；
12 单透镜优化实例
13 双胶合优化实例；
14 热分析及衍射光学元件的使用;
15 实例设计及分析；
16 MTF
17 双高斯镜头设计及优化；
18 像质评价与图像模拟；
19 坐标变换；
20 坐标断点面的使用技巧
21 序列模式棱镜建模；

22 扫描反射镜设计实例；

23 柯勒照明综合设计实例；
24 投影系统设计
25 集光系统设计；

26 暗盒系统介绍；
27 分析工具应用；
28 寻找最佳非球面
29 曲率套样板；

30 镜头匹配工具；
31 Zemax 公差分析功能介绍;
32 加工误差、装配误差；
33 灵敏度分析;
34 反灵敏度分析;
35 蒙特卡罗分析;

36 公差评价标准；
37 公差操作数；
38 补偿变量的使用；
39 单透镜公差分析；

40 库克镜头公差分析；
41 分析报告查看说明；
42 公差脚本的使用；
43 镜头出图、CAD 出图；
44 小结及答疑。

课程信息：
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人
(三人及以上组团报名可享八折优惠)
报名方式：扫码报名

注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟，具体情况以开课前一周通知为准。

分享到：

上一篇：上海光机所在混合物薄膜材料的皮秒激 .. 下一篇：UV油墨光固机选海特奈德UV固化设备

关于我们网站介绍免责声明加入我们赞助我们	服务项目稿件投递广告投放人才招聘团购天下	帮助中心新手入门发帖回帖充值VIP 其它功能	站内工具清除Cookies 无图版手机浏览网站统计
				交流方式联系邮箱：广告合作站务处理微信公众号：opticsky 微信号：cyqdesign 新浪微博：光行天下OPTICSKY QQ号：9652202

帖子

【线上培训】Zemax 成像设计课程招生中

最新评论

热门主题

最新话题

帖子

【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

最新评论

热门主题

最新话题

【线上培训】Zemax 成像设计课程招生中